JPS5835176A - 3,4−ジヒドロ−2−ピラジノン誘導体及びその製造方法 - Google Patents
3,4−ジヒドロ−2−ピラジノン誘導体及びその製造方法Info
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- JPS5835176A JPS5835176A JP13529181A JP13529181A JPS5835176A JP S5835176 A JPS5835176 A JP S5835176A JP 13529181 A JP13529181 A JP 13529181A JP 13529181 A JP13529181 A JP 13529181A JP S5835176 A JPS5835176 A JP S5835176A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は親規かつ有用なλ4−ジヒドロー2−ビラジノ
ン誘導体及びその製造方法に関するものである。
ン誘導体及びその製造方法に関するものである。
更に詳しくは本発明は一般式
(式中、HIFi水素原子、低級アルキル麦、了リール
基、低級アルコキシ基またはアラルキルオキシ基を示[
−1R2は水素原子、低級アルキル基、了り−ル基また
はアラルキル基を示し、R11およびR4fj同一また
は異なって水素原子または低級アルキル基を示す0) を有する新規な3,4−ジヒドロ−2−ビラジノン誘導
体及びその製造方法に関するものである。
基、低級アルコキシ基またはアラルキルオキシ基を示[
−1R2は水素原子、低級アルキル基、了り−ル基また
はアラルキル基を示し、R11およびR4fj同一また
は異なって水素原子または低級アルキル基を示す0) を有する新規な3,4−ジヒドロ−2−ビラジノン誘導
体及びその製造方法に関するものである。
前記−鍮式(11において、低級アルキル基という表現
は炭素数1乃至4個の直鎖状若しくは分枝#I状のアル
キル基を意味し、例えばメチル、エチル、n−プロピル
、イソプロピル、n−ブチルまたはイソブチル基があげ
られ、アリール基とは無置換または置換されたフェニル
基を意味し、置換基としては例えばメチル、エチル、n
−プロピル、イソプロピルのような低級アルキル基、メ
トキシ、エトキシ、U−プロポキシ、インプロポキシの
ような低級アルコキシ基、フッ素、塩素、臭素のような
ハロゲン原子、ニトロ基またけメチレンジオキシ基があ
げられ、低級アルコキシ基とは炭素数1乃至4個の宣鎖
状若しくは分枝鎖状のアルコキシ基を蒼味し、例えばメ
トキシ、エトキシ、n−プロポキシ、インプロポキシ、
n−ブトキシまたはインブトキシ基があげられ、アラル
キルオキシ基とは無置換または置換されたベンジルオ千
シ基を意味し、置換基としては例えばメチル、エチル、
n−プロピル、イソプロピルのような低級アルキル基、
メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、インプロポキシ
のような低級アルコキシ基、フッ素、塩素、臭素のよう
なハロゲン原子、ニトロ基tたはメチレンジオキシ基が
あげられ、アラルキル基とは無置換または置換されたベ
ンジル基を意味し、置換基としては例えばメチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピルのような低級アルキル
基、メトキシ、エトキ>、n−プロポキシ、インプロポ
キシのような低級アルコキシ基、フッ素、塩素、臭素の
よう表ハロゲン原子、ニトロ基ま九はメチレンジオキシ
基があげられる。
は炭素数1乃至4個の直鎖状若しくは分枝#I状のアル
キル基を意味し、例えばメチル、エチル、n−プロピル
、イソプロピル、n−ブチルまたはイソブチル基があげ
られ、アリール基とは無置換または置換されたフェニル
基を意味し、置換基としては例えばメチル、エチル、n
−プロピル、イソプロピルのような低級アルキル基、メ
トキシ、エトキシ、U−プロポキシ、インプロポキシの
ような低級アルコキシ基、フッ素、塩素、臭素のような
ハロゲン原子、ニトロ基またけメチレンジオキシ基があ
げられ、低級アルコキシ基とは炭素数1乃至4個の宣鎖
状若しくは分枝鎖状のアルコキシ基を蒼味し、例えばメ
トキシ、エトキシ、n−プロポキシ、インプロポキシ、
n−ブトキシまたはインブトキシ基があげられ、アラル
キルオキシ基とは無置換または置換されたベンジルオ千
シ基を意味し、置換基としては例えばメチル、エチル、
n−プロピル、イソプロピルのような低級アルキル基、
メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、インプロポキシ
のような低級アルコキシ基、フッ素、塩素、臭素のよう
なハロゲン原子、ニトロ基tたはメチレンジオキシ基が
あげられ、アラルキル基とは無置換または置換されたベ
ンジル基を意味し、置換基としては例えばメチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピルのような低級アルキル
基、メトキシ、エトキ>、n−プロポキシ、インプロポ
キシのような低級アルコキシ基、フッ素、塩素、臭素の
よう表ハロゲン原子、ニトロ基ま九はメチレンジオキシ
基があげられる。
本発明の前記一般式(11を有するS、4−ジヒドロ−
2−ビラジノン誘導体は、文献末記載の新規化合物であ
って医薬品の合成中間体として有用な化合物である。例
えば本発明の化合物を用いて、特公昭42−1352号
および特公昭42−11838 号公報明細書に記載さ
れている鎮痛剤あるいは鎮咳剤として有用である1、
S−イミノ−3−ベンゾフジシン誘導体を製造すること
ができる。
2−ビラジノン誘導体は、文献末記載の新規化合物であ
って医薬品の合成中間体として有用な化合物である。例
えば本発明の化合物を用いて、特公昭42−1352号
および特公昭42−11838 号公報明細書に記載さ
れている鎮痛剤あるいは鎮咳剤として有用である1、
S−イミノ−3−ベンゾフジシン誘導体を製造すること
ができる。
本発明の前記−銀式(1)を有する化合物は、一般式
。ア、R4 (式中、R1# R21RsおよびH411前述したも
のと同意義を示し、R5はメチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピルのような低級アルキル基を示す。) を有する化合物を酸と処理することによって製造し得る
。
。ア、R4 (式中、R1# R21RsおよびH411前述したも
のと同意義を示し、R5はメチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピルのような低級アルキル基を示す。) を有する化合物を酸と処理することによって製造し得る
。
本反応を実施するに当って、反応は溶剤の存在下で化合
物(11を酸と処理することによって実施することがで
きる0反応に使用される酸としては触媒量の塩酸、硫酸
、リン酸などの鉱酸まタハメタンスルホン酸、ベンゼン
スルホン酸、p−)ルエンスルホン酸などのスルホン酸
カ好適であり、溶剤としては水あるいはメタノール、エ
タノール、n−プロパツール表トの低級フルコール、ア
セトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドなどの脂肪酸ジアルキル了ミド、ジメチルスルホ
キシド、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテ
ル等の水溶性有機溶剤$よびこれらの有機溶剤と水との
混合溶剤が好適である0通常ll1−塩酸を触媒として
アセトニトリル中で本反応を行なうのが最も好ましい。
物(11を酸と処理することによって実施することがで
きる0反応に使用される酸としては触媒量の塩酸、硫酸
、リン酸などの鉱酸まタハメタンスルホン酸、ベンゼン
スルホン酸、p−)ルエンスルホン酸などのスルホン酸
カ好適であり、溶剤としては水あるいはメタノール、エ
タノール、n−プロパツール表トの低級フルコール、ア
セトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドなどの脂肪酸ジアルキル了ミド、ジメチルスルホ
キシド、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテ
ル等の水溶性有機溶剤$よびこれらの有機溶剤と水との
混合溶剤が好適である0通常ll1−塩酸を触媒として
アセトニトリル中で本反応を行なうのが最も好ましい。
反応温度は特に限定祉ないが、通常DC乃至50C付近
であり、反応時間は反応温度、使用する酸および溶剤の
種類などによって異なるが、通常1・分間乃至2時間位
である。
であり、反応時間は反応温度、使用する酸および溶剤の
種類などによって異なるが、通常1・分間乃至2時間位
である。
反応終了後、本発明の目的化合物(1) #i常法に従
って反応混合物からIl取することができる〇例えば反
応混合物を希アンモニア水で中和【2て後、ジクロルメ
タンのような有轡溶剤を用いて抽出[1、得られる有機
溶剤層を洗浄し乾燥し、た後、抽出液より溶剤を留去す
ることKよって得ることができる。
って反応混合物からIl取することができる〇例えば反
応混合物を希アンモニア水で中和【2て後、ジクロルメ
タンのような有轡溶剤を用いて抽出[1、得られる有機
溶剤層を洗浄し乾燥し、た後、抽出液より溶剤を留去す
ることKよって得ることができる。
得らtた目的化合物は必l!に応じて常法に従って再結
晶法、再沈澱法、減圧蒸留法、カラムクロマトグラフィ
ーなどの精製手段を用いて更に精製する仁とがで傘る9 本反応の原料化合物である前記一般式(組を有する化合
物は、一般式 %式% (式中、R1およびR2は前述したものと同意義を示す
。) を有するカルボン酸會たはその反応性誘導体を一般式 (式中、R3e R4およびR5は前述したものと同意
義を示す。)■するアミノアぢター1t/訝1本と反応
させることによって得られる。
晶法、再沈澱法、減圧蒸留法、カラムクロマトグラフィ
ーなどの精製手段を用いて更に精製する仁とがで傘る9 本反応の原料化合物である前記一般式(組を有する化合
物は、一般式 %式% (式中、R1およびR2は前述したものと同意義を示す
。) を有するカルボン酸會たはその反応性誘導体を一般式 (式中、R3e R4およびR5は前述したものと同意
義を示す。)■するアミノアぢター1t/訝1本と反応
させることによって得られる。
本反応は通常のアシル化反応の手段によって奥1mfる
ことができる。式(Itを有するカルボン酸を遊離の形
で使用する場合には適当な縮合剤を用いる◎縮合剤とし
ては例えばジシクロへキシルカルボジイミド、カルボニ
ルジイミダゾールなどの脱水剤をあげることができる0
式(mlを有するカルボン酸の反応性誘導体としては例
えば酸クロリド、酸プロミドのような酸ハライド、炭酸
モノエチルエステル、炭酸モノイソブチルエステル表ど
の縦酸モノ低級アルキルエ、ステルとの混合酸無水物、
ピバリン酸、トリクロル酢酸などの低級アルカン酸との
混合酸無水物、p−ニトロフェニルエステル、ペンタク
ロルフェニルエステル、N−ヒドロキシフタルイミドエ
ステ々のような活性エステル等があげられる。
ことができる。式(Itを有するカルボン酸を遊離の形
で使用する場合には適当な縮合剤を用いる◎縮合剤とし
ては例えばジシクロへキシルカルボジイミド、カルボニ
ルジイミダゾールなどの脱水剤をあげることができる0
式(mlを有するカルボン酸の反応性誘導体としては例
えば酸クロリド、酸プロミドのような酸ハライド、炭酸
モノエチルエステル、炭酸モノイソブチルエステル表ど
の縦酸モノ低級アルキルエ、ステルとの混合酸無水物、
ピバリン酸、トリクロル酢酸などの低級アルカン酸との
混合酸無水物、p−ニトロフェニルエステル、ペンタク
ロルフェニルエステル、N−ヒドロキシフタルイミドエ
ステ々のような活性エステル等があげられる。
本りシル化反応は通常溶剤の存在下、で行なうのが好ま
しく、使用される溶剤としてはテトラヒドロフラン、ジ
オキサン表どのエーテル類、クロロホルム、ジクロルメ
タン碌どのハロゲン化炭化水素類、了セトニトリル、ジ
メチルホルム了ミド、ジメチルアセトアミド々どの脂肪
酸ジアルキルアミド、ジメチルスルホキシド等の不活性
有機溶剤右よびこれらの有機溶剤と水との混合溶剤が好
適である0なお、化合物(Itの反応性誘導体の種類に
よっては必要に応じて塩基を存在させることがある0塩
基の例としては重炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムなどの無機塩基、トリエチルアミン、 N
# M−ジメチルアニリン、ピリジン、ルチジンなどの
有機塩基があげられる。反応温度および反応時間Kit
特に限定はないが、通常室温才たは−100乃至00位
の冷却下において30分間乃至3時間反応させる。
しく、使用される溶剤としてはテトラヒドロフラン、ジ
オキサン表どのエーテル類、クロロホルム、ジクロルメ
タン碌どのハロゲン化炭化水素類、了セトニトリル、ジ
メチルホルム了ミド、ジメチルアセトアミド々どの脂肪
酸ジアルキルアミド、ジメチルスルホキシド等の不活性
有機溶剤右よびこれらの有機溶剤と水との混合溶剤が好
適である0なお、化合物(Itの反応性誘導体の種類に
よっては必要に応じて塩基を存在させることがある0塩
基の例としては重炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムなどの無機塩基、トリエチルアミン、 N
# M−ジメチルアニリン、ピリジン、ルチジンなどの
有機塩基があげられる。反応温度および反応時間Kit
特に限定はないが、通常室温才たは−100乃至00位
の冷却下において30分間乃至3時間反応させる。
本発明の前記一般式(1)を有する亀4−ジヒドロー2
−ビラジノン誘導体は、前述したように医薬品、の合成
中間体として有用であるが、例えば以下に示す反応によ
って1.5−イミノ・−3一ペンゾアゾシン誘導体に導
くことができる。
−ビラジノン誘導体は、前述したように医薬品、の合成
中間体として有用であるが、例えば以下に示す反応によ
って1.5−イミノ・−3一ペンゾアゾシン誘導体に導
くことができる。
上記式中、R1a R’およびR4け前述したものと同
意義を示す。
意義を示す。
す亀わち、本発明の目的化合物<13において置換基R
1がベンジル基である化合物(la)を用いて、塩酸、
硫酸、リン酸のような鉱酸、メタンスルホ/!1 *
p −トルエンスルホン11のヨウナスルホン酸、トリ
クロロ酢酸、トリフルオロ酢酸のようなハロゲノ脂肪酸
または塩化アルミニウム、四塩化錫のよう表ルイス酸の
存在下で加熱すると、1,5−イミノ−3−ベンゾアゾ
シン閉環体(IQが得られる。以下、常法に従って化合
物(紹をメタノール中過剰の水素化ホウ素ナトリウムで
還元して、還元体(V)とし、得られる化合物(Vlを
得ることができる〇 次に実施例及び参考例をあげて本発明を更に具体的に説
明する〇 実施例1 14、畠1#(440mmol)の夏−エトキシカルボ
ニルフェニルアラニルザルコシナールジメチルアセター
ル11sOIdの了セトニトリルに溶解し、湊塩酸12
mの40−アセトニトリル溶液を攪拌しながら少量ずつ
滴下する0室温にて1時間攪拌した後、希アンモニア水
にて中和、110011114の水で希釈【1、ジクロ
ルメタンにて数回抽出、食塩水にて洗浄する。これを無
水硫酸マグネシウムで乾燥稜、溶剤を減圧留去すると、
10.6@#(17チ)の結晶が得られる。これをイソ
プロピルエーテル−石油エーテルにて再結して、融点6
3−〜65Cの針状晶が得られた。
1がベンジル基である化合物(la)を用いて、塩酸、
硫酸、リン酸のような鉱酸、メタンスルホ/!1 *
p −トルエンスルホン11のヨウナスルホン酸、トリ
クロロ酢酸、トリフルオロ酢酸のようなハロゲノ脂肪酸
または塩化アルミニウム、四塩化錫のよう表ルイス酸の
存在下で加熱すると、1,5−イミノ−3−ベンゾアゾ
シン閉環体(IQが得られる。以下、常法に従って化合
物(紹をメタノール中過剰の水素化ホウ素ナトリウムで
還元して、還元体(V)とし、得られる化合物(Vlを
得ることができる〇 次に実施例及び参考例をあげて本発明を更に具体的に説
明する〇 実施例1 14、畠1#(440mmol)の夏−エトキシカルボ
ニルフェニルアラニルザルコシナールジメチルアセター
ル11sOIdの了セトニトリルに溶解し、湊塩酸12
mの40−アセトニトリル溶液を攪拌しながら少量ずつ
滴下する0室温にて1時間攪拌した後、希アンモニア水
にて中和、110011114の水で希釈【1、ジクロ
ルメタンにて数回抽出、食塩水にて洗浄する。これを無
水硫酸マグネシウムで乾燥稜、溶剤を減圧留去すると、
10.6@#(17チ)の結晶が得られる。これをイソ
プロピルエーテル−石油エーテルにて再結して、融点6
3−〜65Cの針状晶が得られた。
赤外IHklRスヘl’ ) # IJKBrm−’:
1712−167・−mSL! 740.1i92゜ 元素分析 01sBtsM叩05として:計算値 0.
1i!iJI;1111i、lil;M、1&21゜実
測値 0. $5.!31 ;IIl、 5L41;N
、 1(L2m)。
1712−167・−mSL! 740.1i92゜ 元素分析 01sBtsM叩05として:計算値 0.
1i!iJI;1111i、lil;M、1&21゜実
測値 0. $5.!31 ;IIl、 5L41;N
、 1(L2m)。
実施例2
N−エトキシカルボ″ニルグリシルザルコシナールジメ
チルアセタール(4’J@t)を用いて実施例1161
10.165B、ff1o。
チルアセタール(4’J@t)を用いて実施例1161
10.165B、ff1o。
元素分析 0@H9fiJQjとして:計算値 0.S
2..16.;H,1LS7;)lT、t6.21゜実
m値 a、sl、94;Ha&@@;N*1&31゜1
実、衿例3 y−エトキシカルボニル−(!、S−ジメトキシフェニ
ル)アラニルザルコシナールジメチ=アセタフル(シ0
6t)を用いて実施例1と同様に反応して、融点82〜
−3Cの目的化合物(龜86t)を得た($121)。
2..16.;H,1LS7;)lT、t6.21゜実
m値 a、sl、94;Ha&@@;N*1&31゜1
実、衿例3 y−エトキシカルボニル−(!、S−ジメトキシフェニ
ル)アラニルザルコシナールジメチ=アセタフル(シ0
6t)を用いて実施例1と同様に反応して、融点82〜
−3Cの目的化合物(龜86t)を得た($121)。
元素分析 oty)1g211tosとして:計算値
a、811)7;Il、t@S;N、131.。
a、811)7;Il、t@S;N、131.。
実測値 c、 6a、Il;HIJS;MIJ・。
実施例4
菖−エトキシカルボニル−(龜4−ジメトキシフェニル
)アラニルザルコシナールジメチルアセタール(112
5t)を用いて実施例1と同様に反応し、得られた残漬
をローバーカラム(リクロプレツプ8l−60)Kて精
製すると、粉末状の目的化合物(194t)を得九(a
′T−)。
)アラニルザルコシナールジメチルアセタール(112
5t)を用いて実施例1と同様に反応し、得られた残漬
をローバーカラム(リクロプレツプ8l−60)Kて精
製すると、粉末状の目的化合物(194t)を得九(a
′T−)。
赤外吸収スペクトルy’ ” B”tfm−’ : t
710 m 187 gl 。
710 m 187 gl 。
111LX
元素分析 017H21M2011として:計算値 c
、81.07;H,1i、$S;1i、@、S8゜実−
億 〇、io、ss;u、s、io;M、Lss。
、81.07;H,1i、$S;1i、@、S8゜実−
億 〇、io、ss;u、s、io;M、Lss。
参考例1
1JHOO2(4HS
1!ml#(61#mmol)のN−エトキシカルボニ
ルフェニルアラニンヲ52@−のジクロルメタン中に溶
解し、−1SDK冷却りながら、7.@tのトリエチル
アミン、つづいて1tstのインブチルクロロホルメー
トを滴下する。終了後、約−sCにて2時間攪拌し、−
15UK再冷却してIL02tのザルコシナールジメチ
ルアセタールの110i1ジクロロメタン溶液を滴下す
る。後、室温以下にて2時間攪拌す−る0反応混合物を
充分に水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾録後、溶媒
を減圧留去【−て、油状の目的化合物が収率121 (
21,10#)にて得られた01840.700゜ 元素分析 C1yHzaN20sとし、て:計算便 0
.&0.34;I(,7,74;N、8.28゜実測値
a、6Q、22;a、7.87;a、a、46゜参考
例1と同様にして以下に示す化合物が得らtまた。
ルフェニルアラニンヲ52@−のジクロルメタン中に溶
解し、−1SDK冷却りながら、7.@tのトリエチル
アミン、つづいて1tstのインブチルクロロホルメー
トを滴下する。終了後、約−sCにて2時間攪拌し、−
15UK再冷却してIL02tのザルコシナールジメチ
ルアセタールの110i1ジクロロメタン溶液を滴下す
る。後、室温以下にて2時間攪拌す−る0反応混合物を
充分に水洗し、無水硫酸マグネシウムにて乾録後、溶媒
を減圧留去【−て、油状の目的化合物が収率121 (
21,10#)にて得られた01840.700゜ 元素分析 C1yHzaN20sとし、て:計算便 0
.&0.34;I(,7,74;N、8.28゜実測値
a、6Q、22;a、7.87;a、a、46゜参考
例1と同様にして以下に示す化合物が得らtまた。
ナールジメチルアセタール
沸点 130〜l5JIT (浴温)/let■Tlt
171Ltsss。
171Ltsss。
元素分析 0.、H宜6120.とじて:計算値 C0
口Jl;B、&12;1!、 11.2@。
口Jl;B、&12;1!、 11.2@。
実測値 (3,411,211;1!、11.2S;N
、11.61゜融点$1〜@5C 1635゜ 元素分析 01!HsoNtOyとして:計算値 C,
17,27;17.sI;M、7.O3゜実測値 c、
5Lll;11sT、47;M、 111m。
、11.61゜融点$1〜@5C 1635゜ 元素分析 01!HsoNtOyとして:計算値 C,
17,27;17.sI;M、7.O3゜実測値 c、
5Lll;11sT、47;M、 111m。
融点98〜S9C
赤外吸収スヘクトAry′ON =32SOa111
2am&x 163m。
2am&x 163m。
元素分析 01tHsoNtotとして:計算値 0.
57.27.H,7,51;li、7.03゜実測@
c、s7.oll;E・7.50;N、7.00゜参
考例2 0.5#の3−ベンジル−3,4−ゝジヒドロー4−エ
トキシカルボニル−1−メチル−2−ビラジノン(実施
例1化合物)に氷冷下3−のトリフルオロ酢酸を加えて
溶解し、6詩間還流する。
57.27.H,7,51;li、7.03゜実測@
c、s7.oll;E・7.50;N、7.00゜参
考例2 0.5#の3−ベンジル−3,4−ゝジヒドロー4−エ
トキシカルボニル−1−メチル−2−ビラジノン(実施
例1化合物)に氷冷下3−のトリフルオロ酢酸を加えて
溶解し、6詩間還流する。
トリフルオロ酢酸を減圧留去し、残漬を一ジクロルメタ
ンに溶解l7、重曹水にて数回洗浄する。
ンに溶解l7、重曹水にて数回洗浄する。
有機溶剤層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶剤を留
去して、融点121〜123Cの結晶が定量的に得られ
た〇 55 元素分析 01sI11@Nz0iとして:計算値 c
、li&1!II;l@J1;M、10.21゜実測値
01口l・;!l−LSI;Is IILOI。
去して、融点121〜123Cの結晶が定量的に得られ
た〇 55 元素分析 01sI11@Nz0iとして:計算値 c
、li&1!II;l@J1;M、10.21゜実測値
01口l・;!l−LSI;Is IILOI。
参考例3
アゾシン
2、*@tの参考例2化合物を20MJのメタノールに
溶解し、21)C以下に保ちながら、2.ootの水素
化ホウ素ナトリウムを少量ずつ加える。
溶解し、21)C以下に保ちながら、2.ootの水素
化ホウ素ナトリウムを少量ずつ加える。
後、20時間室温にてはげしく攪拌する。水冷下、数グ
ラムの氷を加えてから、6N−塩酸にてpH2とし、溶
媒を減圧留去する。残漬をSM−水酸化ナトリウムにて
l)I!ISとし、ジクロロメタンにて抽出し、水洗、
無水炭酸カリにて乾燥する0溶媒を減圧で留去し、得ら
れた残漬を、ローパーカラム(リクロプレツプa1−1
10)Kて精製すると、115#(101)の油状の目
的化合物が得られ仁。沸点、122〜125C(浴ml
)A004謹IIt赤外吸収スペクトルシ1iqul
−*cm :2s2o、ttos。
ラムの氷を加えてから、6N−塩酸にてpH2とし、溶
媒を減圧留去する。残漬をSM−水酸化ナトリウムにて
l)I!ISとし、ジクロロメタンにて抽出し、水洗、
無水炭酸カリにて乾燥する0溶媒を減圧で留去し、得ら
れた残漬を、ローパーカラム(リクロプレツプa1−1
10)Kて精製すると、115#(101)の油状の目
的化合物が得られ仁。沸点、122〜125C(浴ml
)A004謹IIt赤外吸収スペクトルシ1iqul
−*cm :2s2o、ttos。
ax
元素分析 01sHz*N*ozとして:計算値 (3
,11L21;H,?、74;N、117@。
,11L21;H,?、74;N、117@。
実測値 a、 61Ll;H,7J@;N、 1@J7
゜参考例4 ヘキサヒドロ−3−ベンゾアゾ。シン @4@tの参考例3化合物をSm104魯−臭化水素酸
に懸濁し、4時間11・Cに加熱する。、浴温aOCに
て臭化水素酸を減圧留去した後、3’N−リで乾燥する
。溶剤留去後、残留物を石油エーテルで再結して、融点
11〜12Cの目的物をほぼ定量的に得た(a、Sm#
)。
゜参考例4 ヘキサヒドロ−3−ベンゾアゾ。シン @4@tの参考例3化合物をSm104魯−臭化水素酸
に懸濁し、4時間11・Cに加熱する。、浴温aOCに
て臭化水素酸を減圧留去した後、3’N−リで乾燥する
。溶剤留去後、残留物を石油エーテルで再結して、融点
11〜12Cの目的物をほぼ定量的に得た(a、Sm#
)。
?1i1730゜
元素分析 0ztH1iNtとして:
計算値 0.7&S6;H,157;−N、14.11
11゜実測値 0.7t、Sm;il、8.61;N、
1471゜特許出願人 三共株式会社 代理人 弁理士 樫゛出 庄 治 手続補正書(自発) 昭和57年7 月27日 特許庁長官 若杉和夫 殿 ■、事件の表示 昭和56年蒔許願第135291号 2、発明の名称 :3,4−ジヒドロー2−ビラジノン誘導体及びその製
造方法3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 〒103東京都中央区日本橋本町3丁目1番地の
6名称 (、185、)三共株式会社代表者 取締
役社長 河村喜典 4、代理人 居所 〒140東京部品川区広町1丁目2番58号三共
株式会社内 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄7゜補
正の内容 別紙の通シ 1、明細書第3頁最下行および第5頁最下行の「前記−
録式(■)」を 「前記一般式(■)」と訂正する。
11゜実測値 0.7t、Sm;il、8.61;N、
1471゜特許出願人 三共株式会社 代理人 弁理士 樫゛出 庄 治 手続補正書(自発) 昭和57年7 月27日 特許庁長官 若杉和夫 殿 ■、事件の表示 昭和56年蒔許願第135291号 2、発明の名称 :3,4−ジヒドロー2−ビラジノン誘導体及びその製
造方法3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 〒103東京都中央区日本橋本町3丁目1番地の
6名称 (、185、)三共株式会社代表者 取締
役社長 河村喜典 4、代理人 居所 〒140東京部品川区広町1丁目2番58号三共
株式会社内 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄7゜補
正の内容 別紙の通シ 1、明細書第3頁最下行および第5頁最下行の「前記−
録式(■)」を 「前記一般式(■)」と訂正する。
2、 同j1111頁1行目乃至下から8行目の」を
」
と訂正する。
3、同第12jj3行目乃dIA9行目の[1,5−イ
ミノ−3−ベンゾアゾシン閉環体帖が得られる。以下、
常法に従って化合物(へ)七メタノール中過剰の水素化
ホウ素ナトリウムで還元して、還元体(至)とし、得ら
れる化合物(至)を臭化水素酸と加熱して脱アシル化す
ると、目的の1.5−イミノ−3−ベンゾアゾシン誘導
体Q4を得ることができる。」を 「1.5−イオノ−3−ベンゾアゾシン閉環体菌が得ら
れる。以下、常法に従って化合物(至)をメタノール中
過剰の水素化ホウ素ナトリウムで還元して、還元体(ロ
)とし、得られる化合物(ロ)を臭化水素酸と一加熱し
て脱アシル化すると、目的の1.5−イミノ−3−ベン
ゾアゾシン誘導体(至)を得ることができる。」 と訂正する。
ミノ−3−ベンゾアゾシン閉環体帖が得られる。以下、
常法に従って化合物(へ)七メタノール中過剰の水素化
ホウ素ナトリウムで還元して、還元体(至)とし、得ら
れる化合物(至)を臭化水素酸と加熱して脱アシル化す
ると、目的の1.5−イミノ−3−ベンゾアゾシン誘導
体Q4を得ることができる。」を 「1.5−イオノ−3−ベンゾアゾシン閉環体菌が得ら
れる。以下、常法に従って化合物(至)をメタノール中
過剰の水素化ホウ素ナトリウムで還元して、還元体(ロ
)とし、得られる化合物(ロ)を臭化水素酸と一加熱し
て脱アシル化すると、目的の1.5−イミノ−3−ベン
ゾアゾシン誘導体(至)を得ることができる。」 と訂正する。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 (式中 R1は水素原子、低級アルキル基、アリール基
、低級アルコキシ基またはアラルキルオキシ基を示し、
R2は水素原子、低級アルキル基、了り−ル基ま九はア
ラルキル基を示し、Ri詔よびR4は同一または異表っ
て水素原子まえは低級アルキル基を示す。) を有する親4−ジヒドロー2−ビラジ//誘導体。 i 一般式 (1) (式中、H1祉水素原子、低級アルキル基、了リール基
、低級アルコキシ基またはアラルキルオキシ基を示し
R2は水素原子、低級アルキル基、アリール基音たはア
ラルキル基を示し、HzおよびR4は同一または異なっ
て水素原子または低級アルキル基を示し、Rsは低級ア
ルキル基を示す。) を有する化合物を酸で地理することを特徴とす。 る一般式 (式中、R’ # R21RsおよびR4は前述したも
のと同意義を示す0) を有する龜4−ジヒドロ−2−ビラジノン誘導体の製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13529181A JPS5835176A (ja) | 1981-08-28 | 1981-08-28 | 3,4−ジヒドロ−2−ピラジノン誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13529181A JPS5835176A (ja) | 1981-08-28 | 1981-08-28 | 3,4−ジヒドロ−2−ピラジノン誘導体及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5835176A true JPS5835176A (ja) | 1983-03-01 |
Family
ID=15148260
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13529181A Pending JPS5835176A (ja) | 1981-08-28 | 1981-08-28 | 3,4−ジヒドロ−2−ピラジノン誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5835176A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001007419A1 (fr) * | 1999-07-26 | 2001-02-01 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | Nouveaux dérivés de la thiazine ou de la pyrazine |
US6968587B2 (en) | 2001-07-20 | 2005-11-29 | Nicholas Gerald Grey | Surface cleaning apparatus |
US7013521B2 (en) * | 2001-07-20 | 2006-03-21 | Nicholas Gerald Grey | Surface cleaning apparatus |
-
1981
- 1981-08-28 JP JP13529181A patent/JPS5835176A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001007419A1 (fr) * | 1999-07-26 | 2001-02-01 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | Nouveaux dérivés de la thiazine ou de la pyrazine |
US6713472B1 (en) | 1999-07-26 | 2004-03-30 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | Thiazine or pyrazine derivatives |
US6960575B2 (en) | 1999-07-26 | 2005-11-01 | Santen Pharmaceutical Co., Ltd. | Thiazine derivatives |
US6968587B2 (en) | 2001-07-20 | 2005-11-29 | Nicholas Gerald Grey | Surface cleaning apparatus |
US7013521B2 (en) * | 2001-07-20 | 2006-03-21 | Nicholas Gerald Grey | Surface cleaning apparatus |
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