JPS5831083A - シヤドウマスク製造方法 - Google Patents
シヤドウマスク製造方法Info
- Publication number
- JPS5831083A JPS5831083A JP12777981A JP12777981A JPS5831083A JP S5831083 A JPS5831083 A JP S5831083A JP 12777981 A JP12777981 A JP 12777981A JP 12777981 A JP12777981 A JP 12777981A JP S5831083 A JPS5831083 A JP S5831083A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shadow mask
- chromium
- mask material
- photosensitive film
- shadow
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はカラー陰極線管（＝用いられるシャドウマスク
の製造方法“の改善番＝関する。
の製造方法“の改善番＝関する。
カラー陽極線管九とえばカラー受像管では、パネル内面
に所定の螢光面が形成され、この螢光面６二対向して所
定の間隔を保ってシャドウマスクが管内区；配設されて
いる。前記シャドウマスク材としては、軟鉄や樵々の鉄
鋼などが用いられていて、所定通）規則正しく配列し友
開孔を穿設して形成されるシャドウマスクの製造は簀通
次のよう６二して行われる。シャドウマスク材の表面に
レジストを塗布して感光膜を形成し、所定のパターンを
有するネガ板を載置してのち露光し、次（二現像を行う
。次いで両面からエツチングして、所定の開孔を穿設し
、アニール、プレス、・黒化の緒工程を経て成形ずみの
シャドウマスクが得られる。
に所定の螢光面が形成され、この螢光面６二対向して所
定の間隔を保ってシャドウマスクが管内区；配設されて
いる。前記シャドウマスク材としては、軟鉄や樵々の鉄
鋼などが用いられていて、所定通）規則正しく配列し友
開孔を穿設して形成されるシャドウマスクの製造は簀通
次のよう６二して行われる。シャドウマスク材の表面に
レジストを塗布して感光膜を形成し、所定のパターンを
有するネガ板を載置してのち露光し、次（二現像を行う
。次いで両面からエツチングして、所定の開孔を穿設し
、アニール、プレス、・黒化の緒工程を経て成形ずみの
シャドウマスクが得られる。
この方法をさらＣ二説明すると、まずシャドウマスク材
をよく清浄して、その両面Ｃ二重クロム酸アンモニウム
を１．０〜１．６チ含有させ九カゼインを塗布し乾燥す
る。このようＣ：形成された感光膜上６二燐則正しく配
列され九パターンを有するネガ板を密着してのち水銀灯
などによって露光する。次いで所定の現像を行ってのち
ベーキングを行い、感光膜を硬化させ、クロム酸を塗布
し乾燥する。次（二両面から所定のエツチング液を用い
てエツチングし、所定の寸法と配列を有する開孔が穿設
される。さらＣニアニールなど所定の工程を経てシャド
ウマスクが形成される。
をよく清浄して、その両面Ｃ二重クロム酸アンモニウム
を１．０〜１．６チ含有させ九カゼインを塗布し乾燥す
る。このようＣ：形成された感光膜上６二燐則正しく配
列され九パターンを有するネガ板を密着してのち水銀灯
などによって露光する。次いで所定の現像を行ってのち
ベーキングを行い、感光膜を硬化させ、クロム酸を塗布
し乾燥する。次（二両面から所定のエツチング液を用い
てエツチングし、所定の寸法と配列を有する開孔が穿設
される。さらＣニアニールなど所定の工程を経てシャド
ウマスクが形成される。
しかしながら前記の製造方法では季節にょヤ感光膜の感
光能が変化するのでそれぞれの季節（＝応じ友製造条件
の変更が必要であり友◎たとえｄ次の表−１６；示すよ
う１；レジスト中の重クロム酸アンモニウムの量と露光
量を変動させてい丸。このよう＆二季節域＝よ）変動さ
せるのは、夏期には重クロム酸アンモニウムの濃度、露
光量を小さくしないと感光膜が暗反応し現像しに〈〈な
り、又、冬期嘔；は反対に大きくしないとクロムの架橋
反応が不足して感光膜の強度が不足し現像時（：感光膜
が剥離し、何れにシても所定通シ開孔が形成できなくな
るので、そのような不具合が起こらなシ１ように変動さ
せている。
光能が変化するのでそれぞれの季節（＝応じ友製造条件
の変更が必要であり友◎たとえｄ次の表−１６；示すよ
う１；レジスト中の重クロム酸アンモニウムの量と露光
量を変動させてい丸。このよう＆二季節域＝よ）変動さ
せるのは、夏期には重クロム酸アンモニウムの濃度、露
光量を小さくしないと感光膜が暗反応し現像しに〈〈な
り、又、冬期嘔；は反対に大きくしないとクロムの架橋
反応が不足して感光膜の強度が不足し現像時（：感光膜
が剥離し、何れにシても所定通シ開孔が形成できなくな
るので、そのような不具合が起こらなシ１ように変動さ
せている。
表・−１
露光量は夏期を１ｏｏとし九比較値である。
また現像処理後Ｃ：濃度５〜ｌＯ−のクロム酸処理を行
うが、これは現像して残留した感光膜にクロムイオンを
含浸させることζ二よシ、その後の乾燥で感光膜をさら
（二硬くシ、エツチング時４＝感光膜が破壊されて孔欠
点が発生することを防止するものであるが、このような
処理はその廃液処理に多大の経費が必要となる〇 このように従来の方法では能率やコストの点など種々の
不具合があシ、これらの不具合をなくして効率よくシャ
ドウマスクを製造する経済的な方法が要望されていた。
うが、これは現像して残留した感光膜にクロムイオンを
含浸させることζ二よシ、その後の乾燥で感光膜をさら
（二硬くシ、エツチング時４＝感光膜が破壊されて孔欠
点が発生することを防止するものであるが、このような
処理はその廃液処理に多大の経費が必要となる〇 このように従来の方法では能率やコストの点など種々の
不具合があシ、これらの不具合をなくして効率よくシャ
ドウマスクを製造する経済的な方法が要望されていた。
本発明はこれらの点にかんがみなされたものであって、
季節的１＝製造条件を変動させることなくちシャドウマ
スク材の表面４＝感光膜を形成する１二先立ちクロム、
クロム水利酸化物又はクロム酸化物゛の少なくとも１つ
をα００２〜００２μｍの範囲の厚さＣ二被覆すること
を特徴とする〇 本発明者は感光、膜の感光能は感光膜とシャドウマスク
材界面のクロム渋皮（＝左右されていることを見い出し
た。すなわち従来普通ＬＯ〜Ｌ６−の重クロム酸アンモ
ニウムをカゼイン６二含有させているものであるが、シ
ャドウマスク材との界面セのクロム濃度が一桁高くなっ
ており、かつその濃度が季節シーよって変動してい丸。
季節的１＝製造条件を変動させることなくちシャドウマ
スク材の表面４＝感光膜を形成する１二先立ちクロム、
クロム水利酸化物又はクロム酸化物゛の少なくとも１つ
をα００２〜００２μｍの範囲の厚さＣ二被覆すること
を特徴とする〇 本発明者は感光、膜の感光能は感光膜とシャドウマスク
材界面のクロム渋皮（＝左右されていることを見い出し
た。すなわち従来普通ＬＯ〜Ｌ６−の重クロム酸アンモ
ニウムをカゼイン６二含有させているものであるが、シ
ャドウマスク材との界面セのクロム濃度が一桁高くなっ
ており、かつその濃度が季節シーよって変動してい丸。
その状態を表−２６＝示す。
すなわち夏期６二は界面での重クロム酸アンモニウムの
濃度が平均濃度の１５倍になるのξ二対し冬期盛；は９
倍にしかならないので、その九め６；冬期感＝は重クロ
ム酸アン毫ニウム濃度と露光量を大きくして、クロムイ
オンの架橋反応を促進しなければならなかった。し九が
って現像処理後にクロム酸処理をはどこすのは界面並み
の強度を現像され九のちの感光膜の表面にも持たせるな
めであることが判明した。
濃度が平均濃度の１５倍になるのξ二対し冬期盛；は９
倍にしかならないので、その九め６；冬期感＝は重クロ
ム酸アン毫ニウム濃度と露光量を大きくして、クロムイ
オンの架橋反応を促進しなければならなかった。し九が
って現像処理後にクロム酸処理をはどこすのは界面並み
の強度を現像され九のちの感光膜の表面にも持たせるな
めであることが判明した。
本発明の製造方法Ｃ＝従ってシャドウマスク材である薄
い鉄板の表面Ｃ二、感光膜が形成される前にクロムとク
ロム水利酸化物の種々の厚さの薄膜を形成する。そ゛の
厚さがα００２μｍ ｍ ０．０１μｍｓ ００２μｍ
ｓ０．１μｍのものをそれぞれ例１１例２２例３９例４
とし、従来のものを例５とする。例１および例２が本発
明のもので、例３と例４は参考例、例５は従来例である
。
い鉄板の表面Ｃ二、感光膜が形成される前にクロムとク
ロム水利酸化物の種々の厚さの薄膜を形成する。そ゛の
厚さがα００２μｍ ｍ ０．０１μｍｓ ００２μｍ
ｓ０．１μｍのものをそれぞれ例１１例２２例３９例４
とし、従来のものを例５とする。例１および例２が本発
明のもので、例３と例４は参考例、例５は従来例である
。
これらの試料をそれぞれ所定の工程を経てシャウドマス
クＣ；形成し丸。その結果を次の表−３櫨二示す。
クＣ；形成し丸。その結果を次の表−３櫨二示す。
（Ｊ″Ｊ下余白）
表−３
この表から分るよう６二、クロムとクロム水和酸化物の
被膜の厚さが、α０２μｍをこええものはエツチング性
やアニール後のプレス成形性が悪くなるので、膜厚はα
０２μ閣以下がよい。又、α００２μｍより薄いと被覆
の効果がな〈従来のものと＃ｔとんど同じ櫨；なる。し
たがって良好なシャドウマスクを得るため域−は表面を
被覆する膜厚はα００２μｍから０．０２μｍの範Ｈの
ものがよい。ＩｒＩ（二好ましい膜厚は０．００５μｍ
からα０１μｍの範囲である。
被膜の厚さが、α０２μｍをこええものはエツチング性
やアニール後のプレス成形性が悪くなるので、膜厚はα
０２μ閣以下がよい。又、α００２μｍより薄いと被覆
の効果がな〈従来のものと＃ｔとんど同じ櫨；なる。し
たがって良好なシャドウマスクを得るため域−は表面を
被覆する膜厚はα００２μｍから０．０２μｍの範Ｈの
ものがよい。ＩｒＩ（二好ましい膜厚は０．００５μｍ
からα０１μｍの範囲である。
このよう−二シャドウマスク材の表面に感光膜を形成す
る前１＝クロムとクロム水利酸化物の薄膜（厚さ０００
２μｍ〜α０２μｍ）を形成した本発明のモノは、感光
膜とシャドウマスク材との界面櫨二おけるクロム濃度が
従来のものに比べ格段Ｃ二高く、かつ季節にかかわり、
なく安定し、そのため重クロム酸アンモニウム濃度を年
間を通じて変更することなく、従来よシ少ない量に玉良
好゛な感光膜を得ることが出来、かつ露光量も年間を通
じて変更することなく所定通り感光膜を現儂でき、感光
膜の剥離もなく、エツチングして所定の開孔が形成でき
る・またシャドウマスク材との界面（二おける強度が高
くなるので従来のように現像稜はクロム酸処理を行う必
要はない。、さらにエツチング性だけでなくアニール後
のプレス成形性もよいので、効率よくシャドウマスクを
形成することが出来るＯ・ なお前記の説明では、シャ
ドウマスク材の表面（ニクロムとクロム水和酸化物を被
覆し九が、これ砿二限ることなく、クロム、クロム水利
酸化物又はクロム酸化物の少なくとも１つを前記の膜厚
で被覆し丸ものは何れも前記と同じような良好な効果を
示した。
る前１＝クロムとクロム水利酸化物の薄膜（厚さ０００
２μｍ〜α０２μｍ）を形成した本発明のモノは、感光
膜とシャドウマスク材との界面櫨二おけるクロム濃度が
従来のものに比べ格段Ｃ二高く、かつ季節にかかわり、
なく安定し、そのため重クロム酸アンモニウム濃度を年
間を通じて変更することなく、従来よシ少ない量に玉良
好゛な感光膜を得ることが出来、かつ露光量も年間を通
じて変更することなく所定通り感光膜を現儂でき、感光
膜の剥離もなく、エツチングして所定の開孔が形成でき
る・またシャドウマスク材との界面（二おける強度が高
くなるので従来のように現像稜はクロム酸処理を行う必
要はない。、さらにエツチング性だけでなくアニール後
のプレス成形性もよいので、効率よくシャドウマスクを
形成することが出来るＯ・ なお前記の説明では、シャ
ドウマスク材の表面（ニクロムとクロム水和酸化物を被
覆し九が、これ砿二限ることなく、クロム、クロム水利
酸化物又はクロム酸化物の少なくとも１つを前記の膜厚
で被覆し丸ものは何れも前記と同じような良好な効果を
示した。
この上う６二本発明の方法嘔＝よれば、従来の方法−二
おけ・る不具合は除去する。ことができて、きわめて効
率よく高品位のシャドウマスクを歩留よく形成すること
が出来る０ 代理人 弁理士 井 上 −男
おけ・る不具合は除去する。ことができて、きわめて効
率よく高品位のシャドウマスクを歩留よく形成すること
が出来る０ 代理人 弁理士 井 上 −男
Claims (1)
- シャドウマスク材表面に感光膜を形成してのちフォトエ
ツチングし規則正しく配列し九開孔を穿設するシャドウ
マスクの製造方法Ｃ二おいて、前記感光膜を形成するＣ
二先立ち前記シャドウマスク材表面にクロム、クロム水
利酸化物又はクロム酸化物の少なくと４１１つをα００
２ ”−ｏ、ｏｚ＃ｍの範囲の厚さ６；被覆することを
特徴と〒るカラー陰極線管゛のシャドウマスク製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12777981A JPS5831083A (ja) | 1981-08-17 | 1981-08-17 | シヤドウマスク製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12777981A JPS5831083A (ja) | 1981-08-17 | 1981-08-17 | シヤドウマスク製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5831083A true JPS5831083A (ja) | 1983-02-23 |
Family
ID=14968471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12777981A Pending JPS5831083A (ja) | 1981-08-17 | 1981-08-17 | シヤドウマスク製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5831083A (ja) |
-
1981
- 1981-08-17 JP JP12777981A patent/JPS5831083A/ja active Pending
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