JPS5829570B2 - デンカイホウシユツガタデンシジユウ - Google Patents

デンカイホウシユツガタデンシジユウ

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JPS5829570B2
JPS5829570B2 JP50136000A JP13600075A JPS5829570B2 JP S5829570 B2 JPS5829570 B2 JP S5829570B2 JP 50136000 A JP50136000 A JP 50136000A JP 13600075 A JP13600075 A JP 13600075A JP S5829570 B2 JPS5829570 B2 JP S5829570B2
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JP
Japan
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emitter
anode
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electron
constant current
Prior art date
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Expired
Application number
JP50136000A
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English (en)
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JPS5260059A (en
Inventor
龍三 相原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Nihon Denshi KK
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Publication date
Application filed by Nihon Denshi KK filed Critical Nihon Denshi KK
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  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Emergency Protection Circuit Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電界放出型電子銃Qつエミッタ保護回路に関
する。
電界放出型電子銃は、高輝度及び微小光源と云うことで
、特に走査型電子顕微鏡の電子源として脚光をあび、使
用され始めている。
従来広く用いられている電界放出型電子銃の殆んどはエ
ミッタを加熱しないで運転する所謂コールド・エミッシ
ョンタイプであり、このタイプの電子銃では、電子銃室
を10−10Torr以上の超高真空に保たないと性能
が不安定となるため真空に要する機構が複雑、大型化す
る欠点を有している。
このため、エミッタを加熱して比較的高い圧力でも使用
可能な所謂T、F、E方式(サーマル・フィールド・エ
ミッション)により、タングステンで形成されたエミッ
タの先端におりる特定結晶方位を電界によってビルド・
アップさせて使用させる方法が真空機構の簡略化のため
に試みられている。
しかし乍ら、T、F、E方式による電子銃では、運転中
突如としてエミッタが真空アーク放電を発生し、エミッ
タを損傷する率か極めて太きい。
この様に決定的な損傷を受けたエミッタは電子銃室の真
空を破って交換する必要かあり、長時間に亘って運転か
中断されることになる。
本発明は、T、F−E方式におけるエミッタ保護を目的
とするもので、真空アーク放電が発生する前の段階でエ
ミッタの決定的な損傷を回避し、異常事態の発生後、電
子銃室の真空を破ることなく無電界の下でエミッタをフ
ラッシング加熱処理することにより、再度使用し得る状
態に修復することを可能とするものである。
第1図は従来のT、F、E方式を用いた電子銃を示す略
図で、高真空に保たれた電子銃室1の内部にはエミッタ
2、第1アノード3、第2アノード4等の電極が収納さ
れており、エミッタ2は加熱用フィラメント5に保持さ
れている。
加熱用フィラメント5には電子銃室外に設けられた絶縁
トランス6を介して交流加熱電源7から加熱電流が供給
される。
エミッタ2の電位は前記絶縁トランス6の二次側中点に
接続された直流高電圧電源8により一30kV程度に保
たれている。
又、第1アノード3とエミッタ2との間に5kV程度の
電位差を与えるための引出し電圧電源9が挿入されてい
る。
エミッタ2から電界放出によって発生した電子ビームの
殆んどは第1アノード3に吸収されるが一部は第1アノ
ード3及び第2アノード4の孔を通過して電子銃からの
電子線として利用される。
この様な装置において、例等かの原因で残留ガス分子等
かイオン化すると、イオン粒子は電子と全く逆方向に加
速されて非常な高速度でエミッタ3に衝突する。
その結果エミッタ先端の曲率半径が局部的に小さくなり
、エミッタ電流が急激に増加して、真空アーク放電を発
生し、エミッタ先端が再生不可能な程度に破壊されてし
まう。
本発明はエミッタと第1アノードの間に定電流ダイオー
ドを設けることにより、前述した問題を解決することを
目的とするもので、以下図面に基づいて本発明の種々の
実施例について説明する。
第2図の実施例装置は、第1図の装置におけるエミッタ
2と引出し電圧電源9との間に、定電流素子AI +
A2・・・Anを直列に挿入し、該素子の最大動作電圧
以上の電圧が印加されない様に定電圧ダイオードD1.
D2・・・D、を各定電流素子に並列に接続したもので
ある。
更に、フィラメント5の加熱用回路には浮遊容量を小さ
くするための変圧器10が新たに追加されている。
この様な定電流素子の使用により、エミッタ2から引出
し電源9へ流れるエミッタ電流と定電流素子に印加され
る電圧の関係は第3図に示す関係を満たすことになる。
第3図中、Pに示す点は通常の動作状態における中心位
置を表わし、伺等かの原因によってエミッタ電流が増加
しても一定値(150μA)以上には増加することがな
く、エミッタを保護することができる。
又、図中Aは定電圧ダイオードD1.D2・・・D、が
作動を始める値を示している。
TFE方式の電子銃においても数%のコミッション電流
の変動は避けられないが、この様な変動によって第2図
に示す装置のエミッタと第1アノード間の電圧は、第3
図に示す関係からも明らかの様に、多少変化する。
この様な電圧変動はエミッタから放出される電子ビーム
の加速電圧に対する変動となり、電子光学系における色
収差を発生させる原因となる。
第4図に示す装置は、加速電圧の変動を低く抑えるため
に引出し電圧電源9と第1アノードとの間に定電流素子
A1.A2・・・Anと定電圧ダイオードD1.D2・
・・D、を挿入したものである。
この様な装置においては、エミッタ電位の代わりに第1
アノードの電位が変動することになるので電子線加速電
圧の変動は第3図の装置に比較して極めて低く抑えるこ
とができる。
しかし乍ら、第1アノードの電位が変動するために、第
2アノード4との間に形成されている静電レンズ場も変
動することになる。
該静電レンズ場は第1アノードから入射する発散電子線
に集束作用を与えて第2アノードの中心孔を通過させて
いるので、静電レンズの変動は第2アノードを通過する
電子線の電流値に変動を与えることになり、あまり好ま
しくない。
第5図に示す実施例装置は、第4図の装置の欠点を解決
するため、第1アノードの上部に補助電極11を設けた
もので、補助電極11の形状と位置は第1アノードとの
間の静電レンズ作用が殆んど生じない様に考慮されてい
る。
該補助電極11と引出し電圧電源9との間に保護素子D
n+、。
Dn+2・・・Dn+□及びAn十0.An+2・・・
An+□が挿入されており、第6図すに示す曲線中Cの
領域が動作範囲となる様に設計されている。
一方、エミッタ2と引出し電源9との間には保護素子D
1.D2・・・Dn及びA4 、 A2・・・Anが挿
入されており、第6図aに示す曲線上のB点近傍で動作
する様に設計されており、エミッタ電流の変動を低く抑
える作用を与えている。
所で、現在比較的容易に手に入れることのできる定電流
ダイオードは200μA程度を最小定格電流とするもの
が多く、一般的な電子顕微鏡における如く50μA〜i
ooμA程度の出力電流を発生する電子銃に対して、前
述した装置をそのまま適用できない場合も生じる。
第7図及び第8図に示す実施例装置は、この様な問題を
解決するためのもので、最小定格200μAの定電流ダ
イオードAHy A2 、・・・An 、An+1 、
An+1.An+2・・・An+□を用いて50μAの
電子ビームが得られる様に構成しである。
即ち、定電流ダイオードA1.A2.・・・Anに25
0μAの電流を流し、エミッタと第1アノードを直接に
接続する位置に挿入した定電流ダイオードAn十1.A
n+2・・・An+□に200μAの電流が流れる様に
設定すれば、エミッタ電極からの電子線電流値を略50
μAに保つことができる。
この場合、第1アノードの中央孔を通過する電子線は第
1アノードに吸収される電子線に比較して極めて僅かで
あるので、エミッタから放出される電子線の殆んどが定
電流ダイオードAI 、 A2・・・Anを通過するも
のとみなすことができる。
第8図は第1図と同じく、定電流ダイオードの最小定格
値よりも小さなエミッタ電流を得るための実施例装置を
示し、第2図の装置に対応するものである。
該実施例装置においては、定電流ダイオードA1.A2
・・・Anに流れる電流と定電流ダイオードAn十1.
An+2・・・An十□に流れる電流との差電流がエミ
ッタ電流として取り出される様に構成されており、エミ
ッタ電流を微小値に設定することができる。
所で、前述した第2図、第4図、第5図及び第7図の実
施例装置における絶縁トランス10の浮遊静電容量は放
電電流を低く抑えるためできるだけ小さな値にすること
が望ましい。
しかし乍ら、絶縁トランス10の浮遊容量を小さくでき
ない場合には、第8図の実施例装置の如く、絶縁トラン
ス10とフィラメントとの間にインダクター12を設け
ることにより浮遊容量による影響を減じることができる
該インダクター12はフィラメントを加熱する電流によ
って磁気飽和を起さない様なコアに巻回することが必要
であり、場合によっては、図示の様に絶縁トランス10
とインダクター12の間に整流回路13を設ければフィ
ラメント加熱におけるインダクターの影響を除くことが
できる。
以上に詳説した如く、本発明によれば電界放出型電子銃
における十分なエミッタ保護が行われることになり、電
子顕微鏡等に用いて大きな効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の電界放出型電子銃を示す略図、第2図は
本発明の実施例装置を示す略図、第3図は第2図の装置
の動作を説明するための略図、第4図及び第5図は夫々
本発明の他の実施例装置を示す略図、第6図は第5図の
装置の動作を説明するための略図、第1図及び第8図は
夫々本発明の他の実施例装置を示す略図である。 1・・・・・・電子銃室、2・・・・・・エミッタ、3
・・・・・・第1アノード、4・・・・・・第2アノー
ド、5・・・・・・フィラメント、6.10・・・・・
・絶縁トランス、7・・・・・・交流加熱電源、8・・
・・・・直流高圧電源、9・・・・・・引出し電圧電源
、11・・・・・・補助電極、12・・・・・・インダ
クター、13・・・・・・整流回路、A1.A2・・・
An、An十、・・・A、+□・・・・・・定電流ダイ
オード、Dl、D2・・・Dn。 Dn+1・・・Dn+□・・・・・・定電圧ダイオード

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 負の高電位に保たれたエミッタに対向して設けられ
    、エミッタ先端に電界放出のための強電界を発生させる
    第1アノード、該第1アノードを通過した電子線を加速
    するための第2アノード及び前記第1アノードと前記エ
    ミッタとの間に電位差を与える直流引出し電圧電源を具
    備した装置において、前記エミッタと第1アノードの間
    へ並列接続された定電圧ダイオードと定電流ダイオード
    の組を複数個直列に挿入したことを特徴とする電界放出
    型電子銃。
JP50136000A 1975-11-12 1975-11-12 デンカイホウシユツガタデンシジユウ Expired JPS5829570B2 (ja)

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JPS5260059A JPS5260059A (en) 1977-05-18
JPS5829570B2 true JPS5829570B2 (ja) 1983-06-23

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JP5416431B2 (ja) * 2009-02-20 2014-02-12 株式会社ニューフレアテクノロジー 電子ビーム描画装置、その電子ビーム描画装置の電子銃のカソード加熱用の電力制御装置及び電力制御方法

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