JPS5827011Y2 - 薄膜形成装置 - Google Patents

薄膜形成装置

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Publication number
JPS5827011Y2
JPS5827011Y2 JP10435779U JP10435779U JPS5827011Y2 JP S5827011 Y2 JPS5827011 Y2 JP S5827011Y2 JP 10435779 U JP10435779 U JP 10435779U JP 10435779 U JP10435779 U JP 10435779U JP S5827011 Y2 JPS5827011 Y2 JP S5827011Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
film forming
heater
heater wire
sample
Prior art date
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Expired
Application number
JP10435779U
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English (en)
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JPS5623672U (ja
Inventor
信義 田口
一己 田中
光詞 片野
Original Assignee
松下電器産業株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 松下電器産業株式会社 filed Critical 松下電器産業株式会社
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、抵抗加熱蒸着装置、電子ビーム蒸着装置、あ
るいはスパッタ装置などの薄膜形成装置に関する。
従来の薄膜形成装置に内蔵されている試料加熱板につい
て第1図および第2図を用いて説明する。
第1図および第2図において、1は薄膜形成装置のペル
ジャーであり、該ペルジャー1の内周面には、周方向等
間隔おきに4個の試料加熱板取付用板体2が一体に形成
されている。
3は矩形の熱反射板であり、ボルト4によって前記試料
加熱板取付用板体2に固着されている。
5はヒータ線取付用リブであり、ヒータ線を等間隔に巻
くために複数個の溝5a(第2図)が形成されている。
6は線状発熱体であり、前記ヒータ線取付用リブ5に形
成された溝5aに挿入された絶縁管7に挿入されて、図
示のように蛇行状に配設されている。
この線状発熱体6の両端は、前記熱反射板3に固定され
た電極ターミナル絶縁体8,9にそれぞれ固定されてい
る。
10は耐熱線で、絶縁管7をヒータ線取付用リブ5に固
定している。
11は試料載置板、12は試料である。
ところが、このような構成の試料加熱板を内蔵した従来
のデブ形成装置では、試料載置板11上の温度分布差が
、設定温度500℃に対して中心部と外周部との間で4
0℃程度生じ、このため試料12に形成される薄膜の膜
厚が一定にならないという問題があった。
またヒータ線取付用リブ5の両端部が溶接等の方法で熱
反射板3に固着されているので、熱膨張によりヒータ線
取付用リブ5に反りを生じるため、該ヒータ線取付用リ
ブ5の溝5aに挿入されている絶縁管7が破損し、線状
発熱体6とヒータ線取付用リブ5とがショートするとい
う問題があった。
本考案は上記の点に鑑み、各試料を均一に加熱すること
により、各試料に形成される薄膜の膜厚を均一化し得る
薄膜形成装置を提供するものであり、以下その一実施例
を図面に基づいて説明する。
第3図および第4図において、13は薄膜形成装置のペ
ルジャーで円筒状を呈しており、その内周面には、周方
向適当間隔おきに4個の試料加熱板取付用板体14が一
体に突設されている。
15は環状フレームで、径方向に貫通しかつ下端面に開
口する複数の溝15 aが形成されており、ボルト16
によって前記試料加熱板取付用板体14に固定されてい
る。
17は円板状の熱反射板で、外周部下面が前記環状フレ
ーム15の上端面に接しており、ビス18によって前記
環状フレーム15に固定されている。
19はヒータ線取付用リブで、前記熱反射板17の中心
部下方に位置する軸20の周りに放射状に複数個配置さ
れており、一端部は前記軸20の外周面に溶接等の方法
で層着され、かつ他端部は前記環状フレーム15に形成
された溝15aに緩挿されている。
21はリブ保持板で、前記環状フレーム15の下端面に
接して前記溝15aの開口を覆うように配置され、ビス
22によって前記環状フレーム15に固定されている。
前記軸20は、放射状に設けた前記ヒータ線取付用リブ
19のたわみを防止するために、ビス23によって前記
熱反射板17に固定されている。
前記ヒータ線取付用リブ19には、厚み方向に貫通しか
つ下面に開口する複数の溝19 aが、温度分布を考慮
して長手方向適当間隔おきに形成されており、これらの
溝19 aには、隣接する前記ヒータ線取付用リブ19
,19に交差するごとく配置された多数の絶縁管24の
端部がそれぞれ挿入されている。
この絶縁管24は耐熱線25によって前記ヒータ線取付
用リブ19に固定されている。
26.27は線状発熱体で、前記多数の絶縁管24に挿
入されて概略1つの渦巻きを形成するように配置されて
おり、内周部の線状発熱体26の両端は前記熱反射板1
7に固定された電極ターミナル絶縁体28.29にそれ
ぞれ固定されかつ図外の第1の電力供給装置に接続され
ており、また外周部の線状発熱体27の両端は前記熱反
射板17に固定された電極ターミナル絶縁体30.31
にそれぞれ固定されかつ図外の第2の電力供給装置に接
続されている。
なお前記線状発熱体26と該線状発熱体26が挿入され
た絶縁管24とによって内側ヒータ線が、また前記線状
発熱体27と該線状発熱体27が挿入された絶縁管24
とによって外側ヒータ線がそれぞれ構成されており、ま
たこれらヒータ線、環状フレーム15、熱反射板17、
ヒータ線取付用リブ19、軸20、リブ保持板21.お
よび前記第1、第2の電力供給装置によって試料加熱板
が構成されている。
また32は試料載置板、33は試料である。
上記構成の試料加熱板を備えた薄膜形成装置においては
、内側ヒータ線および外側ヒータ線に第1および第2の
電力供給装置からそれぞれ異なる負荷電圧を供給するこ
とにより、試料載置板32上の温度分布を均一にでき、
したがって試料載置板32上のすべての試料33に均一
な膜厚の薄膜を形成することができるので、試料33の
品質、性能、および歩留りが向上すると共に、試料33
の試料載置板32の外周縁近傍にまで載置できるので、
試料載置板32上に多数の試料33を載置でき、生産性
が向上する。
またヒータ線取付用リブ19の他端部が、第5図に詳細
に示すように、環状フレーム15に形成された溝15a
に緩挿されているので、ヒータ線取付用リブ19の熱膨
張を第6図に示すように吸収できる。
したがってヒータ線取付用リブ19が熱にるって反るこ
とがないので、絶縁管24の破損、およびそれによるヒ
ータ線のショートを防止でき、安全性が向上する。
なお上記実施例においては、2個のヒータ線を概略一つ
の渦巻きを形成するように配置し、この2個のヒータ線
をそれぞれ異なる電力供給装置に接続した例について説
明したが、3個以上のヒータ線を概略一つの渦巻きを形
成するように配置し、これら3個以上のヒータ線をそれ
ぞれ異なる電力供給装置に接続してもよい。
以上説明したように、本考案にかかる薄膜形成装置によ
れば、試料載置板上の試料を均一に加熱することができ
るので、試料に形成される薄膜の膜厚を均一化し得る。
このため、製品の品質、性能、および歩留りが向上する
また試料載置板上にその外周縁近傍まで試料を載置する
ことができるので、試料載置板上に多数の試料を載置す
ることが可能となり、生産性を向上し得る。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の薄膜形成装置の試料加熱板部分を示す底
面図、第2図は同縦断正面図、第3図〜第6図は本考案
の一実施例を示し、第3図はその底面図、第4図はその
縦断正面図、第5図は環状フレ−ムの溝とヒータ線取付
用リブとの嵌合状態を示す側面図、第6図は同下面図で
ある。 15・・・・・・環状フレーム、15a・・・・・・溝
、17・・・・・・熱反射板、19・・・・・・ヒータ
線取付用リブ、19 a・・・・・・溝、20・・・・
・・軸、24・・・・・・絶縁管、25・・・・・・耐
熱線、26.27・・・・・・線状発熱体、32・・・
・・・試料載置板、33・・・・・・試料。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 1.概略一つの渦巻きを形成するように配置された複数
    個のヒータ線と、該ヒータ線を保持する保持手段と、前
    記各ヒータ線にそれぞれ独立に電力を供給する電力供給
    手段とから威る試料加熱板を備えたことを特徴とする薄
    膜形成装置。 2、保持手段は、軸と、該軸と同心状に配置されがつ周
    方向適当間隔おきに溝が形成された環状フレームと、一
    端部が前記軸に固着されかつ他端部が前記環状フレーム
    の溝に緩挿されしかも長手方向適当間隔おきにヒータ線
    を挿入保持するための溝が形成された複数のヒータ線取
    付用リブとから構成されていることを特徴とする実用新
    案登録請求の範囲第1項記載の薄膜形成装置。 3、ヒータ線は、少なくとも2本以上のヒータ線取付用
    リブにまたがる長さを有しかつヒータ線取付用リブの溝
    に挿入されて耐熱線で個定された複数の絶縁管と、該絶
    縁管を貫通する線状発熱体とから構成されていることを
    特徴とする実用新案登録請求の範囲第2項記載の薄膜形
    成装置。
JP10435779U 1979-07-27 1979-07-27 薄膜形成装置 Expired JPS5827011Y2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP10435779U JPS5827011Y2 (ja) 1979-07-27 1979-07-27 薄膜形成装置

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JP10435779U JPS5827011Y2 (ja) 1979-07-27 1979-07-27 薄膜形成装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5623672U JPS5623672U (ja) 1981-03-03
JPS5827011Y2 true JPS5827011Y2 (ja) 1983-06-11

Family

ID=29337050

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JP10435779U Expired JPS5827011Y2 (ja) 1979-07-27 1979-07-27 薄膜形成装置

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