JPS58211644A - Automatic control method and apparatus for concentration of fluoride in plating bath for electrolytic chromic acid treated steel plate - Google Patents

Automatic control method and apparatus for concentration of fluoride in plating bath for electrolytic chromic acid treated steel plate

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JPS58211644A
JPS58211644A JP57094074A JP9407482A JPS58211644A JP S58211644 A JPS58211644 A JP S58211644A JP 57094074 A JP57094074 A JP 57094074A JP 9407482 A JP9407482 A JP 9407482A JP S58211644 A JPS58211644 A JP S58211644A
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fluoride
plating bath
ion
potential
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大山 長七郎
Morio Iwamoto
岩本 盛生
Tamotsu Onoda
小野田 維
Takashi Kojima
隆司 小嶋
Yokichi Sato
佐藤 与吉
Keizo Oshiba
大柴 圭造
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Nihon Parkerizing Co Ltd
Nippon Steel Corp
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Nihon Parkerizing Co Ltd
Nippon Steel Corp
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    • G01N27/26Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
    • G01N27/416Systems
    • G01N27/4166Systems measuring a particular property of an electrolyte

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Abstract

PURPOSE:To achieve the automatic control of a plating bath by a simple method by measuring the potential of a sample with an ion electrode after the addition of a chemical agent thereto to determine the concentration of all fluorine ions and the concentration of active fluorine ions based on a calibration curve prepared. CONSTITUTION:A sample is taken into a measuring tank 8 with a pump 17 from a plating bath tank 12 and a buffer is injected into the tank 8 with a pump 19 from a tank 4. After they are mixed thoroughly, potential is measured with an ion electrode 1 and a conversion assay of the concentration of all fluorine ions is performed with a microcomputer 9. Then, a NaCl solution is fed to an assayed sample solution, sampled into a measuring tank 8' with the pump 17, from a tank 6 with a pump 20 and after they are mixed thoroughly, potential is measured with an ion electrode 2 and a conversion assay of the concentration of active fluorine ions is performed with the microcomputer 9. The measured concentrations of both the fluorides are compared with a preset target concentration and addition values of both the fluorides are calculated. Based on the results, they are fed to a plating bath tank 12 by a specified amount from chemical liquid tanks 10 and 11.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、下層に金属クロム、上層に水和酸化クロムを
有する電解クロム酸処理鋼板を製造する際のメッキ浴制
御方法とその装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a plating bath control method and apparatus for producing an electrolytically chromic acid treated steel sheet having metallic chromium in the lower layer and hydrated chromium oxide in the upper layer.

近年、上記皮膜を有する電解クロム酸処理鋼板(一般に
、ティンフリースチール、Tin Free8teet
:以下は、TFSと略記)が主に金属容器材料として使
用されている。古くから、金属容器材料として、錫めっ
き鋼板すなわち亀ぶりきlが使用されてきたが、世界的
な資源の枯渇を反映し、さらには、安価な容器材料要求
に対応するため、ぶりきに代って錫を全く使用しない鋼
板すなわち”I’ F’ 8 (Tin Free 8
teeL) ’が開発され、ビール罐あるいは、炭酸飲
料鑵用材料として使用されるようになってきた。
In recent years, electrolytic chromic acid treated steel sheets (generally referred to as tin free steel) having the above-mentioned coating have been developed.
:hereinafter abbreviated as TFS) is mainly used as a metal container material. Tin-plated steel sheets, or turtle tin, have been used as a material for metal containers for a long time, but in response to global resource depletion and in response to the demand for cheaper container materials, tin has been replaced by tin. This is a steel plate that does not use tin at all, that is, "I'F' 8 (Tin Free 8)".
TeeL)' was developed and has come to be used as a material for beer cans and carbonated beverage tins.

TFSは、ぶりきと違って接合部の半田処理が不可能で
あるため接着処理して使用される。金属容器には、構成
分類別では、3−ピース罐(ThreePieces 
Can )および2−ピース罐(Two Pieces
Can )が・あり、更に、加工分類別では、半田臨、
溶接罐、接着罐、DI罐(Drawing  Iron
ingCan :絞り・しごき加工する罐の略称。以下
は、DI罐と略記)および曲げ加工端に区分される。
Unlike tin, TFS cannot be soldered at the joints, so it is used after being bonded. Metal containers include three-piece cans, categorized by composition.
Can) and Two Pieces
In addition, by processing classification, Handa Rin,
Welded cans, adhesive cans, DI cans (Drawing Iron
ingCan: Abbreviation for a can that is drawn and ironed. The following is divided into DI can (abbreviated as DI can) and bent end.

一般に金属容器について食鑵および飲料罐のことをいう
場合には、半円錐、溶接罐、接着罐およびDI罐の4つ
が対象となる。容器材料としてTFSが用いられる場合
は、半田鑞以外が対象となり、主として接着罐として胴
部を接着した3−ピース罐として加工される。
Generally, when referring to metal containers for food and beverage cans, there are four types of metal containers: semi-conical, welded cans, glued cans, and DI cans. When TFS is used as a container material, it is used for products other than solder solder, and is mainly processed as a 3-piece can with a body glued together as an adhesive can.

近年、金属容器として、品質面での安定性、外観の良さ
および低廉化から、DI罐が、ビール罐、炭酸飲料鑵の
分野に多く使用される様になり、TF8材料を使用した
接着罐は、コーヒー罐、ジュース罐等の飲料罐あるいは
、一般食品罐として利用されている。
In recent years, DI cans have been widely used as metal containers in the field of beer cans and carbonated beverage cans due to their stable quality, good appearance, and low cost, and adhesive cans using TF8 material are , coffee cans, juice cans, and other beverage cans, or general food cans.

接着罐は、TF8表面にエポキシ樹脂あるいは、エポキ
シフェノール樹脂を主体とする塗料を塗布後、罐胴部を
ナイロン系接着剤で加熱接着することにより形成される
The adhesive can is formed by applying a paint mainly composed of epoxy resin or epoxy phenol resin to the surface of the TF8, and then heat-bonding the can body with a nylon adhesive.

金属容器は、充填される食品あるいは飲料の種類によっ
て選択されるが、接着罐の場合、その構造からして、ビ
ールや炭酸飲料の様な低温充填または低温貯蔵する罐と
して優れた性能を有している。しかし、ある種類の内容
物によっては、高温充填あるいは殺菌処理を行う場合が
あり、内容物の充填された罐は、90℃〜130℃の高
温下にさらされるため、罐胴接着部の強度が劣化し、破
損事故を発生することがある。特に近年、流通の合理化
により、自動販売機が多・数設置されているが、コーヒ
ー等の様な加温飲料の場合、常時、70℃前後で保存さ
れてい、るため、接着部の強度劣化が最も重要な関心事
である。
Metal containers are selected depending on the type of food or beverage to be filled, but adhesive cans, due to their structure, have excellent performance as cans for low-temperature filling or storage of beer and carbonated drinks. ing. However, depending on the type of contents, high-temperature filling or sterilization may be performed, and the filled cans are exposed to high temperatures of 90°C to 130°C, which reduces the strength of the can body bond. It may deteriorate and cause damage. Particularly in recent years, many vending machines have been installed due to the rationalization of distribution, but in the case of heated drinks such as coffee, they are always stored at around 70 degrees Celsius, which deteriorates the strength of the bonded parts. is the most important concern.

破損事故を起した接着罐の接着部を調査した結果、剥離
は、鋼板と樹脂塗膜の境界面からのものであり、樹脂塗
膜とナイロン接着剤の境界面からの剥離ではない。かか
る剥離現象を解明するため、TF8表面の品質特性特に
、接着特性についての研究がなされ、多くの特許も公開
されている。それらによると、TF8表面と塗膜境界面
の接着力は、TF8表面に構成される水和酸化クロム皮
膜(以下は、オキサイドクロム皮膜、0xide Cr
  皮膜と略記)の品質によって左右される。このオキ
サイドクロム皮膜の品質は、TFSのメッキ製造方法に
よって決定される。即ち、メッキ浴組成特 。
An investigation of the adhesive part of the adhesive can that caused the damage accident revealed that the peeling occurred from the interface between the steel plate and the resin coating, and not from the interface between the resin coating and the nylon adhesive. In order to elucidate this peeling phenomenon, research has been conducted on the quality characteristics of the TF8 surface, particularly the adhesive characteristics, and many patents have been published. According to them, the adhesive force between the TF8 surface and the paint film interface is due to the hydrated chromium oxide film (hereinafter referred to as oxide chromium film, Oxide Cr film) formed on the TF8 surface.
It depends on the quality of the film (abbreviated as “film”). The quality of this oxide chromium film is determined by the TFS plating manufacturing method. That is, the plating bath composition characteristics.

に微量存在成分によって左右されるといわれ、これらの
メッキ製造条件とオキサイドクロム皮膜の品質との研究
解明が進んでいる。
It is said that the quality of the plating is influenced by the components present in trace amounts, and research is progressing to clarify the relationship between these plating manufacturing conditions and the quality of the oxide chromium film.

近年、固体表面の品質特性に関する研究が急速に進み、
研究解析に必要な精密装置が使用されている。特に固体
最表面(数十λ程度のレベル)の元素分析をする手段と
して、オージェ(AugerBtectron 8pe
ctroscopy :以下はAg3と略記)やエスカ
(Electron 8pectroscopy Ch
emicatAnatysis :以下f′1BscA
と略記)と呼ばれる装置が使用されている。
In recent years, research on the quality characteristics of solid surfaces has progressed rapidly.
Precision equipment necessary for research analysis is used. In particular, the Auger Btectron 8pe
CTroscopy: Hereafter abbreviated as Ag3) and Esca (Electron 8pectroscopy Ch)
emicatAnalysis: hereinafter f'1BscA
A device called (abbreviated as) is used.

本発明は、究極的には高温充填および殺菌処理に耐え、
接着特性の良好な優れた表面品質特性を有するTFSを
提供することを目的として、TFSのメッキ製造におけ
るメッキ浴組成を自動的かつ迅速に分析、制御する方法
および装置を見出すに到ったものである。
The present invention ultimately withstands hot filling and sterilization processes,
With the aim of providing TFS with excellent surface quality properties and good adhesion properties, we have now found a method and apparatus for automatically and rapidly analyzing and controlling the plating bath composition in the plating production of TFS. be.

T F 8の製造工程は、3つの工程に分けられる。The manufacturing process of TF8 is divided into three steps.

第1工程は、メッキ前処理工程で、第2工程は、メッキ
工程であり、更に第3工程は、後処理工程である。第1
工程は、メッキ原板をアルカリ溶液中に浸漬のみ、また
は、電解による脱脂後水洗し、硫酸または、塩酸溶液中
で酸洗後水洗する工程である。第2工程は、クロム酸を
主成分とし、フッ素化合物を必要量添加したメッキ浴中
で陰極電解することにより、金属クロムとオキサイドク
ロム皮膜を同時に得る工程である。第3工程は、前のメ
ッキ工程において、オキサイドクロム皮膜中に包含され
た不要成分を高温水中に浸漬し電解処理によって取除く
工程である。
The first step is a plating pre-treatment step, the second step is a plating step, and the third step is a post-treatment step. 1st
The process includes immersing the original plated plate in an alkaline solution, or washing it with water after degreasing it by electrolysis, pickling it in a sulfuric acid or hydrochloric acid solution, and then washing it with water. The second step is a step of simultaneously obtaining metallic chromium and oxide chromium films by cathodic electrolysis in a plating bath containing chromic acid as a main component and adding a necessary amount of a fluorine compound. The third step is a step in which unnecessary components contained in the oxide chromium film in the previous plating step are removed by immersion in high-temperature water and electrolytic treatment.

前述の如く、TFS表面と塗膜境界面の接着力は、TF
8表面に構成されるオキサイドクロム皮膜の品質によっ
て左右されると述べた。即ち、第2工程のメッキ浴中の
陰極電解によって、鋼板表面に平均厚として、金属クロ
ム層0.015ミクロン程度およびオキサイドクロム皮
膜200χ程度が付着する。金属クロム層を得るための
メッキ浴主成分は、無水クロム酸で、濃度として20〜
200 f/lであり、またオキサイドクロム皮膜を得
るため、更に、フッ素化合物および硫酸基が必要量添加
されている。オキサイドクロム皮膜に優れた接着特性を
付与させるために、フッ素の存在は欠かせない。メッキ
浴中での陰極電解によって、フッ素は、オキサイドクロ
ム皮膜中に取り込まれ、接着特性の向上に有効な作用を
する。接着鑵を製造する場合、通常、塗料焼付が、内塗
り、外塗り合せて2回行なわれ、更に罐胴部の接着時に
1回の加熱があり、合計3回200℃前後の加熱が行な
われる。フッ素は、その加熱によって、オキサイドクロ
ム皮膜から離脱するため、皮膜の重合度が向上し、接着
後の高温充填および高温殺菌処理によっても変化しにく
い不溶性の皮膜を作る間接的に有効な元素といえる。
As mentioned above, the adhesive force between the TFS surface and the coating interface is
He stated that it depends on the quality of the oxide chromium film formed on the surface. That is, by cathodic electrolysis in the plating bath in the second step, a metallic chromium layer of about 0.015 microns and an oxide chromium film of about 200.chi. are deposited on the steel plate surface with an average thickness. The main component of the plating bath for obtaining a metallic chromium layer is chromic anhydride, with a concentration of 20 to
200 f/l, and necessary amounts of fluorine compounds and sulfuric acid groups are further added to obtain a chromium oxide film. The presence of fluorine is essential to impart excellent adhesive properties to chromium oxide films. Through cathodic electrolysis in the plating bath, fluorine is incorporated into the chromium oxide film and has an effective effect on improving adhesive properties. When manufacturing glued irons, the paint is usually baked twice for the inner and outer coats, and then heated once to bond the can body, making a total of three heating sessions at around 200°C. . Fluorine separates from the oxide chromium film when heated, improving the degree of polymerization of the film, and can be said to be an indirectly effective element for creating an insoluble film that does not easily change even during high-temperature filling and high-temperature sterilization treatment after adhesion. .

従来から、TFSメッキ浴にフッ化物を添加することは
行なわれている。例えば、特開昭56−96094では
、フッ化物成分、として、NHIF’。
Conventionally, fluoride has been added to TFS plating baths. For example, in JP-A-56-96094, NHIF' is used as a fluoride component.

NaF SHF 、 KF 、+ Nal−lF2、K
HF’2、NH,HF2等(これらを総称して、FAと
略記)と、Na2SiF6、H□S i F6 。
NaF SHF, KF, + Nal-lF2, K
HF'2, NH, HF2, etc. (these are collectively abbreviated as FA), Na2SiF6, H□S i F6.

K2S1Fa、(NL(4)2SiFa、IIBFイN
aBF、、KBFイN114BF4等(これらを総称し
て、F’Bと略記)があり、FA、F’B成分を適当に
組合せて、メッキ浴としている。メッキ浴中で、例えば
、フッ化アンモニウムは、N1(4−とF−に、また、
ケイフッ化ナトリウムは、Na+!:5iFS−に、更
に一部のSiFニーは、S + (OH)a−とF−に
解離している。
K2S1Fa, (NL(4)2SiFa, IIBFiN
There are aBF, KBF, N114BF4, etc. (these are collectively abbreviated as F'B), and FA and F'B components are appropriately combined to form a plating bath. In the plating bath, for example, ammonium fluoride is added to N1 (4- and F-) and
Sodium silicofluoride is Na+! :5iFS-, and furthermore, some SiF knees are dissociated into S + (OH)a- and F-.

発明者等は、フッ化物添加TFSメッキ浴について研究
を行ない、これら浴中で種々の型態で存在しているフッ
化物のうち、特に重要なフッ素型態は、遊離フッ素(以
下Free Fと略記)および全フッ素(以下tota
tFと略記)であることを尻出した。実操業においては
1.鋼板の溶出によって生じた鉄イオンFe3+が蓄積
されていき、逆にFreeFは減少していく。このよう
にFree Fが減少するのはFe3+イオンが浴中の
Free Fと反応してFe Fxなる錯体を形成し有
効フッ素(’Free F )を減少させるためである
。これは、実験的に調合したフッ化物添加TFS浴に鉄
イオンを一定量づつ添加していく場合にFree  7
ツ素濃度が低下することからも裏付けられる。このため
メッキ品質を安定管理するためには、浴中のFree 
FとTotatF は常に高い頻度で分析把握するとと
もに、迅速に分析して減少したF”reeF  をNH
,Fなどのフッ素イオン源の投入により補償してやる必
要があるが、従来はFree Fをコントロールする考
え方が無く迅速分析法も確立されていなかった。又、補
償のための薬剤の種類や投入量の算出にも多大の負荷が
あることならびに人為誤差をさけ得ない等問題点を含ん
でいた。
The inventors conducted research on fluoride-added TFS plating baths, and found that among the various forms of fluoride present in these baths, a particularly important form of fluorine is free fluorine (hereinafter abbreviated as Free F). ) and total fluorine (tota
(abbreviated as tF). In actual operation, 1. Iron ions Fe3+ generated by elution from the steel plate accumulate, and FreeF decreases conversely. The reason why Free F decreases in this way is that Fe3+ ions react with Free F in the bath to form a complex called FeFx, thereby decreasing available fluorine ('Free F). This is because the Free 7
This is also supported by the decrease in tsunium concentration. Therefore, in order to stably control the plating quality, it is necessary to
F and TotatF are constantly analyzed and grasped at a high frequency, and the decreased F”reeF is quickly analyzed and NH
It is necessary to compensate by introducing a fluorine ion source such as . In addition, calculations of the types and dosages of drugs for compensation are burdensome, and there are other problems, such as the unavoidable possibility of human error.

本発明は、このような問題点を解消するため、イオン電
極を用いて電位を判定してFree F  とTota
l Fを迅速に分析する方法を確立するとともにメッキ
液の採取から全イオン強度調整薬剤の添加、電位測定、
分析計算、フッ素供給源薬剤の投入量計算と投入指示に
至る各工程を自動化したフッ化物添加TFSメッキ浴の
自動制御方法とその装置を発明したものである。その目
的は、ティンフリースチールメッキ浴の操業にあたり、
イオン電極分析や薬剤の投入量計算にともなう人的負荷
や人為誤差を解消することにある。さらに他の目的はメ
ッキ浴の変化を迅速に測定して常にメッキ浴を良好な状
態に維持してTF8製品の品質低下を防止することにあ
る。  ゛ その要旨は、 17ツ化物を含む電解クロム酸処理鋼板製造塔から一定
量の分析サンプルを自動的に採取し、イオン強度調整薬
剤又は、PH調整剤を添加混合した後、イオン電極によ
シミ位を測定し、イオン電極に連接したコンピューター
により前記測定電位から、全フッ素濃度を算出記憶させ
ると共に、前記で採取したサンプルに別途に、中性塩を
添、1!II+混合した後、イオン電極により、電位を
測定しイオン電極と連接したコンピューターにより、前
記測定電位から活性フッ素イオン濃度を算出記憶させ、
次いでこれらの実測フッ素濃度と予めコノビューターに
記憶設定しである全フッ素目標濃度及び活性フッ素濃度
の差を各々算出し、この算出結果に基づいて所要量の弗
化物補給液をメッキ浴に自動的に補給することを特徴と
する、電解クロム酸処理鋼板用メッキ浴中のフッ化物濃
度自動制御方法。
In order to solve these problems, the present invention uses an ion electrode to determine the potential and determine Free F and Tota.
In addition to establishing a method to rapidly analyze lF, we have also developed a method for collecting the plating solution, adding a total ion strength adjustment agent, measuring the potential,
We have invented an automatic control method and device for a fluoride-added TFS plating bath that automates each process from analytical calculations to fluorine source agent dosage calculations and dosage instructions. The purpose is to operate a tin-free steel plating bath.
The aim is to eliminate the human burden and human errors associated with ion electrode analysis and drug dosage calculations. Another purpose is to quickly measure changes in the plating bath to maintain the plating bath in a good condition at all times to prevent deterioration in the quality of TF8 products.゛The gist is that a certain amount of analysis sample is automatically collected from the electrolytic chromic acid-treated steel plate manufacturing tower containing 17 trouside, and after adding and mixing an ionic strength adjusting agent or a pH adjusting agent, it is stained with an ion electrode. The computer connected to the ion electrode calculates and stores the total fluorine concentration from the measured potential, and separately adds neutral salt to the sample collected above. After mixing II +, the potential is measured by an ion electrode, and a computer connected to the ion electrode calculates and stores the active fluorine ion concentration from the measured potential,
Next, the difference between these measured fluorine concentrations and the total fluorine target concentration and active fluorine concentration, which are pre-stored in the Conobutter, is calculated, and the required amount of fluoride replenishment solution is automatically added to the plating bath based on the calculation results. A method for automatically controlling fluoride concentration in a plating bath for electrolytic chromic acid-treated steel sheets, characterized in that the fluoride concentration is replenished in a plating bath for electrolytic chromic acid-treated steel sheets.

2、 メッキ浴中から、分析サンプルを採取する17段
と該サンプル液に試薬を加える試薬添加手段とサンプル
液中のフッ素イオン濃度を測定するためのイオン電極を
用いる分析手段とメッキ浴にフッ素イオンを補充するた
めのフッ化物補給液の補給手段と、イオン電極及びフッ
化物補給手段に連接しており且つ予め設定したフッ素イ
オン目標濃度と実測したフッ素イオン濃度との差を算出
しこの算出結果に基づいてフッ化物補給液の必要量を算
出補給するための制御手段とからなることを特徴とする
電解クロム酸処理鋼板用メッキ浴中のフッ化物濃度の自
動制御装置。
2. 17 stages for collecting an analysis sample from the plating bath, a reagent addition means for adding a reagent to the sample liquid, an analysis means using an ion electrode for measuring the fluorine ion concentration in the sample liquid, and a fluorine ion injected into the plating bath. The fluoride replenishment means is connected to the ion electrode and the fluoride replenishment means, and the difference between the preset fluoride ion target concentration and the actually measured fluoride ion concentration is calculated and the calculated result is calculated. 1. An automatic control device for controlling fluoride concentration in a plating bath for electrolytic chromic acid-treated steel sheets, comprising a control means for calculating and replenishing the required amount of fluoride replenishment solution based on the above-mentioned information.

である。It is.

以下、本発明について詳細に説明する。前述したように
本発明はFree FとTotatF  を迅速に分析
する方法を確立することによって完成したものである。
The present invention will be explained in detail below. As mentioned above, the present invention was completed by establishing a method for rapidly analyzing Free F and TotatF.

そこで先ず、本発明で採用する分析法について詳述する
。電解クロム酸処理浴中に存在する弗化物の総量(以下
TotatFと略記)をイオン電極で測定する場合、種
々な誤差要因が介在する。
First, the analysis method employed in the present invention will be explained in detail. When measuring the total amount of fluoride (hereinafter abbreviated as TotatF) existing in an electrolytic chromic acid treatment bath using an ion electrode, various error factors intervene.

例えば、第1図には、イオン電極の測定電位とpHの関
係を示している。これは、フッ化アンモニウム、ケイフ
ッ化アンモニウム、クロム酸の一定量を混合した同一母
液にNaOHを添加して、l用を1〜9まで段階的に調
整したときの電位であり、PHに依存して変化している
。PHが、6以下では、電位は直線的に変化するが6以
上になると安定化する。従ってこのようfi PHの影
響を無くすために、PHを58以上程度に調整してやる
必要がある。これは、N aOHなどのアルカリを添加
する方法でも良いが、以下に述べる理由から全イオン強
度調整剤(TI8ABfiと)を用いる方が更に望まし
い。すなわち、前述したPHの影響のほか、一般にイオ
ン電極による分析においては、測定されてくる電位が、
溶液の全イオン強度の違いによる誤差を含むという、も
う1つの影響がある。全イオン強度調整剤は、このよう
に測定溶液の全イオン強度を一定に保ち、これに゛起因
する誤差を解消することにその目的がある。更にPH調
整機能のある全イオン強度調整剤を用いれば、前述のP
Hによる誤差も同時に解消できる。第2図は、このよう
な全イオン強度調整剤としてT I S A II(T
otatIonic Streugth Adjust
ment Buffer )を使用し、イオン電極で電
位を測定することによって作成したTotal F−の
検量線である。なお、この時使用した、Tl5AHの組
成はNaCL 、クエン酸ナトリウム、氷酢酸、水の混
合物である。
For example, FIG. 1 shows the relationship between the measured potential of the ion electrode and pH. This is the potential when NaOH is added to the same mother liquor mixed with a certain amount of ammonium fluoride, ammonium fluorosilicide, and chromic acid, and the potential is adjusted stepwise from 1 to 9, and it depends on the pH. is changing. When the pH is 6 or less, the potential changes linearly, but when it becomes 6 or more, it becomes stable. Therefore, in order to eliminate the influence of fi PH, it is necessary to adjust the PH to about 58 or higher. This may be done by adding an alkali such as NaOH, but it is more desirable to use a total ionic strength adjuster (TI8ABfi) for the reasons described below. In other words, in addition to the effect of PH mentioned above, in general, in analysis using an ion electrode, the measured potential is
Another effect is the inclusion of errors due to differences in the total ionic strength of the solutions. The purpose of the total ionic strength adjusting agent is to maintain the total ionic strength of the measurement solution constant in this way and eliminate errors caused by this. Furthermore, if a total ionic strength regulator with a pH adjustment function is used, the above-mentioned P
Errors caused by H can also be eliminated at the same time. FIG. 2 shows T I S A II (T
otatIonic Strength Adjust
This is a calibration curve of Total F- created by measuring the potential with an ion electrode using ment Buffer). The composition of Tl5AH used at this time was a mixture of NaCL, sodium citrate, glacial acetic acid, and water.

次に、電解クロム酸処理浴中に存在する活性フッ素の測
定法について説明する。活性フッ素すなわち遊離フッ素
は、メッキ成品々質に最も大きな影響を与える重要なフ
ァクターである。しかし4がら、これをイオン電極を用
いる分析手段で測定するには、種々の問題点が存在する
。例えば、電解クロム酸処理溶液をサンプリングし、イ
オン電極を浸漬しその電位を測定した場合、その電位は
、活性フッ素濃度と相関のある値となる筈であるが、T
otatFの測定の例で示したような問題点がある。
Next, a method for measuring active fluorine present in the electrolytic chromic acid treatment bath will be explained. Active fluorine, or free fluorine, is an important factor that has the greatest effect on the quality of plated products. However, there are various problems in measuring this with analysis means using ion electrodes. For example, when an electrolytic chromic acid treatment solution is sampled and an ion electrode is immersed in it to measure its potential, the potential should be a value that correlates with the active fluorine concentration, but T
There are problems as shown in the example of measuring otatF.

すなわち、全イオン強度の影響である。第2図に活性フ
ッ素の検量線を示す。このように、検量線は、不規則な
曲線となり、測定毎の電位が不安定で、経済的な変化も
大きく、測定困難である。
That is, it is the effect of total ionic strength. Figure 2 shows a calibration curve for active fluorine. In this way, the calibration curve becomes an irregular curve, the potential at each measurement is unstable, economical changes are large, and measurement is difficult.

そこで、前述のような全イオン強度調整剤を用いて、全
イオン強度の影響を解消しようとするとPHの緩衝機能
をもつため、PHが上昇しフッ化物として存在するイオ
ン、例えば、8iF6−やFeFx −などが解離し、
活性フッ素となることから、もともと浴中に存在した値
とは、異なったものとなってしまう。そこで、PHを変
化させずに全イオン強度のみを安定化させる目的で中性
塩類の添加という発懇に至った。第4図は、第3図と同
様の条件で作成した溶液に中性塩のひとつとしてNaC
1の1定量を添加したときの検量線であり、良好な直線
性が得られている。又、電位の経時的安定性も良好であ
った。
Therefore, if we try to eliminate the influence of total ion strength by using the total ion strength adjusting agent as mentioned above, it has a pH buffering function, so the pH increases and ions existing as fluorides, such as 8iF6- and FeFx, − etc. dissociate,
Since it becomes active fluorine, the value will be different from the value originally present in the bath. Therefore, a proposal was made to add neutral salts in order to stabilize only the total ionic strength without changing the pH. Figure 4 shows NaCl as one of the neutral salts added to the solution prepared under the same conditions as Figure 3.
This is a calibration curve obtained when one quantitative amount of 1 was added, and good linearity was obtained. In addition, the stability of the potential over time was also good.

以上説明したイオン電極による分析法はサンプルに薬剤
を添加混合した後電位を測定して、その電位から予め準
備されている検量線で濃度を求める簡単な方法であり本
発明のメッキ浴自動制御力法及び装置には不可欠のもの
で、ある。
The analysis method using an ion electrode described above is a simple method in which a chemical is added to a sample and mixed, the potential is measured, and the concentration is determined from the potential using a calibration curve prepared in advance. It is essential to the law and equipment.

次に本発明の方法及び装置を図面に基づいて説明する。Next, the method and apparatus of the present invention will be explained based on the drawings.

第5図に本発明における装置の概要ならびに、メッキ浴
からの配管系のフローを示して−る。12は電解クロム
酸処理浴槽でその下にメッキ液の地下ビット槽13を設
けである。15〜21はメッキ液、添加用薬液、フッ化
物溶液を送るための送液ポンプである。3は、重装蓋本
体である。8.8′は、それぞれ、TotatFおよび
FreeF測定用槽でありその内部にはそれぞれ、To
tatFおよびFree F測定用イオン′電極1.2
が設置される。14.14′はマグネチックスターラー
である。又4は、緩衝液のタンク、5は標準液タンク、
6 ij NaC1溶液タンクである。9はマイク。
FIG. 5 shows an outline of the apparatus according to the present invention and the flow of the piping system from the plating bath. Reference numeral 12 denotes an electrolytic chromic acid treatment bath, and an underground bit tank 13 containing a plating solution is provided below it. Reference numerals 15 to 21 are liquid pumps for feeding the plating solution, additive chemical solution, and fluoride solution. 3 is a heavy lid main body. 8.8' are TotatF and FreeF measurement tanks, respectively, and each of them contains TotatF and FreeF measurement tanks.
Ion electrode for tatF and Free F measurement 1.2
will be installed. 14.14' is a magnetic stirrer. Also, 4 is a buffer tank, 5 is a standard solution tank,
6 ij NaCl solution tank. 9 is Mike.

コンピューターであるu 10S 11はメッキ浴の分
析結果によってメッキ浴添加物を補償するために設けた
フッ化物供給用薬液タンクである。
The computer u 10S 11 is a chemical tank for supplying fluoride, which is provided to compensate plating bath additives according to the analysis results of the plating bath.

次に、本発明装置を使用して、メッキ浴中のフッ素化合
物濃度を自動制御する方法を説明する。
Next, a method for automatically controlling the concentration of fluorine compounds in a plating bath using the apparatus of the present invention will be explained.

先ずメッキ浴槽12からTotal Fの分析に必要な
量のサンプルをポンプ17により12、配管系a、 b
を経て測定槽8に採取し、タンク4に貯えられている緩
衝液をポンプ19により配管系dを経て測定槽内に注入
し、檜の底部に入れであるマグネチツクスターラ−14
を回転させて測定液を十分に混合する。イオン電極Iに
よって測定された電位は、マイクロコンピュータ−9に
よりTotalla値に換算定量される。又、配管系a
、cを経てポンプ17により測定槽8′に採取された分
析試料浴液に対し、NaCL溶液をタンク6から配管系
fを経てポンプ20により供給する。マクネチツクスタ
ーラ−14′で十分に測定液を混合したのち、イオン電
極2で電位を測定し、更にマイクロコンピュータ−9に
より、Free F値を換算定量する。両フッ化物の測
定濃度およびあらかじめ設定された目標濃度の差から両
フッ化物の添加量をマイクロコンピュータ−9により算
出し、薬液タンク10.11から薬液を所要量だけメッ
キ浴槽に供給するため送液ポンプ15.16へ指示する
。これによりメッキ浴槽12配管g又はhを経て必要な
フッ化物が供給される。以上のサイクルが、1定時間ご
とに繰り返されることにより、メッキ浴中のフッ化物濃
度は、1定に保たれる。なお、測定に供されたメッキ液
は装置外へ排出される。次に本装置を用いた実施例を説
明する。
First, the amount of sample necessary for Total F analysis is pumped from the plating bath 12 using the pump 17, and the piping systems a and b are
The buffer solution stored in the tank 4 is injected into the measurement tank via the piping system d by the pump 19, and then the magnetic stirrer 14 which is placed in the bottom of the cypress.
Rotate to mix the measurement solution thoroughly. The potential measured by the ion electrode I is converted into a Total value and quantified by the microcomputer-9. Also, piping system a
, c to the analysis sample bath liquid collected by the pump 17 into the measurement tank 8', the NaCL solution is supplied from the tank 6 via the piping system f by the pump 20. After sufficiently mixing the measurement liquid with the mechanical stirrer 14', the potential is measured with the ion electrode 2, and the Free F value is converted and quantified using the microcomputer 9. The amount of both fluorides to be added is calculated by the microcomputer 9 from the difference between the measured concentration of both fluorides and the preset target concentration, and the required amount of chemical solution is sent from the chemical tank 10.11 to the plating bath. Direct to pump 15.16. As a result, the necessary fluoride is supplied via the plating bath 12 piping g or h. By repeating the above cycle at regular intervals, the fluoride concentration in the plating bath is kept constant. Note that the plating solution used for measurement is discharged outside the apparatus. Next, an example using this device will be described.

〔実施例〕〔Example〕

次のメッキ浴 Cry382.4 f/I N)I、F  1.11 t/l を用いて500時間の連続メッキを行い、その時間中、
第5図に示した本発明の装置を用いて、30分毎にメッ
キ浴を分析してFree F濃度とTotatF濃度を Free F   O,45上0.2f/1Totat
F  1.6±0.1f/lになるように自動的に制御
した。メッキを開始して200時間と500時間後のT
FS製品について高温接着特性を試験した結果DI値は
、120〜130の間にありDI値の管理基準値下限1
00をはるかに上回るすぐれた製品が得られた。
Continuous plating was carried out for 500 hours using the following plating bath Cry382.4 f/I N)I, F 1.11 t/l, during which time,
Using the apparatus of the present invention shown in FIG. 5, the plating bath was analyzed every 30 minutes to determine the Free F concentration and Totat F concentration at 0.2 f/1 Totat on Free F O, 45.
F was automatically controlled to be 1.6±0.1 f/l. T 200 hours and 500 hours after starting plating
As a result of testing the high temperature adhesive properties of FS products, the DI value was between 120 and 130, which is the lower limit of the control standard value of DI value 1
An excellent product far exceeding 0.00 was obtained.

なお、比較例として前記メッキ浴を健浴後、Free 
FとTotal Fを特に制御しないで連続メッキを行
ったところ、200時間を経過するとDI値は100以
下に値下した。
In addition, as a comparative example, the plating bath was used as a free bath after a health bath.
When continuous plating was performed without particularly controlling F and Total F, the DI value decreased to 100 or less after 200 hours.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はPHとイオン電極電位との関係を示すグラフ。 第2図はTotatFの検量線、第3図は活性フッ素の
検量線、第4図は活性フッ素の検量線(NaC1添加)
、第5図は本発明装置の説明図である。 l  TF用イオン電極 2  PF用イオン電極 3 装置本体 4 緩衝液タンク 6 標準液タンク 5  NaC1溶液タンク・ 8 測定槽(1)     8’  測定槽(2)9 
マイクロコンピュータ− 10薬液タンク(1) 11       (2) 12  メッキ浴槽 13  地下ビット槽 14  マグネチツクスターラー 15 送液ポンプ 16  送液ポンプ 17    N 18# 19〃 20# 11 b)分析試料採取用配管 C)分析試料用薬剤配管 第2図 ’mI/Io6mJl −4− 第3図 −F→/lθρml→ 第4図 Fm4/lθθml−− 第1頁の続き 0発 明 者 佐藤与吉 東京都大田区仲池上2−14−12 日本パー力ライジング株式会社 技術研究所内 0発 明 者 大柴圭造 北九州市へ幡西区夕原町4番7 号日本パー力うイジング株式会 社九州営業所内 ■出 願 人 日本パー力ライジング株式会社東京都中
央区日本橋1丁目15番 1号
FIG. 1 is a graph showing the relationship between PH and ion electrode potential. Figure 2 is the calibration curve for TotatF, Figure 3 is the calibration curve for active fluorine, and Figure 4 is the calibration curve for active fluorine (addition of NaC1).
, FIG. 5 is an explanatory diagram of the apparatus of the present invention. l Ion electrode for TF 2 Ion electrode for PF 3 Device body 4 Buffer tank 6 Standard solution tank 5 NaC1 solution tank 8 Measuring tank (1) 8' Measuring tank (2) 9
Microcomputer - 10 Chemical tank (1) 11 (2) 12 Plating bath 13 Underground bit tank 14 Magnetic stirrer 15 Liquid pump 16 Liquid pump 17 N 18# 19〃 20# 11 b) Piping for collecting analysis sample C) Chemical piping for analytical samples Fig. 2'mI/Io6mJl -4- Fig. 3-F→/lθρml→ Fig. 4 Fm4/lθθml-- Continued from page 1 0 Inventor Yokichi Sato Nakaikegami, Ota-ku, Tokyo 2-14-12 Inventor: Japan Pariki Rising Co., Ltd. Technical Research Center Inventor: Keizo Oshiba To Kitakyushu City, 4-7 Yubaramachi, Hatanishi-ku, Japan Pariki Rising Co., Ltd., Kyushu Sales Office ■Applicant: Nippon Pariki Rising Co., Ltd. Company 1-15-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)フッ化物を含む電解クロム酸処理鋼板製造浴から
一定量の分析サンプルを自動的に採取し、イオン強度調
整薬剤又は、PH調整剤を添加混合した後、イオン電極
により電位を測定し、イオン電極に連接したコンピュー
ターにより、前記測定電位から全フッ素濃度を算出記憶
させると共に、前記で採取したサンプルに別途に中性塩
を添加混合した後、イオン電極により、電位を測定し、
イオン電極と連接したコンピューターにより、前記測定
電位から活性フッ素イオン濃度を算出記憶させ、次いで
これらの実測フッ素濃度と予めコンピューターに記憶設
定しである全フッ素目標濃度及び活性フッ素濃度の差を
各々算出し、この算出結果に基づいて所要量の弗化物補
給液をメッキ浴に自動的に補給することを特徴上する、
電解クロム酸処理鋼板用メッキ浴中のフッ化物濃度自動
制御方法。
(1) Automatically collect a certain amount of analysis sample from the electrolytic chromic acid-treated steel sheet manufacturing bath containing fluoride, add and mix an ionic strength adjusting agent or a PH adjusting agent, and then measure the potential with an ionic electrode, A computer connected to the ion electrode calculates and stores the total fluorine concentration from the measured potential, and after separately adding and mixing a neutral salt to the sample collected above, measuring the potential with the ion electrode,
A computer connected to the ion electrode calculates and stores the active fluorine ion concentration from the measured potential, and then calculates the difference between these measured fluorine concentrations and the total fluorine target concentration and active fluorine concentration, which are stored and set in the computer in advance. The method is characterized in that the required amount of fluoride replenishment solution is automatically supplied to the plating bath based on the calculation result.
Automatic control method for fluoride concentration in a plating bath for electrolytic chromic acid treated steel sheets.
(2)メッキ浴中から、分析サンプルを採取する手段と
該サンビル液に試薬を加える試薬添加手段とサンプル液
中のフッ素イオン濃度を測定するだめのイオン電極を用
いる分析手段とメッキ浴にフッ素イオンを補充するため
のフッ化物補給液の補給手段と、イオン電極及びフッ化
物補給手段に連接しており且つ予め設定したフッ素イオ
ン目標濃度と実測したフッ素イオン濃度との差を算出し
この算出結果に基づいてフッ化物補給液の必要量を算出
補給するための制御手段とからなることを特徴とする電
解クロム酸処理鋼板用メッキ浴中のフッ化物濃度の自動
制御装置。
(2) A means for collecting an analysis sample from the plating bath, a reagent addition means for adding a reagent to the Sanvil solution, an analysis means using an ion electrode for measuring the fluorine ion concentration in the sample solution, and a fluoride ion in the plating bath. The fluoride replenishment means is connected to the ion electrode and the fluoride replenishment means, and the difference between the preset fluoride ion target concentration and the actually measured fluoride ion concentration is calculated and the calculated result is calculated. 1. An automatic control device for controlling fluoride concentration in a plating bath for electrolytic chromic acid-treated steel sheets, comprising a control means for calculating and replenishing the required amount of fluoride replenishment solution based on the above-mentioned information.
JP57094074A 1982-06-03 1982-06-03 Method and device for automatic control of fluoride concentration in plating bath for electrolytic chromic acid treated steel sheet Expired - Lifetime JPH0695086B2 (en)

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