JPS58201881A - 顔料付螢光体の回収処理方法 - Google Patents
顔料付螢光体の回収処理方法Info
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- JPS58201881A JPS58201881A JP57086057A JP8605782A JPS58201881A JP S58201881 A JPS58201881 A JP S58201881A JP 57086057 A JP57086057 A JP 57086057A JP 8605782 A JP8605782 A JP 8605782A JP S58201881 A JPS58201881 A JP S58201881A
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- Japan
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- phosphor
- pigment
- fluorescent substance
- sticking
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-
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W30/00—Technologies for solid waste management
- Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
Landscapes
- Luminescent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は顔料付螢光体を含む洗浄液ないし現像処理など
で生じる処理液より回収される顔料付螢光体から顔料が
剥がれることを抑制した該螢光体を再使用するための顔
料付螢光体の回収処理方法に関する。
で生じる処理液より回収される顔料付螢光体から顔料が
剥がれることを抑制した該螢光体を再使用するための顔
料付螢光体の回収処理方法に関する。
一般にカラー受像管の螢光面はつぎのような工程から製
造される。すなわち、（■）たとえばポリビニルアルコ
ールと重り四ム酸アンモニウムとからなる溶液のような
感光性結合剤に所定の螢光体を分散させた螢光体スラリ
ーを、（１）ガラスパネルの内面に塗布する工程、つい
で（２）これを乾燥させて塗膜を形成する工程、（８）
えられた塗膜を色選択電極としてのシャドウマスクを介
して所定の露光装置で露光し潜像を形成する工程、（４
）露光後現像処理して所望の位置に所定の大きさの螢光
体ストライプあるいは螢光体ドツト （以下螢光体スト
ライプと総称する）全形成する工程、（■）上記（Ｉ）
の全工程を単位工程とじで緑、青および赤の螢光体スラ
リーについて単位工程をそれぞれ繰返し経させてシャド
ウマスクの開孔部に対応する位置に３種の螢光体ストラ
イプを形成する基本工程に、（蜀前記（Ｉ）の乾燥工程
（２）または現像工程（４）で生じる螢光体を含む洗浄
液ないし処理液から螢光体を回収する工程（５）〜（８
）が付加されて該螢光面が製造される。
造される。すなわち、（■）たとえばポリビニルアルコ
ールと重り四ム酸アンモニウムとからなる溶液のような
感光性結合剤に所定の螢光体を分散させた螢光体スラリ
ーを、（１）ガラスパネルの内面に塗布する工程、つい
で（２）これを乾燥させて塗膜を形成する工程、（８）
えられた塗膜を色選択電極としてのシャドウマスクを介
して所定の露光装置で露光し潜像を形成する工程、（４
）露光後現像処理して所望の位置に所定の大きさの螢光
体ストライプあるいは螢光体ドツト （以下螢光体スト
ライプと総称する）全形成する工程、（■）上記（Ｉ）
の全工程を単位工程とじで緑、青および赤の螢光体スラ
リーについて単位工程をそれぞれ繰返し経させてシャド
ウマスクの開孔部に対応する位置に３種の螢光体ストラ
イプを形成する基本工程に、（蜀前記（Ｉ）の乾燥工程
（２）または現像工程（４）で生じる螢光体を含む洗浄
液ないし処理液から螢光体を回収する工程（５）〜（８
）が付加されて該螢光面が製造される。
（ｌ［）の回収工程は螢光体、とくに希土類元素を成分
とする赤色発光螢光体のコストが高いので螢光体を回収
し再生使用して製造コストを低減化するために付加した
ものである。前記の該螢光面の製造工程（Ｉ）〜（Ｉ［
）をブロック図として表わすと第１図のようになる。第
１図で（Ｐ）は螢光体を含む洗浄液ないし処理液を単位
工程ごとに回収するためのポンプを意味する。
とする赤色発光螢光体のコストが高いので螢光体を回収
し再生使用して製造コストを低減化するために付加した
ものである。前記の該螢光面の製造工程（Ｉ）〜（Ｉ［
）をブロック図として表わすと第１図のようになる。第
１図で（Ｐ）は螢光体を含む洗浄液ないし処理液を単位
工程ごとに回収するためのポンプを意味する。
つぎに、回収工程（ＩＩ）を中心に前記の該螢光面の製
造工程（Ｉ）〜（Ｍｌ）を第２図（ａ）〜（０）により
説明する。
造工程（Ｉ）〜（Ｍｌ）を第２図（ａ）〜（０）により
説明する。
第２図ｔａ＞は前記単位工程（Ｉ）によって緑ＱＩ）と
青＊功の螢光体ストライプの形成を完了したガラスパネ
ル（ハ）の断面図であり、（ａ）状態のガラスパネル（
ハ）はつぎに赤色螢光体の塗布工程（１）におかれ、赤
色螢光体スラリー（ハ）が注入されて回転塗布法により
均一に塗布される。塗布されたものの断面を第２図（ｂ
）に示す。続いて（ｂ）状態のガラスパネル榊は乾燥工
程（２）におかれ、該スラリー（ハ）は乾燥されてスラ
リー膜（２４つとなる。一方、パネルスカート部（ハ）
に塗布された余分の該スラリー（ハ）は水洗いにより洗
い流される。生じた洗浄液はポンプ（５）を介して回収
工程（Ｉ）の遠心分離機（６つに送り込まれる。乾燥を
完了した該スラリー膜０４つに欠陥がなければ（ｂ）状
態のガラスパネル（ハ）は露光工程（８）を経て現像工
程（４）におかれ、欠陥があれば露光工程（８）を経な
いで直接現像工程（４）におかれる。現像工程（４）で
は前記螢光体ストライプ（ハ）が形成されるほか該スラ
リー膜（２４つの未露光部分が洗い流される。第２図（
０）は赤螢光体ストライプ（財）の形成を完了したガラ
スパネル榊の断面図である。前記現像工程（４）におけ
る処理液は乾燥工程（２）での洗浄液とともにポンプ（
５）を介して遠心分離機（６′）に導入される。赤螢光
体を含有するこれらの洗浄液ないし処理液は遠心分離機
（６Ｉ）で脱水されて遠心分離処理（６）され、２０〜
６０％（重量）の水分を含む赤螢光体のケーキ（社）と
して赤螢光体が分離される。えられた該ケーキ０時は水
洗されて精製（γ）されたのち再び脱水処理（８）され
て再生され、再生物はスラリー調合工程（９）に供給さ
れて新しい螢光体（１０）と共に赤螢光体スラリーの調
合に供される。すなわち、第６図に示したように精製工
程（γ）においては赤螢光体のケーキ（イ）を純水Ｃ３
３あるいは分散剤などを含む水性溶液とともに洗浄タン
クＧｏに加えて該タンクｃ１１１を［動モータなどによ
り低速回転させ、該ケーキ■中に含まれる感光性結合剤
や重りｐム酸塩あるいはゴミなどの不純成分を溶解させ
あるいは浮遊させるために充分に攪拌し、攪拌が終ると
洗浄タンクＣＡＤの回転を停止させて赤螢光体を沈殿さ
せる。つぎに上澄液排水バルブ（財）を開放して該ケー
キ■中の不純物成分を含む上澄液を排出させ、ついで再
度給水バルブ（ト）を開けて該タンク０υに給水し洗浄
タンクＣＩ＋）の低速回転による洗浄、それに後続する
沈殿、上澄液の排出の各操作を２〜４回繰返し行ない、
最後に螢光体を純水に分散させた状態で排出バルブ（財
）を開放し、３００〜４００メツシユのフィルター（至
）を介して遠心分離機ｒ３ηに投入し、脱水して精製さ
れた赤螢光体をうる。同様の操作は所望に応じて緑や青
の螢光体に対しても行なわれ、螢光体が精製され回収さ
れる。
青＊功の螢光体ストライプの形成を完了したガラスパネ
ル（ハ）の断面図であり、（ａ）状態のガラスパネル（
ハ）はつぎに赤色螢光体の塗布工程（１）におかれ、赤
色螢光体スラリー（ハ）が注入されて回転塗布法により
均一に塗布される。塗布されたものの断面を第２図（ｂ
）に示す。続いて（ｂ）状態のガラスパネル榊は乾燥工
程（２）におかれ、該スラリー（ハ）は乾燥されてスラ
リー膜（２４つとなる。一方、パネルスカート部（ハ）
に塗布された余分の該スラリー（ハ）は水洗いにより洗
い流される。生じた洗浄液はポンプ（５）を介して回収
工程（Ｉ）の遠心分離機（６つに送り込まれる。乾燥を
完了した該スラリー膜０４つに欠陥がなければ（ｂ）状
態のガラスパネル（ハ）は露光工程（８）を経て現像工
程（４）におかれ、欠陥があれば露光工程（８）を経な
いで直接現像工程（４）におかれる。現像工程（４）で
は前記螢光体ストライプ（ハ）が形成されるほか該スラ
リー膜（２４つの未露光部分が洗い流される。第２図（
０）は赤螢光体ストライプ（財）の形成を完了したガラ
スパネル榊の断面図である。前記現像工程（４）におけ
る処理液は乾燥工程（２）での洗浄液とともにポンプ（
５）を介して遠心分離機（６′）に導入される。赤螢光
体を含有するこれらの洗浄液ないし処理液は遠心分離機
（６Ｉ）で脱水されて遠心分離処理（６）され、２０〜
６０％（重量）の水分を含む赤螢光体のケーキ（社）と
して赤螢光体が分離される。えられた該ケーキ０時は水
洗されて精製（γ）されたのち再び脱水処理（８）され
て再生され、再生物はスラリー調合工程（９）に供給さ
れて新しい螢光体（１０）と共に赤螢光体スラリーの調
合に供される。すなわち、第６図に示したように精製工
程（γ）においては赤螢光体のケーキ（イ）を純水Ｃ３
３あるいは分散剤などを含む水性溶液とともに洗浄タン
クＧｏに加えて該タンクｃ１１１を［動モータなどによ
り低速回転させ、該ケーキ■中に含まれる感光性結合剤
や重りｐム酸塩あるいはゴミなどの不純成分を溶解させ
あるいは浮遊させるために充分に攪拌し、攪拌が終ると
洗浄タンクＣＡＤの回転を停止させて赤螢光体を沈殿さ
せる。つぎに上澄液排水バルブ（財）を開放して該ケー
キ■中の不純物成分を含む上澄液を排出させ、ついで再
度給水バルブ（ト）を開けて該タンク０υに給水し洗浄
タンクＣＩ＋）の低速回転による洗浄、それに後続する
沈殿、上澄液の排出の各操作を２〜４回繰返し行ない、
最後に螢光体を純水に分散させた状態で排出バルブ（財
）を開放し、３００〜４００メツシユのフィルター（至
）を介して遠心分離機ｒ３ηに投入し、脱水して精製さ
れた赤螢光体をうる。同様の操作は所望に応じて緑や青
の螢光体に対しても行なわれ、螢光体が精製され回収さ
れる。
以上述べたように洗浄され精製された螢光体は洗浄精製
されないものに比べ前記塗布工程（１）における歩留り
、最終的にえられる螢光面の品質などの点で良好な結果
かえられる。
されないものに比べ前記塗布工程（１）における歩留り
、最終的にえられる螢光面の品質などの点で良好な結果
かえられる。
したがって、洗浄液ないし処理液を脱水してえられる螢
光体ケーキを再使用する上で精製工程（７）は不可欠の
ものとなっている。
光体ケーキを再使用する上で精製工程（７）は不可欠の
ものとなっている。
従来の螢光体のスラリーでは前述した洗浄精製工程に特
に問題とするところはなかった。しかし昨今、螢光体の
発光色を有する顔料を相応する螢光体の表面に被着させ
、螢光体の発光色以外のスヘクトル分を吸収させて螢光
面のコントラストを飛躍的に向上させる手段が適用され
ている。用いられる顔料の具体例としてはたとえば青色
発光螢光体に対するアルミン酸コバルト、赤色発光螢光
体に対するベンガラなどがあげられる。このように顔料
で被覆された螢光体は一般に顔料付螢光体と称され、螢
光面のコントラストの向上とは逆に取扱い上にいくつか
の技術的困難、技術的難点を有している。すなわち、前
記回収工程傭）を経る間に螢光体を被覆していた顔料が
剥がれる現象（顔料ハガレと称する）がある。顔料ハガ
レが起ると本来の目的とするコントラストの向上を達成
できないばかりでなく、螢光体から剥がれ落ちた顔料が
他の螢光体に付着してその発光効率を低下させるなどの
悪影響が生じる。
に問題とするところはなかった。しかし昨今、螢光体の
発光色を有する顔料を相応する螢光体の表面に被着させ
、螢光体の発光色以外のスヘクトル分を吸収させて螢光
面のコントラストを飛躍的に向上させる手段が適用され
ている。用いられる顔料の具体例としてはたとえば青色
発光螢光体に対するアルミン酸コバルト、赤色発光螢光
体に対するベンガラなどがあげられる。このように顔料
で被覆された螢光体は一般に顔料付螢光体と称され、螢
光面のコントラストの向上とは逆に取扱い上にいくつか
の技術的困難、技術的難点を有している。すなわち、前
記回収工程傭）を経る間に螢光体を被覆していた顔料が
剥がれる現象（顔料ハガレと称する）がある。顔料ハガ
レが起ると本来の目的とするコントラストの向上を達成
できないばかりでなく、螢光体から剥がれ落ちた顔料が
他の螢光体に付着してその発光効率を低下させるなどの
悪影響が生じる。
本発明は顔料付螢光体のばあいにおける以上のような欠
点を克服するためになされたものであり、顔料ハガレの
少ない顔料付螢光体として洗浄精製し、そのまま再使用
に供せるような回収処理方法を提供することを目的とし
ている。
点を克服するためになされたものであり、顔料ハガレの
少ない顔料付螢光体として洗浄精製し、そのまま再使用
に供せるような回収処理方法を提供することを目的とし
ている。
本発明者はその回収工程（Ｉｌｌ）において顔料ハガレ
が起る原因が洗浄精製工程（７）にあることを突止める
ことに成功し、その洗浄精製工程（７）を仔細に検討し
た結果、該工程（７）における水洗いによる影響の大き
いことがわかったのでその洗浄手段について種々研究し
た結果、洗浄処理液としてＴｌＨ６以下、好ましくはｐ
Ｈ４以下の水性溶液を用い、この水性溶液で少なくとも
１回処理することにより前記の目的を達成しうろことを
見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。
が起る原因が洗浄精製工程（７）にあることを突止める
ことに成功し、その洗浄精製工程（７）を仔細に検討し
た結果、該工程（７）における水洗いによる影響の大き
いことがわかったのでその洗浄手段について種々研究し
た結果、洗浄処理液としてＴｌＨ６以下、好ましくはｐ
Ｈ４以下の水性溶液を用い、この水性溶液で少なくとも
１回処理することにより前記の目的を達成しうろことを
見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。
第１表は本発明の詳細な説明するためのものである。
第 １ 表
すなわち、第１表は前記単位工程（Ｉ）における乾燥工
程（２）と現像工程（４）で生じた洗浄液ないし処理液
を脱水してえた螢光体ケーキ２００９、純水８００ ｏ
。
程（２）と現像工程（４）で生じた洗浄液ないし処理液
を脱水してえた螢光体ケーキ２００９、純水８００ ｏ
。
および酢酸の適量を用いて４種類のｐＨ状態を調整しそ
れぞれ１ノ容ポリエチレンビン中で６０ｒｐｍの低速回
転下−昼夜ｐ−リング攪拌してえた懸濁状溶液を濾過し
、その溶液の波長５２０ｎｍの光線に対する透過率を測
定しその結果を示したものである。
れぞれ１ノ容ポリエチレンビン中で６０ｒｐｍの低速回
転下−昼夜ｐ−リング攪拌してえた懸濁状溶液を濾過し
、その溶液の波長５２０ｎｍの光線に対する透過率を測
定しその結果を示したものである。
第１表中の比較例１は酢酸を加えないで純水をそのまま
水性溶液として用いたばあいの結果である。
水性溶液として用いたばあいの結果である。
第１表かられかるとおり、水性溶液の卯を６以下、好ま
しくは約４に調整したものは顔料ハガレによる透過率の
低下がほとんどない。−を低くして顔料ハガレを抑制し
うろことについてはつぎのように説明できる。すなわち
、充分に硬化して顔料が強固に付着した顔料付螢光体で
あっても、螢光面の製造工程において中性もしくは微ア
ルカリ性の溶液とのスラリーとして長時間存続するうち
に顔料を付着させるために用いた樹脂などの結合剤が膨
潤し、これを純水などで洗浄精製したばあい極度に付着
力が低下する。このため洗浄精製工程（７）の最初の段
階でｐＨが６以下、好ましくは４以下の水性溶液で処理
して樹脂などの結合剤の再硬化を強力に促しておけば洗
浄精製工程（７）での顔料ハガレは充分に抑制されるも
のと考えられる。
しくは約４に調整したものは顔料ハガレによる透過率の
低下がほとんどない。−を低くして顔料ハガレを抑制し
うろことについてはつぎのように説明できる。すなわち
、充分に硬化して顔料が強固に付着した顔料付螢光体で
あっても、螢光面の製造工程において中性もしくは微ア
ルカリ性の溶液とのスラリーとして長時間存続するうち
に顔料を付着させるために用いた樹脂などの結合剤が膨
潤し、これを純水などで洗浄精製したばあい極度に付着
力が低下する。このため洗浄精製工程（７）の最初の段
階でｐＨが６以下、好ましくは４以下の水性溶液で処理
して樹脂などの結合剤の再硬化を強力に促しておけば洗
浄精製工程（７）での顔料ハガレは充分に抑制されるも
のと考えられる。
以下、実施例をあげてさらに詳しく説明する。
実施例１
前述した従来の洗浄精製工程（γ）とは、顔料付螢光体
のケーキを洗浄タンクｒ３υ中で処理液に分散させる際
、酢酸を添加して処理液（水性溶液）の坪を約４にした
点が相違する。すなわち、第６図に示した内容量６００
ノの洗浄タンクＧυに単位工程（Ｉ）より回収した赤顔
料付螢光体のケーキ（３σ）約８０ｋｇ、純水６２０１
を加え、かつ酢酸を適量添加してｐＨが約４の水性溶液
としたのち投出口（至）を密閉し、１２ｒｐｍの低速回
転で６時間回転させて内容物を攪拌し、ついで上澄液排
出パルプ（ロ）をほぼ水平方向にして該タンクＧυの回
転を停止させ該螢光体（３０’）を６時間かけて沈殿さ
せた。
のケーキを洗浄タンクｒ３υ中で処理液に分散させる際
、酢酸を添加して処理液（水性溶液）の坪を約４にした
点が相違する。すなわち、第６図に示した内容量６００
ノの洗浄タンクＧυに単位工程（Ｉ）より回収した赤顔
料付螢光体のケーキ（３σ）約８０ｋｇ、純水６２０１
を加え、かつ酢酸を適量添加してｐＨが約４の水性溶液
としたのち投出口（至）を密閉し、１２ｒｐｍの低速回
転で６時間回転させて内容物を攪拌し、ついで上澄液排
出パルプ（ロ）をほぼ水平方向にして該タンクＧυの回
転を停止させ該螢光体（３０’）を６時間かけて沈殿さ
せた。
つぎに、上澄液をインチング駆動により排出さ、せ１そ
ののち純水のみを１２０！加えて排出パルプ（ロ）を密
閉して再度１時間攪拌し、ついで静置させえられた上澄
液を排出させた。この純水のみ加える処理を６回繰返し
行なったのち、純水１２０ノを加えて約１時間攪拌し、
ついで排出パルプ（ロ）を下にして固定し、下側よりえ
られた該螢光体のスラＩＪ−ｔｌ−抜取って従来と同様
にメツシュフィルター（至）を介して遠心脱水機にかけ
、脱水して洗浄を完了させ精製された該螢光体をえた。
ののち純水のみを１２０！加えて排出パルプ（ロ）を密
閉して再度１時間攪拌し、ついで静置させえられた上澄
液を排出させた。この純水のみ加える処理を６回繰返し
行なったのち、純水１２０ノを加えて約１時間攪拌し、
ついで排出パルプ（ロ）を下にして固定し、下側よりえ
られた該螢光体のスラＩＪ−ｔｌ−抜取って従来と同様
にメツシュフィルター（至）を介して遠心脱水機にかけ
、脱水して洗浄を完了させ精製された該螢光体をえた。
その際、上側の給水パルプＯ９はエヤー抜きとして使用
した。
した。
このようにして精製された該螢光体における顔料ハガレ
は従来のものの１Ａ以下であった。また、えられた該精
製螢光体６０傳と新たな同種の螢光体４０％を混合して
調合した該螢光体のスラリーを用いての塗布および完成
管としての螢光面の両方においてその歩留り性および品
質についての特性は新たな螢光体のみを用いたばあいと
同等であったなお、以上の説明および実施例においては
たとえばベンガラを用いた顔料付螢光体について述べた
が、ほかの顔料付螢光体についても同様にその適用が可
能である。また、ｐＨ調整のための酸は酢酸に限定され
ず、たとえば塩酸、リン酸のような無機酸、ギ酸のよう
な有機酸など公知の酸を用いることができる。さらに、
装置の構造、処理量、顔料ハガレの程度などの条件によ
りｐＨ域、酸処理の方式など、たとえば現像工程での処
理液より回収する段階で−を下げた液にしておくなど状
況に応じて種々のものがあることはいうまでもない。
は従来のものの１Ａ以下であった。また、えられた該精
製螢光体６０傳と新たな同種の螢光体４０％を混合して
調合した該螢光体のスラリーを用いての塗布および完成
管としての螢光面の両方においてその歩留り性および品
質についての特性は新たな螢光体のみを用いたばあいと
同等であったなお、以上の説明および実施例においては
たとえばベンガラを用いた顔料付螢光体について述べた
が、ほかの顔料付螢光体についても同様にその適用が可
能である。また、ｐＨ調整のための酸は酢酸に限定され
ず、たとえば塩酸、リン酸のような無機酸、ギ酸のよう
な有機酸など公知の酸を用いることができる。さらに、
装置の構造、処理量、顔料ハガレの程度などの条件によ
りｐＨ域、酸処理の方式など、たとえば現像工程での処
理液より回収する段階で−を下げた液にしておくなど状
況に応じて種々のものがあることはいうまでもない。
以上、説明したように本発、明による顔料付螢光体の回
収処理方法によれば顔料ハガレを抑制することができ、
顔料の再付着処理を行なわずに再使用できるので、螢光
面の製造工程における顔料付螢光体の歩留りおよび螢光
面の品質の向上ならびにコストの引下げにすぐれた効果
かえられる。
収処理方法によれば顔料ハガレを抑制することができ、
顔料の再付着処理を行なわずに再使用できるので、螢光
面の製造工程における顔料付螢光体の歩留りおよび螢光
面の品質の向上ならびにコストの引下げにすぐれた効果
かえられる。
第１図は螢光体の回収サイクルを示すブ田ツク図、第２
図（ａ）、（ｂ）、（Ｑ）は螢光面の製造過程を示す断
面図、第６図は洗浄精製工程において用いた一例として
の装置の断面図である。 （図面の主要符号） 輪、（３σ）：螢光体ケーキ Ｃ３υ：洗浄タンク ６つ：純 水 ０！９：排出口 （取出口） 代理人 葛 野 信 −（ほか１名）才１図 ５ 第２図
図（ａ）、（ｂ）、（Ｑ）は螢光面の製造過程を示す断
面図、第６図は洗浄精製工程において用いた一例として
の装置の断面図である。 （図面の主要符号） 輪、（３σ）：螢光体ケーキ Ｃ３υ：洗浄タンク ６つ：純 水 ０！９：排出口 （取出口） 代理人 葛 野 信 −（ほか１名）才１図 ５ 第２図
Claims (2)
- （１）顔料付螢光体を用いる螢光間製造工程で生じる顔
料付螢光体を含む洗浄液ないし処理液から顔料付螢光体
を回収し、これを再生処理する方法において、ｐＨ６以
下の水性溶液で少なくとも１回処理することを特徴とす
る顔料付螢光体の回収処理方法。 - （２）水性溶液の褌が４以下である特許請求の範囲第（
１）項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57086057A JPS58201881A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 顔料付螢光体の回収処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57086057A JPS58201881A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 顔料付螢光体の回収処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58201881A true JPS58201881A (ja) | 1983-11-24 |
| JPS6218587B2 JPS6218587B2 (ja) | 1987-04-23 |
Family
ID=13876060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57086057A Granted JPS58201881A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 顔料付螢光体の回収処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58201881A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS626355U (ja) * | 1985-06-25 | 1987-01-14 | ||
| JPH044286A (ja) * | 1990-04-21 | 1992-01-08 | Nichia Chem Ind Ltd | 蛍光体の再生方法 |
| CN1042441C (zh) * | 1992-09-24 | 1999-03-10 | 化成欧普东尼克斯株式会社 | 带有红色颜料的萤光物质的再生方法 |
-
1982
- 1982-05-19 JP JP57086057A patent/JPS58201881A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS626355U (ja) * | 1985-06-25 | 1987-01-14 | ||
| JPH044286A (ja) * | 1990-04-21 | 1992-01-08 | Nichia Chem Ind Ltd | 蛍光体の再生方法 |
| CN1042441C (zh) * | 1992-09-24 | 1999-03-10 | 化成欧普东尼克斯株式会社 | 带有红色颜料的萤光物质的再生方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6218587B2 (ja) | 1987-04-23 |
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