JPS58213057A - 被覆用組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、平滑性、耐塩水性に優れた被核用組成物に関
するものであり、さらに詳しくは金属、磁器、ガラス、
プラスチック等の固体表面に平滑性に優れた塗膜を形成
させるに当り、含フッ素系界面活性剤と特定の含フツ素
アマイド化合物とからなる被援用組成物に関するもので
ある。

従来より、金属、ガラス、プラスチック等の固体表面を
保護被覆する目的で各種の塗料やコーテイング材が用い
られているが、特に表面の平滑性が要求される場合には
、コーテイング材に高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル、
パラフィン系炭化水素、シリコーンオイル例えば、ジメ
チルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン等の添
加剤を含有せしめる事により成されている。

又、側鎖に含フツ素末端基を有する含フツ素重合体も固
体表面の平滑性を向上する為にコーテイング材に添加さ
れている。（特開昭５１−１２６２２０号）更に、塗料
そのものに側鎖に含フツ素末端基を有する含フツ素重合
体を用いることも行われている。（特開昭５４−４３２
４４号）一方、最近の記録材料の進歩は著しく、特に磁
気テープや磁気ディスク分野においては、高性能化が進
み、記録波長がより短く２μｍ以下となり特に、ノイズ
レベルの低下や信号出力の増大が要求されており、磁性
層の組成は勿論のこと、磁性層表面凹凸を少なくするこ
とが必要となっている。

又、テープの走行性を高めたり、テープやディスクの磁
気特性をより鋭敏に発現させる必要性から、磁性層の保
護用の被覆膜も平滑性が高（且つ、できるだけ薄いもの
が要求されつつある。

しかしながら、従来の、釉々の平滑性改良剤を添加した
各種塗料又はコーテイング材や含フツ素重合体塗料では
、その塗膜の厚みは、通常１〜１００μｍ程度であり、
０．０１μｍ程度の単分子膜程度まで厚みを薄くするこ
とは塗膜の均一性や塗膜表面の平滑性更に塗膜の強度が
著しく低下するなどの問題点があり非常に困難であった
。

本発明者らは、従来の保護被覆膜の問題点を解決するべ
く鋭意研究を頁ねた結果、いわゆる含フツ素重合体では
なく、含フッ素系界面活性剤そのものに着目し、且つ又
台フッ素系界面活性剤を塗料又はコーテイング材に添加
して用いるのではなく、フッ素系界面活性剤からなる特
定の組成物を作成し、組成物自身を被核剤として用いる
ことにより従来の保護被覆膜の問題点を解決できること
を見出し、本発明を完成するに到った。

即ち、本発明は宮フッ素系界面活性剤（、）と下記一般
式〔Ｉ〕で示される含フツ素アマイド化合物（ｂ）とか
らなる被覆用組成物を新規に提供するものである。

５− リ竺されるポリオキシアルキレン誘導体を示す。　　　
　り本発明組成物は金属、磁器、ガラス、プラスチック
等の固体表面の損傷及び汚染防止の効果に優れた平滑な
保護被覆層を形成するものでそれにより、強度、耐塩水
性にも優れているので防湿防錆剤、防汚剤、潤滑剤、減
摩剤、剥離剤、離型剤等として、化学的又は力学的に固
体表面を保護するのに用いることができるが、従来の保
設被覆剤では、得ることが非常に困難τ・１嬶＜均一で
、平滑な被覆層を形成できるので、特に記録材料分野に
おいて、磁器記録製品の磁性層の被覆に好適である。

本発明で使用される含フッ素系界面活性剤としては、そ
れらを構成成分とする組成物自身が固体表面に被覆用組
成物として塗布されることから少なくとも常温ではワッ
クス状又は固体状であるものが好ましく、融点が高いも
のがより好ましい。

＝６＝ これらの含フッ素系界面活性剤の代表的なものとしては
次のＡ−Ｄ群の如きものがあげられるが、本発明は、こ
れらのものに限定されるものではない。

〔Ａ群）一般式（Ａ　）　Ｒｆ−Ｘ−８ＯｓＭ［Ａ−１
）、Ｒ４−Ｙ−ＣＯＯＭ但し、Ｒｆは炭素数４〜２０な
るパーフルオロアルキル基ま（ここで、ｐは１〜２０な
る整数を表わす。）を示し、Ｍはアルカリ金属、−ＮＨ
，、アミン塩、水素原子または炭素（ここで、ｐは前出
と同意、Ｒ′は水素または炭素数１〜６なるアルキル基
を表わす。）を示し、２は＋ｃｎ、−）−、ｏ−１「 −（−ＣＨ２−）−ｏ＋ＣＨ，−ａＩ（−ｏ−）−また
。ヨ、ｐ　　　　　　　　　　　　　ｇ は前出と同意であり、ビは水素原子または炭素数１〜４
なるアルキル基を、ｇは１〜５０なる整数を表わし、Ｒ
′ （−ＣＨ，−占Ｈ−０＋の中には、 Ｒ′ −（−ＣＨ，ＣＨ２ｏ−）−＋ＣＨ２−占Ｈ−０−）−
（ｇ＋＋ｇｚ＝ｇ　）ｇｓ　　　　　　　　　　　　　
　ｇｔゝも含めるものとする。）なる結合基であり、ｊ
は１．２または５の整数である。

７− 一般式［Ａ］の化合物を具体的に例示すれば、次のよう
なものがある。

Ｃ６Ｆ、、Ｓｏ、Ｌｉ、　ｃ、ｐ、、ｓｏ、ｘ、　Ｃ６
ＦｌａＳＯ，ＮＨ４、Ｃ，Ｆｌ？５Ｏ３Ｌｉ、　　Ｃ，
Ｆ、、Ｓｏ、Ｎａ、　　Ｃ５Ｆ１，８０３Ｋ。

Ｓ　Ｏｍ　Ｎ　Ｌ、Ｃ？　Ｆ’ｓ　ＣＯＯ（ＣＨｔ　）
ｓ　Ｓ　ＯｍＫ、　ＣｓＦ、５ｃＯＯＮ）Ｉ４、Ｈ（Ｃ
Ｆｔ）＋ｏＣＯＯＨ，ｃｌＯＦｔｌ　（ＣＨｔ）ｓｏｃ
ＯＯＮａ。

＝９− ８− １０− Ｒ′ またはづＯｔＮ＋ＣＨｚ　＋ｐｏ＋　ＣＨｔ＋ｇ　（こ
こで、Ｒ’、　Ｒ’及びｐ、　　ｇは前出と同意義であ
り、ＵとＲ４、Ｒ６またはＲ６のいずれかとが、環状に
なってもよい。）の結合基であり、Ｒ４、Ｒ３及びＲ６
は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、ヒドロキシ
アルキル基、シクロアルキル基、または炭素数７〜１５
のアラルキル基であり、Ｘは、ノ・ロゲン原子、Ｈ８Ｏ
，、−ＣＨ３ＳＯ４、−Ｈ，Ｐ　Ｏ，、−計−ＣＨ，ま
たは、一般式ＣＢ］の化合物を具体的に例示すれば、次
のようなものがある。

５ＯｔＮＨＣＨｔＣＩ（ｔＮ　ＣＣＨａ）ｓｃ？Ｃ＋。

Ｆｕ＋−０＋ＣＨ２ＣＨ。

■ Ｎ−（ＣＨ，）、Ｉ　、（４ＦＢＳ０２ＮＨ（−ＣＨ２
）、Ｎ（ＣＨ，）３０．　Ｓ１１− など （０群）一般式［ｃ　］　Ｒｔ　　ｖ＋　ＣＨ２占ＨＯ
＋ｇＲｓ　Ｃｃ−ｉ　）また但し、Ｒｆは、前出と同様
であり、■は、単なる結合か、（ここで、Ｒ／は前出と
同意義である。）なる結合基であり、Ｒ′、ｇ、Ｒｓ及
び２は前出と同意義であり、ｒ及びＳは、同時に０とな
ることはないが、それぞれ０以上の整数であり、Ｗは、
１価もしくは、２価以上のインシアナート化合物残基で
あって、炭素数１〜１０なるアルキル基もしくは、シク
ロアルキル基、炭素数７〜１５なるアラルキル基、また
１６− １２− は少なくとも１個のベンゼン環を含むアリール基からな
る以上の多価残基を表わし、Ｌは任意のアルコール性水
酸基を含有する化合物の残基であって、脂肪族、脂環族
または芳香族のモノアルコールの１価残基ポリアルキレ
ンエーテルグリコール、ブロック化ポリオキシアルキレ
ンエーテルグリコール、ポリエステルグリコールまたは
ポリメチレングリコール（これらグリコールの片側がア
ルキルエーテル１４− 化された１価残基でもよい）の２価残基、トリメチロー
ルプロパンヤヘンタエリスリトールのオキシアルキレン
付加物等の６価以上の多価残基を表わす。

一般式〔Ｃａの化合物を具体的に例示すれば、次のよう
なものがある。

Ｃ６ＦＩ３ＣＨｔＣＨ！ＯＨ％　ＣｏＦ１７０（ＣＨ，
ＣＨ２０）、、ＣＨＢ、ｅ　　　　　ｅ　　　　　　θ の整数であり、Ａは−Ｃ００又は−ｓＯ８の如き塩イオ
ン性基である。

一般式ＣＤ）の化合物を具体的に例示すれば、次のよう
なものがある。

■　　　　　　　　ｅ ＣＨｌ　Ｎ　（ＣＨｌ　）１　ＣＨｌ　ＣＯＯ、Ｃｏ　
ＦＩＴ　Ｏ＋　Ｇ　Ｈｚ　ＣＨｌ　Ｏ％ｅ　　　　　　
　　　　θ ８０２　　ＮＨ（ＣＨｚ）、Ｎ（ＣＨｓ）ｚ（ＣＨｚ）
ｓｓＯｓ　　、　　Ｃｌ１Ｆ１７ｅ　　　　　　　　　
　　Ｑ Ｓ　０ｚＮＨ（ＣＨｔ　）ｓＮ　（ＣＨｓ　）ｔ　（Ｃ
Ｈｚ　）ａ　Ｓ　Ｏｘ　　、　Ｃａ　Ｆ＋ｓ　Ｓ　Ｏｘ
ｅ　　　　　　　　　　　　　　ｅ Ｎ　（ＣＨｌ　ＣＨｔ　ＯＨ）ｚ　（ＣＨｚ　）ｔ　Ｃ
ｏｏ　、Ｃ８ＦＩＴ　Ｓ　０ｚＮＨ（ＣＨｖ　）■　　
　　　　　　ｅ Ｏ（ＣＨｔ　）ｚＮ　（ＣＨｓ　）ｔ　ＣＨ２Ｃｏｏ　
　　または以上のＡ−Ｄ群の化合物を単独でまたは混合
して含フツ素アマイド化合物と用いでもよいが、一般式
（■）で示される特定の含フツ素アマイド化合物を併用
することにより非常に薄く、平滑な被覆膜を得る為の必
須条件である。

本発明の含フツ素アマイド化合物とは、一般式（Ｉｌで
示される化合物である。式中、Ｒ４は炭素数４〜２０の
パーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルケニル
基でアリ、好ましくは反素数４〜１６のパーフルオロア
ルキル基またはパーフルオロアルケニル基である。Ｑは
−Ｃ０−−（−ＣＨｚ＋ｉ　Ｓ　０２−１＋ＣＨｔ＋ｔ
ＣＯ（但し、ｌは１〜８の整数である）であり、好まし
くは−ｃｏ−，−８Ｏ２−１である。

＝１８− Ｒ５及びＲ２は水Ｘｔ原子または炭素数１〜２ｏなるア
ルキこでｍ及びｎは１〜２ｏなる整数であり、Ｒ１は水
素原子または炭素数１〜乙のアルキル基であって、Ｒ５
、Ｒ２と同一でも異なっても艮い。）で示されるポリオ
キシアルキレン誘導体を示すが、好ましくは、水素原子
、または炭素数１〜２０のアルキル基が良い。

それらの代表的な例としては、次の如きものが挙げられ
る。

Ｃ８Ｆ、７Ｓ　０２ＮＨ２、Ｃ，Ｆ、、５ｏ２ＮＨＣ，
Ｒ７、Ｃ８Ｆ、７Ｓｏ２ＮＨまたはＣ，Ｆ、、ＣＨ２Ｃ
Ｈ２Ｃ０ＮＨ−Ｃ，Ｈ，等が挙げられる。

本発明において、含フッ素系界面活性剤と一般式（Ｉ）
で示される特定の含フツ素アマイド化合物との併用によ
り何故非常に薄く且つ平滑な被榎膜が得られるかは明確
ではないが同じフッ素系化合物どうしで相溶性も良好な
為に塗膜表面の平滑性を著しく向上させるものと推察さ
れる。

特定の含フツ素アマイド化合物の使用量は何ら制限はな
いが通常、含フツ素系界面油性剤１部に対し、０．０１
〜１０部、好ましくは０．０１〜１部が用いられる。含
フッ素系界面活性剤と特定の含フツ素アマイド化合物と
の組み合わせは何ら制限はなく、使用用途に応じて適宜
選択される。

本発明の被憶用組成物の塗装方法は、何ら制限はないが
、通常は適当な溶媒に溶解して浸漬法、スプレー法等で
塗布される。

ここで、用いられる溶媒としては、何ら制限はないが、
一般式ＣＩ）で示される特定の含フツ素アマイド化合物
の水溶解性が、あまり良くないので、有機溶媒の使用が
好ましく単独で用いてもよいが水と有機溶媒との混合系
または有機溶媒同士の混合系も好ましく使用される。こ
れらの例としては、メタノール、エタノール、プロパツ
ール、インプロパツール等のアルコール類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケト
ン類、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸エチル
、酢酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン、トリク
ロロエタン、トリクロル２１− フルオロメタン等のノ・ロダン化炭化水素等が挙げられ
る。

本発明の被接用組成物は前述した如くに、各種の固体表
面の保護被覆層として例えば防湿防錆剤、防汚剤、潤滑
剤、減摩剤、剥離剤、離型剤等として使用できるが塗膜
の薄さと平滑性を生かして特に、記録材料分野における
磁気記録製品の磁性層の被接に好適に用いられる。

例えば、銅、アルミニウム、亜鉛なビの非磁性金属やポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナ
フタレート等のポリニスデル類、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン類、セルロースアセデート等のセルロース
誘導体ポリカーボネート等のプラスチックや、更に、場
合によりガラス、磁器及び陶器のようなセラミックス上
に蒸着された強磁性合金（鉄、コバルト及び／又はニッ
ケルを主成分とし、少量のアルミニウム、シリコン、ク
ロム、マンガン、モリブデン、チタン、各種重金属類、
希土類全域等を含む＝２２− ものまたは微量の酸素存在下で鉄またはクロムを蒸着し
てなる強磁性金属酸化物からなる磁性層の保護被援用塗
膜として用いることにより、それらを含む磁気テープや
磁気ディスクの表面平滑性の向上や薄い塗膜による磁気
特性のより鋭敏な発揮が期待できる。

一方、本発明の被接用組成物は、ガラス表面上に透明で
平滑な薄い塗膜を形成できるので、各種光学機器の油汚
れ防止剤などとして耐油性と耐抜き取り性を必要とする
用途にも使用することができる。

次に、本発明の実施例、比較例並びに診考例について具
体的に説明するが、斯かる説明によって本発明が何ら限
定されるものでないことは勿論である。尚、以下の実施
例並びに比較例において、表面塗膜の平滑性は、倍率１
６０倍の光学顕微鏡で塗膜表面のプツ等の有無を観察し
、５段階（５：全くブツがない、４：縁にほんの僅かプ
ツあり、６：表面にほんの僅かプツあり、２：表面に僅
かにブッがある、１：全てにブッがある数値が大きい程
良好で評価した。

接触角は、ｎ−デカンを６μｌ測定表面に滴下し、エル
マ製ゴニオメータ一式接触角測定器を用い、２５℃にて
測定した。

耐塩水試験は、ポリ塩化ビニルの密閉箱内で、測定表面
に人工海水を２５μｅ滴下し、錆びによる濁りが生じ始
めるまでの時間を観察し、５段階（５：５時間以上、４
：６〜５時間、！＋＝２〜′５時間、２：１〜２時間、
１：１時間以下）で評価した。

実施例１〜１４及び比較例１〜５ 表−１に、各試料のメタノール溶液をミクロスライドガ
ラス（７６Ｘ２６ｊＩＩＫ）に滴下し、３分間乾燥させ
た後の、表　　面の平滑性並びにｎ−デカンによる接触
角を示した。

参考例１〜６及び比較例１〜５ 表−２に、超仕上げの鋼板に各試料（メタノール溶液）
を塗布し、６分間乾燥した試料板を用いた耐塩水試験の
結果を示す。尚、試料番号は表−１のそれと同じである
。

／ ２８− 表　　−２ ２９− これらの結果から、明らかなように、本発明の組成物は
優れた平滑性と耐塩水性を保持していることがわかった
。。

特許出願人：、大日本インキ化学工業株式会社財団法人
　用材理化学研究所 一６〇−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 含フッ素系界面活性剤（ａ）と下記一般式〔Ｉ〕で示さ
   れる含フツ素アマイド化合物（ｂ）とから成る被覆用組
   成物。