JPS583020B2 - 金属線の高速光輝焼鈍装置 - Google Patents
金属線の高速光輝焼鈍装置Info
- Publication number
- JPS583020B2 JPS583020B2 JP51005737A JP573776A JPS583020B2 JP S583020 B2 JPS583020 B2 JP S583020B2 JP 51005737 A JP51005737 A JP 51005737A JP 573776 A JP573776 A JP 573776A JP S583020 B2 JPS583020 B2 JP S583020B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal wire
- heating section
- bright annealing
- speed
- furnace
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Landscapes
- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明者は「金属線条の高周波誘導加熱方法」(特願昭
49−18513号)を提出し,特に線引き装置より送
り出された高速度で走行する金属線条の加熱に好適な方
法を提供したが、本発明はこの加熱法に加えて光輝熱処
理用ガス雰囲気における冷却法を用いた金属線の高速光
輝焼鈍(焼もどし)装置に関するもので,以下詳細に説
明する。
49−18513号)を提出し,特に線引き装置より送
り出された高速度で走行する金属線条の加熱に好適な方
法を提供したが、本発明はこの加熱法に加えて光輝熱処
理用ガス雰囲気における冷却法を用いた金属線の高速光
輝焼鈍(焼もどし)装置に関するもので,以下詳細に説
明する。
金属線はインゴットから製品にするまでに数回の線引き
を行うが、線引きのつど発生する金属線の少くとも一部
の組織変化すなわち線引きに悪影響を与える硬さの増し
た部分の硬さを減じ、ねばりを増すための熱処理が必要
なことはよく知られている。
を行うが、線引きのつど発生する金属線の少くとも一部
の組織変化すなわち線引きに悪影響を与える硬さの増し
た部分の硬さを減じ、ねばりを増すための熱処理が必要
なことはよく知られている。
しかしこの熱処理は空気中で行えば表面は酸化し性能は
劣化するので、熱処理過程での酸化を防止し,もとのま
まの輝いた状態に保つ光輝熱処理を行うことが望ましい
。
劣化するので、熱処理過程での酸化を防止し,もとのま
まの輝いた状態に保つ光輝熱処理を行うことが望ましい
。
このため従来は熱処理用加熱炉内に金属管を設け、この
金属管内を一定のガス雰囲気にしてその中に金属線を通
すことによって光輝焼鈍を行っているが,このような装
置では処理速度は20〜30m/minが限度である。
金属管内を一定のガス雰囲気にしてその中に金属線を通
すことによって光輝焼鈍を行っているが,このような装
置では処理速度は20〜30m/minが限度である。
一方金属線の線引き装置の処理速度はたとえば400m
/minのように高速であるため、線引きと光輝焼鈍の
連続処理ができないという欠点がある。
/minのように高速であるため、線引きと光輝焼鈍の
連続処理ができないという欠点がある。
また線引き工程の一例を示すと,母線(5.5mmφ)
→(1ライン、400m/min)→2.2mmφ→A
→(10ライン、400m/min)→1.0mmφ→
A→(数10ライン、400m/min)→0.5mm
φ→A→製品のようで(Aは光輝焼鈍処理を表わす)、
線引きを行う度に光輝焼鈍を行うため線引き装置に線が
入ってから3日以上も光輝焼鈍炉と線引き装置間を往復
して始めて製品になることが通例である。
→(1ライン、400m/min)→2.2mmφ→A
→(10ライン、400m/min)→1.0mmφ→
A→(数10ライン、400m/min)→0.5mm
φ→A→製品のようで(Aは光輝焼鈍処理を表わす)、
線引きを行う度に光輝焼鈍を行うため線引き装置に線が
入ってから3日以上も光輝焼鈍炉と線引き装置間を往復
して始めて製品になることが通例である。
そこで光輝焼鈍処理の効率化が要望されることになる。
本発明は上記の欠点を除いたもので,第1図は本発明の
一実施例の構成概要図、第2図は第1図中の加熱部の詳
細構造図である。
一実施例の構成概要図、第2図は第1図中の加熱部の詳
細構造図である。
線引き装置などより送られてくる金属線1は線導入口7
から第1図のような構成の光輝熱処理用ガスの雰囲気を
もつ光輝焼鈍装置(炉)3に導かれまず加熱部2におい
て所定の温度に加熱される。
から第1図のような構成の光輝熱処理用ガスの雰囲気を
もつ光輝焼鈍装置(炉)3に導かれまず加熱部2におい
て所定の温度に加熱される。
加熱部の詳しい構造は第2図に示すようで、良導体より
なる短絡用ロール4と不導体よりなるガイドロール5を
それぞれ回転自在の軸に支持させて適当な間隔に配設し
、これらのロール間に被加線体である金属線1を1回以
上ループ状に掛け渡す。
なる短絡用ロール4と不導体よりなるガイドロール5を
それぞれ回転自在の軸に支持させて適当な間隔に配設し
、これらのロール間に被加線体である金属線1を1回以
上ループ状に掛け渡す。
また短絡用ロール4に掛かる金属線1の部分はすれ違い
の状態として短絡用ロール4を介して金属線1による閉
電路を1つ以上構成する。
の状態として短絡用ロール4を介して金属線1による閉
電路を1つ以上構成する。
そしてこれらの閉電路にはこれに近接して設けた高周波
誘導加熱用コイル11に高周波電源12から高周波電力
を供給したとえば矢印方向に電流iCを流せば,これに
よって十分大きな誘導電流iMが流れ,この電流による
ジュール熱で金属線1は十分加熱される。
誘導加熱用コイル11に高周波電源12から高周波電力
を供給したとえば矢印方向に電流iCを流せば,これに
よって十分大きな誘導電流iMが流れ,この電流による
ジュール熱で金属線1は十分加熱される。
金属線1は引線装置(図示せず)によってX→X′方向
に般線のように走行するが,この加熱部の通過中に所定
温度(たとえばステンレス鋼では1150℃)に所要時
間保たれるように電流iCやロール4,5間距離,ロー
ルへの巻付回数等を調整することは容易で、金属線1の
加熱部2における入、出力速度は同一で線引き速度に等
しくすることができる。
に般線のように走行するが,この加熱部の通過中に所定
温度(たとえばステンレス鋼では1150℃)に所要時
間保たれるように電流iCやロール4,5間距離,ロー
ルへの巻付回数等を調整することは容易で、金属線1の
加熱部2における入、出力速度は同一で線引き速度に等
しくすることができる。
なおこの加熱部は通過金属線の一定長さまたは一定長毎
の両端を電気的良導体で接触短絡して1つ以上の並列ル
ープ回路を作り、これらを高周波加熱コイルと密結合さ
せればよいので、短絡用装置の構造は第2図のものに限
定されず種々の形状のものを用いることができる。
の両端を電気的良導体で接触短絡して1つ以上の並列ル
ープ回路を作り、これらを高周波加熱コイルと密結合さ
せればよいので、短絡用装置の構造は第2図のものに限
定されず種々の形状のものを用いることができる。
加熱された金属線1は次に同じ炉3内で加熱部と併置し
てある冷却部の2つのドラム6に巻きつけられ、この2
つのドラム6の間を通過する間にたとえば約200℃以
下に冷却される。
てある冷却部の2つのドラム6に巻きつけられ、この2
つのドラム6の間を通過する間にたとえば約200℃以
下に冷却される。
このドラム6はその内部に冷却水などの冷却用流体を還
流させた冷却ドラムとするかまたは単なるガイド用のド
ラムであって不活性ガスをこれに強制的に吹付けてもよ
く、いずれかの方法でまたは両者を併用してこれらに巻
付けられた金属線1を急冷却する。
流させた冷却ドラムとするかまたは単なるガイド用のド
ラムであって不活性ガスをこれに強制的に吹付けてもよ
く、いずれかの方法でまたは両者を併用してこれらに巻
付けられた金属線1を急冷却する。
なおこの光輝焼鈍炉3にはガス導入口9より光輝線処理
用ガスを導入し炉3内をこのガスで満した雰囲気とする
が、10はガスの排出口である。
用ガスを導入し炉3内をこのガスで満した雰囲気とする
が、10はガスの排出口である。
使用されるガスは金属線1の材質によって異なり,たと
えばアルゴン、水素(H2)、アンモニア(NH3)な
どのガスが用いられるが、H2やNH3の熱分解ガスを
使用するときは炉3の開放口7および8にガスカーテン
等を設けて酸素(O2)が炉3内に入ることを防止する
必要がある。
えばアルゴン、水素(H2)、アンモニア(NH3)な
どのガスが用いられるが、H2やNH3の熱分解ガスを
使用するときは炉3の開放口7および8にガスカーテン
等を設けて酸素(O2)が炉3内に入ることを防止する
必要がある。
また上記第1図の構成は主としてステンレス鋼線に適す
るものであるがその他の特殊金属線の光輝焼鈍でも冷却
方法をその材質に適するものに選べばよい。
るものであるがその他の特殊金属線の光輝焼鈍でも冷却
方法をその材質に適するものに選べばよい。
以上の説明から明らかなように本発明の光輝焼鈍装置(
炉)はその処理速度が早いため、その入,出力速度を線
引き装置の送出速度と等しくすることが可能で線引き装
置内に組込むこともでき、装置の占有面積が大幅に縮少
できるばかりでなく,熱処理所要時間短縮による運転費
用は従来の1/2になるなど実用上の効果は顕著である
。
炉)はその処理速度が早いため、その入,出力速度を線
引き装置の送出速度と等しくすることが可能で線引き装
置内に組込むこともでき、装置の占有面積が大幅に縮少
できるばかりでなく,熱処理所要時間短縮による運転費
用は従来の1/2になるなど実用上の効果は顕著である
。
第1図は本発明の一実施例の構成概要図,第2図は第1
図中の加熱部の詳細構造図である。
図中の加熱部の詳細構造図である。
Claims (1)
- 1 光輝熱処理用ガス雰囲気の炉内に、その内部に連続
して送り込まれる被熱処理金属線を所定の温度に所定時
間加熱する加熱部と加熱済の上記金属線を所定の温度に
冷却しかつ炉外に連続送出する冷却部とを併設し、上記
加熱部には上記金属線を一定長だけまたは複数の一定長
毎に電気的に短絡し1つ以上の閉回路を形成する短絡部
材とこれらの閉回路に密結合し高周波電流が供給されて
いる高周波誘導加熱用コイルを、また上記冷却部には上
記加熱部より送り込まれた金属線をドラムに巻きつけこ
れをドラムの内部または外部を還流する冷却用ドラムを
それぞれ設け、上記炉に出入する上記金属線の走行速度
を同一速度に保持することを特徴とする金属線の高速光
輝焼鈍装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP51005737A JPS583020B2 (ja) | 1976-01-21 | 1976-01-21 | 金属線の高速光輝焼鈍装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP51005737A JPS583020B2 (ja) | 1976-01-21 | 1976-01-21 | 金属線の高速光輝焼鈍装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5288509A JPS5288509A (en) | 1977-07-25 |
JPS583020B2 true JPS583020B2 (ja) | 1983-01-19 |
Family
ID=11619404
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51005737A Expired JPS583020B2 (ja) | 1976-01-21 | 1976-01-21 | 金属線の高速光輝焼鈍装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS583020B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1921533A1 (en) | 2006-11-10 | 2008-05-14 | Research In Motion Limited | Method of mapping a traditional touchtone telephone keypad on a handheld electronic device and associated apparatus |
-
1976
- 1976-01-21 JP JP51005737A patent/JPS583020B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1921533A1 (en) | 2006-11-10 | 2008-05-14 | Research In Motion Limited | Method of mapping a traditional touchtone telephone keypad on a handheld electronic device and associated apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5288509A (en) | 1977-07-25 |
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