JPS58212945A - Manufacture of laminated board - Google Patents

Manufacture of laminated board

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JPS58212945A
JPS58212945A JP9611482A JP9611482A JPS58212945A JP S58212945 A JPS58212945 A JP S58212945A JP 9611482 A JP9611482 A JP 9611482A JP 9611482 A JP9611482 A JP 9611482A JP S58212945 A JPS58212945 A JP S58212945A
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JP
Japan
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dap
resin
laminate
varnish
copper foil
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節夫 鈴木
高須 信孝
竹井 進
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0326Organic insulating material consisting of one material containing O
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/022Processes for manufacturing precursors of printed circuits, i.e. copper-clad substrates

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な放射線硬化樹脂を用いて積層板を製造す
る方法に係るものである。更に詳しくはソアリルフタレ
ート(以下DAPという)系樹脂骨格を有する末端−〇
H基を有するゾレボリマーとポリエンおよび光増感剤か
ら成るワニスを、布もしくは不織布に塗布含浸して乾燥
せしめ得られたノリプレグを、銅箔とラミネート1.一
体化物を得、シリプレグ側から紫外線、電子線等の放射
線を照射して該樹脂系を硬化せしめて積層板を得る方法
 ′に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method of manufacturing laminates using a novel radiation-cured resin. More specifically, it is a Noripreg obtained by applying and impregnating cloth or nonwoven fabric with a varnish consisting of a solyl phthalate (hereinafter referred to as DAP) resin skeleton and a terminal -〇H group, a polyene, and a photosensitizer, and drying the coating. 1. Copper foil and laminate. The present invention relates to a method for obtaining a laminate by obtaining an integrated product and curing the resin system by irradiating radiation such as ultraviolet rays or electron beams from the silipreg side.

従来DAP樹脂系の積層板を得る方法としては、まずD
AP−PとDAPモノマーおよび熱重合開始剤を溶媒に
溶解せしめて樹脂ワニスを作り、これをガラスクロス等
に含浸せしめ加熱乾燥してシリプレグを得、然る後該ノ
リルグ数枚と片面若しくは両面に積層された銅箔とを熱
板間に挿入し、熱圧硬化する方法が知られている。、然
しなからこの方法はゾレス間熱重合を行うため生産性に
乏しく、更にDAP、PおよびDAPモノマーのガラス
繊維および銅箔との親和密着性に乏しいために、基材−
樹脂間の剥離、銅箔密着不良等の問題が致命傷となり、
他の樹脂積層板に比較して伸びが著しるしく低いもので
あった。一方DAP樹脂系の積層板には他樹脂にない優
れた性能も有しており、積層板への適用は業界の長年の
夢であることも事実である。
Conventionally, the method for obtaining DAP resin-based laminates is to first
A resin varnish is made by dissolving AP-P, DAP monomers and a thermal polymerization initiator in a solvent, and this is impregnated into glass cloth, etc., and heated and dried to obtain Silipreg. A method is known in which laminated copper foil is inserted between hot plates and cured under heat and pressure. However, this method has poor productivity because it performs thermal polymerization between soles, and also has poor affinity and adhesion of DAP, P, and DAP monomers with glass fibers and copper foil.
Problems such as peeling between resins and poor adhesion of copper foil can be fatal.
The elongation was significantly lower than that of other resin laminates. On the other hand, DAP resin-based laminates have excellent performance not found in other resins, and it is also true that application to laminates has been a long-standing dream of the industry.

−例として高度の電気絶縁性、高度の寸法安定性、広領
域の周波数に対する高周波性能の安定性等を挙げること
が出来る。
- Examples include a high degree of electrical insulation, a high degree of dimensional stability, and stability of high frequency performance over a wide range of frequencies.

一方アクリレート系もしくはメタアクリレート系放射線
硬化樹脂を用いて、これを基材に含浸せしめて積層板を
合理的に得んとする試みも数多く成されてはいる。しか
しながら以下の如き根本的な欠点故に熱重合と併用しな
い放射線硬化法のみによる積層板の製造法は実用化され
る迄には至っていない。
On the other hand, many attempts have been made to rationally obtain laminates by impregnating base materials with acrylate or methacrylate radiation-curable resins. However, due to the following fundamental drawbacks, a method of manufacturing a laminate using only a radiation curing method without thermal polymerization has not been put into practical use.

即ち、(1)一般に了クリレート系樹脂は硬化収縮が極
端に犬きく、積層板化した場合、反り、ねじれが大きい
。またこの現象を避ける為に無機充填材を多量に添加1
〜だ場合、放射線透過率が減少する。
That is, (1) Generally, acrylate-based resins have extremely high curing shrinkage, and when formed into a laminate, they tend to warp and twist significantly. In addition, in order to avoid this phenomenon, a large amount of inorganic filler is added.
If ~, the radiation transmittance decreases.

(2)一般には反応性モノマーを使用するが、その毒性
が問題になる上、低分子上ツマ−を大量に使用するため
乾燥后も粘着性を除去することが出来ず、作業性が極め
て悪い。また添加モノマーのプレポリマーとの共重合性
の関係で七ツマ−の種類が限定され、加えて単独重合体
も生じてしまい、物性を著しるしく損ねる。
(2) Reactive monomers are generally used, but their toxicity is a problem, and since a large amount of low molecular weight monomers are used, the stickiness cannot be removed even after drying, resulting in extremely poor workability. . Furthermore, the types of heptamers are limited due to the copolymerizability of the added monomer with the prepolymer, and in addition, homopolymers are also formed, which significantly impairs the physical properties.

(3)酸素禁止効果が著しるしく表面が未硬化になる。(3) The oxygen inhibition effect is significant and the surface becomes uncured.

この現象を防止する意味で多量の開始剤を用いざるを得
ないため、ラジカル濃度が増大してしまい脆い硬化物に
なってしまう等である。
In order to prevent this phenomenon, a large amount of initiator must be used, which increases the radical concentration and results in a brittle cured product.

本発明者らは1)AP系樹脂の優れた性能を損ねること
無く、従来の欠点を克服し、更に加えて放射線硬化のみ
による積層板の製法を見い出すべく鋭意検討を行ない、
本発明に到達した。
The present inventors 1) Overcame the conventional drawbacks without impairing the excellent performance of AP resin, and in addition, conducted intensive studies to find a method for manufacturing a laminate using only radiation curing.
We have arrived at the present invention.

即ち、DAP−Pのアリール;i基台過剰のポリチオー
ルのメルカ7’)基とを溶媒存在下で反応せしめ、末端
−8H基を有する変性DAB−Pを得、これに炭素−炭
素二重結合を有するポリエンおよび光増感剤を添加して
成る樹脂ワニスを用いる方法を見い出した。この樹脂系
を用いた場合、以下の特徴が発現する。
That is, the aryl; We have found a method using a resin varnish containing a polyene having the following properties and a photosensitizer. When this resin system is used, the following characteristics are exhibited.

(1)  ポリエン−ポリチオールの反応を用いるため
、樹脂の硬化収縮が小さく、基板化に際しの反り、ねじ
れが完全に防止出来る。
(1) Since the polyene-polythiol reaction is used, the curing shrinkage of the resin is small, and warping and twisting when forming a substrate can be completely prevented.

(2)  ポリエン−ポリチオールの反応を用いるため
、共重合性に由来するポリエフ選定の制約が大巾に緩和
される。因みにDAP −Pのラジカル架橋に際して用
いられるモノマーは、DAP・モノマー、スチレン等数
種を数えるに過ぎない。
(2) Since the polyene-polythiol reaction is used, restrictions on polyF selection due to copolymerizability are greatly relaxed. Incidentally, there are only a few monomers used for radical crosslinking of DAP-P, such as DAP monomer and styrene.

(3)  1)AP−Pを末端処理して一8Hに変性し
であるため、シート基材とのなじみ性、密着性が大巾に
改良される。。
(3) 1) Since AP-P is end-treated and modified to -8H, the compatibility and adhesion with the sheet base material are greatly improved. .

(4)  DAP・Pをベースにしているため、造膜性
に優れ、塗布乾燥後のプリプレグは室温では全く粘性が
無いうえに、加えて可撓性を有しておりプIJ fレグ
の巻き取りが可能である。この為生産性が大巾に向上す
る。
(4) Because it is based on DAP/P, it has excellent film-forming properties, and the prepreg after coating and drying has no viscosity at room temperature, and is also flexible, making it easy to wrap IJ f-legs. It is possible to take it. This greatly improves productivity.

(5)得られたシリプレグは温度を上げることにより粘
性が発現するため、銅箔とのラミネートが可能になり、
更に硬化層も一8H基に寄因して銅箔密着性に優れてい
る。
(5) The obtained silipreg becomes viscous by increasing the temperature, making it possible to laminate it with copper foil.
Furthermore, the cured layer also has excellent copper foil adhesion due to the -8H group.

(6)  ポリエン−ポリチオールの反応のため、酸素
禁止効果が無く、開始剤量が少なくて済み、基材の効果
と相まって、強靭な硬化物が得られる。
(6) Because of the polyene-polythiol reaction, there is no oxygen inhibition effect, and the amount of initiator is small, which, combined with the effect of the base material, provides a tough cured product.

このため可撓性を有する謂ゆるフレキシブル基板も得る
ことが出来る。
Therefore, a so-called flexible substrate having flexibility can also be obtained.

(7)紫外線、電子線等の放射線硬が可能である。(7) Radiation hardening such as ultraviolet rays and electron beams is possible.

この様な特徴を有する積層板製造法は従来全く見られず
、本発明は画期的である。以下に詳細を述べる 本発明に用いられるDAP、P又は1θ01)AP−P
は通常の市販品で良く、その重合度は適宜選択出来る。
The present invention is groundbreaking, as no method of manufacturing a laminate having such characteristics has been seen in the past. DAP, P or 1θ01) AP-P used in the present invention described in detail below
may be an ordinary commercially available product, and its degree of polymerization can be selected as appropriate.

ポIJ エフ添加後の造膜性を考慮し′fC,場合重合
度5以上のDAP−Pが好ましい。
Considering the film-forming property after addition of POIJF, DAP-P with a degree of polymerization of 5 or more is preferable.

またノ0レポリマー化に際して用いられる一般式R−(
:5H)71(式中、nは2〜4の整数、Rは反応性二
重結合を含まない有機基)で表される化合物はすべて使
用可能であるが、好ましい化合物としてはメルカプトカ
ル+lpン酸類と多価アルコールのエステルがあり、一
般的に用いられる具体的な例とt、”C’U、)リメチ
ロールプロパントリスチオグリコレ−1−、トIJメチ
ロールプロパン(β−メルカノト70ロピオネート)、
ペンタエリスリットテトラキス(チオグリコレート)、
ペンタエリスリットテトラキス(β−メルカプトグロピ
オネート)、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレ
−トドリス(β−メルカゾトプロビオネート)エチレン
クIJコールビス(β−メルカノトグロピオネート)等
である。これらを併用して用いることも可能である。
In addition, the general formula R-(
:5H)71 (where n is an integer of 2 to 4, R is an organic group not containing a reactive double bond) can all be used, but preferred compounds include mercaptocar+lp Examples of commonly used esters of acids and polyhydric alcohols include t, "C'U," methylolpropane, tristhioglycole-1-, and methylolpropane (β-merkanot 70 ropionate). ,
pentaerythrittetrakis (thioglycolate),
These include pentaerythrittetrakis (β-mercaptogropionate), tris(hydroxyethyl)isocyanurate doris (β-mercazotoprobionate) ethylenec IJ colbis (β-merkanotogropionate), and the like. It is also possible to use these in combination.

またプレポリマー化に際してのDAP−Pおよび/また
は1soDAP−Pとポリチオールの混合比率はDAP
・Pおよび/またはiso、DAP−P l当量に対し
て、ポリチオール2当量以上が必要であり、これ以下で
あるとプレポリマー化に際してグルを生じてしまう。し
かしながらポリチオール成分をあまり過剰にするとフリ
ーのポリチオールが増加し、最終硬化物中のDAP、P
および/またはiso DAP−P成分が少なくなって
しまい耐熱性が低下してしまう。
In addition, the mixing ratio of DAP-P and/or 1soDAP-P and polythiol during prepolymerization is
- P and/or iso, DAP-P 2 or more equivalents of polythiol are required with respect to 1 equivalent, and if it is less than this, glue will be produced during prepolymerization. However, if the polythiol component is added too much, free polythiol will increase, resulting in DAP and P in the final cured product.
And/or the iso DAP-P component decreases, resulting in a decrease in heat resistance.

従ってプレポリマー化に際してはりルを生じない可及的
に少ない酸のポリチオールを用いることが肝要である。
Therefore, it is important to use a polythiol with as little acid as possible that does not generate pores during prepolymerization.

また反応に際しては無触媒であっても反応は進行するが
、必要に応じてラジカル開始剤の添加も効果的である。
Although the reaction proceeds even in the absence of a catalyst, it is also effective to add a radical initiator if necessary.

更にプレポリマー化は通常溶媒中で行ない、最終組成物
は謂ゆるワニスの状態で得るのが一般的であり DAP
 −Pおよび/またはiso DAP−Pを溶解出来る
溶媒はすべて使用可能であるし、更に液状ポリチオール
中にDAP −Pおよび/または18oDAP−Pを分
散溶解せしめ、加熱反応層最終的に溶媒を添加すること
も可能である。好んで用いられる溶媒は該組成物の用途
により異なるが、該ワニスはシート状基材に塗布・含浸
后溶媒を乾燥により除去するため、アセト/、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトンといった低沸点溶
媒が好ましい。
Furthermore, prepolymerization is usually carried out in a solvent, and the final composition is generally obtained in the form of a so-called varnish.
Any solvent that can dissolve -P and/or isoDAP-P can be used, and DAP-P and/or 18oDAP-P are further dispersed and dissolved in liquid polythiol, and the solvent is finally added to the heated reaction layer. It is also possible. The preferred solvent varies depending on the use of the composition, but since the varnish is applied to a sheet-like substrate and the solvent is removed by drying, a low boiling point solvent such as acetate, methyl ethyl ketone, or methyl isobutyl ketone is preferred.

次いでこの様にして得られたチオールルポリマーに、1
分子中に反応性炭素−炭素不飽和結合を2ヶ以−ヒ有す
るポリエン化合物を添加する。
Next, 1
A polyene compound having two or more reactive carbon-carbon unsaturated bonds in the molecule is added.

DAP、Pおよび/°または1θo 1)AP−Pをチ
オール変性することにより各種ポリエンとの相溶性が向
上し、共重合性も著しるしく向上するため、ポリエンと
してはアクリレート化合物、メタクリレート化合物、ア
リル化合物であれば全て使用可能であるが、反応性のコ
ントロールのし易さという点を考慮した場合、了り一ル
化合物であることが望ましい。
DAP, P and /° or 1θo 1) Thiol modification of AP-P improves compatibility with various polyenes and significantly improves copolymerizability, so polyenes such as acrylate compounds, methacrylate compounds, allyl Any compound can be used, but from the viewpoint of ease of control of reactivity, it is preferable to use a monomer compound.

貝9体的な例としては、トリアり一ルインシアヌレート
、トリアリールシアヌレ−1・、ノアリールイソフタレ
ート、ノアリールマレート、ノアリルイタコ*−1・、
ノアリールクロレンーr−ト、トリアリールトリメリテ
ート等が挙げられ、これらは単独でもしくは併用して用
いることが可能である。
Nine examples of shellfish include triaryl cyanurate, triaryl cyanurate-1, noaryl isophthalate, noaryl malate, noaryl itaco*-1,
Examples include noaryl chlorate, triaryl trimellitate, and the like, and these can be used alone or in combination.

更に上記ポリチオールゾレポリマー溶液トボリエンの配
合物に紫外線、電子線等の放射線照射により遊離基金生
成する。光増感剤を添加するが、この化合物としてはベ
ンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル等ヲ拳独もしくは併用添加することかり
能である。これらの添加量は全樹脂に対して0.01〜
3重着係程度で充分である。また上記組成物中に必要に
より安定剤、顔料、染料等の着色剤、増量剤等を添加す
ることも適宜実施可能である。
Furthermore, free funds are generated by irradiating the above-mentioned polythiol sol polymer solution tobolyene mixture with radiation such as ultraviolet rays and electron beams. A photosensitizer is added, and examples of this compound include benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, etc. alone or in combination. The amount of these additions is 0.01 to 0.01 to the total resin.
Three layers are sufficient. It is also possible to add stabilizers, colorants such as pigments and dyes, extenders, etc. to the above composition as necessary.

かくして得られた樹脂ワニスを各種シート状基板に塗布
き没する。この場合のシート状基材は放射線透過性を有
するものであればすべて使用可能であるが、特に好まし
いものとしては、ガラス布、ガラス不織布、ポリエステ
ル布、ポリエステル不織布紙等が放射線透過性という観
点から好ましい。
The resin varnish thus obtained is applied to various sheet-like substrates. In this case, any sheet-like base material can be used as long as it has radiation transparency, but glass cloth, glass nonwoven fabric, polyester cloth, polyester nonwoven paper, etc. are particularly preferable from the viewpoint of radiation transparency. preferable.

また樹脂の塗布址は、溶剤除去後で30〜70重険チが
妥当であり、30%以下であるとラミネート時銅箔との
密着不良を生じるし、70%以−ヒの場合樹脂の20−
量が大きく、ラミネート時のトラブルが生じてしまう。
In addition, it is appropriate for the resin coating area to be 30 to 70% thick after removing the solvent; if it is less than 30%, it will cause poor adhesion to the copper foil during lamination, and if it is more than 70%, the resin will have 20% −
The amount is large, causing trouble during lamination.

塗布含浸層120 ℃以下の温度で乾燥せしめて溶媒を
除去し冷却する。冷却后は室温状態では全く粘性は無く
、優れたプリプレグである。次いで得られた1枚以上の
シリプレグと銅箔を熱ラミネーター等を用いてラミネー
トする。熱間状態では適度の粘性が発現するため強固な
接着性が得られる。次いで該ラミネートをシリプレグ側
から放射線を照射し、樹脂を完全に硬化せしめる。照射
は10秒以下の照射で充分であるため極めて生産性の高
い製造法である。
The coated impregnated layer is dried at a temperature of 120° C. or lower to remove the solvent, and then cooled. After cooling, it has no viscosity at room temperature and is an excellent prepreg. Next, one or more of the obtained silicone pregs and copper foil are laminated using a thermal laminator or the like. In a hot state, moderate viscosity is developed, so strong adhesiveness can be obtained. The laminate is then irradiated with radiation from the Silipreg side to completely cure the resin. Since irradiation for 10 seconds or less is sufficient, this is an extremely productive manufacturing method.

か<′シて優れた片面金属張り板が得られ、このものは
f +、1ント配線板等への適用が可能なものであり、
その工業的意義は極めて高いものである。
Therefore, an excellent single-sided metal-clad board can be obtained, which can be applied to f+, 1-int wiring boards, etc.
Its industrial significance is extremely high.

以下に実施例を示す。Examples are shown below.

実施例I 粉末状DAPfレポリマ−(大阪曹達■製、商品名ダイ
ソーダッ:7’A)600重量部、メチルエチルケトン
(MFliK)400重量部を5tフラスコ中で混合し
均一な溶液とする。
Example I 600 parts by weight of powdered DAPf repolymer (manufactured by Osaka Soda ■, trade name: Daiso Dot: 7'A) and 400 parts by weight of methyl ethyl ketone (MFliK) were mixed in a 5-t flask to form a uniform solution.

次いでこの溶液にインタエリスリットテトラキス(β−
メルカプトプロピオネート) 700重量部を添加し、
60℃の温度で2時間反応せしめ、−8H含量2.4 
m−m01/fのポリチオールルポリマーを得た。次い
でこの樹脂溶液を冷却し、トリアリールイソシアヌレー
ト350重量部、ベンゾフェノン1重量部およびMF;
K 1000重址部を添加混合して均一なワニス組成物
を得た。
Then, this solution was added with intererythrittetrakis (β-
Mercaptopropionate) 700 parts by weight were added,
Reacted at a temperature of 60°C for 2 hours, -8H content 2.4
A polythiol polymer of m-m01/f was obtained. This resin solution was then cooled, and 350 parts by weight of triaryl isocyanurate, 1 part by weight of benzophenone and MF;
A homogeneous varnish composition was obtained by adding and mixing K 1000 heavy weight.

次に上記ワニスをガラスクロスに塗布し、lo。Next, apply the above varnish to a glass cloth and lo.

℃の温度で乾燥したところ可撓性に富む粘着性の全くな
いシリプレグを得た。該ゾリゾレグ2層を重ね、更にそ
の上にあμの銅箔を重ね、150’Cに設定されたロー
ル間を通過せしめてラミネートを行った。密着性を有す
る一体化したラミネート品を得た。次いで該積j一体の
シリプレグ側を上面にして高圧水銀灯を用いて、10秒
間紫外線を照射した。照射によりシリプレグは完全に硬
化し片面鋼貼り板が得られた。得られた銅貼板は可撓性
を有する反り、ねじれの全く無い優れたものであり、回
路板として充分使用可能なものであった。
After drying at a temperature of .degree. C., a highly flexible silicone preg without any stickiness was obtained. The two layers of Zorizoreg were stacked, and then a copper foil of Aμ was superimposed on top of the two layers, and laminated by passing between rolls set at 150'C. An integrated laminate product with adhesive properties was obtained. Next, the silicon preg side of the integrated product was irradiated with ultraviolet rays for 10 seconds using a high-pressure mercury lamp. The silipreg was completely hardened by irradiation, and a single-sided steel plate was obtained. The obtained copper laminate was excellent in flexibility, completely free from warping and twisting, and could be fully used as a circuit board.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] ジアリールフタレートルポリマー(以下DAP−Pとい
う)および/またはインノアリルフタレートゾレボリマ
ー(以下1日ODAP、Pという)と一般式R−GSH
)n  (式中Rは反応性炭素−炭素不飽和結合を含ま
ない有機基、nは2〜4の整数)で表され゛るポリチオ
ールをDAP、Pおよび/またはiso DAP−P中
のアリール基に対してポリチオールのメルカプト基が化
学量論的に過剰である条件において、溶媒存在下、加熱
下で反応せしめて得られる末端−8Hおよびフリーのポ
リチオールを含有して成るチオールゾレポリマーワニス
(A)と1分子中に2岡以−Hの反応性炭素−炭素不飽
和結合を有するJ IJエノCB)および光増感剤((
3)とを主要構成成分とする樹脂ワニスを得る工8(工
81)と、該ワニスを放射線透過能を有する繊維状物質
から構成される布若しくは不織布等のシート状基材に塗
布含浸して乾燥せしめる工程(工程l)と、1mm以上
上該含浸乾燥物を重ね、銅箔とラミネートシて一体化し
た積層物を得る工程(工程1II)と、銅箔と反対の含
浸乾燥物面に放射線を照射して樹脂を3次元架橋硬化せ
しめる銅張り積層板を得る工程(工程■)とからなるこ
とを特徴とする積層板製造方法。
Diaryl phthalate polymer (hereinafter referred to as DAP-P) and/or innoaryl phthalate sol polymer (hereinafter referred to as ODAP, P) and the general formula R-GSH
)n (wherein R is an organic group containing no reactive carbon-carbon unsaturated bond, n is an integer of 2 to 4) is a polythiol represented by the aryl group in DAP, P and/or iso DAP-P. A thiol sol polymer varnish (A ) and a photosensitizer ((
Step 8 (Step 81) for obtaining a resin varnish containing 3) as a main component, and applying and impregnating the varnish on a sheet-like base material such as a cloth or nonwoven fabric made of a fibrous material having radiation transmittance. A step of drying (Step 1), a step of overlapping the impregnated dried material by 1 mm or more and laminating it with copper foil to obtain an integrated laminate (Step 1II), and a step of applying radiation to the side of the impregnated dried material opposite to the copper foil. A method for producing a laminate, comprising the step of obtaining a copper-clad laminate by three-dimensionally cross-linking and curing the resin by irradiating the resin with water (step (2)).
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JPS6149114B2 (en) 1986-10-28

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