JPS582780B2 - Ferrite Cage Seizairiyoumoshikuha - Google Patents

Ferrite Cage Seizairiyoumoshikuha

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JPS582780B2
JPS582780B2 JP14858674A JP14858674A JPS582780B2 JP S582780 B2 JPS582780 B2 JP S582780B2 JP 14858674 A JP14858674 A JP 14858674A JP 14858674 A JP14858674 A JP 14858674A JP S582780 B2 JPS582780 B2 JP S582780B2
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JP
Japan
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ferrite
workpiece
magnetic material
processing
based magnetic
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JP14858674A
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Japanese (ja)
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JPS5176693A (en
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遠藤光志
荒川紀義
佐藤秀己
落合雄二
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS582780B2 publication Critical patent/JPS582780B2/en
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  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はフエライト系磁性材料もしくはフエライト系磁
性材料を含む複合材料の表面仕上法に関するものである
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for finishing the surface of a ferrite magnetic material or a composite material containing a ferrite magnetic material.

従来、電子計算機用磁気ヘッド、オーディオ用磁気ヘッ
ドなどの記録再生用コア部に使用されるフエライト系磁
性材料もしくはフエライト系磁性材料を含む複合材料か
らなる被加工物の表面を鐘面状態にする仕上法としては
、ラツピッグやポリシング加工法がある。
Finishing that gives the surface of a workpiece made of a ferrite-based magnetic material or a composite material containing a ferrite-based magnetic material a bell-shaped surface, which is conventionally used in the recording/reproducing core of magnetic heads for electronic computers, magnetic heads for audio, etc. Methods include rappig and polishing methods.

ラツピングあるいはポリシング加工法においては、適当
な粒径のラツプ砥粒、ラップ液およびラップ定盤を選択
することによって、被加工物の加工面のあらさを0.0
2〜0.03μmRmaxに、加工平坦度を0.1〜0
.2μm/mmに仕上げることができる。
In the lapping or polishing method, the roughness of the machined surface of the workpiece can be reduced to 0.0 by selecting lapping abrasive grains of appropriate particle size, lapping liquid, and lapping surface plate.
2-0.03μmRmax, machining flatness 0.1-0
.. It can be finished to 2 μm/mm.

しかし、フエライト系磁性材料をラツピングあるいはポ
リシング加工法により仕上げた場合、加工時に加工面に
作用する力、あるいは発生する熱などによって、表面に
は内部と違った層、いわゆる加工変質層が形成される。
However, when ferrite-based magnetic materials are finished by wrapping or polishing, a layer different from the inside, a so-called process-affected layer, is formed on the surface due to the force acting on the processed surface or the heat generated during processing. .

加工変質層の厚さは上記の加工法の場合には0.2〜数
μmに達し、磁気ヘッドの性能を劣化させる原因となっ
ている。
In the case of the above processing method, the thickness of the process-affected layer reaches 0.2 to several μm, which causes deterioration in the performance of the magnetic head.

この加工変質層を取除く方法としては、エッチング法や
メカノケミカルポリシング法がある。
Methods for removing this process-affected layer include an etching method and a mechanochemical polishing method.

エッチング法は、ラツピングあるいはポリシング加工に
より被加工物の表面を鏡面に仕上げたのち、塩酸、弗酸
もしくは燐酸等の強酸液中に浸して加工する方法で、被
加工物の表面には、ラツピングあるいはポリシング加工
時に入ったスクラッチやクラツクなどが存在し、局部的
に加工が早く進行するところがあるため、鐘面仕上面を
不均一にする欠点があり、加工後の表面あらさは0.2
〜1μmRmaxに劣化する。
The etching method is a method in which the surface of the workpiece is polished to a mirror finish by wrapping or polishing, and then immersed in a strong acid solution such as hydrochloric acid, hydrofluoric acid, or phosphoric acid. There are scratches and cracks introduced during the polishing process, and the process progresses quickly in some areas, which has the disadvantage of making the finished surface uneven, and the surface roughness after polishing is 0.2
It deteriorates to ~1 μmRmax.

さらに被加工物の鏡面の周辺部は、加工ダレの発生によ
り平担度が劣化するので、この方法は磁気ヘッドの最終
仕上加工法として使用することはできない。
Furthermore, the flatness of the peripheral portion of the mirror surface of the workpiece deteriorates due to the occurrence of machining sag, so this method cannot be used as a final finishing method for a magnetic head.

また、メカノケミカルポリシング法は、ラツプ砥粒とケ
ミカル液との混合液を用いて、なめし皮、布あるいは弾
性砥石などの上で被加工物を研磨する加工法で、加工変
質層を減らすことはできるが、加工に長時間を要し、か
つ、平担度が劣化する欠点がある。
In addition, the mechanochemical polishing method is a processing method in which the workpiece is polished on tanned leather, cloth, or an elastic grindstone using a mixture of lap abrasive grains and chemical liquid, and it is possible to reduce the process-affected layer. However, it has the disadvantage that it takes a long time to process and the degree of flatness deteriorates.

本発明は上記の欠点を除くためのもので、フエライト系
磁性材料の側面に加工用のために金属薄膜層を形成して
被加工物を構成し、機械的に作用する少なくとも一種の
微粉体と化学的に作用する少なくとも一種のケミカル液
との混合液をラップ定盤と被加工物の表面仕上げを行な
おうとする面との間に介在させ、被加工物を所定の圧力
下でラップ定盤上で回転または摺動運動させて表面を仕
上げるようにしたものである。
The present invention is intended to eliminate the above-mentioned drawbacks, and consists of forming a metal thin film layer on the side surface of a ferrite-based magnetic material for processing, forming a workpiece, and combining it with at least one type of mechanically acting fine powder. A mixture of at least one type of chemical liquid that acts chemically is interposed between the lapping plate and the surface of the workpiece to be surface-finished, and the workpiece is placed on the lapping platen under a predetermined pressure. The surface is finished by rotation or sliding motion on the top.

以下、本発明の一実施態様を図面について説明する。Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

まず、第1図を参照してフエライト系磁性材料の加工原
理についで述べる。
First, the principle of processing ferrite-based magnetic materials will be described with reference to FIG.

容器5にはケミカル液3が入れられてある。A chemical liquid 3 is placed in a container 5.

被加工物1と金属電極2とはケミカル液3に浸漬されて
おり、導線4でたがいに接続されている。
The workpiece 1 and the metal electrode 2 are immersed in a chemical liquid 3 and are connected to each other by a conductive wire 4.

この溝成において、金属電極2においては M→M+++2e− …(1) の反応が生じる。In this groove formation, the metal electrode 2 M→M+++2e−…(1) reaction occurs.

このとき被加工物1のフエライト系磁性材料の主成成分
であるFe203に関しては の反応が行われる。
At this time, a reaction occurs regarding Fe203, which is the main component of the ferrite magnetic material of the workpiece 1.

この結果、金属電極2が溶解するときに発生する電子は
、導線4を通って被加工物1へ流れ、被加工物1の溶解
が促進される。
As a result, electrons generated when the metal electrode 2 melts flow to the workpiece 1 through the conductive wire 4, and the melting of the workpiece 1 is promoted.

この加工法は、上述のように、ケミカル液3と被加工物
1、金属電極2および導線4によって内部電池を形成す
るものである。
In this processing method, as described above, an internal battery is formed by the chemical liquid 3, the workpiece 1, the metal electrode 2, and the conductive wire 4.

第2図aは、フエライト系磁性材料6の加工対象面Fと
直交する面の両側に、金属薄膜7を蒸着法あるいはスパ
ッタリング法等により加工取代量aだけ形成した状態を
示す。
FIG. 2a shows a state in which a metal thin film 7 is formed by an amount of machining allowance a on both sides of a surface perpendicular to the surface F to be processed of the ferrite-based magnetic material 6 by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like.

第2図bは被加工物10の概略を示し、被加工物10は
絶縁性材料9と金属薄膜7を形成したフエライト系佃性
材料6とを接着剤8により接合した構造からなる。
FIG. 2b schematically shows the workpiece 10, which has a structure in which an insulating material 9 and a ferrite-based high-temperature material 6 on which a metal thin film 7 is formed are joined by an adhesive 8.

第3図は本発明の一実施態様を示すもので、つぎのよう
に構成されている。
FIG. 3 shows one embodiment of the present invention, which is constructed as follows.

ラップ定盤11は矢印X方向に回転するようになってい
る。
The lap surface plate 11 is configured to rotate in the direction of arrow X.

さきに述べたように金属薄膜を形成した被加工物10は
、ばね12を介して保持板13に保持されている。
As described above, the workpiece 10 on which the metal thin film is formed is held by the holding plate 13 via the spring 12.

保持板13には荷重14が荷重棒15を介して力口えら
れる。
A load 14 is forcefully applied to the holding plate 13 via a load rod 15.

荷重棒15には矢印Y方向に運動する運動体16が連結
されており、その運動が荷重棒15、保持板13、はね
12を介して被加工物10に伝えられ、被加工物10が
矢印Y方向に移動する。
A moving body 16 that moves in the direction of arrow Y is connected to the load rod 15, and the movement is transmitted to the workpiece 10 via the load rod 15, the holding plate 13, and the spring 12, so that the workpiece 10 moves. Move in the direction of arrow Y.

攪拌装置18をそなえたタンク17内にはケミカル液1
9と砥粒20とが入れられており、両者はコツク21を
経てラップ定盤1−1上に供給される。
A chemical liquid 1 is contained in a tank 17 equipped with a stirring device 18.
9 and abrasive grains 20 are placed therein, and both are supplied onto the lapping surface plate 1-1 via a pot 21.

この構成において、ラップ定盤11を矢印X方向に回転
させ、かつ、被加工物10を矢印Y方向に摺動させつつ
、ケミカル液19と砥粒20とを供給し、被加工物10
の仕上げを行なえは、砥粒20による機械的加工ととも
に、被加工物10におけるフエライト系磁性材料と金属
薄膜およびケミカル液19の間で内部電池が形成される
ことによる電気化学的加工が進行する。
In this configuration, the chemical liquid 19 and the abrasive grains 20 are supplied while the lapping surface plate 11 is rotated in the direction of the arrow X and the workpiece 10 is slid in the direction of the arrow Y.
To perform the finishing, mechanical processing using abrasive grains 20 and electrochemical processing due to the formation of an internal battery between the ferrite-based magnetic material in the workpiece 10, the metal thin film, and the chemical liquid 19 proceed.

したがって、被加工物10の仕上げが速く完了する。Therefore, finishing of the workpiece 10 is completed quickly.

この方法の一実施例をつぎに示す。An example of this method is shown below.

被加工物としてのMn−Zn系フエライト、銅製薄膜、
絶縁材料としてのセラミック材および接着剤からなる複
合材料を、錫製のラップ定盤とダイヤモンド粉末および
塩酸系溶液とを用いて所定量だけ加工した場合、Mn−
Zn系フエライトの表面あらさは0.03μmRmax
を得ることができ、かつ、セラミック材に対しMn−Z
nフエライトを0.2μm余分に加工することができ、
また、Mn−Zn系フエライト材の加工変質層も電子線
回折法で測定した結果、従来の加工法より低減している
ことが認められた。
Mn-Zn ferrite as a workpiece, copper thin film,
When a composite material consisting of a ceramic material as an insulating material and an adhesive is processed by a predetermined amount using a tin lap platen, diamond powder, and a hydrochloric acid solution, Mn-
The surface roughness of Zn-based ferrite is 0.03μmRmax
can be obtained, and Mn-Z can be obtained for ceramic materials.
N-ferrite can be processed to an extra 0.2μm,
Furthermore, as a result of measuring the process-affected layer of the Mn-Zn-based ferrite material using electron beam diffraction, it was found that the process-affected layer was reduced compared to conventional processing methods.

上記の実施例ではラツプ砥粒としてダイヤモンド粉末を
用いたが、アルミナ粉末、カーボランダム等の砥粒を用
いてもよい。
In the above embodiment, diamond powder was used as the lap abrasive grain, but alumina powder, carborundum, or other abrasive grains may also be used.

ケミカル液としては塩酸系溶液を用いたが、他の電解質
溶液を用いてもよい。
Although a hydrochloric acid solution was used as the chemical solution, other electrolyte solutions may be used.

また、金属薄膜として銅を用いたが、それに限るもので
はなく、ケミカル液に溶解し電子を放出する他の導電性
材料でもよい。
Further, although copper is used as the metal thin film, the present invention is not limited to copper, and other conductive materials that dissolve in a chemical solution and emit electrons may be used.

以上説明したように、本発明によれは、次の第1表に示
す如く、従来技術に比較してフエライト系磁性材料、金
属薄膜および電解質溶液の三者による内部電池を強制的
に形成して電気化学的加工を促進させ、フエライト系磁
性材料の加工能率を向上させるとともに、加工変質層を
低減させることができる。
As explained above, as shown in Table 1 below, the present invention has the advantage of forcibly forming an internal battery consisting of a ferrite-based magnetic material, a metal thin film, and an electrolyte solution, compared to the prior art. It is possible to promote electrochemical processing, improve processing efficiency of ferrite-based magnetic materials, and reduce processing-affected layers.

また、金属薄膜層の有無により加工量のチェックができ
る効果もある。
It also has the effect of being able to check the amount of processing based on the presence or absence of the metal thin film layer.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はフエライト系磁性材料の加工原理を示す説明図
、第2図は被加工物の概略を示す説明図、.第3図は本
発明の一実施態様を示す説明図である。 6…フエライト系磁性材料、7…金属薄膜、8…接着剤
、9…絶縁性材料、10…被加工物、11…ラップ定盤
、12…ばね、13…保持板、14…荷重、15…荷重
棒、16…運動体、17…タンク、18…攪拌装置、1
9…ケミカル液、20…砥粒。
Fig. 1 is an explanatory diagram showing the processing principle of ferrite magnetic material, Fig. 2 is an explanatory diagram showing the outline of the workpiece. FIG. 3 is an explanatory diagram showing one embodiment of the present invention. 6... Ferrite magnetic material, 7... Metal thin film, 8... Adhesive, 9... Insulating material, 10... Workpiece, 11... Wrap surface plate, 12... Spring, 13... Holding plate, 14... Load, 15... Load rod, 16... Moving body, 17... Tank, 18... Stirring device, 1
9...Chemical liquid, 20...Abrasive grain.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 フエライト系磁性材料もしくはフエライト系磁性材
料を含む複合材料を加工する際に、その材料のまわりに
加工用の金属薄膜層を形成し、これを少なくとも一種の
微粉体と少なくとも一種の電解質溶液を供給した定盤上
で、所定の圧力のもとに回転もしくは摺動運動をさせて
仕上げることを特徴とするフエライト系磁性材料もしく
はフエライト系磁性材料を含む複合材料の仕上法。
1. When processing a ferrite-based magnetic material or a composite material containing a ferrite-based magnetic material, a metal thin film layer for processing is formed around the material, and at least one type of fine powder and at least one type of electrolyte solution are supplied to this. A method for finishing a ferrite-based magnetic material or a composite material containing a ferrite-based magnetic material, which is characterized by finishing the material by rotating or sliding it on a fixed surface plate under a predetermined pressure.
JP14858674A 1974-12-27 1974-12-27 Ferrite Cage Seizairiyoumoshikuha Expired JPS582780B2 (en)

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