JPH01207986A - Compound material for printed wiring board - Google Patents

Compound material for printed wiring board

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JPH01207986A
JPH01207986A JP63033375A JP3337588A JPH01207986A JP H01207986 A JPH01207986 A JP H01207986A JP 63033375 A JP63033375 A JP 63033375A JP 3337588 A JP3337588 A JP 3337588A JP H01207986 A JPH01207986 A JP H01207986A
Authority
JP
Japan
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curing
printed wiring
wiring board
phosphazene compound
compound
Prior art date
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Application number
JP63033375A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeo Mori
重雄 森
Atsunori Yaguchi
矢口 敦則
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Idemitsu Petrochemical Co Ltd filed Critical Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Priority to JP63033375A priority Critical patent/JPH01207986A/en
Publication of JPH01207986A publication Critical patent/JPH01207986A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To make a compound material for a printed wiring board which has excellent basic characteristics and is thin but has a good mechanical strength, especially a good tensile strength, meeting requirements for a high- density printed wiring board, by coating and/or impregnating a curing phosphazene compound on a basic material and by curing it. CONSTITUTION:As a curing phosphazene compound, a cured resin can be used properly, which is made by curing and polymerizing a mixture of one or two kinds of compounds expressed by a general expression [NPXaYb]n. In this expression, X and Y are polymerization curing radicals or non-polymerization curing radicals, (a) and (b) are integers between 0 and 2 (a+b=2), and (n) is an integer not less than 3. A compound material for a printed wiring board can be made by coating and/or impregnating a curing phosphazene compound on a basic material and curing it. By this method, insulation, heat resistance, chemical stability, abrasion resistance and durability of the compound material for a printed wiring board are made excellent and also a mechanical strength including a tensile strength can be remarkably increased.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、プリント配線基板用複合材に関し、より詳し
くは、殊に引張り強度等の機械的強度に優れ、しかも基
材が木来有している適度の可撓性を保持した実用−L有
利なプリント配線基板用複合材に関する。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a composite material for printed wiring boards, and more specifically, the present invention relates to a composite material for printed wiring boards, and more particularly, it has excellent mechanical strength such as tensile strength, and has a base material made of wood. The present invention relates to a composite material for printed wiring boards which is advantageous in practical use and maintains appropriate flexibility.

[従来の技術およびその問題点] 従来、電気・電子機器分野に広く利用されているプリン
ト配線板として、銅張積層板等の積層板がある。
[Prior Art and its Problems] Laminated boards such as copper-clad laminates are known as printed wiring boards that have been widely used in the electrical and electronic equipment fields.

この積層板は、一般にその構成材すなわち積層材として
、クラフト紙、混抄紙、などの紙糸基材、ガラス布、ア
ルミナ紙等の無機質紙系基材やポリイミド樹脂、フェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂などの樹脂
系基材あるいは、前記基材に、前記のごとき樹脂を含浸
してなる複合系積層材、さらには、銅箔などの金属箔な
どを用い、これらを目的に応じて種々の構造となるよう
重ね合せ、接着もしくは圧着積層加工したり、積層板も
しくは積層材自体に導電性金属を蒸着もしくはメツキす
るなどして製造されている。
This laminate is generally made of paper fiber base materials such as kraft paper and mixed paper, inorganic paper base materials such as glass cloth and alumina paper, polyimide resins, phenol resins, epoxy resins, and polyester resins. Using a resin base material such as resin, a composite laminate material made by impregnating the base material with the above resin, or a metal foil such as copper foil, these can be fabricated into various structures depending on the purpose. It is manufactured by stacking, adhering, or press-bonding lamination so that it becomes like that, or by vapor-depositing or plating a conductive metal on the laminate or laminate itself.

ところが、近年プリント配線板は高密度化が要求されて
おり、今後益々この傾向は強まるものと思われる。した
がって、配線板チップの寸法の小型化や積層体自体の多
層化が進められ、これに応じて積層材もより薄くて丈夫
なものが求められている。
However, in recent years, printed wiring boards have been required to have higher density, and this trend is expected to become even stronger in the future. Therefore, the size of wiring board chips is becoming smaller and the laminate itself is becoming more multi-layered, and accordingly, laminate materials are required to be thinner and more durable.

このような薄くても比較的丈夫な積層材として、従来、
前記のごときカラス布、紙糸基材、無機質紙系基材に、
前記のことき、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等の硬化
性樹脂あるいは、ポリイミド樹脂等の樹脂を含浸してな
る積層材が用いられてきているが、これらの積層材は、
前記高密度化をさらに進めるにあたり、その機械的強度
等において未だ十分なものとはいえないという問題点が
あった。
Conventionally, as such a thin but relatively strong laminated material,
The above-mentioned crow cloth, paper thread base material, inorganic paper base material,
In the above, laminated materials impregnated with curable resins such as epoxy resins and phenol resins, or resins such as polyimide resins have been used, but these laminated materials
When further increasing the density, there was a problem that the mechanical strength and the like were still insufficient.

本発明は、前記事情に基づいてなされたものである。The present invention has been made based on the above circumstances.

本発明の目的は、絶縁性、耐熱性、耐アルカリ性、耐酸
性、耐摩耗性、耐久性等の基本特性に優れ、プリント配
線基板の高密度化に対する要求に応えることができる薄
くても機械的強度、特に引張り強度に優れ、かつ基材が
木来有する適当な可撓性を低下させることないプリント
配線基板用複合材を提供することを目的とするものであ
る。
The purpose of the present invention is to provide a thin yet mechanically resistant material that has excellent basic properties such as insulation, heat resistance, alkali resistance, acid resistance, abrasion resistance, and durability, and that can meet the demands for higher density printed wiring boards. The object of the present invention is to provide a composite material for printed wiring boards that has excellent strength, especially tensile strength, and does not reduce the appropriate flexibility of the base material.

[問題点を解決するための手段] 本発明者らは、前記問題点を解決すべく鋭意研究を重ね
た結果、特定の樹脂硬化物すなわち硬化性ホスファゼン
化合物の硬化体を有する基材が、プリント配線基板用材
として、前記目的を満足することを見出し、本発明を完
成するに至った。
[Means for Solving the Problems] As a result of extensive research in order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that a substrate having a specific cured resin product, that is, a cured product of a curable phosphazene compound, is suitable for printing. It has been discovered that the above-mentioned object can be satisfied as a material for wiring boards, and the present invention has been completed.

すなわち、前記目的を達成するための本発明の構成は、
硬化性ホスファセン化合物を、基材にコーティングおよ
び/または含浸し、硬化してなることを特徴とするプリ
ント配線基板用複合材である。
That is, the configuration of the present invention for achieving the above object is as follows:
A composite material for a printed wiring board characterized by coating and/or impregnating a curable phosphacene compound onto a base material and curing the same.

本発明で用いる基材としては、特に制限はなく、従来か
ら使用されているプリント配線基板用の基材を使用する
ことができる。
The base material used in the present invention is not particularly limited, and conventionally used base materials for printed wiring boards can be used.

その具体例としては、ガラス布、ガラスマット、カラス
ペーパー、クォーツファイバー等のガラス繊維紙系基材
、クラフト紙、リンター紙、混抄紙、アンチモン紙等の
紙糸基材、アルミナ紙等の無機質系基材、ポリエステル
m維、ポリアミド繊維、ポリアラミド繊維等の合成樹脂
繊維系シート、ガラス混抄紙等の複合系基材などを好適
に使用することができる。
Specific examples include glass fiber paper base materials such as glass cloth, glass mat, glass paper, and quartz fiber; paper thread base materials such as kraft paper, linter paper, mixed paper, and antimony paper; and inorganic paper base materials such as alumina paper. Base materials, synthetic resin fiber sheets such as polyester m fibers, polyamide fibers, and polyaramid fibers, composite base materials such as glass-mixed paper, etc. can be suitably used.

基材の形状、厚みとしては、特に制限はなく、プリント
配線ノ、(板に適合するように適宜選定することができ
る。
The shape and thickness of the base material are not particularly limited and can be appropriately selected to suit the printed wiring board.

たとえば、基材の厚みは、その種類、積層構造や使用目
的により異なるので一様に規定できないが、通常は、例
えば0.005〜1.0 amの範囲とするのが好適で
ある。
For example, the thickness of the base material cannot be uniformly defined because it varies depending on its type, laminated structure, and purpose of use, but it is usually suitable for it to be in the range of, for example, 0.005 to 1.0 am.

本発明に用いる硬化性ホスファゼン化合物としては、次
の一般式(I) [N PXa Y b ]。・・・・・・・・・・(I
I(但し、式中、XおよびYは、重合硬化性基または非
重合硬化性基を表わし、かつX、Yのうち、少なくとも
一方は重合硬化性基を表わし、XとYとは同一であって
も相違していても良い。
The curable phosphazene compound used in the present invention has the following general formula (I) [N PXa Y b ].・・・・・・・・・・・・(I
I (wherein, X and Y represent a polymerizable curable group or a non-polymerizable curable group, and at least one of X and Y represents a polymerizable curable group, and X and Y are the same) It is okay to be different.

aおよびbはそれぞれO〜2の整数を表わし、かつ、a
+b=2である。また、nは、3以上の整数を表わし、
好ましくは3≦n≦18であり、特に好ましくは、n=
3または4である。)で表わされる化合物の1種または
2種以上の混合物を重合硬化してなる樹脂硬化物を好適
に使用することができる。
a and b each represent an integer from O to 2, and a
+b=2. Further, n represents an integer of 3 or more,
Preferably 3≦n≦18, particularly preferably n=
3 or 4. A cured resin product obtained by polymerizing and curing one type or a mixture of two or more of the compounds represented by ) can be suitably used.

前記一般式(I)中のXおよび/またはYとして用いる
前記重合硬化性基としては、例えば、アクリル基、メタ
クリル基、ビニル基、アリル基などの重合性二重結合を
含有する基を挙げることができ、中でもアクリロイルオ
キシ基および/またはメタクリロイルオキシ基を含有す
る基、例えば、次の一般式(II ) (但し、式中Zは、水素原子またはメチル基を表わし、
Rは炭素数1〜12のアルキレン基を表わす。このアル
キレン基Rは、直鎖状のものであってもよく、分岐を有
するものであってもよい。) 前記一般式(II)で表わされる基の具体例としては、
例えば、2−ヒドロキシエチルメタクリレ−1−,2−
ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシブ
チルメタクリレート、3−ヒドロキシブチルメタクリレ
ート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒド
ロキシペンチルメタクリレート、6−ヒドロキシ−3−
メチルへキシルメタクリレート、5−ヒドロキシヘキシ
ルメタクリレート、3−ヒドロキシ−2−t−ブチルプ
ロピルメタクリレート、3−ヒドロキシ−2,2−ジメ
チルへキシルメタクリレート、3−ヒドロキシ−2−メ
チル−エチルプロピルメタクリレートおよび12−ヒド
ロキシドデシルメタクリレートなどのメタクリレート類
中の水酸基から水素原子を除いた残基、並びに2−ヒド
ロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、3−
ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシエチル
アクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、
6−ヒドロキシ−3−メチルへキシルアクリレート、5
−ヒドロキシへキシルアクリレート、3−ヒドロキシ−
2−t−ブチルプロピルアクリレート、3−ヒドロキシ
−2,2−ジメチルヘキシルアクリレート、3−ヒドロ
キシ−2−メチル−エチルプロピルアクリレートおよび
12−ヒドロキシドデシルアクリレートなどのアクリレ
ート類中の水酸基から水素原子を除いた残基を挙げるこ
とができる。特に好ましい基は、前記式■中のZが水素
原子または炭素数1〜4の低級アルキル基であり、Rが
炭素数1〜4の低級アルキレン基である(メタ)アクリ
レート残基であり、さらに好ましい基は、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート残基および2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート残基である。
Examples of the polymerizable curable group used as X and/or Y in the general formula (I) include groups containing a polymerizable double bond such as an acrylic group, a methacryl group, a vinyl group, and an allyl group. Among them, a group containing an acryloyloxy group and/or a methacryloyloxy group, for example, the following general formula (II) (wherein Z represents a hydrogen atom or a methyl group,
R represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms. This alkylene group R may be linear or branched. ) Specific examples of the group represented by the general formula (II) are:
For example, 2-hydroxyethyl methacrylate-1-,2-
Hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, 6-hydroxy-3-
Methylhexyl methacrylate, 5-hydroxyhexyl methacrylate, 3-hydroxy-2-t-butylpropyl methacrylate, 3-hydroxy-2,2-dimethylhexyl methacrylate, 3-hydroxy-2-methyl-ethylpropyl methacrylate and 12- Residues obtained by removing hydrogen atoms from hydroxyl groups in methacrylates such as hydroxydodecyl methacrylate, as well as 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 3-
Hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxyethyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate,
6-hydroxy-3-methylhexyl acrylate, 5
-Hydroxyhexyl acrylate, 3-hydroxy-
Hydrogen atoms are removed from the hydroxyl groups in acrylates such as 2-t-butylpropyl acrylate, 3-hydroxy-2,2-dimethylhexyl acrylate, 3-hydroxy-2-methyl-ethylpropyl acrylate, and 12-hydroxydodecyl acrylate. Residues can be mentioned. A particularly preferred group is a (meth)acrylate residue in which Z in the above formula (1) is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R is a lower alkylene group having 1 to 4 carbon atoms; Preferred groups are 2-hydroxyethyl methacrylate residues and 2-hydroxyethyl acrylate residues.

もっとも、前記各種のヒドロキシアルキルメタクリレー
ト残基とヒドロキシアルキルアクリレート残基とを比較
した場合、ヒドロキシアルキルアクリレート残基のほう
が好ましいと考えられる。
However, when comparing the various hydroxyalkyl methacrylate residues and hydroxyalkyl acrylate residues, the hydroxyalkyl acrylate residues are considered to be more preferable.

架橋速度が大きくなるからである。This is because the crosslinking rate increases.

また、前記一般式(I)中のXまたはYとして用いるこ
とができる非重合硬化性基としては、例えば、フェノキ
シ基、ハロゲン化フェノキシ基、アルコキシ基、ハロゲ
ン化アルコキシ基、アミノ基などを挙げることができる
Further, examples of the non-polymerizable curable group that can be used as X or Y in the general formula (I) include a phenoxy group, a halogenated phenoxy group, an alkoxy group, a halogenated alkoxy group, and an amino group. Can be done.

なお、本発明においては、前記硬化性ホスファゼン化合
物の中でも、特に前記一般式(I)におけるnが3もし
くは4である環状ホスファゼン化合物またはこれらの混
合物が好ましい。
In the present invention, among the curable phosphazene compounds, cyclic phosphazene compounds in which n in the general formula (I) is 3 or 4 or mixtures thereof are particularly preferred.

前記環状化合物を重合硬化してなる樹脂硬化物を用いる
と、耐熱性に特に優れたプリント配線基板用複合材とす
ることができるからである。
This is because by using a cured resin obtained by polymerizing and curing the cyclic compound, a composite material for printed wiring boards particularly excellent in heat resistance can be obtained.

前記一般式(I)におけるnが3である環状ホスファゼ
ン化合物の具体例としては、例えば、1゜1.3,3,
5.5−へキサ(2−メタクリロイルエチレンジオキシ
)シクロトリホスファゼン、1,1,3,3゜5.5−
ヘキサ(2−アクリロイルエチレンジオキシ)シクロト
リホスファゼンなどを挙げることができる。
Specific examples of the cyclic phosphazene compound in which n in the general formula (I) is 3 include, for example, 1°1.3,3,
5.5-hexa(2-methacryloylethylenedioxy)cyclotriphosphazene, 1,1,3,3°5.5-
Examples include hexa(2-acryloylethylenedioxy)cyclotriphosphazene.

また、前記一般式(I)におけるnが4である環状ホス
ファゼン化合物の具体例としては、例えば、1,1,3
,3,5,5..7.7−オクタ(2−メタクリロイル
エチレンジオキシ)シクロテトラホスファゼン、1,1
,3,3,5,5.7.7−オクタ(2−アクリロイル
エチレンジオキシ)シクロテトラホスファゼン等を挙げ
ることができる。
Further, as specific examples of the cyclic phosphazene compound in which n in the general formula (I) is 4, for example, 1, 1, 3
,3,5,5. .. 7.7-octa(2-methacryloylethylenedioxy)cyclotetraphosphazene, 1,1
, 3,3,5,5.7.7-octa(2-acryloylethylenedioxy)cyclotetraphosphazene and the like.

なお、前記ホスファゼン化合物の製造方法は既に公知で
あり、本発明で用いる硬化性ホスファゼン化合物も公知
の方法に従って製造することができる。例えば、ヘキサ
クロロシクロトリホスファゼンと2−ヒドロキシエチル
メタクリレートとを反応させることにより、ヘキサクロ
ロシクロトリホスファゼンの塩素の一部あるいは全部が
2−ヒドロキシエチルメタクリレート残基で置換された
ホスファゼン化合物を得ることができる。なお、ここで
、塩素は全部置換されているのが好ましいのであるが、
一部の塩素が残留していてもよい。
Note that the method for producing the phosphazene compound is already known, and the curable phosphazene compound used in the present invention can also be produced according to the known method. For example, by reacting hexachlorocyclotriphosphazene with 2-hydroxyethyl methacrylate, a phosphazene compound in which part or all of the chlorine in hexachlorocyclotriphosphazene is substituted with a 2-hydroxyethyl methacrylate residue can be obtained. Note that it is preferable that all chlorine be replaced here,
Some chlorine may remain.

この反応の際に、三級アミンを用いるのが、脱塩素反応
を促進する上で、有利である。この三級アミンとしては
、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
イソプロピルアミン、トリーn−プロピルアミン、トリ
ーn−ブチルアミン、ピリジンおよびN、N、N−テト
ラエチレンジアミンなどを挙げることができ、この中で
もピリジンが好適である。
In this reaction, it is advantageous to use a tertiary amine in order to promote the dechlorination reaction. Examples of the tertiary amine include trimethylamine, triethylamine, triisopropylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, and N,N,N-tetraethylenediamine, among which pyridine is preferred. It is.

また、この反応は通常は水を含まない有機溶媒中で行わ
れる。用いる有機溶媒の例としては、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クロロホルム、シクロヘキサン、塩化メ
チレンおよびテトラヒドロフラン等を挙げることができ
、これらを単独であるいは組合せて使用することができ
る。
Moreover, this reaction is usually carried out in an organic solvent that does not contain water. Examples of the organic solvent used include benzene, toluene, xylene, chloroform, cyclohexane, methylene chloride, and tetrahydrofuran, which can be used alone or in combination.

なお、本発明では、硬化性ホスファゼン化合物を製造す
る際の出発物質であるグロロホスファゼン化合物として
、ジクロロホスファゼンの三量体(ヘキサクロロシクロ
トリホスファゼン)、四量体あるいはオリゴマーを用い
るのが好ましい。このようなテロマーあるいはオリゴマ
ーを用いて得られた硬化性ホスファゼン化合物は、その
硬化物中の架橋密度を、容易に制御することができるか
らである。
In the present invention, it is preferable to use a trimer (hexachlorocyclotriphosphazene), a tetramer, or an oligomer of dichlorophosphazene as the glolophosphazene compound that is a starting material for producing the curable phosphazene compound. This is because the crosslinking density in the cured product of the curable phosphazene compound obtained using such a telomer or oligomer can be easily controlled.

本発明のプリント配線基板複合体を得るための前記硬化
性ホスファゼン化合物の使用量は、用いる基材の種類、
使用目的、積層板とするときにはその積層板の暦数や構
成などによって異なるので一様に規定することができな
いが、用いる基材の100重量部当り、通常10110
−6〜10重量部とするのが好適である。
The amount of the curable phosphazene compound used to obtain the printed wiring board composite of the present invention depends on the type of substrate used,
Although it cannot be uniformly prescribed because it varies depending on the purpose of use, the number of calendars and the structure of the laminate when making it into a laminate, it is usually 10110 per 100 parts by weight of the base material used.
-6 to 10 parts by weight is preferred.

この使用量が少なすぎると、得られるプリント配線基板
用複合体の機械的強度が十分に得られず、基板の小型化
、高密度化に十分な効果が得られず、一方、前記使用量
が多すぎると、基材が木来有している適度の可侘性が保
持できなくなる場合がある。
If the amount used is too small, the resulting printed wiring board composite will not have sufficient mechanical strength and will not be sufficiently effective in downsizing and increasing the density of the board. If the amount is too large, the base material may not be able to maintain its inherent flexibility.

本発明におけるプリント配線基板用複合体は、前記基材
に前記硬化性ホスファゼン化合物をコーティングおよび
/または含浸し、硬化することにより製造することがで
きる。
The composite for a printed wiring board in the present invention can be produced by coating and/or impregnating the curable phosphazene compound on the base material and curing it.

なお、前コーティングおよび/または含浸の際に前記硬
化性ホスファゼン化合物に重合硬化性化合物を共存させ
ても良い。
In addition, a polymerizable curable compound may be made to coexist with the curable phosphazene compound during pre-coating and/or impregnation.

前記重合硬化性化合物としては、例えば、メチルアクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレート、エチレングリ
コールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレートおよび
テトラエチレングリコールジアクリレートとメタクリレ
ートとの混合物、グリシジルアクリレート、2,2゛−
ビス(アクリロキシフェニル)プロパン、2.2’−ビ
ス[4−(3−メタクリロキシ)−2−ヒドロキシプロ
ポキシフェニル]プロパン、カルボン酸のビニルエステ
ル類(例えば、酢酸ビニル、ステアリン酸ビニルなど)
およびエチレン系不飽和ジカルボン酸類(例えば、フマ
ル酸、マレイン酸。
Examples of the polymerizable curable compound include methyl acrylate, hydroxyethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, a mixture of tetraethylene glycol diacrylate and methacrylate, glycidyl acrylate, 2,2゛−
Bis(acryloxyphenyl)propane, 2,2'-bis[4-(3-methacryloxy)-2-hydroxypropoxyphenyl]propane, vinyl esters of carboxylic acids (e.g. vinyl acetate, vinyl stearate, etc.)
and ethylenically unsaturated dicarboxylic acids (e.g. fumaric acid, maleic acid.

無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸など)等
を挙げることができる。
maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, etc.).

また、前記硬化性ホスファゼン化合物には、所望により
、通常用いられる添加剤、例えば架橋剤、分子量調節剤
あるいは酸化防止剤等の老化防止剤、可塑剤などを適宜
含有していてもよい。
Further, the curable phosphazene compound may optionally contain commonly used additives, such as a crosslinking agent, a molecular weight regulator, an antioxidant such as an antioxidant, a plasticizer, and the like.

本発明方法においては、前記硬化性ホスファゼン化合物
、通常はこれに後記の光重合開始剤や熱重合開始剤を添
加したもの、あるいはこれら所望により前記のごとき他
の重合硬化性化合物や添加物を混合もしくは添加したも
のを、前記基材に、コーティングもしくは含浸する。
In the method of the present invention, the curable phosphazene compound is usually mixed with a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator described later, or if desired, other polymerizable curable compounds and additives as described above are mixed therein. Alternatively, the added material is coated or impregnated onto the base material.

このコーティングおよび/または含浸は、用いる基材の
所定の部分に行ってもよく、あるいは全体に行ってもよ
く、例えば、基材の片面側から行ってもよく、両面側か
ら行ってもよい。
This coating and/or impregnation may be carried out on a predetermined portion of the substrate used, or may be carried out over the entire substrate, for example from one side of the substrate or from both sides.

このコーティングおよび含浸を行うに際しては、所望に
より希釈剤もしくは溶媒を使用し、用いる硬化性樹脂を
溶解もしくは分散して使用することができ、通常、特に
用いる硬化性ホスファゼン化合物の粘度が高い場合には
、前記のごとく希釈剤もしくは溶媒を使用することが望
ましい。
When performing this coating and impregnation, the curable resin used can be dissolved or dispersed using a diluent or solvent if desired, and usually, especially when the curable phosphazene compound used has a high viscosity, , it is desirable to use a diluent or solvent as described above.

この希釈剤もしくは溶媒としては、水を含まない有機溶
剤が用いられる。
As this diluent or solvent, a water-free organic solvent is used.

有機溶剤の例としては、ケトン類(たとえば、メチルエ
チルケトン、メチルインブチルケトンなど)、芳香族有
機溶剤(たとえば、ベンゼン、トルエン、キシレンなど
)、塩素系有機溶剤(たとえば、クロロホルム、塩化メ
チレンなど)、アルコール類(例えば、メタノール、エ
タノール、ブ、ロバノール、イソプロピルアルコール、
イソブチルアルコールなど)、脂環族有機溶媒(たとえ
ば、シクロヘキサンなど)、テトラヒドロフランを挙げ
ることができ、これらを単独であるいは組合せて使用す
ることができる。これらの中でも、メチルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン等のケトン類、あるいはメチ
ルイソブチルケトンとイソプロピルアルコールまたはイ
ソブチルアルコールとの混合溶液等のケトン類とアルコ
ール類との混合溶剤が好ましい。
Examples of organic solvents include ketones (e.g., methyl ethyl ketone, methyl imbutyl ketone, etc.), aromatic organic solvents (e.g., benzene, toluene, xylene, etc.), chlorinated organic solvents (e.g., chloroform, methylene chloride, etc.), Alcohols (e.g. methanol, ethanol, alcohol, isopropyl alcohol,
isobutyl alcohol, etc.), alicyclic organic solvents (for example, cyclohexane, etc.), and tetrahydrofuran, and these can be used alone or in combination. Among these, ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, or mixed solvents of ketones and alcohols such as a mixed solution of methyl isobutyl ketone and isopropyl alcohol or isobutyl alcohol are preferred.

硬化性ホスファゼン化合物と有機溶剤との混合比は、通
常は重量比で1 : 10zlO’〜1:10の範囲内
に設定するのが好適である。
The mixing ratio of the curable phosphazene compound and the organic solvent is usually preferably set within the range of 1:10zlO' to 1:10 by weight.

前記コーティングおよび/または含浸の手法としては、
公知の手法、たとえば塗布法、スプレー法、浸漬法など
を適宜に採用することができる。
The coating and/or impregnation method includes:
Known methods such as a coating method, a spray method, a dipping method, etc. can be appropriately employed.

なお、コーティング操作および含浸操作の何れか、ある
いは再操作の組合せにより、少なくとも基材の表面に硬
化性ホスファゼン化合物の被膜を形成し、さらには場合
により基材の内部にまで硬化性ホスファゼン化合物を浸
透させる。
In addition, by either the coating operation and the impregnation operation, or a combination of re-operation, a film of the curable phosphazene compound is formed at least on the surface of the base material, and further, in some cases, the curable phosphazene compound is permeated into the inside of the base material. let

基材の内部にどの程度硬化性ホスファゼン化合物を含浸
せしめるかは、プリント配線基板用複合材に対して所望
するその強度に応じて適宜に決定すれば良い。
The degree to which the inside of the base material is impregnated with the curable phosphazene compound may be appropriately determined depending on the desired strength of the composite material for printed wiring boards.

基材が多層構造のときには、各多層構造にする以前の各
単層につきコーティングおよび/または含浸操作を行な
っても良く、また各単層を重ねた積層材としてからコー
ティングおよび/または含浸の操作を行なっても良い。
When the base material has a multilayer structure, each single layer may be coated and/or impregnated before each layer is formed into a multilayer structure, or the coating and/or impregnation may be performed after each single layer is stacked to form a laminate. You can do it.

前記のごとく、コーティングもしくは含浸を行ったなら
ば、減圧乾燥法、加熱乾燥法、風乾法、あるいはこれら
を併用する乾燥処理を施して用いた希釈剤もしくは溶媒
を蒸発させてこれを除去する。なお、この乾燥処理は、
希釈剤もしくは溶媒を使用しない場合には、必ずしも行
う必要はなく、また加熱硬化方法を用いる場合には、こ
の乾燥処理は加熱硬化処理によって代用することも 。
After coating or impregnating as described above, the diluent or solvent used is evaporated and removed by drying under reduced pressure, heat drying, air drying, or a combination thereof. Note that this drying process is
If a diluent or solvent is not used, it is not necessary to perform this drying process, and if a heat curing method is used, this drying process may be replaced by a heat curing process.

可能である。次に硬化処理を施して硬化性ホスファゼン
化合物あるいはこれと共に所望により用いた他の硬化性
樹脂を重合硬化せしめ、硬化物を生成せしめる。
It is possible. Next, a curing treatment is performed to polymerize and harden the curable phosphazene compound or other curable resin optionally used together with the curable phosphazene compound to produce a cured product.

この硬化処理の方法としては、常温硬化方法を利用する
こともできるのであるが、得られるプリント配線基板用
複合材の特性および硬化性ホスファゼン化合物の硬化時
間等を考慮すると加熱硬化方法、電子線、紫外線もしく
は可視光線を用いる放射線硬化方法を好適に採用するこ
とができ、特に加熱硬化方法、紫外線硬化方法が好まし
い。
As a method for this curing treatment, it is possible to use a room temperature curing method, but considering the characteristics of the composite material for printed wiring boards obtained and the curing time of the curable phosphazene compound, it is possible to use a heat curing method, an electron beam curing method, A radiation curing method using ultraviolet rays or visible light can be suitably employed, with heat curing methods and ultraviolet curing methods being particularly preferred.

なお、これらを併用する硬化方法も採用することができ
る。
Note that a curing method that uses these methods in combination can also be adopted.

電子線、紫外線あるいは可視光線を用いた硬化方法を採
用する場合は、用いる重合開始剤(光増感剤)の例とし
ては、l−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、
ジベンゾイル、ベンゾイルメチルエーテル、ベンゾイル
エチルエーテル、p−クロロベンゾフェノン、p−メト
キシベンゾフェノン、ベンゾイルパーオキサイド、ジー
tert−ブチルパーオキサイドおよびカンフアキノン
を挙げることができ、これらを単独あるいは部重量部に
対して通常は0.05〜5.0重量部の範囲内の値に設
定される。
When using a curing method using electron beams, ultraviolet rays, or visible light, examples of the polymerization initiator (photosensitizer) used include l-hydroxycyclohexyl phenyl ketone,
Dibenzoyl, benzoyl methyl ether, benzoylethyl ether, p-chlorobenzophenone, p-methoxybenzophenone, benzoyl peroxide, di-tert-butyl peroxide and camphorquinone can be mentioned, and these are usually used alone or in parts by weight. The value is set within the range of 0.05 to 5.0 parts by weight.

また、常温硬化方法および加熱硬化方法を利用する場合
には、重合開始剤として、通常は過酸化物系の化合物あ
るいはこれとアミン系の化合物とを組合せて使用するの
が好適である。
Further, when using a room temperature curing method or a heat curing method, it is usually preferable to use a peroxide-based compound or a combination thereof with an amine-based compound as a polymerization initiator.

過酸化物系の化合物の例としては、ベンゾイルパーオキ
サイド、p−クロロベンゾイルパーオキサイド、2,4
−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルヒド
ロパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジ
クミルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアセテー
ト、t−ブチルパーオキシベンゾエートなどを挙げるこ
とができる。
Examples of peroxide compounds include benzoyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide, 2,4
Examples include -dichlorobenzoyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butyl peroxyacetate, and t-butyl peroxybenzoate.

また、アミン系の化合物の例としては、N。Further, examples of amine compounds include N.

N−ジェタノール−p−)ルイジン、ジメチル−P−)
ルイジン、P−トルイジン、メチル、アミン、t−ブチ
ルアミン、メチルエチルアミン、ジフェニルアミン、4
.4’−ジニトロジフェニルアミン、0−ニトロアニリ
ン、p−ブロモアニリン、2,4.6− )リブロモア
ニリンなどを挙げることができる。
N-jetanol-p-)luidine, dimethyl-p-)
Luidine, P-toluidine, methyl, amine, t-butylamine, methylethylamine, diphenylamine, 4
.. Examples include 4'-dinitrodiphenylamine, 0-nitroaniline, p-bromoaniline, and 2,4.6-)ribromoaniline.

この場合、過酸化物系の化合物の使用量は、ホスファゼ
ン化合物100重量部に対して通常0.05〜5.0重
量部の範囲内の値に設定するのが好適である。
In this case, the amount of the peroxide compound to be used is preferably set to a value usually in the range of 0.05 to 5.0 parts by weight per 100 parts by weight of the phosphazene compound.

また、前記アミン類の使用量は、使用する硬化性ホスフ
ァゼン化合物100重量部に対して通常0.05〜5重
量部の範囲内とするのが好適である。
Further, the amount of the amine used is preferably within the range of usually 0.05 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of the curable phosphazene compound used.

この硬化処理の条件としては、用いる硬化性ホスファゼ
ン化合物の種類や使用量、用いる重合開始剤の種類や使
用量などの他の条件によって異なるので一様に規定する
ことができないが、加熱硬化方法を用いる場合には例え
ば、通常60〜160℃、好ましくは90〜120℃の
温度範囲内で、通常0.1〜2時間、好ましくは0.5
〜1時間の時間をかけて処理する方法を採用することが
でき、一方、紫外線を用いる硬化方法を採用する場合に
は、高圧水銀灯などの通常に用いられる紫外線源を用い
て紫外線を例えば通常500〜5000mJ/cm2、
好ましくは2500〜3500IIJ/c112の照度
で、通常5〜300秒間、好ましくは10〜200秒間
かけて、連続的もしくは断続的に照射する方法が好適に
適用できる。
The conditions for this curing treatment cannot be uniformly prescribed because they vary depending on other conditions such as the type and amount of the curable phosphazene compound used and the type and amount of the polymerization initiator used, but the heat curing method When used, for example, usually within a temperature range of 60 to 160°C, preferably 90 to 120°C, for usually 0.1 to 2 hours, preferably 0.5
On the other hand, when a curing method using ultraviolet rays is used, a commonly used ultraviolet source such as a high-pressure mercury lamp is used to emit ultraviolet rays at ~5000mJ/cm2,
A method of continuous or intermittent irradiation, preferably at an illuminance of 2500 to 3500 IIJ/c112, usually for 5 to 300 seconds, preferably 10 to 200 seconds, can be suitably applied.

以上のようにして基材に硬化性ホスファゼン化合物ヲコ
ーティングおよび/または含浸させてプリント配線基板
用複合材が得られる。
As described above, a composite material for a printed wiring board is obtained by coating and/or impregnating a base material with a curable phosphazene compound.

その後、公知の手法によりプリント配線基板用複合材の
表面に導電層を形成するとプリント配線基板が得られる
Thereafter, a conductive layer is formed on the surface of the composite material for a printed wiring board by a known method to obtain a printed wiring board.

なお、単層構造あるいは積層構造の基材を使用して得ら
れる本発明のプリント配線基板用複合材を単位層とし、
この単位層を2層以上用いて、あるいは所望に応じて1
層または2層以上の他の公知の積層材例えば、前記基材
、樹脂系積層材、無機質系積層材、複合系積層材、金属
箔などを用いて、公知の積層加工法、例えば、接着剤も
しくは接着シートを用いる接着積層加工法、加熱圧着積
層加工法、金属蒸着法、無電解メツキ法などあるいはこ
れらの組み合せ法などを採用することにより、プリント
配線基板を製造することもできる。
In addition, the composite material for printed wiring boards of the present invention obtained using a base material of a single layer structure or a laminated structure is used as a unit layer,
Two or more of these unit layers are used, or one layer is used as desired.
A layer or two or more layers of other known laminate materials, such as the base material, resin-based laminates, inorganic laminates, composite laminates, metal foils, etc., may be used by known laminate processing methods, such as adhesives. Alternatively, a printed wiring board can also be manufactured by employing an adhesive lamination method using an adhesive sheet, a thermocompression lamination method, a metal vapor deposition method, an electroless plating method, or a combination thereof.

本発明のプリント配線基板用複合材は、絶縁性等の基本
特性に優れ、しかも引張り強度等の機械的強度に著しく
優れており、したがってこの複合材自体を従来のものと
比較して厚みを薄くして用いることができるので、基板
を積層構造としたときに、その多層化、小型化をはかる
ことができ、延ではプリント配線基板の高密度化が実現
される。
The composite material for printed wiring boards of the present invention has excellent basic properties such as insulation, and is also extremely superior in mechanical strength such as tensile strength. Therefore, the composite material itself can be made thinner than conventional ones. Therefore, when the substrate has a laminated structure, it is possible to increase the number of layers and reduce the size of the substrate, thereby realizing higher density of the printed wiring board.

[発明の効果] 本発明によると、絶縁性、耐熱性、化学的安定性、耐摩
耗性、耐久性等に優れ、しかも、引張り強度等の機械的
強度が著しく向上しており、かつ、基材が木来有してい
る適度の可撓性を保持しているなど優れた特性を有し、
したがって種々の用途のプリント配線基板、特に高密度
化したプリント配線基板とすることのできる、実用上著
しく右利なプリント配線基板用複合材を提供することが
できる。
[Effects of the Invention] According to the present invention, it has excellent insulation properties, heat resistance, chemical stability, abrasion resistance, durability, etc., and has significantly improved mechanical strength such as tensile strength. It has excellent properties such as maintaining the appropriate flexibility that the wood has naturally.
Therefore, it is possible to provide a composite material for printed wiring boards that is extremely advantageous in practice and can be used to make printed wiring boards for various uses, particularly high-density printed wiring boards.

[実施例1 次の本発明の実施例および比較例を示、警。゛(実施例
1) 2文のフラスコ内でヘキサクロロシクロトリホスファゼ
ア86.8gを脱水したベンゼン338gに溶解した。
[Example 1] The following examples and comparative examples of the present invention are shown below. (Example 1) 86.8 g of hexachlorocyclotriphosphazea was dissolved in 338 g of dehydrated benzene in a 2-liter flask.

このベンゼン溶液に155gのピリジンおよび0.23
gのヒドロキノンを加え窒素気流中で攪拌した。
To this benzene solution 155 g of pyridine and 0.23
g of hydroquinone was added and stirred in a nitrogen stream.

別に2−ヒドロキシエチルメタクリレート200m1を
2371m!;Lのベンゼンに溶解し、この溶液を前記
のフラスコ中に滴下し、50℃で20時間かけて反応さ
せた。反応終了後、濾過して、ピリジンの塩酸塩を除去
した。
Separately, 200ml of 2-hydroxyethyl methacrylate was 2371ml! ; L of benzene, this solution was added dropwise into the flask, and the reaction was carried out at 50° C. for 20 hours. After the reaction was completed, pyridine hydrochloride was removed by filtration.

濾液を水洗いし次いで芒硝を用いて乾燥させ、減圧蒸留
により溶剤を除去して、粘稠性の1.1,3゜3.5.
5−へキサ(メタクリロイルエチレンジオキシ)シクロ
トリホスファゼン(硬化性ホスファゼン化合物A) 2
00gを得た。
The filtrate was washed with water and then dried using Glauber's salt, and the solvent was removed by vacuum distillation to give a viscosity of 1.1.3° to 3.5°.
5-hexa(methacryloylethylenedioxy)cyclotriphosphazene (curable phosphazene compound A) 2
00g was obtained.

収率:88゜3% 硬化性ホスファゼン化合物補強基材(補強材A前記で製
造した硬化性ホスファゼン化合物Aをメチルエチルケト
ンに溶解し、0.5重量%溶液とした。この溶液に、ベ
ンツフェノンを硬化性ホスファゼン化合物Aに対して3
重量部加え溶液Aとした。
Yield: 88°3% Curable phosphazene compound reinforced base material (reinforcing material A) Curable phosphazene compound A prepared above was dissolved in methyl ethyl ketone to make a 0.5% by weight solution. Benzphenone was cured into this solution. 3 for phosphazene compound A
A solution A was added in parts by weight.

この溶液Aを、第1表に示す4種類の基材(クラフト紙
、ポリアミド繊維、アルミナ紙、ガラス布)にそれぞれ
含浸させた。含浸後、乾燥器中で90℃、10分間乾燥
させることにより溶媒を除去し、その後、 2,960
 +wJ/c+m2c7)紫外線をそれぞれの基材の両
面に150秒間照射し、4種類の硬化性樹脂補強基材(
補強材A硬化量)を得た。
Four types of base materials (kraft paper, polyamide fiber, alumina paper, and glass cloth) shown in Table 1 were each impregnated with this solution A. After impregnation, the solvent was removed by drying in a dryer at 90°C for 10 minutes, and then 2,960
+wJ/c+m2c7) Both sides of each base material were irradiated with ultraviolet rays for 150 seconds, and four types of curable resin reinforced base materials (
A reinforcing material A (cured amount) was obtained.

この得られた4種類の補強材A系硬化品について、それ
ぞれ引張り強度を測定した。
The tensile strength of each of the four types of reinforcing material A-based cured products obtained was measured.

結果を第2表に示す。The results are shown in Table 2.

(実施例2) 硬化性ホスファゼン化合物Bの製造側 温度計、攪拌装置、滴下ロートおよびコンデンサを取り
付けた2!;Lのフラスコに、テトラヒドロフラン30
0 mlおよび金属ナトリウム25.5gを投入した。
(Example 2) Production side of curable phosphazene compound B A thermometer, a stirring device, a dropping funnel, and a condenser were attached to 2! ; In a L flask, add 30% tetrahydrofuran.
0 ml and 25.5 g of sodium metal were added.

この反応溶液中にフェノール104.3 g(1,11
モル)を滴下し、滴下終了後、3時間還流してナトリウ
ムフェノラートを含む溶液を得た。
In this reaction solution, 104.3 g of phenol (1,11
After dropping, the mixture was refluxed for 3 hours to obtain a solution containing sodium phenolate.

次に、ベンゼン400 mlに溶解した193 g(0
,555モル)のヘキサクロロシクロトリホスファゼン
を、前記で得たフェノラートを含むテトラヒドロフラン
溶液中に滴下し、その後還流下に4時間反応させた。
Next, 193 g (0
, 555 mol) of hexachlorocyclotriphosphazene was added dropwise to the tetrahydrofuran solution containing the phenolate obtained above, and then reacted under reflux for 4 hours.

反応後、温度を室温に戻し、反応液中にピリジン325
 g(4,46モル)を加えた後、さらに、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレ−) 381 g(2,,45モ
ル)を滴下ロートから徐々に滴下した。得られた反応液
を、湯浴にて60℃に加熱し、加熱攪拌反応を、8時間
行った。反応終了後、析出した結晶を濾別し、得られた
濾液中の溶媒を減圧蒸留により除去し、残渣を充分乾燥
させ、目的とする黄色液状物452gを得た。
After the reaction, the temperature was returned to room temperature and pyridine 325 was added to the reaction solution.
g (4.46 mol), 381 g (2.45 mol) of 2-hydroxyethyl methacrylate was gradually added dropwise from the dropping funnel. The obtained reaction solution was heated to 60° C. in a hot water bath, and a heating and stirring reaction was carried out for 8 hours. After the reaction was completed, the precipitated crystals were filtered off, the solvent in the resulting filtrate was removed by distillation under reduced pressure, and the residue was sufficiently dried to obtain 452 g of the desired yellow liquid.

硬化性ホスファセン化合物補強基材(補強材B系硬化品
)の製造例 前記で得た硬化性ホスファゼン化合物Bをメチルエチル
ケトンに溶解し、0.5重量%溶液とした。この溶液に
過酸化ベンゾイルを、硬化性ホスファゼン化合物B 1
00重量部当り 0.3重量部加え溶液Bとした。
Production example of curable phosphacene compound reinforced base material (reinforcing material B-based cured product) The curable phosphacene compound B obtained above was dissolved in methyl ethyl ketone to form a 0.5% by weight solution. Add benzoyl peroxide to this solution and add curable phosphazene compound B 1
Solution B was prepared by adding 0.3 parts by weight per 00 parts by weight.

この溶液Bを、第1表に示す4種類の基材にそれぞれ含
浸した。含浸後、120℃、30分間加熱真空乾燥し、
目的とする4種類の硬化性ホスファゼン化合物補強基材
(補強材B系硬化品)を得た。
Four types of base materials shown in Table 1 were each impregnated with this solution B. After impregnation, heat and vacuum dry at 120°C for 30 minutes,
Four types of target curable phosphazene compound-reinforced base materials (reinforcement material B-based cured products) were obtained.

これらの補強材B系硬化品について、実施例1同様の引
張り試験を行った。
A tensile test similar to Example 1 was conducted on these cured reinforcing material B products.

結果を第2表に示す。The results are shown in Table 2.

(比較例1) 実施例1および2で用いたものと同様の4種類の基材を
、硬化性樹脂を含浸させることなく、実施例1と同様に
して引重り試験を行った。結果を第2表に示す。
(Comparative Example 1) Four types of base materials similar to those used in Examples 1 and 2 were subjected to a drag test in the same manner as in Example 1 without impregnating them with a curable resin. The results are shown in Table 2.

(比較例2) 実施例1で用いたものと同様の4種類の基材に、ワニス
化した変性ツーノール樹脂を含浸し、実施例2と同様の
方法で加熱し、目的とする4s類の変性ツーノール樹脂
補強基材(補強材C系硬化品)を得た。
(Comparative Example 2) Four types of base materials similar to those used in Example 1 were impregnated with varnished modified Thunol resin and heated in the same manner as in Example 2 to obtain the desired modified 4s class. A Tsunor resin reinforced base material (reinforcing material C-based cured product) was obtained.

これらの補強材C系硬化品について、実施例1同様の引
張り試験を行った。
A tensile test similar to Example 1 was conducted on these cured reinforcing material C products.

結果を表2に示す。The results are shown in Table 2.

第1表 第2表 本基材が薄く、測定不可 測定条件 基材寸法  1101l10l1龍チャック
幅 30mx2鰭 引張速度  5mm/win
Table 1 Table 2 The base material is thin and cannot be measured Measurement conditions Base material dimensions 1101l10l1 Dragon chuck width 30mx2 Fin pulling speed 5mm/win

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)硬化性ホスファゼン化合物を、基材にコーティン
グおよび/または含浸し、硬化してなることを特徴とす
るプリント配線基板用複合材。
(1) A composite material for a printed wiring board, characterized by coating and/or impregnating a base material with a curable phosphazene compound and curing the same.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5639808A (en) * 1994-10-07 1997-06-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Flame retardant thermosettable resin compositions
JP2008088217A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Fushimi Pharm Co Ltd Flame retardant comprising reactive group-containing cyclic phosphazene compound and method for producing the same

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