JPS5843231A - 移動層反応装置 - Google Patents
移動層反応装置Info
- Publication number
- JPS5843231A JPS5843231A JP14171981A JP14171981A JPS5843231A JP S5843231 A JPS5843231 A JP S5843231A JP 14171981 A JP14171981 A JP 14171981A JP 14171981 A JP14171981 A JP 14171981A JP S5843231 A JPS5843231 A JP S5843231A
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- Japan
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- louver
- particles
- main
- louvers
- moving bed
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/08—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles
- B01J8/12—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles moved by gravity in a downward flow
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は移動層反応装置に関し、特に粒子を上方から下
方へ移動させる移動層をルーバにより側方から支持し、
該ルーバ間の移動層を横切るようにガスを通過させる移
動層反応装置に関するもの排ガス中に含まれる亜硫酸ガ
スを吸着剤移動層によって吸着除去するためＫｍいられ
る。
方へ移動させる移動層をルーバにより側方から支持し、
該ルーバ間の移動層を横切るようにガスを通過させる移
動層反応装置に関するもの排ガス中に含まれる亜硫酸ガ
スを吸着剤移動層によって吸着除去するためＫｍいられ
る。
従来、粒子状の吸着軸、触媒あるいはその他の粒子の充
填層にガスを通気し、ガス中の成分と粒子を接触基せ、
反応あるいは捕集を行う場合、第１図に示すようなルー
バ１を垂直方向に多数並べこの一対のルーバ１によって
粒□子２を支持した移動層型の充填層が使われている。
填層にガスを通気し、ガス中の成分と粒子を接触基せ、
反応あるいは捕集を行う場合、第１図に示すようなルー
バ１を垂直方向に多数並べこの一対のルーバ１によって
粒□子２を支持した移動層型の充填層が使われている。
排ガス３は、反応器４内に導入され、ルーバｌの側方か
ら移動層を通り、粒子と接触反応した後、他方のルーバ
を出て反応器４外に排出される。
ら移動層を通り、粒子と接触反応した後、他方のルーバ
を出て反応器４外に排出される。
しかし、このようなルーバ１によって支持した移動層で
は、第２図に示すようにルーバｌ上に粒子の非移動部分
ＩＡが形成される。そのため、取扱うガスが、例えば石
炭ボイラの排ガスのように多量のダストを含んでいる場
合には、上記の非移動部分ＩＡにダストが次第に蓄積し
通風損失を増大させるという欠点がある。また、ガス中
の亜硫酸ガスを活性炭などの炭素系吸着剤で吸着するよ
うな場合には、非移動部分ＩＡにある吸着剤は長時間に
わたって亜硫酸ガスを飽和以上に吸着し′、吸着剤の表
面が吸着した亜硫酸ガスより生成した硫酸で濡れてくる
ようＫなり、ルーバ１を腐蝕させるという問題がある。
は、第２図に示すようにルーバｌ上に粒子の非移動部分
ＩＡが形成される。そのため、取扱うガスが、例えば石
炭ボイラの排ガスのように多量のダストを含んでいる場
合には、上記の非移動部分ＩＡにダストが次第に蓄積し
通風損失を増大させるという欠点がある。また、ガス中
の亜硫酸ガスを活性炭などの炭素系吸着剤で吸着するよ
うな場合には、非移動部分ＩＡにある吸着剤は長時間に
わたって亜硫酸ガスを飽和以上に吸着し′、吸着剤の表
面が吸着した亜硫酸ガスより生成した硫酸で濡れてくる
ようＫなり、ルーバ１を腐蝕させるという問題がある。
本発明の目的は、ルーバ上に粒子が滞留することなく、
ルーバ上の粒子を良好に移動させることができる移動層
反応装置を提供することにある。
ルーバ上の粒子を良好に移動させることができる移動層
反応装置を提供することにある。
本発明は、従来のルーバ１では第２図に示すように主流
の粒子群５が水平方向に及ぼす荷重と非移動部分ＩＡの
荷重が釣り合うために結果的に非移動部分ＩＡにある粒
子が主流の粒子群５の中に流れ込まなくなることを着色
、粒子の流れにより明らかＫＬ、この荷重の鈎合い１を
破壊するために１ルーバ１の内側により傾斜角度の大き
いサブルーバを設け、このサブルーバを′賀して非移動
部分ＩＡの粒子を主流の中に効果的に流れ込ませるよう
にしたものである。
の粒子群５が水平方向に及ぼす荷重と非移動部分ＩＡの
荷重が釣り合うために結果的に非移動部分ＩＡにある粒
子が主流の粒子群５の中に流れ込まなくなることを着色
、粒子の流れにより明らかＫＬ、この荷重の鈎合い１を
破壊するために１ルーバ１の内側により傾斜角度の大き
いサブルーバを設け、このサブルーバを′賀して非移動
部分ＩＡの粒子を主流の中に効果的に流れ込ませるよう
にしたものである。
本発明は、粒子を上方から下方へ移動させる移動層をル
ーバにより側方から支持し、該ルーバｍ１の移動層を横
切るようにガスを薄遇させる移動層反応装置において、
上下方向に垂直に一列に並んだメインルーバの内側に、
同じく上下方向に垂直に並んだサブルーバを前記メイン
ルーバの高さ方向の中間に位置するように配置し、かつ
前記サブルーバの水平方向となす角度をメインルーバの
それよりも太き（したことを特徴とする。
ーバにより側方から支持し、該ルーバｍ１の移動層を横
切るようにガスを薄遇させる移動層反応装置において、
上下方向に垂直に一列に並んだメインルーバの内側に、
同じく上下方向に垂直に並んだサブルーバを前記メイン
ルーバの高さ方向の中間に位置するように配置し、かつ
前記サブルーバの水平方向となす角度をメインルーバの
それよりも太き（したことを特徴とする。
本発明において、サブルーバの傾斜角−をメインルーバ
より大きくしたのは、粒子の滞留が特にメインルーバ下
部で生じ易いため、サブルーバを下方に向ってメインル
ーバにより近接するように配置し、メインルーバ下部の
粒子の荷重を上部より軽減するためである。上記サブル
ーバの長さＢは、メインルーバの２／３〜４１５程度（
特に３重４前後）が好： である。なお前ゎ両、−２，
の水平となす角度７１１粒子の安息角より以上、通常は
約４０〜８０６の゛範囲が適轟である。
より大きくしたのは、粒子の滞留が特にメインルーバ下
部で生じ易いため、サブルーバを下方に向ってメインル
ーバにより近接するように配置し、メインルーバ下部の
粒子の荷重を上部より軽減するためである。上記サブル
ーバの長さＢは、メインルーバの２／３〜４１５程度（
特に３重４前後）が好： である。なお前ゎ両、−２，
の水平となす角度７１１粒子の安息角より以上、通常は
約４０〜８０６の゛範囲が適轟である。
以下、本発明を図面によりさらに詳細に説明する。
第３図は排蝉脱硫用の吸着剤充填層に本！明の反応装置
を適用、した実施例を示す説明図、第４図は、そのルー
バ部の拡大側面一である。吸着塔２０の中には塔の底部
から頂部まで垂直にメインルーバ６およびサブルーバ７
が組になって配列されており、この組が一定の距離をお
いて２列配置され、この２列のルーバの間に吸着剤８が
充填されている。今らに吸着塔底部の最下端ルーバには
垂直案内板１４が、さらＫその下部には案内板１５が設
けられ、デッドスペースによる吸着剤の滞留が防牢され
る。なお、整流体１６がホッパ部に設けられ、流れの円
滑化を促進している。ボイラ等の排ガス９はガス人口１
０から吸着塔２０に流入し、ルーバの間隙から吸着剤充
填層に入り、もう一方のルーバの間隙を経てガス出口１
１から流出する。
を適用、した実施例を示す説明図、第４図は、そのルー
バ部の拡大側面一である。吸着塔２０の中には塔の底部
から頂部まで垂直にメインルーバ６およびサブルーバ７
が組になって配列されており、この組が一定の距離をお
いて２列配置され、この２列のルーバの間に吸着剤８が
充填されている。今らに吸着塔底部の最下端ルーバには
垂直案内板１４が、さらＫその下部には案内板１５が設
けられ、デッドスペースによる吸着剤の滞留が防牢され
る。なお、整流体１６がホッパ部に設けられ、流れの円
滑化を促進している。ボイラ等の排ガス９はガス人口１
０から吸着塔２０に流入し、ルーバの間隙から吸着剤充
填層に入り、もう一方のルーバの間隙を経てガス出口１
１から流出する。
この間にガス中の亜硫酸ガスが吸着除去される。
時間の経過に伴い吸着剤は飽和に達するので、吸着塔底
部に達した吸着剤は、抜き出し器１２によ？一定量ずつ
連続的に抜き出され、再生装置（ここでは図示していな
い）で再生された後、ホッパ４＝＝＝ｈから充填層内へ
供給され、循環再使用される。
部に達した吸着剤は、抜き出し器１２によ？一定量ずつ
連続的に抜き出され、再生装置（ここでは図示していな
い）で再生された後、ホッパ４＝＝＝ｈから充填層内へ
供給され、循環再使用される。
このルーバシステムの詳細は、第４図に示すように、上
下方向に垂直九−列に並んだメインルーバ６の内側に、
同じく上下方向に垂直、に並んだサブルーバ７を前記メ
インルーバの高さ方向の中間に位置するように配置し、
かつ前記サブルーバの水平方向となす角度θ２をメイン
ルーバの角度０重劣りも太き（したものである。上記ル
ーバ各部の寸法は、メインルーバ６のＡ部が２００ ｓ
ｗ ｓサブルーバ７のＢ部が１５０ｍｇ、θ１が６０度
、θ２が７４度、メインルーバｑの間隙Ｃが２００ｍｍ
、メインルーバ６の下端とサブルーバ７上端の垂直距離
りが２８．１１１１％ メインルーバ６の下端とサブル
ーバ７の上端Ｑ水平距離Ｅが０〜１０ｍ、メインルーバ
６の下端と茗プルーバ７の下端の水平距離Ｆが３５、５
ｘｍである。このルーバーの間に、粒径５〜１０＋ｍ
の破砕した炭素系吸着剤を充、填して、下方より抜き出
し、移動を行ったところ、メインルーバ上の非移動部分
は全くな（、す／ルーバ上にも非移動部分はほとんど認
められなかった。またすプルーバをメインルーバと平行
に配置した場合と比較しても、吸着剤粒子のルーバ上の
移動がより円滑になることが認められた。また第３図に
示すように案内板１４．１５を設けたことにより、この
部分のデッドスペースがなくなり、塔底部の粒子堆積も
防止することができた。
下方向に垂直九−列に並んだメインルーバ６の内側に、
同じく上下方向に垂直、に並んだサブルーバ７を前記メ
インルーバの高さ方向の中間に位置するように配置し、
かつ前記サブルーバの水平方向となす角度θ２をメイン
ルーバの角度０重劣りも太き（したものである。上記ル
ーバ各部の寸法は、メインルーバ６のＡ部が２００ ｓ
ｗ ｓサブルーバ７のＢ部が１５０ｍｇ、θ１が６０度
、θ２が７４度、メインルーバｑの間隙Ｃが２００ｍｍ
、メインルーバ６の下端とサブルーバ７上端の垂直距離
りが２８．１１１１％ メインルーバ６の下端とサブル
ーバ７の上端Ｑ水平距離Ｅが０〜１０ｍ、メインルーバ
６の下端と茗プルーバ７の下端の水平距離Ｆが３５、５
ｘｍである。このルーバーの間に、粒径５〜１０＋ｍ
の破砕した炭素系吸着剤を充、填して、下方より抜き出
し、移動を行ったところ、メインルーバ上の非移動部分
は全くな（、す／ルーバ上にも非移動部分はほとんど認
められなかった。またすプルーバをメインルーバと平行
に配置した場合と比較しても、吸着剤粒子のルーバ上の
移動がより円滑になることが認められた。また第３図に
示すように案内板１４．１５を設けたことにより、この
部分のデッドスペースがなくなり、塔底部の粒子堆積も
防止することができた。
次に第５図は、本発明の他の実施例を示す吸着剤充填塔
のルーバ部の側面図を示したものであるが、第４図の実
施例と異なる点は、サブルーバ７の傾斜角度θ２を７６
°として若干下方に移動し、また垂直距離りを３０順、
水平距離Ｆを４０朋としたことである５、このようなル
ーバ配置とすることにより、メインルーバ上の吸着剤の
移動がより円滑になり、粒子の滞留は全く見られなくな
った。
のルーバ部の側面図を示したものであるが、第４図の実
施例と異なる点は、サブルーバ７の傾斜角度θ２を７６
°として若干下方に移動し、また垂直距離りを３０順、
水平距離Ｆを４０朋としたことである５、このようなル
ーバ配置とすることにより、メインルーバ上の吸着剤の
移動がより円滑になり、粒子の滞留は全く見られなくな
った。
なお、第６図は、サブルーバの長さＢ１およびメインル
ーバ６下端とサプルニバ上端の垂直距離りと充填水平圧
との関係を示１、千が、ルーバ長Ｂが太き（、また垂直
距離りが小さくなる程、充填水平圧が増加することが分
る。上記実施例では充填水平圧が約５００ ｋｇ／ ｎ
？Ｉｌｃなるように上記ルーバ以上、本発明によれば、
移動層型充填層においてメインルーバの上方に水平角度
のより大きいサブルーバを配置することにより、ルーバ
上の粒子の非移動部をなくすことができ、特にサブルー
バを平行に配置した場合よりも粒子の移動をより円滑化
することができる。このため、ルーバ上に排ガス中のダ
ストが堆積し続けることなく、また、吸着剤でガス中の
亜硫酸ガスを吸着させる場合にも、吸着剤が飽和以上に
亜硫酸ガスを吸着しないうちに下方へ移動させることが
できるので、ルーバの腐食を防止することができる。
ーバ６下端とサプルニバ上端の垂直距離りと充填水平圧
との関係を示１、千が、ルーバ長Ｂが太き（、また垂直
距離りが小さくなる程、充填水平圧が増加することが分
る。上記実施例では充填水平圧が約５００ ｋｇ／ ｎ
？Ｉｌｃなるように上記ルーバ以上、本発明によれば、
移動層型充填層においてメインルーバの上方に水平角度
のより大きいサブルーバを配置することにより、ルーバ
上の粒子の非移動部をなくすことができ、特にサブルー
バを平行に配置した場合よりも粒子の移動をより円滑化
することができる。このため、ルーバ上に排ガス中のダ
ストが堆積し続けることなく、また、吸着剤でガス中の
亜硫酸ガスを吸着させる場合にも、吸着剤が飽和以上に
亜硫酸ガスを吸着しないうちに下方へ移動させることが
できるので、ルーバの腐食を防止することができる。
第１図はルーバーを支持体とする粒子状物質の充填層の
従来の構造を示す説明図、第２図は従来す説明図、第４
図は第３図の実施例におけるルーバ部のひとつの実施例
を示す説明図、第５図はルーバ部の他の実施例を示す説
明図である。 第６図は、本発明の実施例における充填水平とルーバ長
等との関係を示す図である。 ６・・・メインルーバ、７・・・サブルーバ、８・・・
吸着剤、９・・・排ガス、２０・・・吸着塔。 代理人 弁理士 川 北 武 長 （９） 第１図 第２図 第３図 １３゜ １．′ ７：′ ＼＼゛・’、 ＝、 ”、’、／／ ＼＼ 、 ・／／ １１！川’Ｌｌ ；ＪＯ−櫃ａＩＳｄｌ （４）第４
図 鞘、 猫− ＼＼、゛／／ ＼＼、／／ 八＼° 、・／、ｉ−６
従来の構造を示す説明図、第２図は従来す説明図、第４
図は第３図の実施例におけるルーバ部のひとつの実施例
を示す説明図、第５図はルーバ部の他の実施例を示す説
明図である。 第６図は、本発明の実施例における充填水平とルーバ長
等との関係を示す図である。 ６・・・メインルーバ、７・・・サブルーバ、８・・・
吸着剤、９・・・排ガス、２０・・・吸着塔。 代理人 弁理士 川 北 武 長 （９） 第１図 第２図 第３図 １３゜ １．′ ７：′ ＼＼゛・’、 ＝、 ”、’、／／ ＼＼ 、 ・／／ １１！川’Ｌｌ ；ＪＯ−櫃ａＩＳｄｌ （４）第４
図 鞘、 猫− ＼＼、゛／／ ＼＼、／／ 八＼° 、・／、ｉ−６
Claims (1)
- （１）粒子を上方から下方へ移動させる移動層をルーバ
により側方から支持し、該ルーバ間の移動層を横切るよ
うにガスを通過させる移動層反応装置において、上下方
向に垂直に一列に並んだメインルーバの内側に、同じく
上下方向にｉ直に並んだサブルーバを前記メインルーバ
の高さ方向の中間に位置するように配置し、かつ前記サ
ブルーバの水平方向となす角度をメインルーバのそれよ
りも大きくしたことを特徴とする移動層反応装置。 （２、特許請求の範囲第１項において、前記垂直に配列
されたメインルーバ下端に案内板を設けたことを特徴と
する移動層反応装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14171981A JPS5843231A (ja) | 1981-09-10 | 1981-09-10 | 移動層反応装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14171981A JPS5843231A (ja) | 1981-09-10 | 1981-09-10 | 移動層反応装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5843231A true JPS5843231A (ja) | 1983-03-12 |
| JPH0334978B2 JPH0334978B2 (ja) | 1991-05-24 |
Family
ID=15298602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14171981A Granted JPS5843231A (ja) | 1981-09-10 | 1981-09-10 | 移動層反応装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5843231A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0235913A (ja) * | 1988-07-27 | 1990-02-06 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 乾式脱硫又は脱硝装置 |
| JP2006007005A (ja) * | 2004-06-22 | 2006-01-12 | Nippon Steel Corp | 排ガス処理装置 |
| JP2006104281A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-04-20 | Takuma Co Ltd | ガス化システム |
| WO2008076692A1 (en) * | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Uop Llc | Screenless moving bed reactor |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51143738U (ja) * | 1975-05-12 | 1976-11-18 |
-
1981
- 1981-09-10 JP JP14171981A patent/JPS5843231A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51143738U (ja) * | 1975-05-12 | 1976-11-18 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0235913A (ja) * | 1988-07-27 | 1990-02-06 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 乾式脱硫又は脱硝装置 |
| JP2006007005A (ja) * | 2004-06-22 | 2006-01-12 | Nippon Steel Corp | 排ガス処理装置 |
| JP4653423B2 (ja) * | 2004-06-22 | 2011-03-16 | 新日本製鐵株式会社 | 排ガス処理装置 |
| JP2006104281A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-04-20 | Takuma Co Ltd | ガス化システム |
| JP4563129B2 (ja) * | 2004-10-04 | 2010-10-13 | 株式会社タクマ | ガス化システム |
| WO2008076692A1 (en) * | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Uop Llc | Screenless moving bed reactor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0334978B2 (ja) | 1991-05-24 |
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