JPS5833240A - Heat developable type diazo copying material - Google Patents

Heat developable type diazo copying material

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JPS5833240A
JPS5833240A JP13187381A JP13187381A JPS5833240A JP S5833240 A JPS5833240 A JP S5833240A JP 13187381 A JP13187381 A JP 13187381A JP 13187381 A JP13187381 A JP 13187381A JP S5833240 A JPS5833240 A JP S5833240A
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JP
Japan
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group
general formula
diazo
heat
monomer
Prior art date
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Pending
Application number
JP13187381A
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Japanese (ja)
Inventor
Tsutomu Matsuda
勉 松田
Giichi Kaneko
金子 義一
Nobuyoshi Watanabe
信義 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5833240A publication Critical patent/JPS5833240A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/52Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
    • G03C1/60Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances with macromolecular additives

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a heat developable type diazo copying material also usable for a recording material, capable of forming a high-density image and superior in raw storage stability in spite of lowering the developing temp. in order to reduce a manufacturing cost of a copying machine. CONSTITUTION:Lowering of developing temp. is executed by using a heat-meltable substance of 50-150 deg.C m.p. as a color developing adjuvant for a photosensitive layer consisting essentially of a diazo compound, a coupling component, and a color developing adjuvant, and drop of raw storage stability resulting from the use of this adjuvant is prevented by using a specified acrylic graft copolymer as the outer shell, and encapsulating the coupling component. Besides, a diazo compound advantageous for forming a high-density image can be used as a result of lowering of the developing temp.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は記録材料としても使用できる熱現像型ジアゾ複
写材料に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a heat-developable diazo copying material which can also be used as a recording material.

熱現像型ジアゾ複写材料は一般に紙、フィルム等の支持
体上にジアゾ化合物、カップリング成分及び発色助剤を
主成分とする感光層を設けたもので、発色助剤としては
尿素、トリクロル酢酸ソーダ等が使用されている。この
棟のジアゾ複写材料はいずれも150〜200℃の加熱
により現像されるが、その現像機構は加熱によシ分解発
生するアルカリ(アンモニアガス、苛性ソーダ)を利用
したものである。また低温現像化(cIO〜130℃)
の試みとして発色助剤として高級脂肪酸アミドが使用さ
れているが、その現像機$11!は加熱溶融によるジア
ゾ化合物及びカップリング成分の活性化を利用したもの
である。
Heat-developable diazo copying materials generally have a photosensitive layer containing a diazo compound, a coupling component, and a coloring aid as main components on a support such as paper or film.The coloring aids include urea and sodium trichloroacetate. etc. are used. All of the diazo copying materials in this building are developed by heating at 150 to 200 DEG C., and the developing mechanism utilizes alkali (ammonia gas, caustic soda) that is decomposed and generated by heating. Also, low temperature development (cIO ~ 130℃)
In an attempt to do this, a higher fatty acid amide is used as a color development aid, but the developing machine costs only $11! This method utilizes the activation of a diazo compound and a coupling component by heating and melting.

しかしこれら従来の熱現像型ジアゾ複写材料においては
前者は前述のように現像温度が筒いため、ジアゾ化合物
とし・ては高濃度画像の形成には不利な耐熱性の高いも
のが選択使用されている。このためこの種のジアゾ複写
材料は一般に、アンモニアガスで現像する乾式ジアゾ複
写材料に比べて高濃度画像が得られないという欠点示あ
る。更に高温でしかもN度の高い(温度が±10℃位に
コントロールされないと、現像不足になっ°たり、色調
が変化したシする)加熱装置が必要なので、輸写機のコ
ストも高くなるという欠点もある。また後者は低温現像
は可能であっても、複写材料自体の保存性(以下、生保
存性という)が低下するという欠点があった。
However, in these conventional heat-developable diazo copying materials, the former has a high development temperature as mentioned above, so diazo compounds with high heat resistance are selected and used, which is disadvantageous for forming high-density images. . For this reason, this type of diazo copying material generally has the disadvantage that it is not possible to obtain high-density images compared to dry diazo copying materials developed with ammonia gas. Furthermore, it requires a heating device with a high temperature and high N degree (if the temperature is not controlled within ±10°C, there will be insufficient development or changes in color tone), which increases the cost of the transfer machine. There is also. Furthermore, although low-temperature development is possible with the latter, there is a drawback that the storage stability of the copying material itself (hereinafter referred to as raw storage stability) is reduced.

こうした欠点を有しているために、熱現像型ジアゾ複写
材料を用いる方法は乾いたコピーが得られる。現像部が
簡単なため、複写機がコンパクトにできる等の利点を有
しながらもジアゾ複写プロセスの主流を占めるに至うて
いないのが現状である。
Because of these drawbacks, methods using heat-developable diazo copying materials result in dry copies. Although it has advantages such as the ability to make a copying machine compact because the developing section is simple, it has not yet become mainstream in the diazo copying process.

本発明の目的は90〜130℃程度の低温現像化により
高濃度画像が得られ、且つ複写機のコストが低下するに
も拘わらず、生保存性に優れ、コストも低い熱現像型ジ
アゾ複写材料兼記録材料を提供することである。
The purpose of the present invention is to provide a heat-developable diazo copying material that can obtain high-density images through low-temperature development at about 90 to 130°C, has excellent storage stability, and is low in cost, even though the cost of copying machines is reduced. It also provides recording materials.

即ち、本発明によれば、支持体上にジアゾ化合物、カッ
プリング成分及び発色助剤を主成分とする感光層を設け
た熱現像型ジアゾ複写材料において、発色助剤が融点5
0〜150℃の熱可溶融性物質であり、かつカップリン
グ成分が下記A群の樹脂に下記B群のモノマーおよび下
記C群のモノマー 5− をグラフト重合させたグラフトコポリマーでカプセル化
されていることを特徴とする熱現像型ジアゾ複写材料が
提供される。
That is, according to the present invention, in a heat-developable diazo copying material in which a photosensitive layer containing a diazo compound, a coupling component, and a coloring aid as main components is provided on a support, the coloring aid has a melting point of 5.
It is a thermofusible substance at 0 to 150°C, and the coupling component is encapsulated with a graft copolymer obtained by graft polymerizing monomers from Group B below and monomers from Group C below to resin from Group A below. A heat-developable diazo copying material is provided.

A群の樹脂ニ一般式(1)で示されるモノマーと一般式
(2)で示されるモノマーとから なる共重合体 一般式(1)       一般式(2)(但し、Rは
−Hシー0H3 Xは一0000ylH2n+1 + 0OnH2n++
 t(5≦n≦20) を表わす) B群のモノマーニ一般式(3)で示されるモノマー一般
式(3) (但し、Rは−Hフー〇H3 0 を表わし、そして、前記A群の樹脂にグリシジルメタク
リレート成分が含まれるときはアクリル酸または(およ
び)メタクリル酸であり、アクリル酸またFi(および
)メタクリル酸成分が含まれるときはグリシジルメタク
リレートである) 0群の七ツマーニ一般式(4)で示さ、れるモノマー一
般式(4) (但し、Rは−H+  0H3 Z Id −0000nH2n+t  (”≦n≦4)
gO(3001H2n++  (1≦n≦6)9を表わ
す) 本発明によれは5発色助剤として融点50〜150℃の
熱可溶融性物質を用いることにょシ低温現像化を達成で
き、またそのために起こる生保存性の低下を特別のグラ
フトコポリマーによるカップリング成分のカプセル化に
より防止することができる。しかも低温現像化のため高
濃度画像形成に有利なジアゾ化合物を使用できる利点が
ある。さらに、本発明の場合、カプセル壁材として特別
のグラフトコポリマーを用いたことにより、一般の共重
合体、例えば酢酸ビニル/メタアクリル酸ニスカップリ
ング成分のカプセル化物は、塗工時における分散安定性
において著しくすぐれ、凝集を生じることがないので、
感光液の製造安定性が非常に良好である上、支持体への
接着性にもすぐれていて、ラボオフ現象(剥離現象)が
生じにくいという利点がある5 本発明で用いるジアゾ化合物及びカップリング成分とし
ては、従来、2成分型ジアゾ複写材料の分野で使用され
ているのがそのまま使用できる。
A copolymer consisting of the monomer represented by the general formula (1) and the monomer represented by the general formula (2) of the resin of group A General formula (1) General formula (2) (However, R is -HC0H3X is 10000ylH2n+1 + 0OnH2n++
t (5≦n≦20)) Group B monomer General formula (3) represented by general formula (3) (However, R represents -Hfu〇H30, and the resin of Group A When Fi contains a glycidyl methacrylate component, it is acrylic acid or (and) methacrylic acid; when it contains acrylic acid or Fi (and) a methacrylic acid component, it is glycidyl methacrylate) Group 0 Shichitsumani general formula (4) Monomer general formula (4) represented by
gO (represents 3001H2n++ (1≦n≦6)9) According to the present invention, low-temperature development can be achieved by using a thermofusible substance with a melting point of 50 to 150°C as a coloring aid, and for this purpose, The resulting loss of shelf life can be prevented by encapsulation of the coupling components with special graft copolymers. Furthermore, because of low-temperature development, it is possible to use a diazo compound which is advantageous for forming high-density images. Furthermore, in the case of the present invention, by using a special graft copolymer as the capsule wall material, the encapsulated product of a general copolymer, such as a vinyl acetate/methacrylic acid varnish coupling component, has excellent dispersion stability during coating. Because it has excellent properties and does not cause aggregation,
Diazo compound and coupling component used in the present invention have the advantage that the production stability of the photosensitive liquid is very good, and it also has excellent adhesion to the support, making it difficult to cause lab-off phenomenon (peeling phenomenon).5 Diazo compound and coupling component used in the present invention As such, those conventionally used in the field of two-component diazo copying materials can be used as they are.

即ち、ジアゾ化合物としては、例えば、4−ジアゾ−1
−ジメチルアミンベンゼン、4−ジアゾ−1−ジエチル
アミノベンゼン、4−ジアゾ−1−ジプロピルアミノベ
ンゼン、4−ジアゾ−1−メチルベンジルアミノベンゼ
ン、4−シアソー1−ジベンジルアミノベンゼン、4−
シア/ −1−エチルヒドロキシエチルアミノベンゼン
、4−ジアゾ−1−ジエチルアミン−3−メトキシベン
ゼン、4−ジアゾ−1−ジメチルアミノ−2−メチルベ
ンゼン、4−ジアゾ−1−ベンゾイルアミノ−295−
ジェトキシベンゼン、4−シアソー1−モルホリノベン
ゼン、4−ジアゾ−1−モルホリノ−2り5−ジェトキ
シベンゼン、4−ジアゾ−1−モルホリノ−2ν5−ジ
ブトキシベンゼン。
That is, as a diazo compound, for example, 4-diazo-1
-dimethylaminebenzene, 4-diazo-1-diethylaminobenzene, 4-diazo-1-dipropylaminobenzene, 4-diazo-1-methylbenzylaminobenzene, 4-thiazo-1-dibenzylaminobenzene, 4-
Cia/-1-ethylhydroxyethylaminobenzene, 4-diazo-1-diethylamine-3-methoxybenzene, 4-diazo-1-dimethylamino-2-methylbenzene, 4-diazo-1-benzoylamino-295-
Jetoxybenzene, 4-thiazo-1-morpholinobenzene, 4-diazo-1-morpholino-2-5-jethoxybenzene, 4-diazo-1-morpholino-2v5-dibutoxybenzene.

4−シア7”−1−アニリノベンゼン、4−ジアゾ−1
−ジメチルアミノ−3−カルボキシベンゼン、4−ジア
ゾ−1−トルイルメルカプト−295−ジェトキシベン
ゼン% 4−ジアゾ−1t4−メトキシペンソイルアミ
ノ−2+5−ジェトキシベン 9− ゼンなどのジアゾ化合物の塩化物の金属ハライド(例え
に塩化亜鉛、塩化カドミウム、塩化錫など)との複塩、
及び前記ジアゾ化合物の硫酸、四フッ化ホウ素、ヘキサ
フルオロリン酸などの強酸の塩などが挙けられるが、も
ちろん、これらのものに限定されるものではない。
4-sia7”-1-anilinobenzene, 4-diazo-1
-dimethylamino-3-carboxybenzene, 4-diazo-1-tolylmercapto-295-jethoxybenzene% 4-diazo-1t4-methoxypenzoylamino-2+5-jethoxybenzene 9-metal chloride of diazo compounds such as zene Double salts with halides (e.g. zinc chloride, cadmium chloride, tin chloride, etc.)
and salts of strong acids such as sulfuric acid, boron tetrafluoride, and hexafluorophosphoric acid of the diazo compounds, but are not limited to these, of course.

カップ、υング成分としては、一般の2成分型ジアゾ複
写材料用のものが全て使用でき1例えばレゾルシン、7
0ログルシン、2ν5−ジメチル−4−モルホリノメチ
ルフェノール、3−ヒドロキシシアノアセトアニリド、
パラスルホアセトアニリド、l−ベンゾイルアミノ−8
−ヒドロキシナフタレン−3?6−ジスルホンアミド、
2?2−ジヒドロキシナフタレン、2ファージヒドロキ
シナフタレン−3ジロージスルホン酸ソーダ、2゜3−
ジヒドロキシ−6−スルホンtlj17−タ、  2 
r5−ジヒドロキシナフタレン−6−スルホン酸ソーダ
、1−ヒドロキシナフタレン−4−スルホン酸ソーダ、
】−アミノ−3−ヒドロキシナフタレン−316−ジス
ルホンアミド、ナフトールAs1−1〇− ナフトールAs−D、2−ヒドロキシナフタレン−3−
ビグアナイド、2−ヒドロキシナフトエ酸モルホリノプ
ロピルアミド、2−ヒドロキシナフトエ酸エタノールア
ミド、2−ヒドロキシナフトエ酸−N−ジメチルアミン
プロピルアミド塩酸塩、2t492’94’−テトラヒ
ドロキシジフェニル、214ν2’* 4’−テトラヒ
ドロキシジフェニルスルホキシド等が挙げられる。
As cup and ring components, all those for general two-component diazo copying materials can be used. For example, resorcinol, 7
0roglucin, 2ν5-dimethyl-4-morpholinomethylphenol, 3-hydroxycyanoacetanilide,
parasulfoacetanilide, l-benzoylamino-8
-hydroxynaphthalene-3?6-disulfonamide,
2?2-dihydroxynaphthalene, 2phage hydroxynaphthalene-3 dirodisulfonic acid sodium, 2゜3-
Dihydroxy-6-sulfone tlj17-ta, 2
r5-dihydroxynaphthalene-6-sodium sulfonate, 1-hydroxynaphthalene-4-sodium sulfonate,
]-Amino-3-hydroxynaphthalene-316-disulfonamide, naphthol As1-1〇- naphthol As-D, 2-hydroxynaphthalene-3-
Biguanide, 2-hydroxynaphthoic acid morpholinopropylamide, 2-hydroxynaphthoic acid ethanolamide, 2-hydroxynaphthoic acid-N-dimethylamine propylamide hydrochloride, 2t492'94'-tetrahydroxydiphenyl, 214ν2'*4'-tetra Examples include hydroxydiphenyl sulfoxide.

本発明における熱可溶融性材料としては、疎水性(水不
溶性)を有し、融点50〜150℃の熱可溶融性物質で
あり、溶融した時にジアゾ化合物及び、カップリング成
分をよく溶解するものであれば任意のものが用いられる
が、好ましいものとしては、例えば、次のものを用いる
ことができる。
The thermofusible material in the present invention is a thermofusible substance that is hydrophobic (insoluble in water) and has a melting point of 50 to 150°C, and that dissolves the diazo compound and the coupling component well when melted. Any material can be used, but preferred examples include the following.

(1)一般式A−1 ROOMH,(A−1) (但し、Rは炭素数5〜24の飽和又は不飽和アルキル
基を表わす) で表わされる脂肪酸アミド。この具体例としては、例え
は次のものが挙げられる。
(1) Fatty acid amide represented by the general formula A-1 ROOMH, (A-1) (wherein R represents a saturated or unsaturated alkyl group having 5 to 24 carbon atoms). Specific examples of this include the following.

カプロン酸アミド、カプリル酸アミド、カプリン酸アミ
ド、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチ
ン酸アミド、ステアリン酸アミド、アラキシン酸アミド
、ベヘン酸アミド、パルミトレイン酸アミド、オレイン
酸アミド、エイコセン酸アミド、エルシン酸アミド、エ
ライジン酸アミド、トランス−1νl−エイコセン酸ア
ミド1リノール酸アミド、リルン酸アミド、リシノール
酸アミド。
Caproic acid amide, caprylic acid amide, capric acid amide, lauric acid amide, myristic acid amide, palmitic acid amide, stearic acid amide, araxic acid amide, behenic acid amide, palmitoleic acid amide, oleic acid amide, eicosenoic acid amide, erucic acid amide, elaidic acid amide, trans-1νl-eicosenoic acid amide 1-linoleic acid amide, lyrinic acid amide, ricinoleic acid amide.

(2)一般式A−2及びA−2′ R’0ONHR2(A−2) 又U R”NHOOR’
 (A−2’)(前記式中、R1及びR3は炭素数5〜
24の飽和又は不飽和アルキル基、R2及びR4は炭素
数1〜5のアルキル基、置換若しくは非置換のフェニル
基、又は置換若しくは非置換のシクロヘキシル基を表わ
す)で表わされるN−置換脂肪酸アミド。この具体例と
しては、例えは、次のものが挙げられる。
(2) General formula A-2 and A-2'R'0ONHR2 (A-2) Also U R"NHOOR'
(A-2') (In the above formula, R1 and R3 have 5 to 5 carbon atoms.
24 saturated or unsaturated alkyl groups, R2 and R4 each represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group, or a substituted or unsubstituted cyclohexyl group). Specific examples of this include the following.

即ち、一般式A−2の具体例としては、例えば、N−メ
チルパルミチン酸アミド、N−メチルステアリン酸アミ
ド、N−プロピルステアリン酸アミド%N−ブチルステ
アリン酸アミド、ステアリン酸アニリド、N−メチルベ
ヘン酸アミド、N−エテルベへ7酸アミド*N−’:j
fルペヘン酸アミド、ベヘン酸アニリド、N−メチルオ
レイン酸アミド、リノール酸アニリド、N−工f ルー
)) 7’リン酸アミド、N−ブチルラウリン酸アミド
、カプリン酸−〇−メトキシアニリド、N−ヘキシルス
テアリン酸アミドなどが挙げられ、一般式^−21の具
体例としては、例えば、N−オクタデシルアセトアミド
、N=ニオフタデシルブチルアミドN−オフタテシルプ
ロピオンアミド、N−オレイルアセトアミド、N−オレ
イルベンズアミド、N−ラウリルブチルアミド、N−ラ
ウリルベンズアミド、N−ベヘニルアセトアミド、N−
ベヘニルプロピオンアミド、N−ベヘニルベンズアミド
、N−ミリスチルベンズアミド、N−ステアリルベンズ
アミド、N−ステアリルアセトアミド、N−ステアリル
シクロへキシルアミド、N−ステアリル−13− O−クロルベンズアミド%N −ハルミチルヘンズアミ
ド、N−パルミチルアセトアミド。
That is, specific examples of general formula A-2 include, for example, N-methylpalmitic acid amide, N-methylstearic acid amide, N-propyl stearic acid amide%N-butyl stearic acid amide, stearic acid anilide, N-methylbehenyl Acid amide, N-eterbe heptacid amide *N-':j
7' phosphoric acid amide, N-butyllauric acid amide, capric acid 〇-methoxyanilide, N- Specific examples of the general formula ^-21 include hexyl stearic acid amide, N-octadecyl acetamide, N=niophtadecyl butyramide N-ophtadecyl propionamide, N-oleylacetamide, N-oleyl Benzamide, N-laurylbutyramide, N-laurylbenzamide, N-behenylacetamide, N-
Behenylpropionamide, N-behenylbenzamide, N-myristylbenzamide, N-stearylbenzamide, N-stearylacetamide, N-stearylcyclohexylamide, N-stearyl-13-O-chlorobenzamide% N-halmitylhenzamide, N -Palmitylacetamide.

(3)  一般式A−3 (式中、R1及びR2は水素原子又は炭素数1〜5のア
ルキル基、R3は水素原子又は炭素数1〜5のアルキル
又はアルケニル基であり、nは1又は2である)で表わ
されるベンズアミド誘導体。このようなものの具体例と
しては、例えは1次のものを挙げることができる。
(3) General formula A-3 (wherein R1 and R2 are a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R3 is a hydrogen atom or an alkyl or alkenyl group having 1 to 5 carbon atoms, and n is 1 or 2). A specific example of such a thing is a first-order one.

モノ(又はジ)ベンズアミド、NνN−ジメチルモノ(
又はジ)ベンズアミド、NUN−ンブチルモノ(又はジ
)ベンズアミド、N5N−メチル−エチル−モノ(又は
ジ)ベンズアミド。
Mono(or di)benzamide, NνN-dimethyl mono(
or di)benzamide, NUN-butyl mono(or di)benzamide, N5N-methyl-ethyl-mono(or di)benzamide.

4−メチルベンズモノ(又はジ)ベンズアミド、4−ブ
チルベンズモノ(又はジ)ベンズアミド。
4-methylbenzmono(or di)benzamide, 4-butylbenzmono(or di)benzamide.

(4)一般式A−4 14− R’0CONHR2(A−4) (式中、R′及びR2は鎖状もしくは環状のアルキル基
もしくはアルケニル基(炭素数1〜30)、アリール基
、又はアルアルキル基であり、それらの置換基はさらに
ハロゲン、含酸素基(ヒドロキシル基、カルボキシル基
、アルコキシ基など)、含窒素基(アミン基、ニトロ基
など)、含イオン基(メルカプト基、スルフィド基など
)などを有していてもよい)で表わされるN−置換力ル
バメート化合物。このものの具体例としては、例えば、
次のものが挙げられる。
(4) General formula A-4 14- R'0CONHR2 (A-4) (wherein R' and R2 are a chain or cyclic alkyl group or alkenyl group (having 1 to 30 carbon atoms), an aryl group, or an alkenyl group. It is an alkyl group, and its substituents include halogen, oxygen-containing groups (hydroxyl, carboxyl, alkoxy, etc.), nitrogen-containing groups (amine, nitro, etc.), ionic groups (mercapto, sulfide, etc.) ), etc.). As a concrete example of this, for example,
These include:

N−フェニルシクロへブチルサルバメート、N−フェニ
ルデカヒドロナフチルカルバメート、N−ナフチルテ力
ヒドロナフチル力ルバメート、N−フェニルシクロへキ
シルカルバメート、N−フェニルブチルカルバメート、
N−ナフチルプロピルカルバメート、N−フェニル−(
メトキシ−プロピル−フェニル)カルバメー)t N−
ヘキシル−1−フェニルエチルカルバメート、N−へキ
シル−1−ベンジルエチルカルバメート、N−ナフチル
ジクロルプロピルカルバメート、N−ナフチルプロピル
カルバメートtN−フェニル−(フロピルードリル)カ
ルバメート、N−フェニルメチルシクロヘキシルカルバ
メート、N−ナフチルイノブチルカルバメート、N−フ
ェニルキシリルカルバメート、N−ナフチル−t−ブチ
ルカルバメート、N−フェニル−1s2s3>4−テト
ラヒドロナフチルカルバメート、N−ナフチル−1−フ
ェニルエチルカルバメート、N−フェニル−1−ベンジ
ル−1so −プロピルカルバメート、N−フェニルジ
メチルシクロヘキシ、ルカルパメート、N−フェニルメ
チルシクロヘキシルカルバメート、N−フェニル−3−
オキソ−n−ブチルカルバメート、N−フェニルジメチ
ルシクロヘキシルカルバメート、N−フェニル−2−ナ
フチルエチルカルバメート、N−フェニルトリルカルバ
メート、N−フェニル(1−フェニル−1so−フロビ
ル)カルバメート、N−フェニルデセニルカルバメート
、N−フェニル(l−カルボキシル−is。
N-phenylcyclohexyl salbamate, N-phenyldecahydronaphthyl carbamate, N-naphthyl hydronaphthyl carbamate, N-phenylcyclohexyl carbamate, N-phenylbutyl carbamate,
N-naphthylpropylcarbamate, N-phenyl-(
methoxy-propyl-phenyl)carbame)tN-
Hexyl-1-phenylethylcarbamate, N-hexyl-1-benzylethylcarbamate, N-naphthyldichloropropylcarbamate, N-naphthylpropylcarbamatetN-phenyl-(furopyrudryl)carbamate, N-phenylmethylcyclohexylcarbamate, N- Naphthyl linobutyl carbamate, N-phenylxylyl carbamate, N-naphthyl-t-butyl carbamate, N-phenyl-1s2s3>4-tetrahydronaphthyl carbamate, N-naphthyl-1-phenylethyl carbamate, N-phenyl-1-benzyl -1so-propylcarbamate, N-phenyldimethylcyclohexy, lucarpamate, N-phenylmethylcyclohexylcarbamate, N-phenyl-3-
Oxo-n-butyl carbamate, N-phenyldimethylcyclohexyl carbamate, N-phenyl-2-naphthylethyl carbamate, N-phenyltolyl carbamate, N-phenyl (1-phenyl-1so-furobyl) carbamate, N-phenyldecenyl Carbamate, N-phenyl (l-carboxyl-is.

−ブチル)カルバメート、N−ナフチルプロピルカルバ
メート、N−フェニルヘプチルカルバメート。
-butyl) carbamate, N-naphthylpropyl carbamate, N-phenylheptyl carbamate.

(5)  一般式A−5 R’OOR”             (A−5)(
式中、al及びR” H炭素数6〜30の鎖状もしくは
環状のアルキル基若しくはアルケニル基。
(5) General formula A-5 R'OOR" (A-5) (
In the formula, al and R''H are chain or cyclic alkyl groups or alkenyl groups having 6 to 30 carbon atoms.

アリール基、又はアラルキル基であり、それらの置換基
はさらに他の置換基、例えば、ヒドロキシル基、オキソ
基、カルボキシル基、アルコキシル基などの含酸素基、
アミン基、ニトロ基などの含窒素基、メルカプト基、ス
ルフィド基などの含イオウ基などを有していてもよい)
で表わされるケトン化合物。このものの具体例としては
1例えば5次のようなものを挙げることができる。
It is an aryl group or an aralkyl group, and these substituents further include other substituents, such as oxygen-containing groups such as a hydroxyl group, an oxo group, a carboxyl group, and an alkoxyl group;
(May have nitrogen-containing groups such as amine groups and nitro groups, sulfur-containing groups such as mercapto groups and sulfide groups)
A ketone compound represented by Specific examples of this include one such as the fifth order.

ジデシルケトン、デシルウンデシルケトン、ジウンデシ
ルケトン、ウンデシルドデシルケトン、ジドデシルケト
ン、ドデシルトリデカニルケトン、ジトリデカニルケト
ン、トリデカニル17− ケトンデカニルケトン、ジトリデカニルケトン、テトラ
デカニルペンタデカニルケトン、ジペンタデカニルケト
ン、ペンタデカニルヘキサデカニルケト/、ジトリデカ
ニルケトン、ヘキサデカニルへブタデカニルケトン、ジ
ヘブタテカニル−ケトン、ヘプタデカニルオクタデカニ
ルケト/、ジオクタデカニルケトン、オクタデカニルノ
ナデカニルケトン、ジノナデ力ニルヶトン、シクロヘキ
シルデシルケトン、シクロヘキシルウンデシルケトン、
シクロヘキシルドデシルケトン、シクロヘキシルウンデ
シルケトン、シクロヘキシルテトラデカニルケトン、シ
クロヘキシルペンタテカニルヶトン、シクロヘキシルへ
キサデカニルケトン、シクロヘキシルへブタデカニルケ
トン、シクロヘキシルオクタデカニルケトン、シクロヘ
キシルウンデシルケトン、フェニルデシルケトン、フェ
ニルウンデシルケトン、フェニルドデシルケトン、フェ
ニルトリデカニルケトン、フェニルテトラデカニルケト
ン、フェニルペンタデカニルケトン、18− フェニルへキサテ力ニルケトン、フェニルヘプタデカニ
ルケトン、フェニルオクタデカニルケトン、フェニルノ
ナデカニルケトン、ベンゾフェノ/、チオキシベンゾイ
ン、カルコン、4ν4I−シーn−7’ロビルーペンゾ
フエノン、4!4I−ジ−n−オクチルベンゾフェノン
、4−n−オクfルー4’−n−ノニルベンゾフェノン
、4+4’  n  fシルベンゾフェノン。
Didecyl ketone, decyl undecyl ketone, diundecyl ketone, undecyl dodecyl ketone, didodecyl ketone, dodecyl tridecanyl ketone, ditridecanyl ketone, tridecanyl 17-ketone decanyl ketone, ditridecanyl ketone, tetradecanyl pentadecanyl Ketone, dipentadecanyl ketone, pentadecanyl hexadecanyl keto/, ditridecanyl ketone, hexadecanyl hexadecanyl ketone, dihebutatecanyl-ketone, heptadecanyl octadecanyl keto/, dioctadecanyl ketone, octadecanyl ketone Nylnonadecanyl ketone, dinonadecanylketone, cyclohexyldecyl ketone, cyclohexyl undecyl ketone,
Cyclohexyl dodecyl ketone, cyclohexyl undecyl ketone, cyclohexyl tetradecanyl ketone, cyclohexyl pentatecanyl ketone, cyclohexyl hexadecanyl ketone, cyclohexyl hebutadecanyl ketone, cyclohexyl octadecanyl ketone, cyclohexyl undecyl ketone, phenyldecyl ketone , phenyl undecyl ketone, phenyl dodecyl ketone, phenyl tridecanyl ketone, phenyl tetradecanyl ketone, phenyl pentadecanyl ketone, 18-phenyl hexatelyketone, phenyl heptadecanyl ketone, phenyl octadecanyl ketone, phenyl nona Decanylketone, benzopheno/, thioxybenzoin, chalcone, 4v4I-cyn-7'robi-penzophenone, 4!4I-di-n-octylbenzophenone, 4-n-ocf-4'-n-nonyl Benzophenone, 4+4' n f sylbenzophenone.

(6)  ポリアルキレングリコール ポリアルキレングリコールとしては、分子量6000〜
200000のものの使用が好ましく、このものの具体
例としては、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、
ブチレンオキシドなどのアルキレンオキシドの重合体、
例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレンクリ
コール及ヒ共重合体、例えば、ポリオキシエチレン−オ
キシプロピレンのブロックポリマーなどが包含される。
(6) Polyalkylene glycol Polyalkylene glycol has a molecular weight of 6,000 to
200,000 is preferable, and specific examples of this include ethylene oxide, propylene oxide,
polymers of alkylene oxides such as butylene oxide,
Examples include polyethylene glycol, polypropylene glycol, and copolymers thereof, such as polyoxyethylene-oxypropylene block polymers.

(7)一般式A−7 (式中、R1νR3は炭素数2〜12のアルキル、アラ
ルキル、アリール基を表わし、R2tR’ij炭系数2
〜12のアルキル、アリール基を表わす)前記一般式(
A−7)の具体例としては、例えば、次のようなものが
挙げられる。
(7) General formula A-7 (In the formula, R1νR3 represents an alkyl, aralkyl, or aryl group having 2 to 12 carbon atoms, and R2tR'ij carbon number 2
~12 alkyl, aryl group) The above general formula (
Specific examples of A-7) include the following.

NUN’−ジフェニル−NsN’−ジエチル尿素、NU
N’−ジフェニル−NtN’−ジ−n−クロビル尿素、
N9N’−ジフェニル−NUN〆−ジ−イソプロピル1
liR素、 NνN′−ジフェニル−ジ−ロープチル尿
素、NtN’−ジフェニル−NUN’−シ−5ec−ブ
チル尿l NνN′−ジフェニル−NsN’−ジーte
rt−ブチル尿素、NtN’−ジフェニル−NtN +
−シー n −ヘンf ル尿素* NνN’−ジフェニ
ル−NtN”/’−n−ヘキンル尿素、N9N’−ジフ
ェニル−N+N’−ジー〇−ヘフチルW 素* N +
 N ’−ジフェニルーNシN′−シーn−オクチル尿
素、 N t N’−ジフェニル−N。
NUN'-diphenyl-NsN'-diethylurea, NU
N'-diphenyl-NtN'-di-n-clobylurea,
N9N'-diphenyl-NUN〆-di-isopropyl 1
liR element, NνN'-diphenyl-dilopethylurea, NtN'-diphenyl-NUN'-ci-5ec-butylurea, NνN'-diphenyl-NsN'-dite
rt-butyl urea, NtN'-diphenyl-NtN +
-C n -Henf Ruurea * NνN'-Diphenyl-NtN"/'-n-Hekynlurea, N9N'-Diphenyl-N+N'-Di〇-Hephthyl W Element * N +
N'-diphenyl-N'-n-octylurea, N'-diphenyl-N.

N’−ジーn−ノニル尿s、NνN’−ジフェニル−N
UN’−ジ−n−デシル尿素、NフN〆−ジフェニル−
N 9N ’−ジフェニルーNシN’−ジーn−パデシ
ル尿素、 N + N’−ジ(4−メチルフェニル)−
NνN’−ジ−n−プロピル尿素、NツN/−ジ(4−
エチルフェニル) −NツN′−ジ−n−ブチル尿素、
NνN’−ジ(4−メトキシフェニル)−NνN/  
、)  yl−ヘキシル尿素、NUN’−ジ(4−エト
キシフェニル)−NフN’−ジ−n−プロピル尿素、N
νN’−ジ(4−)゛チルフェニル)  N9N’−ジ
−n−ヘキシル尿素、N gN〆−ジー(4−へキシル
フェニル)−N+N’−ジ−n−ベヘニル尿素、NtN
’−ジアリル−NνN′−ジ−n−ヘキシル尿素、Nう
NF−ジアリル−NνN’−ジ−n−オクチル尿素、N
tN’−ジアリk  Nt’N’−ジーn−デシル尿素
%NνN’−ジアリル−NνN’−ジ−n−ドデシル尿
素、NtN’−ジフェニル−NtN’−ジアリル尿素な
ど。
N'-di-n-nonylurias, NνN'-diphenyl-N
UN'-di-n-decyl urea, N-di-n-diphenyl-
N 9N'-diphenyl-N'-di-n-padecyl urea, N + N'-di(4-methylphenyl)-
NνN'-di-n-propylurea, NtuN/-di(4-
ethylphenyl) -N'-di-n-butyl urea,
NνN'-di(4-methoxyphenyl)-NνN/
, ) yl-hexylurea, NUN'-di(4-ethoxyphenyl)-N'-di-n-propylurea, N
νN'-di(4-)methylphenyl) N9N'-di-n-hexylurea, N gN〆-di(4-hexylphenyl)-N+N'-di-n-behenylurea, NtN
'-Diallyl-NνN'-di-n-hexylurea, NNF-diallyl-NνN'-di-n-octylurea, N
tN'-diaryk Nt'N'-di-n-decyl urea %NvN'-diallyl-NvN'-di-n-dodecyl urea, NtN'-diphenyl-NtN'-diallylurea, etc.

(8)  一般式A−8 21− で表わされるグアニジン誘導体。(8) General formula A-8 21- A guanidine derivative represented by

前記一般式において、R1及びR2は炭素数5〜24.
好ましく ij I O〜20のアルキル又はアルケニ
ル基、置換又は非置換のフェニル基、置換又は非置換の
シクロヘキシル基、あるいは置換又は非置換のモルホリ
ノ基を表わす。この場合、フェニルN基、シクロヘキシ
ル基及びモルホリノ基に結合していてもよい置換基とし
ては、低級アルキル基、好ましくはメチル基が挙けられ
、この置換1基の数は通常1〜2個である。このような
グアニジン誘導体としては1例えば、1+3  N−シ
ヘンタテシルグアニジン、1?3−N−ジヘキサデシル
グアニジン、1t3−N−ジヘプタデシルグアニジン、
1t3N−オクタデシルグアニジン、1s3N−ジノナ
ンデシルグアニジン、・1ν3−N−ジエイコシルグア
ニジン、lν3−N−シトデセニルグアニジン、1*3
  N−ジヘキサデセニルグアニ22− ジン、1t3N−ジエイコセニルグアニジン、1t3 
 N−ジフェニルグアニジン、ll3−N−ジトリルグ
アニジン、1+3  N−ジキシリルグアニジン、1s
3N−ジシクロへキシルグアニジン、1t3N−ジ(メ
チルシクロヘキシル)グアニジ/、1ν3−N−ジモル
ホリノグアニジン、1ν3−N−ジ(メチルモルホリノ
)グアニジン、1+3N−ジ(ジメチルモルホリノ)グ
アニジンなどが挙げられる。
In the general formula, R1 and R2 each have 5 to 24 carbon atoms.
Preferably ij I represents an alkyl or alkenyl group of 0 to 20, a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted cyclohexyl group, or a substituted or unsubstituted morpholino group. In this case, examples of substituents that may be bonded to the phenyl N group, cyclohexyl group and morpholino group include lower alkyl groups, preferably methyl groups, and the number of substituents is usually 1 to 2. be. Examples of such guanidine derivatives include 1+3 N-cyhentatecylguanidine, 1?3-N-dihexadecylguanidine, 1t3-N-diheptadecylguanidine,
1t3N-octadecylguanidine, 1s3N-dinonandecylguanidine, 1ν3-N-dieicosylguanidine, lν3-N-cytodecenylguanidine, 1*3
N-dihexadecenylguanidine, 1t3N-dieicosenylguanidine, 1t3
N-diphenylguanidine, 113-N-ditolylguanidine, 1+3 N-dixylguanidine, 1s
Examples include 3N-dicyclohexylguanidine, 1t3N-di(methylcyclohexyl)guanidine/, 1v3-N-dimorpholinoguanidine, 1v3-N-di(methylmorpholino)guanidine, and 1+3N-di(dimethylmorpholino)guanidine.

(9)一般式A−9 Ar(−000−Y)n      (A 9)(式中
、Arはフェニル基、ナフチル基などの、芳香族基であ
り、この芳香族基はアルキル基、アラルキル基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アシル基、アロイル基、)
10ケンなどの置換基を有していてもよ(、Yはアルキ
ル基、又はフェニル基であり、これらのアルキル基又は
フェニル基も前記したような各種置換基を有することが
できる) で表わされるアロイルオキシ化合物。この化合物の具体
例としては、例えは、以下に示す構造のものが挙けられ
る。
(9) General formula A-9 Ar(-000-Y)n (A9) (wherein, Ar is an aromatic group such as a phenyl group or a naphthyl group, and this aromatic group is an alkyl group or an aralkyl group. , alkoxy group, aryloxy group, acyl group, aroyl group,)
(Y is an alkyl group or a phenyl group, and these alkyl groups or phenyl groups can also have various substituents as described above). Aroyloxy compound. Specific examples of this compound include those having the structures shown below.

25一 本発明で用いる前記化合物はいずれも疎水性であって、
水に難溶又は不溶であシ、粒径0,1〜10μの微粒子
状で用いられる。
25- All of the above compounds used in the present invention are hydrophobic, and
It is sparingly soluble or insoluble in water and is used in the form of fine particles with a particle size of 0.1 to 10 μm.

本発明ではカップリング成分は、グラフトコポリマーで
カプセル化されている。このカプセル化はカップリング
成分を芯物質とし、且つグラフトコポリマーを壁材物質
として公知のカプセル化法(例えば米国特許第2800
457号、同2800458号明細書)で行なわれる。
In the present invention, the coupling component is encapsulated in a graft copolymer. This encapsulation is carried out using known encapsulation methods (for example, U.S. Pat. No. 2,800
457 and 2800458).

得られるカプセルの粒径は1〜50μが適当である。The particle size of the obtained capsules is suitably 1 to 50 microns.

本発明に用いられるグラフトコポリマーの構成−エチル
へキシルメタアクリレート、 2−エチルへキシルアクリレート、 ステアリルメタアクリレート、ヒニ ルステアリルエーテル A部分の一般式(2)の例: アクリル酸、メタアクリ
ル酸、グリシジルアクリレート、グリシジ ルメタアクリレート 26一 B部分の例ニアクリル酸、メタアクリル酸、グリシジル
アクリレート、グリシジルメ タアクリレート C部分の例:スチレン、ビニルトルエン、クロルスチレ
ン、メチルアクリレート、メ チルメタアクリレート、エチルアク リレート、イソブチルメタアクリレ ート、n−ブチルメタアクリレート、 n−ブチルアクリレート 本発明において、前記したカップリング成分とグラフト
コポリマーとの比率は、1:(0,5〜10)(重量)
が適当である。
Structure of the graft copolymer used in the present invention - Ethylhexyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, stearyl methacrylate, hinylstearyl ether Examples of general formula (2) of A moiety: acrylic acid, methacrylic acid, glycidyl Acrylate, glycidyl methacrylate 26 Examples of part B Niacrylic acid, methacrylic acid, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate Examples of part C: styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, isobutyl methacrylate , n-butyl methacrylate, n-butyl acrylate In the present invention, the ratio of the above-mentioned coupling component to the graft copolymer is 1:(0.5-10) (by weight)
is appropriate.

本発明では、以上の素材の他に、通常の熱現像型ジアゾ
複写材料に使用される加熱によジアルカリ’に発生する
物質及び通常のジアゾ複写材料に使用される各種添加物
を併用することができる。即ち保存性向上剤としてナフ
タレン−モノスルホン酸ナトリウム、ナフタレン−ジス
ルホン酸ナトリウム、ナフタレン−トリスルホン酸ナト
リウム、スルホサリチル酸、硫酸カドミウム、硫酸マグ
ネシウム、塩化カドミウム、塩化亜鉛などf:便用でき
る。また酸化防止剤としてチオ尿素、尿素衣ど、溶解剤
としてカフェイン、テオフィリンなど:酸安定剤として
クエン酸、酒石酸、硫酸、シュウ酸、ホウ酸、リン酸、
ビロリン酸などを用い、その他にサポニンを少量添加す
ることができる。捷たノ(インダーとして澱粉、カゼイ
ン、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸誘導体、ポリビニ
ルアルコール等の高分子物質を使用できる。□史に画像
濃度向上剤としてシリカ、スターチ、クレー、樹脂等の
無機又は有機微粒子が使用できる。
In the present invention, in addition to the above-mentioned materials, it is also possible to use in combination a substance that is generated into dialkali upon heating, which is used in ordinary heat-developable diazo copying materials, and various additives used in ordinary diazo copying materials. can. That is, as a preservability improving agent, sodium naphthalene monosulfonate, sodium naphthalene disulfonate, sodium naphthalene trisulfonate, sulfosalicylic acid, cadmium sulfate, magnesium sulfate, cadmium chloride, zinc chloride, etc. f: Can be used for convenience. Antioxidants such as thiourea and urea coating; solubilizing agents such as caffeine and theophylline; acid stabilizers such as citric acid, tartaric acid, sulfuric acid, oxalic acid, boric acid, phosphoric acid,
Birophosphoric acid or the like can be used, and a small amount of saponin can also be added. (Polymer substances such as starch, casein, polyvinyl acetate, polyacrylic acid derivatives, and polyvinyl alcohol can be used as inders.) Inorganic or organic materials such as silica, starch, clay, and resins have been used as image density improvers. Fine particles can be used.

本発明のジアゾ複写材料を作るにはジアゾ化合物、カッ
プリング成分、発色助剤(但しカップリング成分はカプ
セル化したもの)及びその他の添加物を溶解又は分散し
た水性液を紙、フィルム等の支持体上に通常の塗布法に
より塗布乾燥して付着量2.5〜159/m2の感光層
を設けれはよい。また別の方法としてカップリング成分
、発色助剤(但し、カップリング成分はカプセル化した
もの)及び添加物の一部(9%に画像濃度向上剤及び)
(インダー)を溶解又は分散した水性液を支持体上に塗
布乾燥して付着量2〜10 t 7m”のプレコート層
を設け、更にその上にジアゾ化合物及びその他の添加物
を溶解又は分散した水性液を塗布乾燥して付着量0.5
〜5f/m’の感光層を設けて積層型にしてもよい。い
ずれにしてもジアゾ化合物とカップリング成分(カプセ
ル化しないものを基準、)の発色助剤との比率け1 :
 (o、1〜IO):(0,1〜20)(重量)が適当
である。
To make the diazo copying material of the present invention, a diazo compound, a coupling component, a color development aid (however, the coupling component is encapsulated), and an aqueous liquid in which other additives are dissolved or dispersed are mixed with a support such as paper or film. It is preferable to apply the photosensitive layer on the body by a conventional coating method and dry it to have an adhesion amount of 2.5 to 159/m<2>. Another method is to use a coupling component, a color development aid (however, the coupling component is encapsulated), and a portion of the additive (9% includes an image density improver and an image density improver).
An aqueous liquid in which (inder) is dissolved or dispersed is coated and dried on a support to form a precoat layer with a coating weight of 2 to 10 tons (7 m), and on top of that, an aqueous liquid in which a diazo compound and other additives are dissolved or dispersed. Apply the liquid and dry it, the amount of adhesion is 0.5
A laminated type may be provided by providing a photosensitive layer of ~5 f/m'. In any case, the ratio of the diazo compound to the coloring aid of the coupling component (based on non-encapsulated components) is 1:
(o, 1-IO): (0, 1-20) (weight) is suitable.

本発明の熱現像型ジアゾ複写材料に画像を形成するには
2通りの方法がある。一つは一般のジアゾ複写材料と同
様にこの熱現像型ジアゾ複写材料を螢光灯や水銀灯を用
いて画像状露光後、赤外線、熱ローラ−、高周波等で9
0〜130℃程度に加熱する方法であり、他の一つは一
般の感熱記録材料と同様に前記熱現像型ジアゾ複写材料
に熱ペン、熱ヘッド等を用いて画像状に前記温度に加熱
する方法又は赤外光で画像状に露光兼加熱する方法であ
る。なおいずれの方法もその後、一般のジアゾ複写材料
と同様に螢光灯や水銀灯で紫外線を全面照29− 射することにより非画像部の未反応ジアゾ化合物を分解
し、定着することができる。
There are two methods for forming an image on the heat-developable diazo copying material of the present invention. First, like general diazo copying materials, this heat-developable diazo copying material is image-wise exposed using a fluorescent lamp or mercury lamp, and then exposed to infrared rays, a heated roller, high frequency, etc.
There is a method of heating to about 0 to 130°C, and the other method is to heat the heat-developable diazo copying material to the above temperature in an imagewise manner using a thermal pen, thermal head, etc., similar to general heat-sensitive recording materials. method, or a method of imagewise exposure and heating with infrared light. In either method, the unreacted diazo compound in the non-image area can be decomposed and fixed by irradiating the entire surface with ultraviolet rays from a fluorescent lamp or a mercury lamp, as with general diazo copying materials.

次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。ま
た、以下においては、本発明で用いるグラフトコポリマ
ーの合成例についても示す。
Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. In addition, examples of synthesis of the graft copolymer used in the present invention will also be shown below.

合成例1 攪拌機、温度計、還流冷却器を備えた容器にアイソパー
H(エッソスタンダード社製)30(lをとり90℃前
後に加熱する。ラウリルメタクリレート19(1,グリ
シジルメタクリレート102、過酸化ベンゾイル2tの
混合溶液を2時間で滴下し、その後1時間加熱しかきま
ぜた後ラウリルジメチルアミン1f、アクリル酸52、
ハイドロキノン0.1fを加え15時間90℃にて反応
させた。この反応物中にアイソパーH3O0fを加え、
90℃でメチルメタクリレート5(1,P−アミノスチ
レン5?、アゾビスイソブチルニトリル2vの溶液を1
時間で滴下しさらに1時間かき1ぜると白色の分散した
重合生成物を得た。生成物は固形分28%で安定なラテ
ックスであった。
Synthesis Example 1 Take 30 (l) of Isopar H (manufactured by Esso Standard) in a container equipped with a stirrer, thermometer, and reflux condenser and heat to around 90°C. Lauryl methacrylate 19 (1, glycidyl methacrylate 102, benzoyl peroxide 2 t) A mixed solution of lauryl dimethylamine 1f, acrylic acid 52,
0.1f of hydroquinone was added and reacted at 90°C for 15 hours. Add Isopar H3O0f to this reaction mixture,
At 90°C, a solution of 5 methyl methacrylate (1, P-aminostyrene 5?, 2 v azobisisobutylnitrile)
The mixture was added dropwise over an hour and stirred for an additional hour to obtain a white dispersed polymerization product. The product was a stable latex with a solids content of 28%.

30− 合成例 2 合成例1と同様な反応器にケロシン3BOfをとり90
℃に加熱し、2−エチルへキシルメタクリレート220
t、グリシジルメタクリレ−)8F。
30- Synthesis Example 2 Take kerosene 3BOf in a reactor similar to Synthesis Example 1 and add 90
Heat to 220 °C and 2-ethylhexyl methacrylate
t, glycidyl methacrylate) 8F.

過酸化ベンゾイル1fの混合溶液を2時間で滴下し、そ
の後40分間90℃でかきまぜ反応を完結させラウリル
ジメチルアミン19、メタアクリル酸5f、ハイドロキ
ノン0.12を加え18時間、90℃にて反応させた。
A mixed solution of benzoyl peroxide 1f was added dropwise over 2 hours, then stirred at 90°C for 40 minutes to complete the reaction, and lauryl dimethylamine 19, methacrylic acid 5f, and hydroquinone 0.12 were added and allowed to react at 90°C for 18 hours. Ta.

この反応物にケロシン2209を加え、90℃でスチレ
ン3(1,メタアクリル酸52、アゾビスイソブチルニ
トリル2vの溶液を1時間で滴下しさらに2時間かきま
ぜて安定性のよい分散した重合体を得た。
Kerosene 2209 was added to this reaction mixture, and a solution of 3 styrene (1, 52 methacrylic acid, 2 vol of azobisisobutylnitrile) was added dropwise at 90°C over 1 hour, and the mixture was further stirred for 2 hours to obtain a highly stable dispersed polymer. Ta.

合成例 3 アイソパーH1000fを攪拌機、温度計、冷却器を備
えた容器中で90〜100tl:にし、ラウリルメタア
クリレ−) 5BOf、アクリル酸26t、過酸化ベン
ゾイル5tの混合溶液を3時間で滴下しその後2時間加
熱しかきまぜる。
Synthesis Example 3 Isopar H1000f was brought to 90 to 100 tl in a container equipped with a stirrer, a thermometer, and a cooler, and a mixed solution of lauryl methacrylate (5BOf), 26 t of acrylic acid, and 5 t of benzoyl peroxide was added dropwise over 3 hours. Then heat and stir for 2 hours.

ラウリルジメチルアミン32.グリシジルメタアクリレ
ート259% tcrt−ブチルカテコール0.22を
加え90℃で2時間反応後アイソパー117002を加
える。
Lauryldimethylamine 32. Glycidyl methacrylate 259% and tcrt-butylcatechol 0.22% were added, and after reacting at 90°C for 2 hours, Isopar 117002 was added.

サラItCyEニルトルエン17(1,P−ニトロスチ
v ンl Of * アゾビスインブテルニ) 1フル
51Fの溶液を2時間で滴下し、さらに3時間がきまぜ
てシロップ状に分散したポリマー液を得る。この固形分
は29.1%であった。
A solution of SalItCyE Nyltoluene 17 (1, P-Nitrostine Of *Azobisinbuterium) 1F 51F was added dropwise over 2 hours, and the mixture was stirred for an additional 3 hours to obtain a syrup-like dispersed polymer liquid. The solids content was 29.1%.

合成例 4 合成例1と同様にしてP−アミノスチレンの代りにジメ
チルアミンエチルメタアクリレート52を用いて分散し
た重合体を得た。
Synthesis Example 4 A dispersed polymer was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 using dimethylamine ethyl methacrylate 52 instead of P-aminostyrene.

合成例 5 合成例1と同様な反応器にイソオクタン300fをとり
90℃に加熱する。この中に2−エチルへキシルメタク
リレート195 t、グリシジルメタクリレート52、
過酸化ベンゾイル21の混合溶液を滴下し2時間がきま
ぜる。この共重合体の固形分は38.7%であった。さ
らにこの共重合体中にラウリルジメチルアミン12、ア
クリル酸32.ハイドロキノン0,05 fを加え20
時間80〜90℃で反応させた。反応後の酸価は3.2
であった。この反応物中にアイソパーH30(lを加え
90℃に保ちメチルメタアクリレ−)120?、アゾビ
スイソブチルニトリル42の溶液を滴下し2時間かきま
ぜると分散した重合生成物が得られる。このポリマーは
固形分33.7%で安定な分散体であった。
Synthesis Example 5 300f of isooctane is placed in a reactor similar to Synthesis Example 1 and heated to 90°C. In this, 195 t of 2-ethylhexyl methacrylate, 52 t of glycidyl methacrylate,
A mixed solution of benzoyl peroxide 21 was added dropwise and stirred for 2 hours. The solids content of this copolymer was 38.7%. Furthermore, this copolymer contains 12. lauryl dimethylamine and 32. acrylic acid. Add hydroquinone 0.05 f and 20
The reaction was carried out at 80-90°C for a period of time. Acid value after reaction is 3.2
Met. Add Isopar H30 (l) to this reaction mixture and keep it at 90°C (methyl methacrylate) 120? , a solution of azobisisobutylnitrile 42 is added dropwise and stirred for 2 hours to obtain a dispersed polymer product. This polymer was a stable dispersion with a solids content of 33.7%.

合成例 6 合成例5と同様にしてメチルメタアクリレートの代りに
メチルアクリレ−) 12Ofを用いて分散した重合体
を得た。固形分(d 33.9%で乳白色をしている。
Synthesis Example 6 A dispersed polymer was obtained in the same manner as in Synthesis Example 5 using methyl acrylate (12Of) instead of methyl methacrylate. Solid content (d): 33.9%, milky white.

合成例7 合成例5と同様にして2−エチルへキシルメタアクリレ
ートの代シにステアリルメタ゛アクリレート195fを
用いて分散した重合体を得た。固形分け32.6%であ
った。
Synthesis Example 7 A dispersed polymer was obtained in the same manner as in Synthesis Example 5 using stearyl methacrylate 195f instead of 2-ethylhexyl methacrylate. The solid content was 32.6%.

合成例 8 合成例5と同様にして2−エチルへキシルメタアクリレ
ートの代りにビニルステアリルエーテル33− 195fを用いて分散した重合体を得た。固形分は31
.8%であった。
Synthesis Example 8 A dispersed polymer was obtained in the same manner as in Synthesis Example 5 using vinyl stearyl ether 33-195f instead of 2-ethylhexyl methacrylate. Solid content is 31
.. It was 8%.

合成例 9 合成例1のメチルメタアクリレートの代りに酢酸ビニル
80fを用いて乳白色の分散した重合体を得た。固形分
は3o、5%であった。
Synthesis Example 9 Using vinyl acetate 80f instead of methyl methacrylate in Synthesis Example 1, a milky white dispersed polymer was obtained. The solids content was 3o, 5%.

合成例 1゜ 合成例1のP〜ルアミノスチレン代すにハイドロオキシ
エチルメタアクリレート52を用いて分散した重合体を
得た。
Synthesis Example 1゜ Hydroxyethyl methacrylate 52 was used instead of P~ruaminostyrene in Synthesis Example 1 to obtain a dispersed polymer.

合成例 11 合成例1のP−アミノスチレンの代りに4−ビニルピリ
ジン10fを用いて合成例1と同様な安定な分散体を得
た。
Synthesis Example 11 A stable dispersion similar to Synthesis Example 1 was obtained by using 4-vinylpyridine 10f instead of P-aminostyrene in Synthesis Example 1.

実施例 1 合成例1で得られたグラフトコポリマー202をシクロ
ヘキサン100CCに溶解し、溶解後ナフトールASI
(lをよく分散させる。その溶液をポリビニルアルコー
ルの10%水溶液2’00CCに強く攪拌して、乳化さ
せる。さらに強攪拌下、減圧−34〜 蒸留してシクロヘキサンを除去する。そのとき加温温度
は50℃以下に保つ。シクロヘキサンが完全に除去され
た後、カプセルを濾過して、水洗する。水洗後カプセル
を真空乾燥して、粒径10〜30μ、カップラー分25
重量%のカプセル化カップラー(1) 18.7 tを
得た。
Example 1 Graft copolymer 202 obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in 100 CC of cyclohexane, and after dissolving, naphthol ASI
(1) is well dispersed. The solution is strongly stirred in 2'00 CC of a 10% aqueous solution of polyvinyl alcohol to emulsify it. Further, under strong stirring, the cyclohexane is removed by distillation at a reduced pressure of -34~. is kept below 50°C. After the cyclohexane is completely removed, the capsules are filtered and washed with water. After washing with water, the capsules are vacuum dried to obtain particles with a particle size of 10-30μ and a coupler content of 25.
18.7 t of encapsulated coupler (1) in weight % was obtained.

また、前記グラフトコポリマー2ofとナフトールA3
10Fを含むシクロヘキサン溶液をスプレードライ法に
より霧化乾燥し、シクロヘキサンを除去することによっ
ても、粒径10〜30μ、カップラー分25重量%のカ
プセル化カップラー15.62を得ることができた。
In addition, the graft copolymer 2of and naphthol A3
Encapsulated coupler 15.62 with a particle size of 10 to 30 μm and a coupler content of 25% by weight could also be obtained by atomizing and drying a cyclohexane solution containing 10F by a spray drying method and removing cyclohexane.

次に カプセル化カップラー(1)            
  srシリカ微粒子(粒径l〜5μ)       
   39ポリビニルアルコールの10%水溶液   
  1(1ステアリン酸アミド(粒径1〜10μ)  
    39水                  
      100CCより々る混合物をホモジナイザ
ーで分散してプレコート液とし、これをジアゾ複写紙用
原紙の表面にワイヤーバーを用いて塗布乾燥して付着量
32/m2のプレコート層を形成した後、その上に更に チオ尿素              12イソプロピ
ルアルコール             3CCクエン
酸             12サポニン     
        1.12水            
           100ccよりなる感光液をガ
ラスドクターを用いて塗布乾燥し、付着量19/m2の
感光層を設けて熱現像型ジアゾ複写材料を作成した。(
サンプルA)1 一方、比較のため、カプセル化カップラー作成の段階で
合成例1で得られたグラフトコポリマー201の代りに
酢酸ビニル−メタアクリル酸ラウリル共重合物20Fに
代えた他は同様の操作で熱現像型ジアゾ複写材料(サン
プルB)を作成した。
Next, the encapsulated coupler (1)
sr silica fine particles (particle size l~5μ)
39 10% aqueous solution of polyvinyl alcohol
1 (1 stearic acid amide (particle size 1-10μ)
39 water
A mixture of more than 100 cc was dispersed with a homogenizer to obtain a pre-coat liquid, and this was applied onto the surface of the base paper for diazo copying paper using a wire bar and dried to form a pre-coat layer with a coating weight of 32/m2. Furthermore, thiourea 12 isopropyl alcohol 3 CC citric acid 12 saponin
1.12 water
A heat-developable diazo copying material was prepared by applying and drying 100 cc of a photosensitive liquid using a glass doctor to form a photosensitive layer with a coating weight of 19/m<2>. (
Sample A) 1 On the other hand, for comparison, the same procedure was carried out except that the graft copolymer 201 obtained in Synthesis Example 1 was replaced with vinyl acetate-lauryl methacrylate copolymer 20F at the stage of preparing the encapsulated coupler. A heat-developable diazo copying material (Sample B) was prepared.

次に以上の各サンプルに原稿を重ねて紫外線露光し、つ
いで赤外線ヒーターを用いて110℃で3秒間加熱して
青色画像を形成し、その濃度を測定した。また生保存性
を試験するため、各サンプルを50℃、50%RHのデ
シケータ−中に24時間放置して強制劣化させた後、取
出し、更に螢光灯を全面照射して感光層中のジアゾ化合
物を全て分解し、地肌濃度を測定し、これを、強制劣化
しないで同様に処理して測定した地肌濃度と比較した。
Next, an original was placed on top of each sample and exposed to ultraviolet light, and then heated using an infrared heater at 110° C. for 3 seconds to form a blue image, and its density was measured. In addition, in order to test the raw storage stability, each sample was forced to deteriorate by leaving it in a desiccator at 50°C and 50% RH for 24 hours, then taken out, and the entire surface was irradiated with a fluorescent lamp to remove the diazozoic acid in the photosensitive layer. All the compounds were decomposed, the skin concentration was measured, and this was compared with the skin concentration measured after the same treatment without forced deterioration.

なお画像濃度及び地肌濃度はマクベス濃度計によるもの
である。その結果は表−1の通りである。
Note that the image density and background density are based on a Macbeth densitometer. The results are shown in Table-1.

表−1 この表から判るように本発明品は画像濃度及び生保存性
共に優れている。
Table 1 As can be seen from this table, the products of the present invention are excellent in both image density and shelf life.

また、サンプルAIBを作る際のプレコート液の凝集性
を調べるために、粘度をB型粘度計によ37− り測定した(20℃)。その測定結果を表−2に示す。
In addition, in order to examine the cohesiveness of the precoat liquid when preparing sample AIB, the viscosity was measured using a B-type viscometer at 37° C. (20° C.). The measurement results are shown in Table-2.

表−2 ※ワイヤーパーによる塗布困難 また、サンプルA s Bのラボオフ性を調べるため、
市販のラボテスターでラボテストを行ったところ、本発
明によるサンプルAには剥離現象力みられなかったのに
対し、サンプルBはカプセル化カップラーの剥離が見ら
れて実用に供することが困難であった。
Table 2 * Difficult to apply with wire parser Also, in order to investigate the lab-off properties of samples A and B,
When a laboratory test was conducted using a commercially available laboratory tester, sample A according to the present invention showed no peeling force, whereas sample B had peeling of the encapsulated coupler, making it difficult to put it into practical use. .

実施例 2 合成例2で得られたグラフトコポリマー152をナフサ
(沸点80〜100℃)100CCに加熱溶解し。
Example 2 Graft copolymer 152 obtained in Synthesis Example 2 was heated and dissolved in 100 CC of naphtha (boiling point 80-100°C).

温度を50〜55℃に加温しながら、2−ヒドロキシ−
3−ナフトエ酸モルホリノプロピルアミド538− fを分散させる。その溶液を50〜55℃に加温したゼ
ラチンの10%水溶液200CCに強く攪拌して乳化さ
せる。さらに強攪拌下、減圧蒸留してナフサを除去する
。ナフサが完全に除去された後、カプセルを濾過して、
水洗する。水洗後、カプセルを真空乾燥して粒径10〜
30μ、カップラー分25重量%のカプセル化カップラ
ー(11) 9,2 tを得た。
While increasing the temperature to 50-55°C, 2-hydroxy-
Disperse 3-naphthoic acid morpholinopropylamide 538-f. The solution is strongly stirred and emulsified in 200 cc of a 10% gelatin aqueous solution heated to 50 to 55°C. Further, naphtha is removed by distillation under reduced pressure while stirring vigorously. After the naphtha is completely removed, the capsules are filtered and
Wash with water. After washing with water, vacuum dry the capsules to obtain a particle size of 10~
9.2 t of encapsulated coupler (11) with a diameter of 30μ and a coupler content of 25% by weight was obtained.

またカップラーとして3−ヒドロキシシアノアセトアニ
リドを同量用いた他は同じカプセル化法に従って粒径1
0〜30μ、カップラー分25重量%のカプセル化カッ
プラー(1)9,5tを得た。
The same encapsulation method was followed except that the same amount of 3-hydroxycyanoacetanilide was used as a coupler.
9.5 tons of encapsulated coupler (1) having a diameter of 0 to 30μ and a coupler content of 25% by weight were obtained.

なお、本実施例において、減圧蒸留してナフサを除去す
る際、50〜60℃に加温して完全にナフサを除去すれ
ば、カプセル化カップラーがゼラチ/水溶液中に分散し
たカプセル化カップラーの分散液が得られ、濾過、水洗
工程が省略でき、次工程のプレコート液としてそのまま
の形で使用可能である。
In this example, when removing naphtha by vacuum distillation, if the naphtha is completely removed by heating to 50 to 60°C, the encapsulated coupler will be dispersed in the gelatin/aqueous solution. A liquid is obtained, the filtration and water washing steps can be omitted, and it can be used as it is as a precoat liquid in the next step.

次に カプセル化カップラー(II)           
  6 fカプセル化カップラー(n+)      
      −i y澱粉微粒子(粒径5〜20μ) 
        2fヒドロキシ工チルセルロースノ1
0%水溶液】orベヘン酸アニリド(粒径1〜10μ)
4v水                     1
00CCよりなる混合物をホモジナイザーで分散してプ
レコート液とし、これをジアゾ複写紙用原紙上にワイヤ
ーバーを用いて塗布乾燥して付着量3f/m2のプレコ
ート層を形成した後、その上に更にBP。
Then the encapsulated coupler (II)
6 f encapsulation coupler (n+)
-i y Starch fine particles (particle size 5-20μ)
2f Hydroxy engineered cellulose No. 1
0% aqueous solution] or behenic acid anilide (particle size 1-10μ)
4v water 1
A mixture consisting of 00CC is dispersed with a homogenizer to obtain a precoat liquid, which is coated onto a base paper for diazo copying paper using a wire bar and dried to form a precoat layer with an adhesion amount of 3 f/m2. .

塩化亜鉛            2f酒石酸    
         12サポニン          
 0.1f水                   
 100CCよりなる感光液を、ガラスドクターで塗布
乾燥して付着量0.897m”の感光層を設けた。
Zinc chloride 2f tartaric acid
12 saponins
0.1f water
A photosensitive liquid consisting of 100CC was applied and dried using a glass doctor to form a photosensitive layer with a coating thickness of 0.897 m''.

次にこうして得られた熱現像型ジアゾ複写材料に原稿を
重ねて紫外線露光した後、赤外線ヒーターで100℃、
5秒間加熱したところ、高濃度の黒色画像が形成された
。なおこの材料の生保存性は実施例1と同様優れていた
。なお、この複写材料を作る際のプレコート液は凝集は
なく、非常に安ボ゛ 定であった。さらに、この複写材料にはうψオフ現象は
見られなかった。
Next, the original was superimposed on the heat-developable diazo copying material obtained in this manner, exposed to ultraviolet light, and heated to 100°C using an infrared heater.
When heated for 5 seconds, a high density black image was formed. Note that the raw storage stability of this material was excellent as in Example 1. Note that the precoat liquid used in preparing this copying material did not aggregate and was very stable. Furthermore, no ψ-off phenomenon was observed in this copying material.

またこのジアゾ複写材料に110℃の熱ペンのついた記
録計を接触させ記録を行なったところ、接触後、直ちに
黄色の背景に高濃度の黒色画像が形成された。ついで螢
光灯を3秒間全面照射したところ、黄色の背景は白色と
なり、完全に定着された。
When this diazo copying material was brought into contact with a recorder equipped with a 110 DEG C. thermal pen, a high-density black image was immediately formed on a yellow background. Then, when the entire surface was irradiated with a fluorescent lamp for 3 seconds, the yellow background turned white and was completely fixed.

実施例 3 合成例3で得られたグラフトコポリマー109をリグロ
イン100CCに溶解し、溶解後、フロログルシン5f
をよく分散させる。その溶液をポリビニルアルコールの
10%水溶液200CCに強く攪拌して、乳化させる。
Example 3 Graft copolymer 109 obtained in Synthesis Example 3 was dissolved in ligroin 100CC, and after dissolving, phloroglucin 5f
Disperse well. The solution is strongly stirred into 200 cc of a 10% aqueous solution of polyvinyl alcohol to emulsify it.

さらに強攪拌下、減圧蒸留してリグロインを完全除去し
て1粒径10〜30μ、カップラー分30重景%のカプ
セル化カップラー4l− (Ill)8.91Fの水性分散液を得た。次に。
Further, under strong stirring, ligroin was completely removed by distillation under reduced pressure to obtain an aqueous dispersion of encapsulated coupler 4l- (Ill) 8.91F having a particle size of 10 to 30 μm and a coupler content of 30%. next.

カプセル化カップラー(P/)分散液        
202尿素         2f 硫酸         0.22 ゼラチン             1fポリスチレン
微粉末(粒径l〜5μ)10tステアリルベンズアミド
           5vサポニン        
    0.1?水                
       100CCよりなる混合物をホモジナイ
ザーで分散して感光液とし、これをジアゾ複写紙用原紙
に塗布乾燥して付着量39/?F1”の感光層を設けた
Encapsulated coupler (P/) dispersion
202 Urea 2f Sulfuric acid 0.22 Gelatin 1f Polystyrene fine powder (particle size 1~5μ) 10t Stearylbenzamide 5v Saponin
0.1? water
A mixture consisting of 100CC was dispersed with a homogenizer to form a photosensitive liquid, which was applied to base paper for diazo copying paper and dried to give an adhesion amount of 39/? A photosensitive layer of F1'' was provided.

次にこうして得られた熱現像型ジアゾ複写材料に原稿を
重ねて紫外線露光後、キセノンフラッシュランプで瞬間
的に加熱したところ、高濃度の黒色画像が形成された。
Next, an original was placed on the heat-developable diazo copying material thus obtained, exposed to ultraviolet light, and then instantaneously heated with a xenon flash lamp, resulting in the formation of a high-density black image.

なおこの材料の生保存性は実施例1と同様に優れていた
Note that the raw storage stability of this material was excellent as in Example 1.

なお、この材料を作る際の感光液には凝集は見42− られす、経時後も安定であり、さらにこの材料にはラボ
オフ現象は見られなかった。
In addition, no aggregation was observed in the photosensitive solution used to prepare this material, but it remained stable over time, and no lab-off phenomenon was observed in this material.

特許出願人 株式会社リコー 代理人 弁理士 池 浦 敏 明 43−Patent applicant Ricoh Co., Ltd. Agent Patent Attorney Toshiaki Ikeura 43-

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1) 支持体上にジアゾ化合物、カップリング成分及
び発色助剤を主成分とする感光層を設けた熱現像型ジア
ゾ複写材料において、発色助剤が融点50〜150℃の
熱可溶融性物質であり、かつカップリング成分が下記A
群の樹脂に下記B群の七ツマ−および下=e 0群のモ
ノマーをグラフト重合させたグラフトコポリマーでカプ
セル化されていることを特徴とする熱現像型ジアゾ複写
材料。 A群の樹脂ニ一般式(1)で示されるモノマーと一般式
(2)で示されるモノマーと からなる共重合体 一般式(1)       一般式(2)(但し、Rは
−Hs  0Hs Xは−0000n H2n+1 + 0OnH2n +
11(5≦n≦20) を表わす) B群のモノマーニ一般式(3)で示されるモノマ一般式
(3) %式% を表わし、そして、前記A群の樹脂にグリシジルメタク
リレート成分が含まれるときはアクリル酸または(およ
び)メタクリル酸であシ、アクリル酸または(および)
メタクリル酸成分が含まれるときはグリシジルメタクリ
レートである) 0群のモノマーニ一般式(4)で示されるモノマ一般式
(4) (但し、Rは−H*  0Hs Zは一0000nHzn+t  (1≦n≦4)ν”0
0001H2y1+1  (1≦n≦6)9を表わす)
(1) In a heat-developable diazo copying material in which a photosensitive layer mainly composed of a diazo compound, a coupling component, and a coloring aid is provided on a support, the coloring aid is a heat-fusible substance with a melting point of 50 to 150°C. and the coupling component is the following A
A heat-developable diazo copying material characterized in that it is encapsulated with a graft copolymer obtained by graft-polymerizing a monomer of group B and a monomer of group e0 below to a resin of group B. A copolymer consisting of a monomer represented by the general formula (1) and a monomer represented by the general formula (2). General formula (1) General formula (2) (However, R is -Hs 0Hs X is -0000n H2n+1 + 0OnH2n +
11 (representing 5≦n≦20)) When the monomer general formula (3) of the group B monomer is represented by the general formula (3) % formula % and the glycidyl methacrylate component is contained in the resin of the group A is acrylic acid or (and) methacrylic acid, acrylic acid or (and)
When a methacrylic acid component is included, it is glycidyl methacrylate) Monomer general formula (4) represented by monomer general formula (4) of group 0 (where, R is -H* 0Hs Z is 10000 nHzn+t (1≦n≦4) )ν”0
0001H2y1+1 (represents 1≦n≦6)9)
JP13187381A 1981-08-22 1981-08-22 Heat developable type diazo copying material Pending JPS5833240A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0639123A (en) * 1993-04-30 1994-02-15 Daiichi Shokai Co Ltd Management device for pachinko game machine
JPH08276062A (en) * 1996-04-24 1996-10-22 Sophia Co Ltd Pachinko machine

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0639123A (en) * 1993-04-30 1994-02-15 Daiichi Shokai Co Ltd Management device for pachinko game machine
JPH08276062A (en) * 1996-04-24 1996-10-22 Sophia Co Ltd Pachinko machine

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