JPS5825473A - ガス膜の蒸着方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 不発Ｉ１はガス雰囲気中に於けるガス蒸着膜を量烏憔良
く作成する蒸着方法に関するものである。

従来、＃ｌ像管ターゲット蒸着鯛の形成でガス膜な着け
る場合、ガス雰超気条件、蒸着レートおよびボート形状
Ｏ！ｌｌ４が１＃性画にスきく４書を占えｈ？：、とが
知られているが、肴にバッチ向上を因る九めκＩ一ノー
ンブルに２列以上基板を配列した原着法ては、そのｔＩ
スｇｏ形状およびｌｌＩ厚がＡ富七亀ってし１５真点が
ある。

本発明は上記Ｏ欠点をなくシ、ターンテーブル上に被ｌ
ＩＬ配列し九基板へのガス膜蒸着方法を提供するもので
ある。

ー赦釣κガスｍをｉＡＭする方法としては、静止型ｏａ
ｍホルダーまたはターンテーブル型のホルダーに碁［−
載置し，＾９紳気後ＡｒおよびＮ２の欅な不活性ガス（
特殊な場合＃ｉ０２，Ｃｔｚ，ｌｚ　もある）を導入し
てガス雰囲気を作ハ蒸着材料をｍｌＥｍｍ法，高周波加
熱線をよびＩ・１法等で加島麺勤畜せる方法かある．オ
大，ターンテーブル上κ８列Ｏパッチアップをし大物κ
りいては、￥砺載１１□一角ｍを互いに向い合５様な△
秋に丁７Ｌは一応夷＠町総なことが知られて埴る．しか
し、３列以上基鈑配列する鳩舎．１＊ボート周辺ｏ！！
着ｍＡが傭雑な動作機構を有する場合はこれ等は不＃１
ｉｌｌきである。

内光は，組止脂虐像管！ーゲットであるサチコシ光導電
膳の場合、電子ｍ走査側の面Ｊ：にはビー▲ランデイン
グを良くする丸めκ高抵抗のポーラＸＩＩＩでｈ４ｍｂ
ｘＢｓ１１ス膳を着けるが、サチコン党導電ａＯ欅κ碩
謔な＃Ｉ違を形成せしめるため駆動ｙ’ｒｙｐ−が＆Ｉ
＃ｉｉｉｌ作すａ４ｏは、２列以ｆＯＡツチブック配列
を行１にりζとは上記の方法では不可部である。この丸
め、対策としては蒸着用スリットおよびボート構造に配
列分だけＯＶａを持良せる方法が有効である。

以下本発明を実施例によって評しくｉｔ明する。

実施例１ 第１１ＦｃｌＩｌｉＡ１１ｆア’：Ｉプｔｆ：３　ンａ
ｋ　２８１　Ｊｉｌｉ論ＡＣ）Ｉ１１成図であみ。複数
個の穴を有するポート１を囲むシールドＳＯ上にはスリ
ットが２＠＠Ｔｏル、このスリットは下１１ｉスリット
４とカバースリットｉからなる。この蔭か、シャッター
ＳとＩ−ンテープル１がｉ為＠ｆＡｂ２ＢＢｇ）ガスｌ
Ｉを２列バッチで卑ＵＫ蒸着するとボー）１）真上に蟲
！ｌ１ｆｆｉが異常に厚＜ｅ夕、ターゲットのｍｓから
なる１叡８の単−内で分布が員なつ工しｔう、しかし、
縞２図に示す如く力Ｉ（−スリット５の中央に分離帯８
（幅＝４・５−）を設けることで正常＊ｇｂｘｉｉｍガ
ス膜を２列０ａ１ｋ＜分布良く着けるζ七かで龜る。薫
着秦件は予ＩＩＩ排気御違真！Ｊ！ｉ［Ｘ１０−’丁ｏ
ｒｒり上、蒸着時のガス圧１．３±０．０５丁・「ｒ（
Ｎ２中）、　ボー　）ｔｍＧｓ±３Ａ　、ＢｂＭｍｍＩ
Ａ厚（６ｓ２±２ｍｓ／ｒｏｕｎｄ）である。なシ、２
列／（ッテまではボー）ＩＤ穴黴は１個で良いことが実
験でａｗｔｓれている。

なお、ｍｍｍ科としては、ＩＩＪ１律表ｙｂ族、ｖｂ族
、■ｂおよび［ｉｓＯ元票のいずれかを含む化合物をル
ー為。

以上述べたように、ターンテーブルに基鈑を複動配列を
１して、蒸着スリットとポートに＊＊Ｃ）關口郁と穴を
それぞれ特大せ九蒸着機−は、撮像管の元導電績形成中
そＯ他Ｏガス薄ｌＩ技術分野にも応用性が有り量ｔｉ性
性向−期待できる。

−ＴＩＩＡの簡単な説− ｍｉｌｌｌは本Ｉ！明に適用すｈ蒸Ｍ鱗置０榊威図、亀
２論社カバースリットＯ千ＩＩａｌｌである。

１・・・・ｍ−）、２・・・・ポートＩ−（ナル、３・
−・・シールド、４・−”下部ｆｉリット、５曝・・・
オバースリット、６・・・・シャッタ、Ｔ・・・・ター
ンテーブル、８・・・・１穢、９・働・・分離蕾。

代理人　弁理士　　薄　　１）　利　　−第１図 第２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ターンテーブル上に２列以）Ｏ基板を載置し。 Ｉｌ！数個の穴を持つボートから複数個の開口部を持つ
   １層用スリットを介して基１１ＩＶｃガス誦を蒸着する
   ようにし九ｉス鵬Ｏ蒸着方法。