JPS5837639A - Image forming material - Google Patents

Image forming material

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JPS5837639A
JPS5837639A JP11933381A JP11933381A JPS5837639A JP S5837639 A JPS5837639 A JP S5837639A JP 11933381 A JP11933381 A JP 11933381A JP 11933381 A JP11933381 A JP 11933381A JP S5837639 A JPS5837639 A JP S5837639A
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epoxy resin
water
resin
image
photosensitive layer
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Nobumasa Sasa
信正 左々
Akira Nogami
野上 彰
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Konica Minolta Inc
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Publication date
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0212Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
    • G03F7/0217Polyurethanes; Epoxy resins

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Abstract

PURPOSE:To improve the shelf stability of the photosensitive layer and to obtain a high density and high contrast image by water development by forming a photosensitive layer contg. a specified amount of a halogenated Lewis acid salt of diazo resin in liq. epoxy resin on a colored mask layer formed on a support. CONSTITUTION:A photosensitive layer contg. a halogenated Lewis acid salt such as FF6<-> or BF4<-> of the condensate of p-diazodiphenylamine with H2CO in epoxy resin which is liq. at 25 deg.C such as glycidyl ether of bisphenol-A or phenol novolak type epoxy resin by 0.2-2.5pts.wt. per 1 part epoxy resin is formed on a colored mask layer contg. a water soluble or water softenable resin and a coloring dye or pigment formed on a support. The resulting photosensitive material is imagewise exposed to acitve rays such as ultraviolet rays, immersed in water, softly rubbed with sponge or the like to remove the unexposed part. Thus, a clear colored image with high durability is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 本番ψ化11予め別色ζi’+ yt−染ネI寸たり顔
料含有マスク層の一ヒに^らガ層を一般け、この感光層
に像様側光を与えた後に、表7#1ヶ水処理することに
よシ高コン]ラス1の画像を形成し7得る、保育安定性
の良い、都g度の画像形成材料に関する。
[Detailed description of the invention] In the actual ψ conversion 11, a different color ζi' + yt-dye is generally applied to one layer of the pigment-containing mask layer to give imagewise side light to this photosensitive layer. It relates to an image-forming material that has good storage stability and that can be obtained by forming an image with a high density of 1/7 by subjecting it to water treatment after treatment with water.

位来、平版印紬11Jv’、稿として用いられる非銀塩
感光相ネ・(のうぢ、q′1別や顔峯1を営む感光性樹
脂層を11.1いる夕1ブとしては、午=’3j4i’
l昭52−62427号、同52−2520号公報等に
開示されているものがある。
Since then, the lithographic printing tsumugi 11Jv', the non-silver salt photosensitive layer used as the draft, and the photosensitive resin layer that carries the q'1 part and the face 11 are 11.1 Jv'. Noon='3j4i'
Some of these are disclosed in 1982-62427, 1982-2520, and the like.

この方法では、高濃度の画像?r ?!!ようとして、
感光性樹脂層中の染料や顔料ケ増やすと、染料や顔料が
感光性樹脂の感光ケ促す活伯光線ケ吸収するために、か
えって感)ム1低−トヲきた1〜て【7゛土う。
Is this method a high-density image? r? ! ! Trying to
When the amount of dyes and pigments in the photosensitive resin layer is increased, the dyes and pigments absorb the active light rays that promote the photosensitization of the photosensitive resin, so the sensitivity increases. .

捷た、感光性樹脂層でレリーフ画像を形成する及び/ま
たはレリーフ画像形成後に染色するタイプとしては、傷
開明49−22929号、同49−22930号・公報
に開示ζわているものがある。
Examples of the type in which a relief image is formed with a twisted photosensitive resin layer and/or dyed after the relief image is formed are disclosed in Kuzu Kaimei No. 49-22929 and No. 49-22930.

この方法では、染料を含イ1する特別の染色浴処理が必
要になること、さらに適WA′な濃度に仕上げるために
は染色条件を注N深くコントロールずZ)必碧がある。
This method requires a special dyeing bath treatment containing a dye, and furthermore, it is necessary to closely control the dyeing conditions in order to achieve a suitable concentration.

また、予めマスク層(r設け、その上に感光性樹脂Nを
設けるメインとしては、%開明48−65927号、同
50−139720号公報に記載づれているものがある
Further, the main method of providing a mask layer (r) in advance and depositing a photosensitive resin N thereon is described in %Kokai No. 48-65927 and JP-A No. 50-139720.

この方法で汀、金目状のマスク層?用いる方法で、像様
霧光を与えた蕾から、画像を形成するために行う金用層
のエラつ一ングにi1\特殊な酸か、−rルカリが必す
pであるkめ、処汗液安定性や公害上、労働(、l’i
 /4ユ十の問題がイfシ、好ましくない。
Is this method a gold-like mask layer? In the method used, a special acid or -r alkali is required for the elongation of the gold layer to form an image from the buds that have been given imagewise mist. Due to sweat stability and pollution, labor (, l'i
/4 I don't like the problem with 10.

−刀、lト”1開閉47−1.6124号、同52−8
9916′Iシ公報には高分子バインダー中に染料や顔
料(r−混自あるいン丁引散17たマスク層十に感光性
4Vl川rf曽全設ける方法が開示さ〕1ている。
-Sword, 1 opening/closing No. 47-1.6124, No. 52-8
Publication No. 9916'I discloses a method of providing a photosensitive 4Vl RF layer on a mask layer in which dyes and pigments (r-containing or pigments) are dispersed in a polymeric binder.

この−Ji法に、しると感光層全現像するには、やはり
/lr定のイ1(段溶媒やアルカリケ必要とし、公害上
、労働衛生士の問題がイ4す、6Y−!l、<ない。
In this -Ji method, in order to develop the entire photosensitive layer, /lr constant I1 (stage solvent and alkaline liquid are required, and there are problems for industrial hygienists due to pollution),6Y-!l, <No.

不発明渚らに」、十N1:問題点ないし不都付ケ解決す
るべく、1)r) ;i次”:I’f ”A二を重ノ]
だ結果、本発明な完成するに至った。
To Nagisa et al.', 10N1: In order to solve the problem or inconvenience, 1) r);
As a result, the present invention was completed.

本発明のjj的に1、感光ノ(・汁こジアゾ類IJ]i
1(ジアゾニウノ・仕合物とカルTl−ニル基會有イ]
磯縮合削との縮TII′合物)のハロゲン化ルイス酸塩
とエポキシ拉(脂、J7用い、水で現像III能であり
、しかも感光層の程イC安シi′性がJす<、高濃度で
高コントラス1のiij+i像が安定1−1て?5られ
る、品感度な画像形成枳刺ケ沸供−す2)ことにある。
According to the present invention, 1, photosensitive diazo compounds IJ]i
1 (Diazoniuno, Shiaimono and CalTl-nyl group association)
Using a halogenated Lewis acid salt of a condensed TII' compound with Iso condensation cutting) and an epoxy resin (J7), it is developable with water, and moreover, the photosensitive layer has a very high stability. The object of the present invention is to provide high-quality image formation in which a high-density, high-contrast Iij+i image can be produced stably.

かかる本)ら明の1」的は、支掲鉢土に、支持体に近い
(IIIから、(a)Vy色マスク層並びに、(b)2
5℃で液状のエポキシ樹脂および該エポキシ樹脂i i
ir m部に刈してO95〜2.5重重部のジアゾ(つ
1脂(ジアゾニラ1脂合物とカルボニルノ、4含翁有機
縮升^11との縮合物)のハロゲン化ル1ス酸j! [
以上、ジアゾ樹脂のハロゲン化ルイス酸塩表略す。〕と
を含む感光層をイー1すること全特徴とする画像形成4
A渾Iによって達成される。
1 of the book) is applied to the potting soil close to the support (from III, (a) Vy color mask layer and (b) 2
An epoxy resin that is liquid at 5°C and the epoxy resin i i
ir The halogenated rusu acid of diazo (condensate of diazonilla 1 fat and carbonyl, 4-containing organic condensate ^ 11) with O95 to 2.5 parts by weight. j! [
In the above, the halogenated Lewis acid salts of diazo resins are omitted. Image formation 4 characterized by the following:
Achieved by AI.

本発明の禍成のうち、エポキシ樹脂について説明する。Among the disadvantages of the present invention, epoxy resin will be explained.

本発明において使用するエポキシ樹脂の流動度特性は米
国特許第3,794,576封切却1書に1叡の方法で
規定できる。本発明に従ったエポキシ樹脂の流動度限度
を規定するのに使うことができる方法は、例えば水銀’
に使うデユランの方法であって、この方法ではエポキシ
(!71m丁の融点は溶融類↑Jlhが水銀の最M点に
到達する温度であると考えられる。この方法は詳釉1に
はゴールトン・M・クライン版、1ンターサイエンス出
i 社、ニュー田−りの著作「ポリマーの分析化学」第
1部、155〜3− 156頁中に記!l’さ)1.でいる。この測定法に従
って、本発明の感光層に使用するエポキシ位1脂のt腺
^1<+?C川、用すると、25℃」ン、下の融点を有
する液状のエポキシμFIIJ1]である。
The fluidity characteristics of the epoxy resin used in the present invention can be defined by the method described in US Pat. No. 3,794,576. Methods that can be used to define the flowability limits of epoxy resins according to the invention include, for example, mercury
In this method, the melting point of epoxy (!71m) is considered to be the temperature at which the molten metal ↑Jlh reaches the maximum M point of mercury. M. Klein edition, published by Interscience, Inc., written by Niuta Ri, "Analytical Chemistry of Polymers", Part 1, pp. 155-3-156!l'sa) 1. I'm here. According to this measurement method, the t-gland of the epoxy position 1 used in the photosensitive layer of the present invention ^1<+? When used, it is a liquid epoxy μFIIJ1 with a melting point below 25°C.

−航″的にエボギシイ☆f脂の詳却」な記述は高分子化
学刊行会、」■内弘編[エポキシ樹脂のJR造と応用−
1に記ル1.!づI]ている。
- Detailed explanation of ``Evogishi☆F resin'' is published by Kobunshi Kagaku Kansai Kai, ``■ Edited by Uchihiro [JR construction and application of epoxy resins-
1. ! zuI] is there.

本発明において私に好ましいエポキシ樹脂は、ビスフェ
ノールAのクリシジルエーテルおよびフェノール17I
7−、目クレゾールノボラック型のエポキシ位・1脂で
ある。こh2らは単独または2種以上を混合して用いる
ことができる。これら(1、従来公知の合成法に基づい
て合成可能で市販品も容易に入手出来る。
My preferred epoxy resins in this invention are cricidyl ether of bisphenol A and phenol 17I.
7-, cresol novolac type epoxy position, 1 fat. These h2 can be used alone or in combination of two or more. These (1) can be synthesized based on conventionally known synthesis methods, and commercially available products are also easily available.

次に、本発明に月1いられるジアソ゛拉1月りの)・ロ
ゲン化ル1ス酸塩について説明うる。
Next, we will explain about the diazolemonosulfate salt which is included in the present invention.

本発明において便用するジアゾ柾脂のノ・ロゲン化ル1
ス酸1豆は米1ii特W1−第2,063,631号お
よび同第2,667,415封切に4i曹に開示のジア
ゾニラL塩とアルドールやアセタールのような反応性 
4− hルボニル基全含有する有磯縮合削との反応生成物ケ、
特開昭54−98613号公報に開示づれた方法によシ
RFII、 PF6− 、8iF6   、 SbF6
またl”t BeFq −なるアニオン成分で置換した
ハロゲン化ルイス酸塩である。
No-logenyl of diazo selenium used for convenience in the present invention 1
Soric acid 1 bean has a reactivity with diazonilla L salt disclosed in US 1II Special W1-No. 2,063,631 and 4I So in Publication No. 2,667,415, such as aldol and acetal.
4- Reaction product with Ariiso condensation cutting containing all h carbonyl groups,
RFII, PF6-, 8iF6, SbF6 by the method disclosed in JP-A-54-98613
It is also a halogenated Lewis acid salt substituted with an anion component l"tBeFq-.

特に好ましい本発明のジアゾ拉I脂はp−ジつ′ゾジフ
ェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物のPF6”
−、BF4−のアニオン成分金もつハロゲン化ルイス酸
塩である。
A particularly preferred diazo-I fat of the present invention is PF6, a condensate of p-dizodiphenylamine and formaldehyde.
-, BF4- is a halogenated Lewis acid salt having gold as an anion component.

次に、本発明の感光層全現像している「ジアゾ樹脂/液
状エポキシ樹脂」について説明する。
Next, the "diazo resin/liquid epoxy resin" in which the photosensitive layer of the present invention is fully developed will be explained.

特開昭55−159433号公報に開示さi′したジア
ゾ樹脂の了り−ルスルホンv11fは例えば有機溶媒中
で容易に再分解されやすく安定性が満足すべきものでな
い。丑た光解離によって発生ずるプロ1ン酸はエポキシ
樹脂の開#1重合に対し低い活性度しか有さす、レジス
ト而1久性が十分に得られないという欠点全治する。
The diazo resin i' disclosed in JP-A-55-159433 is easily re-decomposed, for example, in an organic solvent and has unsatisfactory stability. The disadvantages of prophosphoric acid generated by photodissociation having low activity against the open #1 polymerization of epoxy resins and insufficient durability of resists can be overcome.

そi′+に対し、本発明のジアゾg111Mのハロゲン
化ルイス酸塩rj1光解肯りによってづ6ηミタるハロ
ゲン化ルイス酸のエポキシ樹脂開環重合に対する活性j
Wが高り、シたがって高感度で、しかも強固な塩の納会
をイ1しているため保イr安定性に優れている。
The activity of the diazo g111M of the present invention for the ring-opening polymerization of the epoxy resin of the Lewis acid halide, which is 6η based on photolysis of the Lewis acid salt rj1 of the diazo g111M,
It has a high W content, therefore high sensitivity, and has excellent storage stability because it has a strong salt bond.

本発明の感光層に用いるジアゾHt脂のハロゲン化ルイ
ス酸塩の添加量は、25℃で液状のエボキあり、1L)
4いと感光層表面の粘着性が牛じ、また水境像イ/1が
低−卜する。
The amount of the halogenated Lewis acid salt of the diazo Ht resin used in the photosensitive layer of the present invention is 1 L, which is liquid at 25°C.
At 4, the tackiness of the surface of the photosensitive layer is the same and the water boundary image I/1 is low.

本発明の感光層の脇部は塗布乾燥後、0.1μm〜7 
tinl、Ff−ましくは0.5pm〜4nm  が良
い。
The side part of the photosensitive layer of the present invention is 0.1 μm to 7 μm after coating and drying.
tinl, Ff- or preferably 0.5 pm to 4 nm.

本発明の構成のうち、着色マスク層について説明する。Among the structures of the present invention, the colored mask layer will be explained.

この着色マスク層の機能は、感光層が溶媒により溶解除
去された領域で同一の溶媒によ)溶解除去あるいは擦り
除去されて着色画像全形成する層とガっている。該着色
画像形成層ij着色剤としての染料、顔料が結合剤中に
分散、混合あるいは溶解して形成されておシ、染料は紫
外綴吸収Allその他の染料(71”l開明47−16
124号公報に記載のもの等)、顔料は有機顔料、無機
顔料(顔料便覧:日本顔料技術協会編及び土Bi3特r
「公開公報に記載のもの等)から適宜、所望により用い
られ、処方構成される。
The function of this colored mask layer is similar to that of a layer that is dissolved or removed (with the same solvent) or rubbed off in areas where the photosensitive layer has been dissolved and removed by the solvent to form a colored image entirely. The colored image forming layer is formed by dispersing, mixing or dissolving a dye or pigment as a coloring agent in a binder.
Pigments include organic pigments and inorganic pigments (Pigment Handbook: Edited by Japan Pigment Technology Association and Soil Bi3 Special
``Those described in published publications, etc.'' are used as desired to form a prescription.

本発明の画像形成材利會平版印刷用として月1いる場合
には、とくにカーボンブラック全着色剤として用いるの
が好ましい。これはカバリングパワーが高いので同−m
W’r得るためのIII埋が助〈出来、画像再現性が良
好であることによる。
When the image forming material of the present invention is used for lithographic printing once a month, it is particularly preferable to use carbon black as a total colorant. This is because the covering power is high.
This is due to the fact that it helps in obtaining the W'r and the image reproducibility is good.

次に本発明の着色マスク1@に711いる結合量として
は種々の高分子結着剤が用いられるが、水溶性または水
軟化性高分子化付物であればいずれも月1いることがで
きる。水溶性高分子化合物としてtit。
Next, various polymer binders are used for the binding amount of 711 in the colored mask 1 of the present invention, but any water-soluble or water-softening polymer additive can be used. . tit as a water-soluble polymer compound.

例えばカゼ1ン、アルブミン、ゼラチン、アラビアガム
などの天然性高分子化合物、例えばメチルセルo−x、
カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ーx1  ヒドロキシエチルメナA セルo −X ナ
トcD 水溶性セルロースエーテル、例えはポリアクリ
ル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、?リピ
ニルビロリドン、ポリンジウムーL−グルメメート、水
溶性ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、ビ
ニルアルコールとマレイン酸との共重合体、ビニルアル
コールとアクリルアミド共重合体、ビニルピロリドンと
酢酸ビニルとの共Mr台体、(メタ)アクリル酸ニスデ
ルと(メタ)アクリル毎の共重合体、アシtb 化−L
/ラテン(例えは7タル化ゼラチン、マレイン仕ゼラチ
ン)の合成水溶性高分子化合物が含捷れ、こhらけ単独
もしくtj:2種以上併用して使用°さノ1.る。
For example, natural polymer compounds such as casein, albumin, gelatin, gum arabic, etc., such as methylcellox,
Carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose x1 Hydroxyethylmena A Cell o -X Nato cD Water-soluble cellulose ethers, such as polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, ? Lipinyl pyrrolidone, porindium-L-glumemate, water-soluble polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol, copolymer of vinyl alcohol and maleic acid, copolymer of vinyl alcohol and acrylamide, co-Mr base of vinyl pyrrolidone and vinyl acetate , a copolymer of (meth)acrylic acid Nisder and (meth)acrylic acid, acytb-L
/ Synthetic water-soluble polymer compound of latin (for example, heptalated gelatin, maleated gelatin) is sludged and used alone or in combination of two or more types. Ru.

水軟化性高分子イに合物の例としては、メチルセルロー
ス、エチルセルロース、メチルセルロース、ヒ1ごロキ
シエチルセルロース、カルボキシメテルセルロ・−ス、
シア/エテルセルロース、セルロースアセテート、セル
ローストリアセテート、セルロースアセテ−)フチレー
ト、セルロースアセテートツメレート、ヒドロキシプロ
ピルメチルセルロース7タレート、ヒト゛ロキシブロビ
ルメチルセルロースへキサヒドロツメレート、ポリアク
リル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリビニ
ルブチラール、ポリメチルビニルケトン、ナイ 9− ロン66、ポリアミド、ポリビニルメトキシアセクール
、ポリ酢酸ビニル、エポキシ樹脂、ボリウ1ノメン等が
ある。十Fft、’セルロース誘導体におけるS、C,
(5ubs士r、tUしetL    t−、rつr山
;−n−t:       )  、  +3.8.(
西1月ee of’δυトεbtυt)〇五)は前述し
た水軟化性の定義の範囲において決めC):hる9゜こ
の他に41111鎖にカルボギシ基ケ有する1(1(加
1F付体、例えばメタクリル酸共重合体、アクリル酸共
1f合体、イメコン酸共重合体、部分エステル化マレ1
ン酸共重合体、マレ1ン酸j(重付体、クロlン酸共重
脅体等がある。
Examples of water-softening polymer compounds include methylcellulose, ethylcellulose, methylcellulose, agar oxyethylcellulose, carboxymethylcellulose,
Shea/ethercellulose, cellulose acetate, cellulose triacetate, cellulose acetate) phthalate, cellulose acetate tumerate, hydroxypropyl methylcellulose heptatalate, hydroxybrobyl methylcellulose hexahydrotumerate, polyacrylic acid ester, polymethacrylic acid ester, polyvinyl butyral , polymethylvinylketone, nylon 66, polyamide, polyvinylmethoxyacecool, polyvinyl acetate, epoxy resin, polyamide, etc. 10Fft, 'S, C, in cellulose derivatives
(5ubs, tU, t-, r-nt: ), +3.8. (
West January ee of'δυtεbtυt)〇5) is determined within the scope of the definition of water softening property described aboveC):h9゜In addition to this, 1(1(additional 1F addition) having a carboxylic group in the 41111 chain , for example, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer 1f, imeconic acid copolymer, partially esterified male 1
These include chloric acid copolymer, maleic acid (polymerized product), chloric acid copolymerized product, etc.

側鎖に水酸基、カルバモイル基、ジメチルアミノ基を有
する附加重付体も同様に用いられ、例えばビニルアルコ
ール共重合体、ビニルアリ−/1.アルコ−ルJj i
ij合体、l fレンジエナルマロネート共重合体(還
元物)、無水マレ1ン酸共11f付体(還元物)、アク
リルアミド共重合体、メタクリルアミド共重合体、N、
N−ジメチル了ミノメナルメメクリレート共市会体、N
、N−ジメチルアミツェナルアクリレート共171合体
、N、N−ジメナルアミノエチルメタクリレート共重合
体等がある。この他にビニルピロリドン共重合体等も有
用である。
Additives having a hydroxyl group, carbamoyl group, or dimethylamino group in the side chain are also used, such as vinyl alcohol copolymers, vinyl aryl/1. Alcohol Jj i
ij polymer, lf dienyl malonate copolymer (reduced product), maleic anhydride co-11f adduct (reduced product), acrylamide copolymer, methacrylamide copolymer, N,
N-dimethyl merinomenalme methacrylate consortium, N
, N-dimethylamizenal acrylate copolymer, N,N-dimenalaminoethyl methacrylate copolymer, and the like. In addition to these, vinylpyrrolidone copolymers and the like are also useful.

上記共Mf合体におけるカルボキシ基、水酸基、カルバ
モイル基、ジメチルアミノ基のモル比率ハ、その他の共
°■f合体成分の種類によって異なり、前述した水軟化
性の定義の範[71(において決めらハる。
The molar ratio of the carboxyl group, hydroxyl group, carbamoyl group, and dimethylamino group in the above co-Mf coalescence varies depending on the type of other co-Mf coalescence components, and the molar ratio is determined in the above-mentioned definition of water softening property [71]. Ru.

かかる高分子化付物は単独もしくは2棟以上併月1して
(IJり刊づれる。
Such polymerized accessories are published individually or in two or more buildings once a month (IJ).

本31′、明に月1いるマスク層の笈イ色削/結会削の
比率に11目標とする光学α度とマスク層の水に対する
除去性ケ考り訂シて同業者に公知の方法によシ定めるこ
とができる。
In Book 31', a method known to those skilled in the art is revised based on the target optical α degree and the removability of the mask layer against water in the ratio of cylindrical polishing/cutting of the mask layer. It can be determined accordingly.

本発明のマスク層と、エポキシ位4脂およびジアゾ樹脂
(ハロゲン化ルイス酔塩)からなる感光層ケ塗設させる
支持体としては、紙、グラスチック(例えはポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートさ
れた紙、透明ゲラステック支持0パ、例えは、酢酸セル
ロース、ポリエチレンテレ7メレート、ポリプロピレン
、ポリスチレン、塩化ビニリデン等が用いられる。
The support on which the mask layer of the present invention and the photosensitive layer consisting of epoxy position 4 fatty acid and diazo resin (halogenated Lewis salt) are coated may be a laminate of paper, glass stick (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.). For example, cellulose acetate, polyethylene telemerate, polypropylene, polystyrene, vinylidene chloride, etc. are used.

史に、マスクツ!りの接着性改良のために、下塗層を設
けても良い。−ト塗層として適ザIな合成樹脂としては
、アクリル酸エステル(酊脂 1g化ビニリデン樹脂、
1福化ビニリデン−アクリ「J二1リルーイタコン酸共
重合樹脂、塩什ビニルー酢酸ビニルー無水マレイン酸J
ξ重合樹脂、アクリル酸アミド×はメメクリル酸アミド
誘導体とアクリル酸欠はメメクリル酸のアルキルエステ
ル、ハ旨肋酸ビニルエステル、スチレン又はアクリロニ
トリルとの共重合樹脂、フメル酸又1jイソフタル酸と
グリフール類トノコポリエステル樹脂、グリシジルアク
リレ−[又はグリシジルメメクリレートの重合体又は共
重合体などかあ多、捷たゼラチンも十塗層成分として有
効である。]・塗層會形成するための成分は上記の他に
も多数の合成樹脂が知らf]ており、また塗布液の調整
力法や塗布方法については、本発明が賄する写真材料製
造工業界では周知の技術なので適宜それらを応用するこ
とができる。一般には上述したごとき合成忙1脂ケ水父
げイ:1機溶媒によって溶液となし、こノ1.倉ギーサ
ー塗布、ロール 11− 塗布、エアーナイフ塗布、スプレー塗布などの学布方法
によって支45体上に塗布する。
In history, masks! An undercoat layer may be provided to improve adhesion. - Synthetic resins suitable for the coating layer include acrylic acid ester (vinylidene resin),
1 Fuhua vinylidene-acrylic "J21 Lyru-itaconic acid copolymer resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride J
ξ Polymer resin, acrylic acid amide × means memethacrylic acid amide derivative, acrylic acid deficiency means alkyl ester of memethacrylic acid, copolymer resin with styrene or acrylonitrile, fumeric acid or 1j isophthalic acid and glyfurs. Polyester resins, polymers or copolymers of glycidyl acrylate [or glycidyl memethacrylate], and sludged gelatin are also useful as the coating layer component. ]・In addition to the above-mentioned components, many synthetic resins are known for forming the coating layer, and methods for adjusting the coating liquid and coating methods are well known in the photographic materials manufacturing industry covered by the present invention. Since these are well-known techniques, they can be applied as appropriate. In general, the above-mentioned synthesis process is carried out by forming a solution using a solvent, and then forming a solution using a solvent. Coat on the support 45 using cloth methods such as Kura-Giesser coating, roll coating, air knife coating, and spray coating.

本発明の画像形成材料の製造法を具体的に示すと、一般
には、マスク層結着剤、感光層はアセトン、メタノール
、エタノール、メチルエチルケトン、メチル1ツブチル
ケトン、シクロヘキサノン、β−ヒドロキシエチルメチ
ルエーテル(メチルセロンルブ)、β−アセトキシエチ
7しメチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、ジ
メチルポルムアミド、ヘキザメプ・ルホスホンアミド、
テ)7ヒト「17ラン、クロルベンゼン、トリエアレン
ダリコールなどの溶媒に可溶性である。そこで上記の溶
媒(llh独溶媒又は2種以上の有機溶媒紮含む混合溶
媒)から適当なものを選択し、その中に溶4Mピしめで
塗布液ケ調整する。
To specifically describe the method for manufacturing the image forming material of the present invention, the mask layer binder and the photosensitive layer are generally made of acetone, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, methyl 1-butyl ketone, cyclohexanone, β-hydroxyethyl methyl ether (methyl Selonrubu), β-acetoxyethyl methyl ether, methyl cellosolve acetate, dimethylpormamide, hexamep luphosphonamide,
TE) 7 Humans It is soluble in solvents such as chlorbenzene, chlorbenzene, and tri-aryendarylcol. Therefore, select an appropriate solvent from the above solvents (llh alone or a mixed solvent containing two or more organic solvents). Then, adjust the coating solution by adding 4M solution into it.

このようにして調整さり、る塗布液は、従来から公知の
各種の塗布技術に適用されるような粘度に調整される。
The coating solution thus prepared has a viscosity that can be applied to various coating techniques known in the art.

塗イli沿は公知のボワイラー塗布、ティップ塗布、1
i −5ンfiA 布、ロール塗布、’()L’−塗布
、エフ 12− ナイフ塗布、l・゛フタ−ナイフ塗布などの塗布方法の
うちから選択された方法によって、透明支持体上に塗布
される。
Along the coating process, the well-known boiler coating, tip coating, 1
Coating on a transparent support by a method selected from coating methods such as cloth, roll coating, '()L'-coating, F12-knife coating, and L/F-knife coating. be done.

本発明の効果について述べると、本発明の画像形成材料
を用いる画像形成力法は、−1J:のように作られた1
8fii像形成H料ケ、甘ず活111.光線で像部光す
る。光源としては、例λば鑓高月−水銀灯、タングステ
ンランプ、水銀灯、キセノンランプ、CnT光源、レー
ザー光源など各種の光源が用いらt]る。
To describe the effects of the present invention, the image forming force method using the image forming material of the present invention is as follows: -1J:
8fii image formation H material, sweets activity 111. The image area is illuminated by the light beam. Various light sources can be used as the light source, such as a mercury lamp, a tungsten lamp, a mercury lamp, a xenon lamp, a CnT light source, and a laser light source.

紫外線等活性光線で像露光された感光層では、ジアゾ樹
脂(ハロゲン化ルイス酸頃)it、燕状エポキシ樹脂中
での、光解離によって発生するハロゲン化ルイス酸の止
ボキシ樹脂開JJ1重合に対する活性度が高く、高感度
に反応が進行して、水に対して不溶化する。
In the photosensitive layer imagewise exposed to actinic light such as ultraviolet rays, the diazo resin (halogenated Lewis acid) has activity against boxy resin opening JJ1 polymerization of the halogenated Lewis acid generated by photodissociation in the swallow-shaped epoxy resin. The reaction proceeds with high sensitivity and becomes insoluble in water.

光照射面は接着強化されているので、露光後の画像形成
材料は水中に浸漬し、水油像した場合、画像未露光部は
答易に、暗くラビング・擦り現像される。このと′f!
感光層の未露光域とその部分に当る一F層のマスクI鰭
が除去され、ポジーネガのフィルム画像が形成される。
Since the light-irradiated surface has strengthened adhesion, when the image-forming material after exposure is immersed in water and formed into a water-oil image, the unexposed areas of the image are easily developed by rubbing and rubbing to darken the image-forming material. This and 'f!
The unexposed area of the photosensitive layer and the mask I fin of the 1F layer corresponding to that area are removed, and a positive negative film image is formed.

JuTに本発明の実に11例を記すが、本発明の実砲與
14永は以下のHI3叔に限定されるものではない。
Although 11 examples of the present invention are described in JuT, the actual guns of the present invention are not limited to the following HI3 cases.

す、(殉例1 厚さ1(10μInのポリエテレンテレフタレー1フィ
ルムの片7111に、1・配組成の被m液を乾燥後の膜
厚が1μn1になるように塗布し乾燥せしめて着rへ一
7スク眉ケ形成した。
(Example 1) Apply a solution having a composition of 1 to a piece 7111 of a polyethylene terephthalate film with a thickness of 1 (10 μIn) so that the film thickness after drying is 1 μN1, dry it, and attach it. Seven eyebrows were formed on the heel.

この着色マスク層上に″F配本発明の(b)、IIC光
液A1比較感光液Bヶ乾燥後のa口部が1μmになるよ
うに塗布し、画像形成材料A、Bを得た。
On this colored mask layer, "F" (b) of the present invention, IIC photoliquid A1 and comparative photosensitive liquid B were coated so that the a-portion after drying was 1 .mu.m to obtain image forming materials A and B.

(b)(感光液A) (感光液B) 上#i: 2徨類の画像形成材料の各1.l’料金塗布
後、40℃、湿度80%の雰囲気中に保存した。?1の
画像形成材料をメメルハライトランプアイドルフィン2
000[岩崎電気■製〕で80zの距離から30秒間画
像鎖光し、次に30℃の水中に1分間浸漬後、スポンジ
で軽く擦りり現f# IIL理會行なった。
(b) (Photosensitive liquid A) (Photosensitive liquid B) Top #i: Each of the two types of image forming materials 1. After applying the l' charge, it was stored in an atmosphere of 40° C. and 80% humidity. ? 1 image forming material to memelhalite lamp idol fin 2
000 [manufactured by Iwasaki Electric ■] for 30 seconds from a distance of 80 z, and then immersed in water at 30° C. for 1 minute, and then lightly rubbed with a sponge to perform the present f#IIL treatment.

か<1,7て得られたマスク画像の未露光部の除去+!
1−能が実用的基準から劣化する日数を保存性の尺1止
として検討したところ、表1に示す結果が得らノ1.%
ヒ。
Removal of unexposed areas of the mask image obtained by <1,7+!
When we examined the number of days for the ability to deteriorate from a practical standard as a measure of shelf life, we obtained the results shown in Table 1. %
Hi.

寸だ、1+られた黒色マスク画像の画像特性ケ圧較する
と、(ロ)け(A)に比ベビンホールが多い。(ロ)は
露光時間ケ増大させることにより(A)並みにピンホー
ルが6&i小する。すなわち(A)は(B)よシ高感度
であることがわかる。
Comparing the image characteristics of the 1+ black mask image, there are more Bevin holes in (A) than in (A). In (B), by increasing the exposure time, the pinhole becomes smaller by 6&i as in (A). That is, it can be seen that (A) has higher sensitivity than (B).

この結果、本発明に係る画像形成材料は感度、保存安定
性に優れていることが確認づれた。
As a result, it was confirmed that the image forming material according to the present invention has excellent sensitivity and storage stability.

実に4例2 夾殉例1と同様の着色マスク層上に、′F記の本発明感
光液で塗布乾燥後の膜厚が1.0μm1′Iになる」:
うに核種した。
Indeed, Example 2: On the same colored mask layer as in Case 1, the photosensitive liquid of the present invention described in 'F' was applied and the film thickness after drying was 1.0 μm1'I.
Sea urchin nuclide.

(b)  it状エポキシ樹脂(C1ba行製Aral
dite 6030 )17− 実殉例1と同様に露光、現像したところ、鮮明な黒色マ
スク画像が得られた。
(b) IT-like epoxy resin (Aral manufactured by C1ba)
dite 6030) 17- When exposed and developed in the same manner as in Actual Example 1, a clear black mask image was obtained.

特許出願人  小西六写實工朶株式会社代理人 弁理士
  坂 口  信 昭 (#1か1名) 手続浦正書(自発) 昭和 57年10 月711 牛1.詐庁「Q冒 f’i  杉 相 夫 殿+  1
1 f’lのノ、三示 昭(u 56て1 特  ¥1 願第119333  
号2 発明のと1811’ll 像IFF 成イ”; 
M=’13   i市1にろ・−4′ろ名 ・1咋1との関1.省 特許出ij、Q’i人II  
 111i 氏 ’(、C’(副1、)(1,271小西六写(に工
業株式会社4、代理 人〒105 「i 袖止により増加する発明の数 7、袖1[−の文]象 門1il119’f (詳細な説明の欄)8 袖11の
内容 別紙の通り 補正の内Irダ 1 明細書中篇9頁第10行に第17行に1メチルセル
ロース・・・・・・・・メチルセル[1−スフタレ−1
・、)とあるを1メチルセルロース(S、C,=3〜1
0%)、工千ルセルロース(D、 S、−0,5〜0.
7,2,2.3,31、ブチルセルロース、ヒドロキシ
エチルレルV1−ス(s、c、 =<ao%、ン55%
)、カルボギシメチルセルロ〜ス(S、 C,、=5〜
10%、〉30%)、シアノエチルセルロース(1号、
C,=8〜1296 + > 50%)、セルロースア
セテ−l−(+1. Sf = 1.3〜1.7 、2
 、2.3 )、セルロースアセテセテー1−、セル1
]−スアセテートブチレー1−、セルロースアセテ−1
−フタレー1へ、ヒドロキシプロピルメチルセルロース
フタレ−1−(メトキシル基=12〜38 wt%、ヒ
ドロギシブ1−1ポキシル!=2〜15wt%、カルボ
A−シベン・ノー(Iしll(=12〜50wt%)、
−1と補正する。
Patent applicant: Konishiroku Shajiko Co., Ltd. Agent: Patent attorney: Nobuaki Sakaguchi (#1 or 1 person) Seishakuura Masashi (self-motivated) October 1980 711 Cow 1. Fraud agency "Q attack f'i Sugi Aio + 1
1 F'l's No. 3 Show (U 56 Te 1 Special ¥1 Application No. 119333
No. 2 Invention and 1811'll Image IFF Formation'';
M='13 i city 1 niro -4' name 1 kui 1 connection 1. Ministry of Patent Issue II, Q'i Person II
111i Mr. '(, C' (sub 1,) (1,271 Roku Konishi Co., Ltd. 4, agent 〒105 ``i Number of inventions increased by cuffs 7, sleeve 1 [- sentence] Elephant Gate 1il119'f (Detailed explanation column) 8 Contents of sleeve 11 As per the attached sheet, Irda 1 1 in line 10 and line 17 on page 9 of the middle part of the specification 1 methyl cellulose...Methyl cell [1-Suftale-1
・, ) is 1 methyl cellulose (S, C, = 3 ~ 1
0%), cellulose (D, S, -0.5~0.
7,2,2.3,31, butyl cellulose, hydroxyethylyl V1-su(s, c, =<ao%, n55%
), carboxymethylcellulose (S, C,, =5~
10%, >30%), cyanoethyl cellulose (No. 1,
C, = 8~1296 + > 50%), cellulose acetate-l- (+1. Sf = 1.3~1.7, 2
, 2.3), cellulose acetacetate 1-, cell 1
]-suacetate butyrate 1-, cellulose acetate-1
- to phthalate 1, hydroxypropyl methyl cellulose phthalate 1- (methoxyl group = 12 to 38 wt%, hydrogen 1-1 poxyl! = 2 to 15 wt%, carbo A-siben no (I) (= 12 to 50 wt%) %),
Correct it to -1.

2 同第10頁第3行〜第6行に[十記セルlll−ス
・・・・・・・・決められる。]とあるを置1.: f
f1.! :1.’1分子化合物のうち、セルロース誘
導体以外のρ11成分Y化合物については、平均分子9
k 1,000−10(M)00 ノ1− 範囲て選択される。」と補正する。
2 On page 10, lines 3 to 6, [10 cells lll-s...... are determined. ] 1. : f
f1. ! :1. 'Among single molecule compounds, for ρ11 component Y compounds other than cellulose derivatives, the average molecule is 9
Selected in the range k 1,000-10(M)00 no 1-. ” he corrected.

3 同第11自第6行に「決められる。」とあるを「決
められ、平均分子量ID00〜100,000の範囲で
選択される。−1と補正する。
3 In the 6th line of the 11th column, the phrase ``determined.'' is corrected to ``determined, and the average molecular weight ID is selected within the range of 00 to 100,000.'' -1.

4 同第150第12行に「フタリル基」とあるを「カ
ルボギシベンゾイル基」と補正する。
4. In line 150, line 12 of the same, the phrase "phthalyl group" is corrected to read "carbogycibenzoyl group."

以」二 2−I"2 2-

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 支持鉢土に、支持1・にU’rlA側から、(a)着色
マスク層並びに、(1+)25℃で油状のエポキシ拉1
月旨および該エボギシ樹脂1重liX部に対して0.5
重量部〜2.57i−11部のジアゾ樹脂のハロゲン化
ルイスe[と金含む感光層ケ有ずン、ことを/P1徴と
する画像形成材料。
Add (a) a colored mask layer and (1+) an oily epoxy layer 1 at 25°C to the support pot soil from the U'rlA side to the support 1.
0.5 per part of the moon and the 1x LiX part of the Evogishi resin
An image-forming material having a photosensitive layer containing 2.57 parts by weight to 2.57 parts by weight to 11 parts by weight of a diazo resin halogenated Lewis E and gold, which is characterized by /P1.
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