JPS5827917B2 - MIS memory circuit - Google Patents

MIS memory circuit

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JPS5827917B2
JPS5827917B2 JP53053522A JP5352278A JPS5827917B2 JP S5827917 B2 JPS5827917 B2 JP S5827917B2 JP 53053522 A JP53053522 A JP 53053522A JP 5352278 A JP5352278 A JP 5352278A JP S5827917 B2 JPS5827917 B2 JP S5827917B2
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transistor
transistors
mis
memory holding
gate
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則男 宮原
賢次 三浦
慎一郎 山田
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/16Multiple access memory array, e.g. addressing one storage element via at least two independent addressing line groups

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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はMis(金属−絶縁体一半導体)構造を具備
する電界効果トランジスタにより構成されたフリップフ
ロップを使用して記憶内容を保持させるようにしたMI
S記憶回路、特に書込み信号が読み出し回路に印加され
ることを防止し、ディジット線とセンス線を分離して読
み出し動作の高速化と読み出し回路の簡易化及び書込み
動作の高速化を実現する集積回路化したMIS記憶回路
に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an MI in which memory contents are retained using a flip-flop constituted by a field effect transistor having a Mis (metal-insulator-semiconductor) structure.
S storage circuit, especially an integrated circuit that prevents write signals from being applied to the read circuit and separates digit lines and sense lines to achieve faster read operations, simpler read circuits, and faster write operations. The present invention relates to a MIS storage circuit that has been transformed into a MIS storage circuit.

MIS記憶回路の記憶細胞は従来第1図に示すような構
成を有している。
The memory cells of the MIS memory circuit conventionally have a configuration as shown in FIG.

即ち、MIS形電界効果トランジスタ(以下MJSトラ
ンジスタという)Q、のソースが接続され、ドレインが
MISlSトランジスタのケートが、MISトランジス
タQ1のドレインと、MlSトランジスタQ3のソース
及びケートとにそれぞれ接続され、MISトランジスタ
Q1のゲートがMISトランジスタQ2のドレインMI
SI−ランジスタQ、のソース及びゲートとにそれぞれ
接続され、MISトランジスタQ2のソースが接続され
、M、1Sl−ランジスタQ3及びQ4の各ドレインが
それぞれ電源端子VDDに接続されて記憶保持用フリッ
プフロップが構成されている。
That is, the source of an MIS field effect transistor (hereinafter referred to as an MJS transistor) Q is connected, and the drain of the MIS transistor Q is connected to the drain of the MIS transistor Q1 and the source and gate of the MIS transistor Q3, respectively. The gate of transistor Q1 is connected to the drain MI of MIS transistor Q2.
The SI transistor is connected to the source and gate of the transistor Q, the source of the MIS transistor Q2 is connected, and the drains of the M and 1Sl transistors Q3 and Q4 are connected to the power supply terminal VDD to form a memory holding flip-flop. It is configured.

ゲート用MISトランジスタQ5がそのソースドレイン
によりティジット線り及び〜[I S t−ランジスタ
Q1 のドレイン間に接続され、ゲート用MISトラン
ジスタQaがそのソース、ドレインによりティジット線
り及びMlSトランジスタQ2のドレイン間に接続され
、これらMISI−ランジスタQ、 、 Q6の各ゲー
トにはワード線R/Wが接続されている。
The gate MIS transistor Q5 is connected by its source and drain between the Tigit line and the drain of the transistor Q1, and the gate MIS transistor Qa is connected by its source and drain to the Tigit line and the drain of the MlS transistor Q2. A word line R/W is connected to each gate of these MISI transistors Q, , Q6.

これらのゲート用MISトランジスタQ5及びQ5は情
報の書込み読出し時における記憶細胞の選択ゲートとし
て使用されている。
These gate MIS transistors Q5 and Q5 are used as memory cell selection gates when writing and reading information.

一般にMISトランジスタにはエンハンスメント形とデ
プレッション形の二種類のものがあるがこの明細書にお
いては鎚図aに示す表示でエンハンスメント形を、同図
すに示す表示でデプレッション形をそれぞれ表わすこと
にする。
Generally, there are two types of MIS transistors: enhancement type and depletion type. In this specification, the display shown in Figure a will represent the enhancement type, and the representation shown in Figure 2 will represent the depletion type.

第1図の回路ではスタティック形に適したエンハンスメ
ント形及びデプレッション形共存構成とした場合で、M
ISトランジスタQ3とQ4とにデプレッション形のも
のが使用され、その他はエンハンスメント形のももが使
用、されている。
In the circuit shown in Figure 1, when the enhancement type and depletion type coexist configuration suitable for the static type is used, M
Depression type IS transistors are used for IS transistors Q3 and Q4, and enhancement type transistors are used for the rest.

以下の説明では回路の電源やパルスの極性などはすべて
NチャネルMISの場合をとり上げることにする。
In the following explanation, all circuit power supplies, pulse polarities, etc. will be taken up in the case of an N-channel MIS.

第2図は論理値が′1″及びO″の情報を書込む時W、
及び情報を読出す時Rのワード線R/W、ティジット線
り及びDにおける信号波形を示す。
Figure 2 shows W when writing information with logical values of '1'' and O''.
and signal waveforms at the R word line R/W, Tigid line and D when reading information.

この図のW、lt 191の部分に示すように今、第1
図の記憶細胞に論理値が1″なる情報を書込むにはワー
ド線R/Wに高電圧VHを印加してゲート用MIS+−
ランジスタQ5及びQ6を導通状態にし、ディジット線
りを高電圧VH、ディジット線香を低電圧にそれぞれす
る。
As shown in the W, lt 191 part of this figure, now the first
To write information whose logical value is 1'' to the memory cell shown in the figure, apply a high voltage VH to the word line R/W and apply it to the gate MIS+-
Transistors Q5 and Q6 are brought into conduction, and the digit wire is brought to a high voltage VH and the digit incense stick is brought to a low voltage.

この時フリップフロップ11及びMISトランジスタQ
2の接続点T2の電位はOVまで低下し、記憶保持用M
ISトランジスタQ1が非導通の状態になる。
At this time, flip-flop 11 and MIS transistor Q
The potential at the connection point T2 of 2 drops to OV, and the memory retention M
IS transistor Q1 becomes non-conductive.

この状態でティジット線りから電流が流入し、記憶保持
用Nll5I−ランジスタQ2のゲート電位が上昇し導
通状態となる。
In this state, a current flows from the TID line, and the gate potential of the memory holding Nll5I transistor Q2 rises to become conductive.

この過程を経て論理値が((、ljなる情報が記憶細胞
に書込まれたことになる。
Through this process, the logical value ((, lj) is written into the memory cell.

こ\で、記憶保持用MISトランジスタQ3及びQ4は
記憶細胞の消費電力を減少させるために高低抗に設定さ
れているので、ワード線R/WがOVの状態になっても
接続点T2の電位ははゾOVに保持される。
Here, since the memory retention MIS transistors Q3 and Q4 are set to high and low resistance in order to reduce the power consumption of memory cells, even if the word line R/W is in the OV state, the potential at the connection point T2 remains unchanged. Hahazo is retained in the OV.

論理値がO″なる情報の書込みは第2図のWu Oll
の部分に示すようにティジット線りと百の極性を°゛1
″の書込み時と逆にすることにより記憶保持用M、1S
l−ランジスタQ1 を導通状態にして全く同様に行な
うことができる。
To write information whose logical value is O'', use Wu Oll in Figure 2.
As shown in the section, change the polarity of the Tigit line and the hundred.
M, 1S for memory retention by reversing the writing of
Exactly the same operation can be performed with the l-transistor Q1 in a conductive state.

又情報の読出しに際しては、第2図にRの部分で示すよ
うにワード線R/Wに高電圧VHを印加し、ティジット
線り、Dも高電圧VHに保持する。
Further, when reading information, a high voltage VH is applied to the word line R/W as shown by a portion R in FIG. 2, and a high voltage VH is also maintained on the word line D.

今、ディジット線香 に注目すると、記憶保持用M’1
Sl−ランジスタQ2が導通状態であって論理値が■″
なる情報が書込まれた状態では、ゲートMISトランジ
スタQ6及び記憶保持用MISトランジスタQ2を通っ
てアースに電流が流れ、ティジット線香の電位はO■近
傍まで低下する。
Now, if we pay attention to digit incense sticks, M'1 for memory retention.
Sl- transistor Q2 is conductive and the logical value is ■''
In the state where the information is written, a current flows to the ground through the gate MIS transistor Q6 and the memory holding MIS transistor Q2, and the potential of the Tigit incense stick decreases to around 0.

一方、記憶保持用M1SトランジスタQ2が非導通状態
にあって論理値が′O″なる情報が書込まれた状態では
、前記アース電流が流れないのでティジット縁石の電位
は高電圧に保持された状態を保持する。
On the other hand, when the memory retention M1S transistor Q2 is in a non-conducting state and information with a logical value of 'O' is written, the ground current does not flow, so the potential of the Tigit curb is maintained at a high voltage. hold.

従ってこのディジット線香の電圧変化を判定することに
より、論理値、、 Ojjもしくはパ1″′の情報の読
出しが可能となる。
Therefore, by determining the voltage change of this digit incense stick, it becomes possible to read out the information of the logical value, .

゛この情報の読出しに際しては、記憶情報が破壊されな
いように、論理値が((o 11なる情報の読出し時に
接続点T2 の電位が記憶保持用MiSt−ランジスタ
Q1 のしきい値電圧を越えないように記憶保持用MI
SトランジスタQ2の相互コンダクタンスgm2 を
ゲート用MiSトランジスタQ6の相互コンダクタンス
gmQ の数倍に設定することが必要である。
゛When reading this information, in order to prevent the memory information from being destroyed, the logical value ((o MI for memory retention
It is necessary to set the mutual conductance gm2 of the S transistor Q2 to several times the mutual conductance gmQ of the gate MiS transistor Q6.

又論理値、、 1ppなる情報の読出し時にはフリップ
フロップ11及びMISトランジスタQ5の接続点T1
の電位が記憶保持用MisトランジスタQ2のしきい値
電圧を越えないように記憶保持用MISI−ラノジスタ
Q1 のgm+ をゲート用MISトランジスタQ、
のgm5 の数倍に設定することが必要である。
Also, when reading information with a logical value of 1pp, the connection point T1 between the flip-flop 11 and the MIS transistor Q5
The gm+ of the memory holding MISI transistor Q1 is connected to the gate MIS transistor Q, so that the potential of the memory holding Mis transistor Q2 does not exceed the threshold voltage of the memory holding Mis transistor Q2.
It is necessary to set the value to several times gm5.

このような従来の回路では、書込み時の大振幅信号が読
出し回路にも印加されているため、配線間の浮遊容量の
影響で書込み後読出し回路が原状態に回復するまでに、
かなりの時間が必要となる。
In such conventional circuits, a large amplitude signal during writing is also applied to the reading circuit, so the stray capacitance between the wiring causes the reading circuit to recover to its original state after writing.
This will require a considerable amount of time.

この時間を短縮させ、動作の高速化を実現しようとする
と、読出し回路を極めて複雑な構成にしなくてはならな
い。
In order to shorten this time and achieve high-speed operation, the readout circuit must have an extremely complex configuration.

又読出し回路の入力端の耐圧を保証することも必要であ
る。
It is also necessary to guarantee the withstand voltage of the input terminal of the readout circuit.

さらに、ゲート用MISトランジスタQ5及びQ6の相
互コンダクタンスが小さいために接続点T、もしくはT
2での充放電時間がかなり長く書込みの高速化が妨げら
れる。
Furthermore, since the mutual conductance of gate MIS transistors Q5 and Q6 is small, the connection point T or T
2, the charging and discharging time is quite long, which prevents high-speed writing.

このゲート用MISトランジスタQ、及びQ6の相互コ
ンダクタンスを大きくすると、記憶情報を破壊しないた
めに当然記憶保持用M、lSトランジスタQ1及びQ2
の相互コンダクタンスも対応して大きなものに設定する
必要がある。
If the mutual conductance of the gate MIS transistors Q and Q6 is increased, it is natural that the memory holding M and lS transistors Q1 and Q2 will be
It is also necessary to set the mutual conductance to a correspondingly large value.

さらに、第1図に示した従来の記憶細胞全体として論理
値((■Jjもしくは0″の情報が記憶されているため
、一組のアドレス人力に対応して1個のワード線が選択
されると、1個の記憶細胞から一情報しか取出せないと
いう難点も有している。
Furthermore, since the conventional memory cell as a whole shown in FIG. Another drawback is that only one piece of information can be retrieved from one memory cell.

本発明の第1の目的はディジット線とセンス線を分離す
ることにより書込み信号の読出し回路への印加を防止し
、かつ読出し回路の簡易化と回路動作の高速化を実現す
ることにある。
A first object of the present invention is to prevent the application of a write signal to the read circuit by separating the digit line and the sense line, and to simplify the read circuit and increase the speed of circuit operation.

第2の目的はゲート用MISトランジスタの相互コンダ
クタンスを従来よりも大きく設定可能とし、読出し時の
記憶内容の破壊を防ぐためにディジット線とセンス線と
を分離するために使用したMISトランジスタの一方の
ゲートに読出し専用の信号線を付設し、書込み動作の高
速化をはかることである。
The second purpose is to enable the mutual conductance of the gate MIS transistor to be set larger than before, and to prevent the destruction of memory contents during reading by setting one gate of the MIS transistor used to separate the digit line and the sense line. A read-only signal line is attached to the memory to speed up the write operation.

又本発明の第3の目的は2個の読出し回路を設は二種の
情報を一つの記憶細胞から取出し可能とすることである
A third object of the present invention is to enable two types of information to be retrieved from one memory cell by providing two readout circuits.

このためにフリップフロップの互に反対の情報が得られ
る端子にそれぞれ読出し回路を接続し、記憶細胞を選択
するワード線にもこれ等二つの読出し回路用にAワード
線とBワード線との2本を設け、これ等Aワード線、B
ワード線に与える信号により前記二つの読出し回路を選
択して動作させる。
For this purpose, readout circuits are connected to the terminals of the flip-flops from which mutually opposite information can be obtained, and the word lines for selecting memory cells are also connected to two readout circuits, an A word line and a B word line. Set up a book, these are A word line, B
The two reading circuits are selected and operated by a signal applied to the word line.

Aワード線及びBワード線の選択のため、アドレス信号
にもAアドレス、Bアドレスの2個を選択するものを用
い、この選択動作によって同一の記憶細胞のセンス線の
情報かもしくは異なった記憶細胞のセンス線の情報かの
いずれかが得られるような構成としている。
In order to select the A word line and the B word line, an address signal that selects two addresses, A address and B address, is used, and this selection operation selects information on the sense line of the same memory cell or a different memory cell. The configuration is such that either sense line information can be obtained.

以下、本発明のMIS記憶回路を、その実施例に基づき
図面を用いて詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The MIS storage circuit of the present invention will be described in detail below based on embodiments thereof with reference to the drawings.

第4図は、本発明のMIS記憶回路の第1の実施例の構
成を示す回路図であり、第1図と対応る部分には同一符
号を付けである。
FIG. 4 is a circuit diagram showing the configuration of the first embodiment of the MIS storage circuit of the present invention, and parts corresponding to those in FIG. 1 are given the same reference numerals.

この実施例においては第1の読出し用MiSトランジス
タQ。
In this embodiment, the first readout MiS transistor Q.

のゲートがAワードAWLに、ドレインがAセンス線S
Aに、又ソースが第1の結合用MISトランジスタQ9
のドレインにそれぞれ接続される。
Its gate is connected to A word AWL, and its drain is connected to A sense line S.
A, and the source is the first coupling MIS transistor Q9.
are connected to the drains of each.

同様に第2の読出し用M]、SトランジスタQs U)
ゲートがBワード線BWLに、ドレインがBセンス線S
Bに、又ソースが第2の結合用MISトランジスタQ1
oのドレインにそれぞれ接続されている。
Similarly, the second readout M], S transistor Qs U)
Gate is connected to B word line BWL, drain is connected to B sense line S
B, and the source is the second coupling MIS transistor Q1.
are connected to the drains of o.

第1及び第2の結合用MIS)ランジスタQ9及びQI
Oのソースは接地され、そのゲートは接続点T1.T2
にそれぞれ接続されている。
1st and 2nd coupling MIS) transistors Q9 and QI
The source of O is grounded and its gate is connected to the connection point T1. T2
are connected to each.

MISトランジスタQ5. Qaの各ゲートは書込み専
用ワード線WEにそれぞれ接続される。
MIS transistor Q5. Each gate of Qa is connected to a write-only word line WE.

更に第1、第2の記憶保持用MISトランジスタQ1.
Q2、第1、第2のゲート用MISトランジスタQ、
、 Qaの相互コンダクタンスgml + gm2t
gm5 j grn6(7)間K、ニーに12m6=に
2とする時に、及gml gm2 びに2が1に近似的に等しいか、もしくは太きいとする
条件が設定されている。
Furthermore, first and second memory holding MIS transistors Q1.
Q2, first and second gate MIS transistors Q,
, transconductance of Qa gml + gm2t
When K between gm5 j grn6 (7) and 12 m6 = 2 at the knee, conditions are set such that gml gm2 and 2 are approximately equal to 1 or larger.

このような構成とすることにより、ディジット線とセン
ス線とが分離され、且つセンス線を2個設けることが可
能となる。
With such a configuration, the digit line and the sense line can be separated, and two sense lines can be provided.

また前記相互コンダクタンスの条件より、本発明では書
込み速度を従来のものに比して数倍向上させることが可
能となる。
Furthermore, due to the above-mentioned mutual conductance condition, the present invention allows the writing speed to be improved several times as compared to the conventional method.

又、読出し命令信号を書込み専用線WEとは別のAワー
ド線AWL及びBワード線BWLから与えることにより
読出し時の記憶内容の破壊を避けることが可能である。
Further, by applying the read command signal from the A word line AWL and the B word line BWL, which are separate from the write-only line WE, it is possible to avoid destroying the stored contents during reading.

第4図に示した回路に対する書込み時W、読出し時Rに
おける線WE 、AWL(又はBWL)、11)、D、
SA(又はSB)の信号を第5図に示す。
The lines WE, AWL (or BWL), 11), D, at the time of writing to the circuit shown in FIG.
The SA (or SB) signal is shown in FIG.

この図から理解されるように書込みに際しての動作は第
1図に示した従来のものと同様であるが、第1及び第2
のディジツ1へ線り、Dに与える信号の関係は逆とされ
る。
As can be understood from this figure, the operation during writing is the same as the conventional one shown in FIG.
The relationship between the signals applied to digit 1 and D is reversed.

今、第1の記憶保持用MISI−ランジスタQ1が非常
導通状態にあり、接続点T1が高電位であり、第1の結
合用MI S )ランジスタQ、が導通状態にあるとす
る。
It is now assumed that the first memory holding MISI transistor Q1 is in an emergency conduction state, the connection point T1 is at a high potential, and the first coupling MISI transistor Q is in a conduction state.

この状態で読出し命令がAワード線AWLに与えられる
と、第1の読出し用M1SトランジスタQ7 も導通状
態になる。
When a read command is applied to the A word line AWL in this state, the first read M1S transistor Q7 also becomes conductive.

この状態でAセンス線SA及びBセンス線SBを高電圧
に保持するとAセンス線SAから第1の読出し用MIS
トランジスタQ7及び第Iの結合用M−ISトランジス
タQ9を通じてアースへ電流が流れ、Aセンス線SAの
電位が高電圧からOVへと変化する。
If the A sense line SA and B sense line SB are held at high voltage in this state, the first read MIS
A current flows to the ground through the transistor Q7 and the I-th coupling M-IS transistor Q9, and the potential of the A sense line SA changes from a high voltage to OV.

このようにして論理値II Oj)の情報が読出される
In this way, information on the logical value II Oj) is read out.

一方、第1の記憶保持用MISトランジスタQ□が導通
状態にあって接続点T、が低電位にあり、第1の結合用
MISトランジスタQ、が非導通状態にあるとする。
On the other hand, it is assumed that the first memory holding MIS transistor Q□ is in a conductive state, the connection point T is at a low potential, and the first coupling MIS transistor Q is in a non-conductive state.

この状態で読出し命令が人って第1の読出しMISトラ
ンジスタQ7が導通状態になってもAセンス線SAから
アースへの電流は流れずAセンス線は高電圧に保持され
たままの状態にある。
In this state, even if a read command is issued and the first read MIS transistor Q7 becomes conductive, no current flows from the A sense line SA to the ground, and the A sense line remains at a high voltage. .

このようにして論理値+t 1 ppの情報が読出され
る。
In this way, the information of the logical value +t 1 pp is read out.

Bセンス線側についてもそれぞれ同様の読出し動作が可
能である。
Similar read operations are also possible on the B sense line side.

このように、第4図の実施例の回路を使用すれば、ディ
ジット線とセンス線が相互に分離して動作するので、書
込み信号がセンス線に悪影響を及ぼさず、読出し速度の
高速化、動作の簡易化及び書込み動作の高速化が可能で
ある。
In this way, if the circuit of the embodiment shown in FIG. 4 is used, the digit line and the sense line operate separately from each other, so the write signal does not have an adverse effect on the sense line, increasing the read speed and the operation. It is possible to simplify the process and speed up the write operation.

第6図は本発明のMIS記憶回路の第2の実施例の構成
を示す回路図、第7図は第2の実施例の回路各部におけ
る信号波形図であり、これ等の図において第4図及び第
5図と対応する部分には同一符号を付けである(以下の
図においても同様である)。
FIG. 6 is a circuit diagram showing the configuration of a second embodiment of the MIS storage circuit of the present invention, and FIG. 7 is a signal waveform diagram at each part of the circuit of the second embodiment. And parts corresponding to those in FIG. 5 are given the same reference numerals (the same applies to the following figures).

この第2の実施例の回路は、第1及び第2の結合MIS
トランジスタQ9 + QI Oのゲートを第1及び
第2の記憶保持用MI S トランジスタQ、及びQ2
のゲートに接続した構成を有する点て第1の実施例の回
路と異なっている。
The circuit of this second embodiment connects the first and second combined MIS
The gate of transistor Q9 + QI O is connected to the first and second memory holding MI S transistors Q and Q2.
This circuit is different from the circuit of the first embodiment in that the circuit is connected to the gate of the first embodiment.

この第2の実施例は本質的機能では第4図に示した第1
の実施例の回路と同一であるが、第1及び第2のディジ
ットmD、Dに書込み時に与える信号の極性が第1の実
施例と逆であって第1図に示した従来の回路のそれと一
致している。
This second embodiment is essentially the same as the first embodiment shown in FIG.
The circuit is the same as that of the conventional circuit shown in FIG. Match.

こ5で第1の記憶保持用Mis)ランジスタQ1が非導
通状態において、接続点T、は高電位となり、接続点T
2はOVの低電位に保持される。
In this case, when the first memory holding transistor Q1 is in a non-conducting state, the connection point T becomes a high potential, and the connection point T
2 is held at a low potential of OV.

このため第1の結合用MISトランジスタQ9 も非導
通状態となり、読出し命令がAワード線AWLに人って
第1の読出し用MISI−ランジスタQ7が導通状態に
なってもAセンス線SAからアースへの電流は流れず、
Aセンス線は高電位に保持されている。
Therefore, the first coupling MIS transistor Q9 also becomes non-conductive, and even if a read command is sent to the A word line AWL and the first read MISI transistor Q7 becomes conductive, the A sense line SA is connected to ground. no current flows,
The A sense line is held at a high potential.

このようにして論理値(l I jfiの情報が読出さ
れる。
In this way, the information of the logical value (l I jfi) is read out.

一方、第1の記憶保持用MISI−ランジスタQ。On the other hand, the first memory holding MISI-transistor Q.

の導通状態においては接続点T1はOvの低電位となり
、接続点T2が高電位となる。
In the conductive state, the connection point T1 has a low potential of Ov, and the connection point T2 has a high potential.

従って第1の結合用MISI−ランジスタQ、が導通状
態になり読出し命令がAワード線AWLに人って、第1
の読出し用MISI−ランジスタQ7が導通状態になる
と、Aセンス線SAから第1の読出し用MISトランジ
スタQ7及び第1の結合用MISトランジスタQ、を進
ってアースに電流が流れ、Aセンス線SAの電位が高電
位からOVの低電位まで低下することになる。
Therefore, the first coupling MISI transistor Q becomes conductive, and the read command is applied to the A word line AWL.
When the read MISI transistor Q7 becomes conductive, a current flows from the A sense line SA through the first read MIS transistor Q7 and the first coupling MIS transistor Q to ground, and the current flows from the A sense line SA to the ground. The potential of OV decreases from a high potential to a low potential of OV.

このようにして論理値゛0′″の情報が読出される。In this way, information of logical value "0"" is read out.

読出し回路と書込み回路とを別に設けると言う点では第
8図Iこ示すように、第1及び第2の実施例の回路を簡
略化することができる6即ち第4図及び第6図に示す実
施例では、第1及び第2の結合用MISI−ランジスタ
Q、及びQIOの導通非導通で論理値<(1fitもし
くはO″の情報を判定し、第1及び第2の読出し用MI
SトランジスタQ7及びQ8により記憶細胞の情報を選
択していた。
In that the read circuit and the write circuit are provided separately, the circuits of the first and second embodiments can be simplified as shown in FIG. In the embodiment, the logic value <(1 fit or O'' is determined by the conduction/non-conduction of the first and second coupling MISI transistors Q and QIO, and the first and second read MISI
Information of memory cells was selected by S transistors Q7 and Q8.

これに対して第8図ではフリップフロップを構成する第
1及び第2の記憶保持用MISトランジスタQ1.Q2
に第I及び第2の結合用MISI−ランジスクQ9及び
Ql Oの情報判定の役割をも持たせ、第1及び第2の
読出し用M]、SトランジスタQ7及びQ8のソースを
記・瞳保持用MISトランジスタQ、 、 Q2のドレ
インに接続した構成をとっている。
On the other hand, in FIG. 8, the first and second memory holding MIS transistors Q1. Q2
Also has the role of determining the information of the first and second coupling MISI-ranjisques Q9 and QlO, and records the sources of the first and second reading M], S transistors Q7 and Q8, and for pupil retention. It has a configuration in which it is connected to the drains of MIS transistors Q, , and Q2.

しかし、Aワード線AWL、或はBワード線BWLが選
択きれて接続点T1或はT2の清報を読出す際に、接続
点T1或はT2の情報が論理値((o jjなる場合は
接続点T1或はT2の電位か記憶保持用MISI−ラン
ジスクQ2或はQlのしきい値電圧を越えないように記
憶保持用MISI−ランジスタQ1 或はQ2の相互コ
ンダクタンスgm1或はgm2を読出し用MISI−ラ
ンジスタQ7或はQ8の相互コンダクタンスgrn7或
は2m8の数倍に設定することが必要である。
However, when the A word line AWL or the B word line BWL is selected and the information on the connection point T1 or T2 is read, the information on the connection point T1 or T2 becomes a logical value ((o jj) The potential of the connection point T1 or T2 should not exceed the threshold voltage of the MISI for memory retention, the transistor Q2 or Ql, and the mutual conductance gm1 or gm2 of the transistor Q1 or Q2 for the MISI for reading. - It is necessary to set the transconductance of transistor Q7 or Q8 several times grn7 or 2m8.

このことは記憶細胞自体を大きくし、負荷容量が比例し
て増大することになり、読出し動作の高速化を妨げる結
果になる。
This increases the size of the memory cells themselves, and the load capacity increases proportionally, which results in impeding high-speed read operations.

また書込み動作においてもゲート用MISI−ランジス
タQ、或はQ6の相互コンダクタンスgrl15 は
gm6 が小さく、かつ接続点T1或はT2の負荷容
量が大きいために、接続点T1或はT2の充電に時間が
か\す、その分書込み動作を高速化することができない
Also, in the write operation, since the mutual conductance grl15 gm6 of the gate MISI transistor Q or Q6 is small and the load capacitance of the connection point T1 or T2 is large, it takes time to charge the connection point T1 or T2. However, it is not possible to speed up the write operation accordingly.

この高速化を図るためにはゲート用MISI−ランジス
タQ5或はQ6の相互コンダクタンスgm(5を大きく
取る必要があるが、このことは接続点T1或はT2の負
荷容量を増大させると共に書込み線WBの負荷容量も増
大させる結果になり、高速化に対する本質的な改善には
ならない。
In order to increase this speed, it is necessary to increase the mutual conductance gm (5) of the gate MISI transistor Q5 or Q6, but this increases the load capacitance of the connection point T1 or T2 and also increases the This results in an increase in the load capacity of the circuit, and does not provide any essential improvement in speeding up.

以上に説明した各実施例は、□センス線の電圧検出を目
的としたものであるが、第10図及び第12図に示す本
発明の第3及び第4の実施例はその電流検出を目的とし
たものである。
Each of the embodiments described above is aimed at detecting the voltage of the □ sense line, but the third and fourth embodiments of the present invention shown in FIGS. 10 and 12 are aimed at detecting the current. That is.

これらの回路は第4図及び第6図に示した本発明の第1
及び第2の実施例の第1及び第2の結合用MISlSト
ランジスタ及びQIOのソースをアースに接続せずに電
源に接続した構成を有するものである。
These circuits are similar to the first circuit of the present invention shown in FIGS. 4 and 6.
The second embodiment has a configuration in which the sources of the first and second coupling MIS1S transistors and QIO of the second embodiment are connected to the power supply instead of being connected to the ground.

これらの回路では記憶細胞の情報を第1、第2の結合用
MISI−ランジスタQ。
In these circuits, the information of memory cells is connected to the first and second MISI transistors Q for coupling.

及びQIOの導通、非導通で検出するもので、第、10
図の回路において第1の記憶保持用MISlSトランジ
スタ が非導通状態の時、位置T1 の電位は高電位と
なり、従って第1の結合用MISlSトランジスタが導
通状態となる。
and QIO conduction/non-conduction, and the 10th
In the circuit shown in the figure, when the first memory holding MIS1S transistor is in a non-conductive state, the potential at the position T1 becomes a high potential, and therefore the first coupling MIS1S transistor becomes in a conductive state.

この時読出し命令がAワード線AWLに与えられると、
第1の読出し用MISlSトランジスタが導通状態にな
り、電流が電源からQ7及びQ9を通ってAセンス線S
Aに流れる。
At this time, when a read command is given to the A word line AWL,
The first read MIS1S transistor becomes conductive, and current flows from the power supply through Q7 and Q9 to the A sense line S.
Flows to A.

この状態を論理値((171の情報の読出しと定義する
This state is defined as reading the information of the logical value ((171).

一方、第1の記憶保持用M1SトランジスタQ1が導通
状態時には、位置T1 の電位がOVの低電位となり、
第1の結合用MisトランジスタQ9が非導通の状態に
ある。
On the other hand, when the first memory holding M1S transistor Q1 is in a conductive state, the potential at the position T1 becomes a low potential of OV,
The first coupling Mis transistor Q9 is in a non-conductive state.

この状態では読出し命令がAワード線AWLに与えられ
、第1の読出し用MISI−ランジスクQ7が導通状態
になってもAセンス線には電流が流れない。
In this state, a read command is applied to the A word line AWL, and no current flows to the A sense line even if the first read MISI-LAN disk Q7 becomes conductive.

この状態を論理値、、 Onの情報の読出しと定義する
This state is defined as reading information with a logical value of On.

第12図に示す本発明の番4の実施例は上述の第3の実
施例において、第1及び第2の結合用MISI−ランジ
スタQ、及びQloのゲートを、第■及び第2の記憶保
持用MISlSトランジスタトに接続する構成としたも
のである。
Embodiment No. 4 of the present invention shown in FIG. The configuration is such that it is connected to a MISlS transistor for use.

この回路は本質的には第10図に示した第3の実施例と
異ならないが、動作上は第1及び第2のディジット線り
、Dの極性が第3の実施例と逆になっている。
This circuit is essentially the same as the third embodiment shown in FIG. There is.

即ち第1の記憶保持用MISlSトランジスタ が導通
状態の時、位置T1がOVの低電位、位置T2が高電位
となり、第1の結合用MISlSトランジスタが導通状
態となる。
That is, when the first memory holding MIS1S transistor is in a conductive state, the position T1 is at a low potential of OV, the position T2 is at a high potential, and the first coupling MIS1S transistor is in a conductive state.

この時、読出し命令がAワード線AWLに人って、第1
の読出し用MISlSトランジスタが導通状態になると
、電流は電源から、Q7及びQ9を通ってAセンス線S
Aに流れる。
At this time, if a read command is sent to the A word line AWL, the first
When the read MIS1S transistor becomes conductive, current flows from the power supply through Q7 and Q9 to the A sense line S.
Flows to A.

この状態を論理値u 、 jjの情報の読出しと定義す
る。
This state is defined as reading information of logical values u and jj.

父、逆に第1の記憶保持用MlSトランジスタQ1が非
導通の時には、位置T1が高電位、位置T2がOVの低
電位となり、第1の結合用MISlSトランジスタは非
導通状態となる。
Conversely, when the first memory holding MIS transistor Q1 is non-conductive, the position T1 is at a high potential and the position T2 is at a low potential of OV, and the first coupling MIS transistor Q1 is non-conductive.

この時、読出し命令がAワード線AWLに入り第1の読
出し用MISlSトランジスタが導通状態になっても電
流はAセンス線SAには流れない。
At this time, even if a read command enters the A word line AWL and the first read MIS1S transistor becomes conductive, no current flows to the A sense line SA.

この状態を論理値(1o jjの情報の読出しと定義す
る。
This state is defined as reading information of logical value (1o jj).

この実施例ではセンス線がアース電位に近い所に設定さ
れることになり、読出し回路の入力端の耐圧を充分に取
っておかねばならないという従来の条件を解決すること
が可能である。
In this embodiment, the sense line is set close to the ground potential, making it possible to solve the conventional condition that the input terminal of the readout circuit must have a sufficient withstand voltage.

従って回路の設計も容易となり、又センス線とディジッ
ト線が分離して動作するので、書込み信号がセンス線に
悪影響を及ぼさず、読出し速度の高速化、読出し回路の
簡略化及び書込み動作の高速化が実現可能となる。
Therefore, the circuit design becomes easier, and since the sense line and digit line operate separately, the write signal does not have an adverse effect on the sense line, increasing the read speed, simplifying the read circuit, and increasing the speed of the write operation. becomes possible.

又、以上の各実施例においては、NチャネルM]、Sを
用いて説明したがパルス等の極性を逆にしてPチャネル
MISを使用することも熱論可能である。
Furthermore, although the above embodiments have been described using N channels M and S, it is also possible to use a P channel MIS by reversing the polarity of the pulses, etc.

又トランジスタとしてエンハンスメント形のもののみで
構成とすることもできる。
It is also possible to use only enhancement type transistors.

又読出し用トランジスタQ7.Qsの一方は省略するこ
とも可能である。
Also, read transistor Q7. One of Qs can also be omitted.

以上詳細に説明したように、本発明のMIS記憶回路で
は、読出し及び書込み動作の高速化が可能であり、且つ
1個の記憶細胞に2本のセンス線を配設して二種の情報
を読出すことができるので高速度動作の電子回路機器に
適用して優れた効果が実現可能である。
As explained in detail above, the MIS memory circuit of the present invention can speed up read and write operations, and can store two types of information by disposing two sense lines in one memory cell. Since it can be read out, excellent effects can be achieved by applying it to electronic circuit devices operating at high speed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来使用されているMIS記憶回路の構成を示
す回路図、第2図は第1図の回路の構成各部の信号波形
図、第3図はエンハンスメント形及びデプレッション形
の表示を示す図、第4、第6゜第10及び第12図は本
発明の第1.第2.第3゜第4の実施例の構成を示す回
路図、第5.第7゜第11及び第13図は対応する実施
例の回路の構成各部の信号波形図、第8図は比較例を示
す回路図、第9図は第8図の比較例の各部の信号波形図
である。 VDD・・・・・・電源、R/W・・・・・・ワード線
、D・・・・・・第1のディジット線、百・・・・・・
第2のディジット線、WE・・・・・・書込み線、AW
L・・・・・・Aワード線、BWL・・・・・・Bワー
ド線、SA・・・・・・Aセンス線、SB・・・°°。 Bセンス線。
Fig. 1 is a circuit diagram showing the configuration of a conventionally used MIS storage circuit, Fig. 2 is a signal waveform diagram of each part of the circuit shown in Fig. 1, and Fig. 3 is a diagram showing enhancement type and depletion type displays. , 4th, 6th, 10th and 12th are the 1st and 12th figures of the present invention. Second. 3. Circuit diagram showing the configuration of the fourth embodiment; 5. 7゜Figures 11 and 13 are signal waveform diagrams of each part of the circuit of the corresponding embodiment, Figure 8 is a circuit diagram showing a comparative example, and Figure 9 is a signal waveform of each part of the comparative example of Figure 8. It is a diagram. VDD...Power supply, R/W...Word line, D...First digit line, 100...
Second digit line, WE...Write line, AW
L...A word line, BWL...B word line, SA...A sense line, SB...°°. B sense line.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 ドレインが電源の一端に接続された第1及び第2の
記憶保持用M、lSトランジスタと、前記第1及び第2
の記憶保持用MISlSトランジスタート及びソースに
それぞれのドレインが接続され、前記第2及び第1の記
憶保持用M、1SI−ランジスタのゲート及びソースに
それぞれゲートが接続され、それぞれのソースが電源の
他端に接続された第3及び第4の記憶保持用MISlS
トランジスタなる記憶保持用フリップフロップと、前記
第3及び第4の記憶保持用MISlSトランジスタ方の
ドレインにゲートが接続された第1の結合用MlSトラ
ンジスタと、前記第3及び第4の記憶保持用MISlS
トランジスタ方のドレインにゲートが接続された第2の
結合用MISlSトランジスタ第1及び第2のワード線
が各ゲートにそれぞれ接続され各ソースが前記第1及び
第2の結合用MISlSトランジスタレインに接続され
た第1及び第2の読み出し用MISI−ランジスタと、
ゲートが書込み線に接続され、ソース及びドレインの一
方が第1及び第2のディジット線に接続され、ソース及
びドレインの他方が前記第3及び第4の記憶保持用MI
SlSトランジスタートにそれぞれ接続された第1及び
第2のゲート用MIS)ランジスタとを具備し、前記第
1及び第2の読出し用MISlSトランジスタレイン又
は前記第1及び第2の結合用MISlSトランジスター
スにそれぞれ第1及び第2のセンス線が接続され、前記
第4及び第3の記憶保持用MISlSトランジスタ前記
第1及び第2の読み出し用MISt−ランジスタの相互
コンダクタンスgm1 、 gm2 、 gm5 。 gm5 gmQ gm6 の間に−”” k t 、”” k2として
、gm、 gm2 に1及びに2が1より大きいかもしくは1に近い値に設
定されたことを特徴とするMIS記憶回路。
[Scope of Claims] 1. First and second memory holding M, IS transistors whose drains are connected to one end of a power supply;
The respective drains are connected to the gates and sources of the memory holding MIS1S transistors, the gates are connected to the gates and sources of the second and first memory holding MIS1S transistors, and the respective sources are connected to the power supply and other sources. 3rd and 4th memory holding MISlS connected to the end
a memory holding flip-flop transistor, a first coupling MlS transistor whose gate is connected to the drains of the third and fourth memory holding MISlS transistors, and the third and fourth memory holding MISlS transistors;
a second coupling MISlS transistor whose gate is connected to the drain of the transistor; first and second word lines are respectively connected to each gate and each source is connected to the first and second coupling MISlS transistor drains; first and second readout MISI-transistors;
The gate is connected to the write line, one of the source and drain is connected to the first and second digit lines, and the other of the source and drain is connected to the third and fourth memory holding MI.
first and second gate MIS transistors connected to the SlS transistor transistors respectively; The first and second sense lines are connected to each other, and mutual conductances gm1, gm2, gm5 of the fourth and third memory holding MISt-transistors and the first and second reading MISt-transistors. An MIS storage circuit characterized in that gm, gm2 are set to 1 and 2 are set to values larger than 1 or close to 1 as -"" k t and "" k2 between gm5 gmQ gm6.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6089895A (en) * 1983-10-24 1985-05-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor storage device
US5016214A (en) * 1987-01-14 1991-05-14 Fairchild Semiconductor Corporation Memory cell with separate read and write paths and clamping transistors
JPS63197088A (en) * 1987-02-12 1988-08-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd Multi-port memory cell
JPH01267889A (en) * 1988-04-20 1989-10-25 Toshiba Corp Semiconductor memory device and semiconductor memory cell
US4995001A (en) * 1988-10-31 1991-02-19 International Business Machines Corporation Memory cell and read circuit
JPH0782481B2 (en) * 1989-12-26 1995-09-06 三菱電機株式会社 Semiconductor neural network
KR940000894B1 (en) * 1990-08-06 1994-02-03 재단법인 한국전자통신연구소 S-ram memory cell
US5293349A (en) * 1991-06-24 1994-03-08 Texas Instruments Incorporated Memory cell circuits, devices, systems and methods of operation
US5325338A (en) * 1991-09-04 1994-06-28 Advanced Micro Devices, Inc. Dual port memory, such as used in color lookup tables for video systems
US5365480A (en) * 1992-05-28 1994-11-15 Nec Corporation Memory cells and a memory apparatus using them

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11484158B2 (en) 2018-08-10 2022-11-01 Kohler Co. Shower panel with infrared heating element

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