JPS5844719A - 電子ビ−ム露光装置 - Google Patents
電子ビ−ム露光装置Info
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- JPS5844719A JPS5844719A JP14342781A JP14342781A JPS5844719A JP S5844719 A JPS5844719 A JP S5844719A JP 14342781 A JP14342781 A JP 14342781A JP 14342781 A JP14342781 A JP 14342781A JP S5844719 A JPS5844719 A JP S5844719A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- moving mechanism
- plates
- reliability
- moving
- stage
- Prior art date
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Theoretical Computer Science (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、中導体装置の製造時に使用される電子ビー′
ム露光装置に関する。
ム露光装置に関する。
従来この種の電子ビーム露光装筐としては、たとえば第
１図に示すようなものが知られている。
１図に示すようなものが知られている。
この場合、実際には試料を載置して移動する試料移動機
構は二次元平面内を移動するように構成されてｉるが、
同図では説明を量率とするため一方向にのみ移動する構
成を示している。
構は二次元平面内を移動するように構成されてｉるが、
同図では説明を量率とするため一方向にのみ移動する構
成を示している。
まず、試料移動機構を簡−に説！すると、図中符号１ａ
、１ｂは対向する側枠で、これら側枠１ａ、Ｉｂ間に鉱
互％／′＆に平行な状態で一対のガイド棒２ａ 、 ２
ｂおよびとれら間に位置して連結棒３が横架されている
。なお、前記ガイド棒２ａ＊２ｂは図示しない遭轟な固
定部側に固定され九軸受４ａ、４ｂにより支持畜れてい
ゐ。
、１ｂは対向する側枠で、これら側枠１ａ、Ｉｂ間に鉱
互％／′＆に平行な状態で一対のガイド棒２ａ 、 ２
ｂおよびとれら間に位置して連結棒３が横架されている
。なお、前記ガイド棒２ａ＊２ｂは図示しない遭轟な固
定部側に固定され九軸受４ａ、４ｂにより支持畜れてい
ゐ。
ｔた、前記連結棒３の軸線方向中央には固定部Ｓが設け
られ、こＯ固定部５０−側部には連結棒３と直交す−る
方向に砥びた支持棒６が固定されている。そして、ヒの
支持棒６の自由端には露光すべき試−を載置する載物台
Ｔが取付けられ、との載物台Ｔは内部を真空に保持畜れ
九試料室８内で電子ビーム脅生苧段を有する鏡筒８＆の
直下に位置される。なお、図中１ｅａ、Ｉｂは前記連結
棒３上で固定部ｓの両側に配設された一対のベローで、
その外方端は図示しない真空室の壁面にそれぞれ固定さ
れ、載物台Ｔの矢印方向の移動にともなって相補的に伸
縮される。
られ、こＯ固定部５０−側部には連結棒３と直交す−る
方向に砥びた支持棒６が固定されている。そして、ヒの
支持棒６の自由端には露光すべき試−を載置する載物台
Ｔが取付けられ、との載物台Ｔは内部を真空に保持畜れ
九試料室８内で電子ビーム脅生苧段を有する鏡筒８＆の
直下に位置される。なお、図中１ｅａ、Ｉｂは前記連結
棒３上で固定部ｓの両側に配設された一対のベローで、
その外方端は図示しない真空室の壁面にそれぞれ固定さ
れ、載物台Ｔの矢印方向の移動にともなって相補的に伸
縮される。
そして、このような構成において、載物台Ｔは、図示し
ない回転モータと送りねじの組合せなどによる適当な駆
動手段で、側枠１ａ、１ｂ 、ガイド棒２ｅＬ＋２ｂｓ
連結棒３および支持棒６が一体となって移動されること
によって、図中矢印方向に移動されるものである。
ない回転モータと送りねじの組合せなどによる適当な駆
動手段で、側枠１ａ、１ｂ 、ガイド棒２ｅＬ＋２ｂｓ
連結棒３および支持棒６が一体となって移動されること
によって、図中矢印方向に移動されるものである。
しかしながら、上述した構成による従来の装置では、載
物台Ｔを先端に取付けた支持棒６は、試料移動機構の固
定具５の一側部から一方向にのみ突出して設けられてい
るため、きわめてパツンス０悪い構造となっていた。ま
た、１台の鏡筒ｓａに対して試料移動機構１台が組合さ
れて構成されている良め、鏡筒が故障したシ、あるいは
定期保守点検等の九めに稼動不能となると、製作に高価
なコストを要する試料移動機構も作動させることができ
ず、露光装置としての機能が完全に停止してしまうとい
う問題を招いている。
物台Ｔを先端に取付けた支持棒６は、試料移動機構の固
定具５の一側部から一方向にのみ突出して設けられてい
るため、きわめてパツンス０悪い構造となっていた。ま
た、１台の鏡筒ｓａに対して試料移動機構１台が組合さ
れて構成されている良め、鏡筒が故障したシ、あるいは
定期保守点検等の九めに稼動不能となると、製作に高価
なコストを要する試料移動機構も作動させることができ
ず、露光装置としての機能が完全に停止してしまうとい
う問題を招いている。
本発明は上述した事情に鑑みてなされたもので、移動機
構の移動台上に、載物台を先端側に取付けた支持棒を互
いに１８００角度をなす方向に延長すゐようにして対称
に配置し、かつ各載物台上に載置された試料を同時に露
光する位置に鏡筒を各１台づつ配替すゐという量率な構
成によって、移動機構の構造的なパツンスをと）、その
動作上の信籾性を向上させ、しかもいずれか一方の鏡筒
が稼動停止しても露光装置としての機能を保持すること
が可能な電子ビーム露光装置を提供するものである。
構の移動台上に、載物台を先端側に取付けた支持棒を互
いに１８００角度をなす方向に延長すゐようにして対称
に配置し、かつ各載物台上に載置された試料を同時に露
光する位置に鏡筒を各１台づつ配替すゐという量率な構
成によって、移動機構の構造的なパツンスをと）、その
動作上の信籾性を向上させ、しかもいずれか一方の鏡筒
が稼動停止しても露光装置としての機能を保持すること
が可能な電子ビーム露光装置を提供するものである。
以下、本発明を図面に示した実施例を用いて詳細に説明
する。
する。
第２回状本尭明に係る電子ビーム露光装置の一実施例を
示すものであシ、同図において、符号１０は二次元平面
内を！、！方向に移動する移動機構で、その移動台１０
ａ上に固定具１１が殺除されている。
示すものであシ、同図において、符号１０は二次元平面
内を！、！方向に移動する移動機構で、その移動台１０
ａ上に固定具１１が殺除されている。
そして、この固定具１１の相対向した両側面には互いに
１８０の角度をなす方向に延長されるようにして同一軸
線上に一対の支持棒１２ａ、１２ｂが対称に結合され、
これら支持棒１２ａｊ２ｂの軸心は前記移動機構１０の
相直交する２つの移動方向Ｘ、Ｙの−ずれかに−（本実
施例ではＸ方向）に平行に配電されている。
１８０の角度をなす方向に延長されるようにして同一軸
線上に一対の支持棒１２ａ、１２ｂが対称に結合され、
これら支持棒１２ａｊ２ｂの軸心は前記移動機構１０の
相直交する２つの移動方向Ｘ、Ｙの−ずれかに−（本実
施例ではＸ方向）に平行に配電されている。
また、これら一対の支持棒１２ａ＊１２ｂの自由端には
露光すべき試料を載置する一対をなす載物台１３ａ、１
３ｂがそれぞれ取付けられている。そして、これら各載
物台１３ａ＊１３ｂは内部を真空状１１Ｋ”保持され九
試料室１４ａ、１４ｂ内に配置され、これら試料室１４
ａ、１４ｂの側壁と支持棒１２ａｓ１２ｂとの間は後述
する方法によって真空シールされている。また、これら
各試料室１４ａ＊１４ｂには電子ビーム発生手段を有す
る鏡筒１５ａ＋１５ｂが搭ＩＣキれ、これら鏡筒１５ａ
、１５ｂはそれぞれ載物台１３ａｅ１３ｂに載置された
露光試料を同時に露光し得る位置に設置されている。
露光すべき試料を載置する一対をなす載物台１３ａ、１
３ｂがそれぞれ取付けられている。そして、これら各載
物台１３ａ＊１３ｂは内部を真空状１１Ｋ”保持され九
試料室１４ａ、１４ｂ内に配置され、これら試料室１４
ａ、１４ｂの側壁と支持棒１２ａｓ１２ｂとの間は後述
する方法によって真空シールされている。また、これら
各試料室１４ａ＊１４ｂには電子ビーム発生手段を有す
る鏡筒１５ａ＋１５ｂが搭ＩＣキれ、これら鏡筒１５ａ
、１５ｂはそれぞれ載物台１３ａｅ１３ｂに載置された
露光試料を同時に露光し得る位置に設置されている。
このような構成によれば、移動台ｔｅａ、固定具１１、
支持棒１２５に１１２ｋ）％載物台１ Ｂ＆ｅ １ｓｂ
が一体構造をなして移動機構１０上に設置されているた
め、各載物台１３ａ、ｊ３１ｂ上に載置された試料はい
ずれｔ移動機構１０の二次元移動に倣って、同時に等価
な二次元移動を行なう。したがって、鏡筒ＩＳａ、１５
ｂを前述した位置に設置すると七にょ〕同時に２枚の試
料を露光することが可能となる。
支持棒１２５に１１２ｋ）％載物台１ Ｂ＆ｅ １ｓｂ
が一体構造をなして移動機構１０上に設置されているた
め、各載物台１３ａ、ｊ３１ｂ上に載置された試料はい
ずれｔ移動機構１０の二次元移動に倣って、同時に等価
な二次元移動を行なう。したがって、鏡筒ＩＳａ、１５
ｂを前述した位置に設置すると七にょ〕同時に２枚の試
料を露光することが可能となる。
第３図状支持棒と試料室の側壁との間の真空シールの方
法の一例を示し、同図においては第２図中右側の支持棒
１２ｂと試料室１４ｂとの関係のみを示している。
法の一例を示し、同図においては第２図中右側の支持棒
１２ｂと試料室１４ｂとの関係のみを示している。
図中符号２０ａ、２０ｂ、２０ｃはいずれも断面が円環
状を呈し支持棒１２ｂを大気から速断するためのベロー
でちゃ、左＠Ｏべ＊ −２０ａの外方端は固定具１１の
側面に、また右側のベロー２００の外方端は試料室１４
ｂの側壁に結合されている。そして、ベロー２０ａとベ
ロ−２０ｂ問およびべＨ−２０ｂとベロー２０ｃ間に社
、それぞれ補強用の円環状スペーサ２１ ａ ａ ２１
ｂが介在され、これによシペａ −２０ａ、２０ｂ。
状を呈し支持棒１２ｂを大気から速断するためのベロー
でちゃ、左＠Ｏべ＊ −２０ａの外方端は固定具１１の
側面に、また右側のベロー２００の外方端は試料室１４
ｂの側壁に結合されている。そして、ベロー２０ａとベ
ロ−２０ｂ問およびべＨ−２０ｂとベロー２０ｃ間に社
、それぞれ補強用の円環状スペーサ２１ ａ ａ ２１
ｂが介在され、これによシペａ −２０ａ、２０ｂ。
２０ｃ ＃ｉ一体的に連結されている。なお、この場合
、べ■−２０龜＊２０ｂｓ２０ｃおよびスペーサ２１ａ
、２１ｂの内径は必ずしも同一である必要はなく、支持
棒１２ｂが！方向の全ス）ｗ−りを移動するにｉｂたっ
て障害にならない程度の寸法を有しておればよい。
、べ■−２０龜＊２０ｂｓ２０ｃおよびスペーサ２１ａ
、２１ｂの内径は必ずしも同一である必要はなく、支持
棒１２ｂが！方向の全ス）ｗ−りを移動するにｉｂたっ
て障害にならない程度の寸法を有しておればよい。
そして、このような構成において、前述したように固定
具１１、支持棒１２ｂ％載物台１３ｂが移動台１０ａと
一体となってＸ方向に移動する場合には、図示されるよ
うにベロー２０ａ、２０ｃに曲げ変形が生じ、ベロー全
体がよじれることによって、内部の真空を保持し、また
Ｘ方向に移動する場合にはベロー２０ｂが伸縮すること
によって同様に内部の真空を保持することが可能である
。なお、上述した説明は右側の支持棒１２ｂの真空シー
ル方法であるが、左側の支持棒１２ａについてもオった
（同様であゐことは言うまでもない。
具１１、支持棒１２ｂ％載物台１３ｂが移動台１０ａと
一体となってＸ方向に移動する場合には、図示されるよ
うにベロー２０ａ、２０ｃに曲げ変形が生じ、ベロー全
体がよじれることによって、内部の真空を保持し、また
Ｘ方向に移動する場合にはベロー２０ｂが伸縮すること
によって同様に内部の真空を保持することが可能である
。なお、上述した説明は右側の支持棒１２ｂの真空シー
ル方法であるが、左側の支持棒１２ａについてもオった
（同様であゐことは言うまでもない。
′オた、本発明装置を構成する移動機構１ｏとしては、
既に周知の！！ステージと一般に称される二次元移動機
構を適用することができるが、他の真体例として第４図
に示すようなものがある。とれを簡単、に説明すると、
図中３０は両■ツド形の油圧シリンダであ夛、仁の油圧
シリンダ３ｏの各シリンダロッド３１ａ、３１ｂの自由
端に露光試料を載置する載物台３２＆＃Ｓ２ｂが取付け
られている。そして、仁の油圧シリンダ３０は、基台３
３上で前記シリンダロッド３１ａ、ｌＨｂの軸心に対し
て直交する方向に形成された直進ガイド＄３ａ、３３ｂ
にょル移動自在に支持され九移動台３４上に載置されて
いる。また、３ｓは移動台３４を駆動するための油圧シ
リンダで、そのシリンダーラド３５ａが移動台３４に連
結されている。
既に周知の！！ステージと一般に称される二次元移動機
構を適用することができるが、他の真体例として第４図
に示すようなものがある。とれを簡単、に説明すると、
図中３０は両■ツド形の油圧シリンダであ夛、仁の油圧
シリンダ３ｏの各シリンダロッド３１ａ、３１ｂの自由
端に露光試料を載置する載物台３２＆＃Ｓ２ｂが取付け
られている。そして、仁の油圧シリンダ３０は、基台３
３上で前記シリンダロッド３１ａ、ｌＨｂの軸心に対し
て直交する方向に形成された直進ガイド＄３ａ、３３ｂ
にょル移動自在に支持され九移動台３４上に載置されて
いる。また、３ｓは移動台３４を駆動するための油圧シ
リンダで、そのシリンダーラド３５ａが移動台３４に連
結されている。
このような構成において、載物台３２ａ、３２ｂをＸ方
向に移動させるには油圧シリンダ３０を駆動させるとよ
＜ 、ｔ 九ｘ方向に移動させるには油圧シリンダ３Ｓ
を駆動させて移動台３４を直進ガイド３８ａ Ｋ沿って
移動させるとよい。そして、これによ〕前述したと同様
に各載物台３２ａ、＄２ｂを同時に二次元平面内で尋優
に移ｉさせることが可能である。
向に移動させるには油圧シリンダ３０を駆動させるとよ
＜ 、ｔ 九ｘ方向に移動させるには油圧シリンダ３Ｓ
を駆動させて移動台３４を直進ガイド３８ａ Ｋ沿って
移動させるとよい。そして、これによ〕前述したと同様
に各載物台３２ａ、＄２ｂを同時に二次元平面内で尋優
に移ｉさせることが可能である。
なか、上述し九実施剋では、一対の支持棒１２ａ。
１２ｂ（または３１ａ、Ｓｌｂ ）のそれぞれに、載物
台１３ａ、１３ｂ（３２ａＪ２ｂ）を１個づつ取付けた
場合について説明したが、本発明はこれに限定畜れるも
めではない。すなわち、支持−に十分な剛性がある場合
には、各支持棒の先端部を複数の副支持棒に枝分けし、
これら枝分けした各副支持棒の先端に載物台をそれぞれ
取付けるようにした）、するいは支持棒と載物台とを交
互に複数制直列に連結する勢の構成を採用してもよい。
台１３ａ、１３ｂ（３２ａＪ２ｂ）を１個づつ取付けた
場合について説明したが、本発明はこれに限定畜れるも
めではない。すなわち、支持−に十分な剛性がある場合
には、各支持棒の先端部を複数の副支持棒に枝分けし、
これら枝分けした各副支持棒の先端に載物台をそれぞれ
取付けるようにした）、するいは支持棒と載物台とを交
互に複数制直列に連結する勢の構成を採用してもよい。
そして、各載物台についてそれぞれ鏡筒および試料室を
配置すれ、ば、さらに生産性を向上させることが可能と
なる。
配置すれ、ば、さらに生産性を向上させることが可能と
なる。
以上説明したように１本発明に係る電子ビーム露光装置
によれば、移動機構の移動台上に、載物台を先端台を先
端側に取付けた一対０★持棒を互いに１８０の角度をな
す向きに延長させるようＫして対称に配置したので、移
動機構の構造的なバランスがよくなシ、これにより動作
上の信頼性を向上させることができる。また、１台の移
動機構に対し鏡筒を少なくとも２台配置させているため
、少なくとも２台分の生産性を有しているにもかかわら
ず、装置の製作コストとしては高価な移動機構１台分の
コストを節約でき、制作コストの低減化に大きく寄与す
ることができる。ざらに、鏡筒のいずれかが故障または
定期点検等の理由で稼動を停止しても露光ｆ！買として
の機能は保持され、装置の信頼性が向上する利点がある
。
によれば、移動機構の移動台上に、載物台を先端台を先
端側に取付けた一対０★持棒を互いに１８０の角度をな
す向きに延長させるようＫして対称に配置したので、移
動機構の構造的なバランスがよくなシ、これにより動作
上の信頼性を向上させることができる。また、１台の移
動機構に対し鏡筒を少なくとも２台配置させているため
、少なくとも２台分の生産性を有しているにもかかわら
ず、装置の製作コストとしては高価な移動機構１台分の
コストを節約でき、制作コストの低減化に大きく寄与す
ることができる。ざらに、鏡筒のいずれかが故障または
定期点検等の理由で稼動を停止しても露光ｆ！買として
の機能は保持され、装置の信頼性が向上する利点がある
。
第１図は従来６電子ビーム露光装置の一例を示す斜視図
、餉２図は本発明に係る電子ビーム露光装置の一実施例
を示す斜視図、繭３図は支持棒部分の真空シール方法を
説明するための一部省略平面図、第４図は移動機構の別
の実施例を示す斜視図である。 １０・・・・移動機構、１０ａ・・・・移動台、１１・
・・・固定具、１２ａ、１２ｂ・・・・支持棒、１３ａ
、１３ｂ −・・・載物台、１４ａ、１４ｂ −・・−
試料室、１５ａ、１５ｂ・・・・縫部、３０・・・・両
ロッド形油圧シリンダ、３１ａ、３１ｂ・・・・シリン
ダロッド、 ＄２＆、３２ｂ・・・・載物台、３３・・
・・基台、３３ａ・・・・直進ガイド、３４・・・・移
動台、３５・・・・油圧シリンダ。 特許出願人 日本電信電話公社 代理人 山 川政樹 第１図 第３図
、餉２図は本発明に係る電子ビーム露光装置の一実施例
を示す斜視図、繭３図は支持棒部分の真空シール方法を
説明するための一部省略平面図、第４図は移動機構の別
の実施例を示す斜視図である。 １０・・・・移動機構、１０ａ・・・・移動台、１１・
・・・固定具、１２ａ、１２ｂ・・・・支持棒、１３ａ
、１３ｂ −・・・載物台、１４ａ、１４ｂ −・・−
試料室、１５ａ、１５ｂ・・・・縫部、３０・・・・両
ロッド形油圧シリンダ、３１ａ、３１ｂ・・・・シリン
ダロッド、 ＄２＆、３２ｂ・・・・載物台、３３・・
・・基台、３３ａ・・・・直進ガイド、３４・・・・移
動台、３５・・・・油圧シリンダ。 特許出願人 日本電信電話公社 代理人 山 川政樹 第１図 第３図
Claims (1)
- 二次元平面内を移動する移動機構の移動台と、との移動
台上で互いに１８０の角度をなす向きに砥長されるよう
にして対称に配置されその軸心が前記移動機構の相直交
すゐいずれかの駆動方向に一激する一対の支持棒と、ヒ
れら一対の支持棒の先端伺にそれぞれ設けられ露光すべ
き試料をａｔする少なくとも一対の載物台と、これら各
載物台上に載ｆｉｔ−ｇれた試料を同時に露光する位置
に配しされ電子ビーム発生手段を有する少なくとも一対
の鏡筒とを備えたことを特徴とする電子ビーム露光装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14342781A JPS5844719A (ja) | 1981-09-11 | 1981-09-11 | 電子ビ−ム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14342781A JPS5844719A (ja) | 1981-09-11 | 1981-09-11 | 電子ビ−ム露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5844719A true JPS5844719A (ja) | 1983-03-15 |
Family
ID=15338469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14342781A Pending JPS5844719A (ja) | 1981-09-11 | 1981-09-11 | 電子ビ−ム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5844719A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6970230B2 (en) | 2002-06-13 | 2005-11-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7084953B2 (en) | 2000-11-30 | 2006-08-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
-
1981
- 1981-09-11 JP JP14342781A patent/JPS5844719A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7084953B2 (en) | 2000-11-30 | 2006-08-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
| US7397040B2 (en) | 2000-11-30 | 2008-07-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| US6970230B2 (en) | 2002-06-13 | 2005-11-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| CN1299169C (zh) * | 2002-06-13 | 2007-02-07 | Asml荷兰有限公司 | 光刻装置和器件的制造方法 |
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