JPS5834540A - 含浸型陰極 - Google Patents
含浸型陰極Info
- Publication number
- JPS5834540A JPS5834540A JP56131332A JP13133281A JPS5834540A JP S5834540 A JPS5834540 A JP S5834540A JP 56131332 A JP56131332 A JP 56131332A JP 13133281 A JP13133281 A JP 13133281A JP S5834540 A JPS5834540 A JP S5834540A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- impregnated
- tungsten
- emitter
- bundle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/08—Manufacture of heaters for indirectly-heated cathodes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Solid Thermionic Cathode (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は含浸型陰極の轡造に関するものである。
含浸型陰極は、高電流密度で動作すること、長寿命であ
ることなどのため、進行波管、タライストロン等主要電
子管の陰極として用いられている。
ることなどのため、進行波管、タライストロン等主要電
子管の陰極として用いられている。
ＩＩＩＥ１図はかかる含浸型陰極の構造全説明するため
の模式的な断面図である。タングステン粉末の焼結体か
らなる陰極基体ｌ中に酸化バリウム（Ｂａｄ）。
の模式的な断面図である。タングステン粉末の焼結体か
らなる陰極基体ｌ中に酸化バリウム（Ｂａｄ）。
醸化カルシウム（Ｃａｂ）及び酸化アルミニウム（入ｊ
ｚｏｓ）からなる電子放射金属酸化物２（以下ニオツタ
−という）を含浸して生成された含浸型陰極の陰極基体
が、例えばモリブデンからなる陰極支持体３にろう付さ
れており、ヒーター４により所定の温度に加熱されて表
面より電子を放出する。
ｚｏｓ）からなる電子放射金属酸化物２（以下ニオツタ
−という）を含浸して生成された含浸型陰極の陰極基体
が、例えばモリブデンからなる陰極支持体３にろう付さ
れており、ヒーター４により所定の温度に加熱されて表
面より電子を放出する。
従来、この様々含浸型陰極の製造方法は、タングステン
粉末をプレス成形し、水素雰囲気中で所望する見掛は密
度となるように高温焼結して得られたポーラスタングス
テンに、機械加工を容易にするため鋼又はプラスチック
を含浸して所望の陰極基体の形状に加工し、その後、真
空中又社空気中で加熱し、銅又はプラスチックを除去し
、陰極基体中にエミッター全真空中又は水素雰囲気中で
溶融含浸して製造していた。
粉末をプレス成形し、水素雰囲気中で所望する見掛は密
度となるように高温焼結して得られたポーラスタングス
テンに、機械加工を容易にするため鋼又はプラスチック
を含浸して所望の陰極基体の形状に加工し、その後、真
空中又社空気中で加熱し、銅又はプラスチックを除去し
、陰極基体中にエミッター全真空中又は水素雰囲気中で
溶融含浸して製造していた。
前記ポーラスタングステンの空孔率は、含浸型陰極の特
性に大きな影響を与える要因であり、空孔率が大きい場
合には、工きツタ含浸作業上では良好である。しかし陰
極構体としての強度が低下し、又二定ツタの過剰な蒸発
が生ずるため電子管の特性劣化が生ずる。逆に空孔率が
小さい場合には工ｔｙ夕の含浸困離および含浸量が少な
い等の問題がある。このため従来方法においては、原料
のタングステンの粉末の粒度選定から焼結工程への各条
件を細く調整しで所望する空孔率を有するポーラスタン
グステンを得ていた。
性に大きな影響を与える要因であり、空孔率が大きい場
合には、工きツタ含浸作業上では良好である。しかし陰
極構体としての強度が低下し、又二定ツタの過剰な蒸発
が生ずるため電子管の特性劣化が生ずる。逆に空孔率が
小さい場合には工ｔｙ夕の含浸困離および含浸量が少な
い等の問題がある。このため従来方法においては、原料
のタングステンの粉末の粒度選定から焼結工程への各条
件を細く調整しで所望する空孔率を有するポーラスタン
グステンを得ていた。
しかしながら従来の焼結方法により製造したポーラスタ
ングステンは、各積造条件の調整に熟練ｔ−要し、所望
する空孔率を得ることが難しい、又焼結体である友め、
空孔部の大きさや分布等がすべてにわたって均一である
保証はなく、むしろ均一でないのが普通であって、この
様な不均一な空孔ｇｔ有するポーラスタングステン基体
からなる含浸型陰極は、その動作時に於いてエミ、シ、
ンの均一性を欠き、更に電子ビームの収束性が悪くなり
、ひいては例えば進行波管のへリックスミ流が増大する
などして電子管の機能を損う重大な欠陥となった。更に
ポーラスタングステンの空孔部は内部全体が外部と通じ
ていること（即ち、オープンポアーであること）が必要
であるが粉末焼結法ではプレス圧力、焼結温度などの条
件によって物分的に閉鎖孔の発生する危険がある。この
場合エミッタが含浸されないためエミッション不均一な
陰極となってしまう。更に時間と共に焼結が進み閉鎖孔
となる場合もある０以上の如く１タングステン粉末焼結
体による陰極においては種々の問題点を有して匹た。
ングステンは、各積造条件の調整に熟練ｔ−要し、所望
する空孔率を得ることが難しい、又焼結体である友め、
空孔部の大きさや分布等がすべてにわたって均一である
保証はなく、むしろ均一でないのが普通であって、この
様な不均一な空孔ｇｔ有するポーラスタングステン基体
からなる含浸型陰極は、その動作時に於いてエミ、シ、
ンの均一性を欠き、更に電子ビームの収束性が悪くなり
、ひいては例えば進行波管のへリックスミ流が増大する
などして電子管の機能を損う重大な欠陥となった。更に
ポーラスタングステンの空孔部は内部全体が外部と通じ
ていること（即ち、オープンポアーであること）が必要
であるが粉末焼結法ではプレス圧力、焼結温度などの条
件によって物分的に閉鎖孔の発生する危険がある。この
場合エミッタが含浸されないためエミッション不均一な
陰極となってしまう。更に時間と共に焼結が進み閉鎖孔
となる場合もある０以上の如く１タングステン粉末焼結
体による陰極においては種々の問題点を有して匹た。
本発明の目的は、前記従来の問題点を除いた含浸型陰極
を提供することである。
を提供することである。
即ち、タングステン等の耐熱金属の細線多数をひとまと
めにして得られる束を陰極基体とし、これら細線の間隙
部にエミッタ會含浸し友ことを特徴としている。
めにして得られる束を陰極基体とし、これら細線の間隙
部にエミッタ會含浸し友ことを特徴としている。
本発明による陰極においては、間１１ｉｉ（従来の空孔
部に相当する）の数と大きさは、原材料に使用するタン
グステン細線の直径を選択することにより自由に変える
ことができ、又間隙の大きさが良くそろったものが得ら
れる等大きな利点を有しており１従来の問題点を解決す
ることができた。
部に相当する）の数と大きさは、原材料に使用するタン
グステン細線の直径を選択することにより自由に変える
ことができ、又間隙の大きさが良くそろったものが得ら
れる等大きな利点を有しており１従来の問題点を解決す
ることができた。
以下一実施例について説明する。
第２図は本発明にがかる含浸ｍ陰極の製造方法の主要工
程図である。工程Ａで線径２０岸ｍ のタングステン細
線を長さ約３９ｍｍに切断し、これを直径約５ｍｍ（Ｄ
タングステン細線の束とした。工＠Ｂでこの線束の両端
を金属線で縛り固定する。
程図である。工程Ａで線径２０岸ｍ のタングステン細
線を長さ約３９ｍｍに切断し、これを直径約５ｍｍ（Ｄ
タングステン細線の束とした。工＠Ｂでこの線束の両端
を金属線で縛り固定する。
次いで工＠Ｃでこの線束をメタクリル酸メチル七ツマ−
に浸漬し、減圧脱泡してタングステン線束の空孔中に含
浸した後、メタフリル酸メチルモノマーを重合して硬化
させた６次に工程りで施盤にて所望の陰極形状に切削し
て陰極基体を複数個作製した。なお、工程ＣＯ前に高温
水素雰囲気中でタングステンａＩＩの束を加熱し、線同
士を焼結させることは工１！！Ｄでの加工性をより良く
する上で効果がありた。工程Ｅで、この陰極基体をモリ
ブデンからなる陰極支持体に挿入し接合させる０次いで
工程Ｆでこの構体を空気中にて４００℃で１時間加熱し
、先に含浸し几メタクリル酸メチル重合体を熱分解して
除去した後、工程Ｇで水素雰囲気中で１０００℃−１０
分間加熱処理を行なった。この様にして準備した陰極基
体に工程Ｈで水素雰囲気中でエン、ターを含浸して陰極
とした。
に浸漬し、減圧脱泡してタングステン線束の空孔中に含
浸した後、メタフリル酸メチルモノマーを重合して硬化
させた６次に工程りで施盤にて所望の陰極形状に切削し
て陰極基体を複数個作製した。なお、工程ＣＯ前に高温
水素雰囲気中でタングステンａＩＩの束を加熱し、線同
士を焼結させることは工１！！Ｄでの加工性をより良く
する上で効果がありた。工程Ｅで、この陰極基体をモリ
ブデンからなる陰極支持体に挿入し接合させる０次いで
工程Ｆでこの構体を空気中にて４００℃で１時間加熱し
、先に含浸し几メタクリル酸メチル重合体を熱分解して
除去した後、工程Ｇで水素雰囲気中で１０００℃−１０
分間加熱処理を行なった。この様にして準備した陰極基
体に工程Ｈで水素雰囲気中でエン、ターを含浸して陰極
とした。
この様にして作製した陰極は、間隙がその構造上からほ
ぼ直線的に通じ、しかも閉鎖孔を持たない性質から、エ
ミッタを含浸させるに当や、極めて順調に含浸が行われ
るものである。
ぼ直線的に通じ、しかも閉鎖孔を持たない性質から、エ
ミッタを含浸させるに当や、極めて順調に含浸が行われ
るものである。
以上説明した様に、本発明によればタングステン細線の
多数を束にして陰極基体とし、前記タングステン細線の
間隙部に工き、りを含浸するため、従来の粉末焼結形陰
極の大きな問題点であった陰極面からのニオ、シ、ンの
不均一という不都合が解消され、安定動作、長寿命の電
子管用陰極を得ることができ、その効果は大である。
多数を束にして陰極基体とし、前記タングステン細線の
間隙部に工き、りを含浸するため、従来の粉末焼結形陰
極の大きな問題点であった陰極面からのニオ、シ、ンの
不均一という不都合が解消され、安定動作、長寿命の電
子管用陰極を得ることができ、その効果は大である。
ｉ１！１図は含浸型陰極の模式的な断面図、第２図は本
発明の含浸型陰極の製造方法の一実施例についての主要
工程図である。 １・・・・・・陰極基体、２・・・・・・エミッター、
３・・・・・・陰極支持体、４・・・・・・ヒーター。
発明の含浸型陰極の製造方法の一実施例についての主要
工程図である。 １・・・・・・陰極基体、２・・・・・・エミッター、
３・・・・・・陰極支持体、４・・・・・・ヒーター。
Claims (1)
- タングステン測線から成る線束を陰極基体とし、前記タ
ングステ／Ｊ１１ｍの間１１１部に電子放射物質を含浸
したこと１＊黴とする含浸型陰極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56131332A JPS5834540A (ja) | 1981-08-21 | 1981-08-21 | 含浸型陰極 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56131332A JPS5834540A (ja) | 1981-08-21 | 1981-08-21 | 含浸型陰極 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5834540A true JPS5834540A (ja) | 1983-03-01 |
Family
ID=15055464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56131332A Pending JPS5834540A (ja) | 1981-08-21 | 1981-08-21 | 含浸型陰極 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5834540A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5451831A (en) * | 1992-06-27 | 1995-09-19 | Goldstar Co., Ltd. | Impregnated pellet for a cathode structure and method of producing the same |
-
1981
- 1981-08-21 JP JP56131332A patent/JPS5834540A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5451831A (en) * | 1992-06-27 | 1995-09-19 | Goldstar Co., Ltd. | Impregnated pellet for a cathode structure and method of producing the same |
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