JPS5834420A - 光学装置 - Google Patents
光学装置Info
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- JPS5834420A JPS5834420A JP13274281A JP13274281A JPS5834420A JP S5834420 A JPS5834420 A JP S5834420A JP 13274281 A JP13274281 A JP 13274281A JP 13274281 A JP13274281 A JP 13274281A JP S5834420 A JPS5834420 A JP S5834420A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target
- optical
- aiming
- shooting
- reticle
- Prior art date
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- Pending
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F41—WEAPONS
- F41G—WEAPON SIGHTS; AIMING
- F41G1/00—Sighting devices
- F41G1/46—Sighting devices for particular applications
- F41G1/473—Sighting devices for particular applications for lead-indicating or range-finding, e.g. for use with rifles or shotguns
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F41—WEAPONS
- F41G—WEAPON SIGHTS; AIMING
- F41G1/00—Sighting devices
- F41G1/38—Telescopic sights specially adapted for smallarms or ordnance; Supports or mountings therefor
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B23/00—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices
- G02B23/14—Viewfinders
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Astronomy & Astrophysics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Aiming, Guidance, Guns With A Light Source, Armor, Camouflage, And Targets (AREA)
- Telescopes (AREA)
- Optical Radar Systems And Details Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
砲による射撃の命中精度に関する主要因としては、射距
離、パララックス、弾種、弾丸の初速、目標の運動等が
あり、射撃の精度を高めるためには、前記命中fi4度
に関する主装置を含んだ砲身の方向修正が必要となって
くる。
離、パララックス、弾種、弾丸の初速、目標の運動等が
あり、射撃の精度を高めるためには、前記命中fi4度
に関する主装置を含んだ砲身の方向修正が必要となって
くる。
近年小型コンピュータ、レーザーd111遠機等の著し
い進歩に伴って、射距離はレーザー測遠機を用いて測距
精度が上り、この射距離、パララックス、弾種、弾丸の
初速1椋の運動等命中精度に関する要因をコンピュータ
に入れ、未来修正量を計算し砲身の方向修正を行なう試
みがなされている。
い進歩に伴って、射距離はレーザー測遠機を用いて測距
精度が上り、この射距離、パララックス、弾種、弾丸の
初速1椋の運動等命中精度に関する要因をコンピュータ
に入れ、未来修正量を計算し砲身の方向修正を行なう試
みがなされている。
射撃統制装置の一環である照準眼鏡も、この様な試みの
中で眼鐘内に射撃照準用の射撃照準指標となる移動レチ
クルを設け、前記コンビュータにJ、って計算された未
来修正量だけ移動レチクルを自動的に移動させ、方向修
正に相当する射撃照準視線が容易に得られるような工夫
がいろいろなされている。
中で眼鐘内に射撃照準用の射撃照準指標となる移動レチ
クルを設け、前記コンビュータにJ、って計算された未
来修正量だけ移動レチクルを自動的に移動させ、方向修
正に相当する射撃照準視線が容易に得られるような工夫
がいろいろなされている。
この様な場合レーザー到達機系の到達照準点は、照準眼
鏡の視野内のレチクル上に射撃照準指標と共に到達照準
指標として表示されていることが照準動作上望ましい。
鏡の視野内のレチクル上に射撃照準指標と共に到達照準
指標として表示されていることが照準動作上望ましい。
しかし一般にはレーザー到達機系の到達規準線は固定さ
れているため、前記移動レチクルが動(ことによって射
撃照準視線が変わると、照準眼鏡の視野内には射撃照準
指標と到達照準指標が異った場所に表示されることにな
る。このため射撃の照準動作は、まず到達照準指標で目
標を捕え、測距を行なった後射撃照準指標で目標を捕え
射撃するという2重の動作が必要となっていた。
れているため、前記移動レチクルが動(ことによって射
撃照準視線が変わると、照準眼鏡の視野内には射撃照準
指標と到達照準指標が異った場所に表示されることにな
る。このため射撃の照準動作は、まず到達照準指標で目
標を捕え、測距を行なった後射撃照準指標で目標を捕え
射撃するという2重の動作が必要となっていた。
例えば第1図はレーザー到達機系20と照準眼鏡系10
とをもった従来装置の基本的な概略構成を示すものであ
る。第1図において照準眼鏡系10は対物レンズ11.
1F立プリズム12、接眼レンズ13、移動レチクル1
4、固定レチクル15より構成されており、またレーザ
ー到達機系20は対物レンズ21と接眼レンズ22とか
らなる逆ガリレオ型ビームエクスパンダ−とレーザー光
源23とで構成されたレーザー送信系、及び対物レンズ
21、穴明ミラー24、全反射ミラー25、ピンホール
マスク26、リレーレンズ21、受光センサー2Bから
構成されたレーザー受信系より成っている。ここで穴明
ミラー24はレーザー送信時にはミラーに設けられた穴
の部分をレーザー光の通過できるようになっており、レ
ーザー受信時のみ全反射ミラーの作用をするものである
。
とをもった従来装置の基本的な概略構成を示すものであ
る。第1図において照準眼鏡系10は対物レンズ11.
1F立プリズム12、接眼レンズ13、移動レチクル1
4、固定レチクル15より構成されており、またレーザ
ー到達機系20は対物レンズ21と接眼レンズ22とか
らなる逆ガリレオ型ビームエクスパンダ−とレーザー光
源23とで構成されたレーザー送信系、及び対物レンズ
21、穴明ミラー24、全反射ミラー25、ピンホール
マスク26、リレーレンズ21、受光センサー2Bから
構成されたレーザー受信系より成っている。ここで穴明
ミラー24はレーザー送信時にはミラーに設けられた穴
の部分をレーザー光の通過できるようになっており、レ
ーザー受信時のみ全反射ミラーの作用をするものである
。
通常このような光学装置Wでは、原理的には照準眼鏡系
10の光軸16とレーザー到達機系20の光軸29が、
この光学装置を砲に取りつけた時、離軸線と一致すれば
よいわけで、この場合第2図に示すように照準眼鏡系1
0の視野内に射撃照準指標40の中心と到達機照準指標
(到達用レーザービーム照射点)41を同一中心位置に
設定することができる。
10の光軸16とレーザー到達機系20の光軸29が、
この光学装置を砲に取りつけた時、離軸線と一致すれば
よいわけで、この場合第2図に示すように照準眼鏡系1
0の視野内に射撃照準指標40の中心と到達機照準指標
(到達用レーザービーム照射点)41を同一中心位置に
設定することができる。
ところで前述のように、射撃の命中精度を高めようとす
ると砲身の方向修正を行なう必要があり、このため照準
眼鏡系10内にその案内となるような射撃照準指標を得
なければならない。従って通常は第2図に示したような
射撃照準指標40の刻まれているレチクル(第1図)を
移動レチクルとし、前述した命中精度を上げるための主
要因を考慮した計算結果に基づきこの移動レチクルを移
動させ、その移動後の射撃照準指標40をもとに砲身の
方向修正を行なっている。
ると砲身の方向修正を行なう必要があり、このため照準
眼鏡系10内にその案内となるような射撃照準指標を得
なければならない。従って通常は第2図に示したような
射撃照準指標40の刻まれているレチクル(第1図)を
移動レチクルとし、前述した命中精度を上げるための主
要因を考慮した計算結果に基づきこの移動レチクルを移
動させ、その移動後の射撃照準指標40をもとに砲身の
方向修正を行なっている。
第3図はこの様子を示す原理図であり、対物レンズ50
、接眼レンズ51、レチクル52から成る照準眼鏡系を
表わしている。同図において、最初の射撃照準視線が光
軸53と合致していたとすると、砲身の方向修正量に応
じた照準眼鏡の未来修正量θ(修正された射撃照準視線
53′)が決まれば、対物レンズ50の焦点距離をfと
してf−tanθ−11だけ射撃照準指標をもったレチ
クル52をp点からp′点へと移動させればよい。その
つ六で、移動させた射撃照準指標が目標と合致するよう
に照準眼鏡系を移動させれば(同時に砲身の方向修正が
行なわれる。)未来修正Iを考慮した照準が完了するこ
とになる。なおここでは説明を簡略化するため一平面内
での修正を示しているが、一般にはθは立体的(第3図
で紙面垂直方向での成分も含む)になるので、射撃照準
指標は第4図の如くp点からp′点へX軸方向成分hx
、y軸方向成分hy だけ移動することになる。
、接眼レンズ51、レチクル52から成る照準眼鏡系を
表わしている。同図において、最初の射撃照準視線が光
軸53と合致していたとすると、砲身の方向修正量に応
じた照準眼鏡の未来修正量θ(修正された射撃照準視線
53′)が決まれば、対物レンズ50の焦点距離をfと
してf−tanθ−11だけ射撃照準指標をもったレチ
クル52をp点からp′点へと移動させればよい。その
つ六で、移動させた射撃照準指標が目標と合致するよう
に照準眼鏡系を移動させれば(同時に砲身の方向修正が
行なわれる。)未来修正Iを考慮した照準が完了するこ
とになる。なおここでは説明を簡略化するため一平面内
での修正を示しているが、一般にはθは立体的(第3図
で紙面垂直方向での成分も含む)になるので、射撃照準
指標は第4図の如くp点からp′点へX軸方向成分hx
、y軸方向成分hy だけ移動することになる。
こうして第4図のように射撃照準指標がp点からp′点
へと移動した後、このp′点で目標を捕えて射撃するこ
とになるが、レーザー到達機系ではその到達視単線が照
準眼鏡系の光軸に対し変化することがないため(離軸線
と一致している。)、到達規準線の指標41は第2図と
同様、第4図でも同じ41の位置にある。従って射撃の
照準動作はまず第2図の到達規準指標41を目標に合わ
せ、測距、その他修正要因のもとに移動された第4図p
′点の射撃照準指標で目標を捕えて射撃を行なうという
2動作が心太となる。このような照準動作では目標が静
止している状態ではともかく、目標が移動しこれを追尾
しながら照準を行なおうとする際には極めて不都合であ
る。
へと移動した後、このp′点で目標を捕えて射撃するこ
とになるが、レーザー到達機系ではその到達視単線が照
準眼鏡系の光軸に対し変化することがないため(離軸線
と一致している。)、到達規準線の指標41は第2図と
同様、第4図でも同じ41の位置にある。従って射撃の
照準動作はまず第2図の到達規準指標41を目標に合わ
せ、測距、その他修正要因のもとに移動された第4図p
′点の射撃照準指標で目標を捕えて射撃を行なうという
2動作が心太となる。このような照準動作では目標が静
止している状態ではともかく、目標が移動しこれを追尾
しながら照準を行なおうとする際には極めて不都合であ
る。
すなわち、一旦io+j遠機系で目標を捕え、修正され
た射撃照準指標で再度目標を捕えた時に1でに到達機系
の到達規準線は目標とは合致しでおら1′、そのまま測
距することができない。従つ゛C距離を変えながら移動
してゆく目標ンエどに対l−ては命中精度の低下が避け
られない欠点であった。
た射撃照準指標で再度目標を捕えた時に1でに到達機系
の到達規準線は目標とは合致しでおら1′、そのまま測
距することができない。従つ゛C距離を変えながら移動
してゆく目標ンエどに対l−ては命中精度の低下が避け
られない欠点であった。
本発明は以上の実情に鑑み、射撃の照準動作が2動作と
ソrることを改善するもので、その基本的構成としては
、レーザー到達機系と、固定された照準用のレチクルを
有する照準眼鏡系とを備える光学装置において前記レー
ザー到達機系及び照準眼鏡系それぞれの光軸な例えばハ
ーフミラ−などの光学部材によって一致させて同軸とな
1.、この同軸とされた両光軸上に光偏向素子を設け、
この光偏向素子を未来修正量などに応じて作動させるこ
とによって前記両光軸が一体的に偏向させるように構成
したところにある。また実施例の説明によって後述する
が、このような光偏向素子としては所謂Dプリズムや反
射ミラーあるいはこれらの結合されたものが利用できる
。
ソrることを改善するもので、その基本的構成としては
、レーザー到達機系と、固定された照準用のレチクルを
有する照準眼鏡系とを備える光学装置において前記レー
ザー到達機系及び照準眼鏡系それぞれの光軸な例えばハ
ーフミラ−などの光学部材によって一致させて同軸とな
1.、この同軸とされた両光軸上に光偏向素子を設け、
この光偏向素子を未来修正量などに応じて作動させるこ
とによって前記両光軸が一体的に偏向させるように構成
したところにある。また実施例の説明によって後述する
が、このような光偏向素子としては所謂Dプリズムや反
射ミラーあるいはこれらの結合されたものが利用できる
。
以下、本発明の一実施例について添伺図面によって詳述
する。第5図は本発明光学装置の一実施例を示すもので
、図示のようにレーザー到達機系TOと照準眼鏡糸90
どを備えている。レーザー到達機系70は対物レンズ7
1と接眼レンズ72とで構成された逆ガリレオ型ビーム
エキスパンダーとレーザー光源73によるレーザー送信
系と、対物レンズ71、穴明ミラー74、全反射ミラー
T5、ピンホールマスク76、IJレーレンズ77、受
光センサー7Bによるレーザー受信系により構成されて
いる。ここで穴明ミラー74はレーザー送信時にはミラ
ーに設けられた穴の部分をレーザー光が通過し、レーザ
ー受信時においてのみ全反射ミラーの作用をもつもので
ある。一方照準眼鏡系90は対物レンズ91、正文プリ
ズム92、接眼レンズ93、そしてこの光学系内に固定
されたレチクル94により構成されている。ぞI2てこ
れらの両光学系はレーザー到達機系70の光軸79上に
配置された反射ミラー80ど照準眼鏡系90の光IJ
95上に傾けて配置されたハーフミラ−97と177:
J:つて結合され、この結果両光学系の光軸は一致し
同軸の光軸100とされている。なお反射ミラー80は
レーザー到達機系TOの光軸79が照準眼鏡系90の光
軸95と平行であるために設けられたもので、両光11
i1a+を同軸にするための光学部材として不可欠ノモ
のではない。両光軸を同軸とするための光学部材として
は図示のハーフミラ−97の他、ハーフプリズムでもよ
く、また例えば可視光を透過し、レーザー到達機系7o
に用いられているレーザーの発振波長の光を反射する所
謂ダイクロイックミラーでもよい。まIこ、この実施例
では照準1lIJ鏡系の光軸95に対してレーザー到達
機系の光軸79を重畳させる形で同軸光軸としているが
、逆にレーザー到達機系の光軸79に対し照準眼鏡系の
光軸95を重畳させた形にしてもよいことは甘うまでも
ない。
する。第5図は本発明光学装置の一実施例を示すもので
、図示のようにレーザー到達機系TOと照準眼鏡糸90
どを備えている。レーザー到達機系70は対物レンズ7
1と接眼レンズ72とで構成された逆ガリレオ型ビーム
エキスパンダーとレーザー光源73によるレーザー送信
系と、対物レンズ71、穴明ミラー74、全反射ミラー
T5、ピンホールマスク76、IJレーレンズ77、受
光センサー7Bによるレーザー受信系により構成されて
いる。ここで穴明ミラー74はレーザー送信時にはミラ
ーに設けられた穴の部分をレーザー光が通過し、レーザ
ー受信時においてのみ全反射ミラーの作用をもつもので
ある。一方照準眼鏡系90は対物レンズ91、正文プリ
ズム92、接眼レンズ93、そしてこの光学系内に固定
されたレチクル94により構成されている。ぞI2てこ
れらの両光学系はレーザー到達機系70の光軸79上に
配置された反射ミラー80ど照準眼鏡系90の光IJ
95上に傾けて配置されたハーフミラ−97と177:
J:つて結合され、この結果両光学系の光軸は一致し
同軸の光軸100とされている。なお反射ミラー80は
レーザー到達機系TOの光軸79が照準眼鏡系90の光
軸95と平行であるために設けられたもので、両光11
i1a+を同軸にするための光学部材として不可欠ノモ
のではない。両光軸を同軸とするための光学部材として
は図示のハーフミラ−97の他、ハーフプリズムでもよ
く、また例えば可視光を透過し、レーザー到達機系7o
に用いられているレーザーの発振波長の光を反射する所
謂ダイクロイックミラーでもよい。まIこ、この実施例
では照準1lIJ鏡系の光軸95に対してレーザー到達
機系の光軸79を重畳させる形で同軸光軸としているが
、逆にレーザー到達機系の光軸79に対し照準眼鏡系の
光軸95を重畳させた形にしてもよいことは甘うまでも
ない。
また98は両光軸79,95が同軸とされた光軸100
上に配置された光偏向素子で、光軸100の指向方向を
可変とする機能を有シテイル。このような光偏向素子と
しては例えば第6図に示したような偏角プリズムを2枚
組み合わせた所謂Dプリズムなどが適する。
上に配置された光偏向素子で、光軸100の指向方向を
可変とする機能を有シテイル。このような光偏向素子と
しては例えば第6図に示したような偏角プリズムを2枚
組み合わせた所謂Dプリズムなどが適する。
すなわち、第6図において図示の偏角プリズムを回転さ
せるとこれを通った光線もWで示すような回転運動をす
るが、第7図のようにこのような偏角プリズノ・をそれ
ぞれ互いに逆方向に等1= L・角速度で回転させると
、これを通った光線は矢印Rで示すように一平面内で往
復運動することになる。従ってこのような偏角プリズム
の2枚組を2組用いれば光線をX方向成分、Y方向成分
(砲身についていえば俯仰方向と方位方向に対応する。
せるとこれを通った光線もWで示すような回転運動をす
るが、第7図のようにこのような偏角プリズノ・をそれ
ぞれ互いに逆方向に等1= L・角速度で回転させると
、これを通った光線は矢印Rで示すように一平面内で往
復運動することになる。従ってこのような偏角プリズム
の2枚組を2組用いれば光線をX方向成分、Y方向成分
(砲身についていえば俯仰方向と方位方向に対応する。
)に分けて偏向させることができるようになる。
以−ヒの構成をもつ光学装置を用いて照準動作を行なう
場合には、まずレーザー到達機系の到達規準線を目標に
合致させ測距を行なう。
場合には、まずレーザー到達機系の到達規準線を目標に
合致させ測距を行なう。
この時、到達後糸の到達規準線は、照準眼鏡系の固定レ
チクル94を含む照準眼鏡系の射撃照準′fM線と合致
しており、固定レチクル94の射撃照準指標が到達照準
指標を兼ねているので、照準眼鏡系の射撃照準視線と到
達機系の到達祝準線は砲身の砲軸線と同一方向を向いて
t・Sす、この段階で目標は照準眼鏡系のレチクル中心
で捕えられ、砲身はその目標へど胎内している。そして
この測距出力はコ1′fi に演算の結果、未米修正駄が得ら才することになるが、
この未来修正量に応じて前N12光偏向累子が制御を受
け、光l1ill110oはL1僚な外れた未来修正位
置へと指向さ」しる。この結果照準視界内では目標がレ
チクルの射撃規準指標から外れると共に射撃照準指標と
共通の到達規準指標も目標から外れることになる。(砲
身は従前の目標に指向した土まである。)しかる後に照
準眼鏡系を覗きながらその射撃規準指標を目標に合致さ
せるように操作すると、これに伴って砲身も俯仰、旋回
、修正されることになり、照準眼鏡系の射撃照準JVU
檄を捕えた時点で到達機系の到達規準指標な捕え、また
砲身は未来修正要因加味した目標位置へと指向される。
チクル94を含む照準眼鏡系の射撃照準′fM線と合致
しており、固定レチクル94の射撃照準指標が到達照準
指標を兼ねているので、照準眼鏡系の射撃照準視線と到
達機系の到達祝準線は砲身の砲軸線と同一方向を向いて
t・Sす、この段階で目標は照準眼鏡系のレチクル中心
で捕えられ、砲身はその目標へど胎内している。そして
この測距出力はコ1′fi に演算の結果、未米修正駄が得ら才することになるが、
この未来修正量に応じて前N12光偏向累子が制御を受
け、光l1ill110oはL1僚な外れた未来修正位
置へと指向さ」しる。この結果照準視界内では目標がレ
チクルの射撃規準指標から外れると共に射撃照準指標と
共通の到達規準指標も目標から外れることになる。(砲
身は従前の目標に指向した土まである。)しかる後に照
準眼鏡系を覗きながらその射撃規準指標を目標に合致さ
せるように操作すると、これに伴って砲身も俯仰、旋回
、修正されることになり、照準眼鏡系の射撃照準JVU
檄を捕えた時点で到達機系の到達規準指標な捕え、また
砲身は未来修正要因加味した目標位置へと指向される。
従ってたとえ目標が移動中のものであってもその測距出
力がリアルタイムで演算されつつ光偏向素子が制御され
るので、照準動作にあっては単に照準眼鏡糸の固定レチ
クルに表示された射撃照準指標で目標を追尾ずイ)とい
う操作のみで刻々の測距情報を含んだ未来修正量等を考
慮した照準が遂行できイ)1 さらに第8図は本発明光学装置の他の実施例、特にベリ
スコープに適した光偏向素子の構成酸部に係る他の実施
例を示すもので、第5図と同一部月については同一符号
を付しである。この実施例においては到達機系の光軸T
9と照準眼鏡系95どが同軸とされた光軸100上に俯
仰ミラー101を設げている。
力がリアルタイムで演算されつつ光偏向素子が制御され
るので、照準動作にあっては単に照準眼鏡糸の固定レチ
クルに表示された射撃照準指標で目標を追尾ずイ)とい
う操作のみで刻々の測距情報を含んだ未来修正量等を考
慮した照準が遂行できイ)1 さらに第8図は本発明光学装置の他の実施例、特にベリ
スコープに適した光偏向素子の構成酸部に係る他の実施
例を示すもので、第5図と同一部月については同一符号
を付しである。この実施例においては到達機系の光軸T
9と照準眼鏡系95どが同軸とされた光軸100上に俯
仰ミラー101を設げている。
この俯仰ミラー101が砲身の俯仰と機械的一体に連動
するものである場合には第5図において光偏向素子とし
て用いたDプリズムは同様に2組を決するものであるが
、この俯仰ミラー101が砲身の俯仰とシンクロサーボ
系等を介して俯仰連動する場合、すなわち砲身の俯1f
1)に加え他の入力信号によっても俯仰制御できる場合
には、サーボ系の駆動入力とし7て、未来修正量の偏差
を付与できることになるので、第5図の例のDプリズム
の組としては砲身の方位方向(旋回方向)のために1組
あればよいことになる。
するものである場合には第5図において光偏向素子とし
て用いたDプリズムは同様に2組を決するものであるが
、この俯仰ミラー101が砲身の俯仰とシンクロサーボ
系等を介して俯仰連動する場合、すなわち砲身の俯1f
1)に加え他の入力信号によっても俯仰制御できる場合
には、サーボ系の駆動入力とし7て、未来修正量の偏差
を付与できることになるので、第5図の例のDプリズム
の組としては砲身の方位方向(旋回方向)のために1組
あればよいことになる。
以上に詳述のように本発明においては、到達後糸の光軸
と照準眼鏡系の光軸とを一致させて同軸としたままこの
光軸−ヒの光偏向素子を未来修正量に応じてti制御し
てこれら両光1h11を同時に一体的に偏向させるので
、従来装置のような移動レチクルなどを用いることなく
常に測距を継続させながら未来修正を伴った照準を行な
ってゆくことができる。従って移動中の目標、あるいは
その移動過程において射撃距離が刻々変化しているよう
な物体であっても、その目標に対して単に固定レチクル
上の射撃照準指標によって目標を追尾してゆくことでい
つでも命中精度の高い射撃が実行できるものである。
と照準眼鏡系の光軸とを一致させて同軸としたままこの
光軸−ヒの光偏向素子を未来修正量に応じてti制御し
てこれら両光1h11を同時に一体的に偏向させるので
、従来装置のような移動レチクルなどを用いることなく
常に測距を継続させながら未来修正を伴った照準を行な
ってゆくことができる。従って移動中の目標、あるいは
その移動過程において射撃距離が刻々変化しているよう
な物体であっても、その目標に対して単に固定レチクル
上の射撃照準指標によって目標を追尾してゆくことでい
つでも命中精度の高い射撃が実行できるものである。
なお、説明の簡略化のために本文中には省略したか、本
発明装置における光偏向素子として反射鏡のみの組み合
わせによるものでも用いることができ、またこのような
光偏向水子の作動調整によって予めボアザイト(砲塔に
照準眼鏡系を取り付けた場合、取り付は誤差に、Lる砲
の砲軸線と照準眼鏡系の射撃照準視線のずれを補正する
調整)を行なうこともijJ能であることばηうまでも
ない。
発明装置における光偏向素子として反射鏡のみの組み合
わせによるものでも用いることができ、またこのような
光偏向水子の作動調整によって予めボアザイト(砲塔に
照準眼鏡系を取り付けた場合、取り付は誤差に、Lる砲
の砲軸線と照準眼鏡系の射撃照準視線のずれを補正する
調整)を行なうこともijJ能であることばηうまでも
ない。
第1図は従来装置Hの概略構成図である。
第21ン1は一般の照準眼鏡系でみられるレチクル像な
らびに到達規準表示を示す図である。 第3図は停動レチクルを含む照準眼鏡系の説明図である
。 第4図は移動レチクルを含む照準眼鏡系におけるレチク
ル像ならびに到達規準表示を示す図であイ、。 第5図は本発明の一実施例におけろ概略構成図である。 第6図及び第7図は光偏向プリズムの作用を説明するだ
めの説明図である。 第8図は本発明の他の実施例を示す要部構成図である。 10・・・照準眼鏡系、 11・・・対物レンズ、1
2・・・正立プリズノ・、 13・・・接眼レンズ、
14・・・移動レチクル、 2o・・・到達機系、2
3・・・レーザー光源、 24・・・穴明ミラー、2
8・・・受光センサー、 4o・・・射撃照準指標、
41・・・到達規準指標、 50・・・対物j/ンズ
、51・・・接眼レンズ、 61 .62・・・反射ミラー、 71・・・対物レンズ、 γ2・・・m fill
レンズ、73・・・レーザー光源、 74・・・穴明
ミラー、80・・・反射ミラー、 91・・・対物
レンズ、92・・・正立プリズム、 93・・・接眼
レンズ、94・・・固定レチクル、 97・・・ハー
フミーy−198・・・光偏向素子、 101・・・
俯仰ミラー、第 1 図 42図 YlL図 殖 3 図 第 6 図 第 7 図
らびに到達規準表示を示す図である。 第3図は停動レチクルを含む照準眼鏡系の説明図である
。 第4図は移動レチクルを含む照準眼鏡系におけるレチク
ル像ならびに到達規準表示を示す図であイ、。 第5図は本発明の一実施例におけろ概略構成図である。 第6図及び第7図は光偏向プリズムの作用を説明するだ
めの説明図である。 第8図は本発明の他の実施例を示す要部構成図である。 10・・・照準眼鏡系、 11・・・対物レンズ、1
2・・・正立プリズノ・、 13・・・接眼レンズ、
14・・・移動レチクル、 2o・・・到達機系、2
3・・・レーザー光源、 24・・・穴明ミラー、2
8・・・受光センサー、 4o・・・射撃照準指標、
41・・・到達規準指標、 50・・・対物j/ンズ
、51・・・接眼レンズ、 61 .62・・・反射ミラー、 71・・・対物レンズ、 γ2・・・m fill
レンズ、73・・・レーザー光源、 74・・・穴明
ミラー、80・・・反射ミラー、 91・・・対物
レンズ、92・・・正立プリズム、 93・・・接眼
レンズ、94・・・固定レチクル、 97・・・ハー
フミーy−198・・・光偏向素子、 101・・・
俯仰ミラー、第 1 図 42図 YlL図 殖 3 図 第 6 図 第 7 図
Claims (2)
- (1) レーザー測遠機系と、固定されたレチクルを
有する照準眼鏡系とを備える光学装置において、光学部
材を介することにより前記レーザー測遠機系の光軸と前
記照準W1鏡系の光軸とを一致させて同軸とし、かつ前
記同軸とされた両光軸上に光偏向素子を設けこの光偏向
素子を作動させることによりレーザー測遠機系の光軸と
照準眼鏡系の光軸とが常に一体的に偏向されるようにし
たことを特徴とする光学装置。 - (2) 前記光偏向素子が互いに逆方向に等しい角度
だけ回転される2個の偏角プリズムの2 Allによっ
て構成された特許請求の範囲第(11項に記載の光学装
置。 (:11 前記光偏向素子が、互いに逆方向に等しい
角度だけ回転される2個の偏角プリズムの1組と、俯仰
方向に作動される反射鏡とによって構成された特W1−
粕求の範囲第(1)項に記載の光学装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13274281A JPS5834420A (ja) | 1981-08-26 | 1981-08-26 | 光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13274281A JPS5834420A (ja) | 1981-08-26 | 1981-08-26 | 光学装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5834420A true JPS5834420A (ja) | 1983-02-28 |
Family
ID=15088525
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13274281A Pending JPS5834420A (ja) | 1981-08-26 | 1981-08-26 | 光学装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5834420A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59220712A (ja) * | 1983-05-17 | 1984-12-12 | コントラベス・アクチエンゲゼルシヤフト | 照準装置のための光学系 |
JPS62140118A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-23 | トムソン―ティー アール ティー ディフェンス | 可変視野誘導装置の軸線安定化装置 |
EP0709705A3 (de) * | 1994-10-31 | 1999-06-09 | Swarovski Optik Kg | Zielfernrohr |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5140871U (ja) * | 1974-09-20 | 1976-03-26 |
-
1981
- 1981-08-26 JP JP13274281A patent/JPS5834420A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5140871U (ja) * | 1974-09-20 | 1976-03-26 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59220712A (ja) * | 1983-05-17 | 1984-12-12 | コントラベス・アクチエンゲゼルシヤフト | 照準装置のための光学系 |
JPH0534649B2 (ja) * | 1983-05-17 | 1993-05-24 | Contraves Ag | |
JPS62140118A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-23 | トムソン―ティー アール ティー ディフェンス | 可変視野誘導装置の軸線安定化装置 |
EP0709705A3 (de) * | 1994-10-31 | 1999-06-09 | Swarovski Optik Kg | Zielfernrohr |
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