JPS5820155B2 - thick film conductor - Google Patents

thick film conductor

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JPS5820155B2
JPS5820155B2 JP5766778A JP5766778A JPS5820155B2 JP S5820155 B2 JPS5820155 B2 JP S5820155B2 JP 5766778 A JP5766778 A JP 5766778A JP 5766778 A JP5766778 A JP 5766778A JP S5820155 B2 JPS5820155 B2 JP S5820155B2
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glass
conductor
thick film
paste
glass frit
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信行 杉下
「きよし」 石原
好 吉野
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、厚膜導体に関するものである。[Detailed description of the invention] The present invention relates to thick film conductors.

厚膜導体は、一般にAg、Au、Pd、Ptまだはこれ
らの混合物よりなる導電粉末と、例えばPbO,5i0
2 。
Thick film conductors are generally made of conductive powders consisting of Ag, Au, Pd, Pt or mixtures thereof, e.g. PbO, 5i0
2.

B2O3,Bi2O3,Al2O3,′MgOツCaO
の組成を有する非晶質のホウケイ酸鉛ビスマスガラス7
3リツトとをビヒクル中に分散させたペーストをセラミ
ックスなどの基板上にスクリーン印刷したのち、焼成し
て形成している。
B2O3, Bi2O3, Al2O3,'MgOtsuCaO
Amorphous lead bismuth borosilicate glass with the composition 7
It is formed by screen printing a paste in which 3 liters are dispersed in a vehicle on a substrate such as ceramics, and then firing the paste.

そして厚膜導体は、厚膜コンデンサの電極として使用さ
れている。
Thick film conductors are then used as electrodes in thick film capacitors.

上記ペーストにおいて、ガラスフリットは導電粒子とセ
ラミックス、又は導体粒子間のバインダの役目をするも
のである。
In the above paste, the glass frit serves as a binder between the conductive particles and the ceramic or conductive particles.

また、ガラスフリット中のBi2O3は、導電ペースト
焼成時に金属とガラスとのぬれを良くする役目を有して
いる。
Furthermore, Bi2O3 in the glass frit has the role of improving wetting of metal and glass during firing of the conductive paste.

そのため、出来上った厚膜導体は、 (I) はんだ処理時に厚膜導体中の金、銀などがは
; んだ中へ溶解することがなくなる。
Therefore, the finished thick film conductor is: (I) gold, silver, etc. in the thick film conductor do not dissolve into the solder during soldering;

(9)はんだ処理時に厚膜導体中のパラジウムなどの酸
化が防止される。
(9) Oxidation of palladium, etc. in the thick film conductor is prevented during soldering.

そのため、はんだ付は時において導体の耐はんだ性が改
善されると共に、はんだぬれ性を良くするという効果を
有してい; る。
Therefore, soldering sometimes has the effect of improving the solder resistance of the conductor and improving the solder wettability.

しかし、ホウケイ酸鉛ビスマスガラスは軟化温度が47
9〜520℃と低いため、前記ペーストの焼成温度は5
00℃位の低温で焼成する必要がある。
However, lead bismuth borosilicate glass has a softening temperature of 47
Since the temperature is as low as 9 to 520°C, the firing temperature of the paste is 5°C.
It is necessary to fire at a low temperature of about 00°C.

しかし、このような低温焼成では前記ペー1ストの導体
成分が焼結せず、厚膜導体の導電率が安定しない。
However, in such low-temperature firing, the conductor component of the paste is not sintered, and the conductivity of the thick film conductor is not stable.

そこで、止むを得ず前記ペーストは750〜1000℃
で焼成し導電率の安定した厚膜導体としていた。
Therefore, the paste was heated to 750 to 1000°C.
It was fired to create a thick film conductor with stable conductivity.

しかし、このような高温で前記ペーストを焼成すると、
前記ペーストは非常に粘度が低下し流動し易い状態にな
る。
However, when the paste is fired at such high temperatures,
The paste has a very low viscosity and becomes easily flowable.

そのため、上記ペーストを例えば厚膜コンデンサの電極
として使用すると、誘電体層(例えばチタン酸バリウム
)の空孔にペースト中の軟化したガラス、導体成分がし
み込み、コンデンサの耐圧を低下させる;という欠点が
生じてしまう。
Therefore, when the above paste is used, for example, as an electrode for a thick film capacitor, the softened glass and conductor components in the paste seep into the pores of the dielectric layer (for example, barium titanate), reducing the withstand voltage of the capacitor. will occur.

まだ、導体成分にAgとPdとを用いた導電ペーストを
850℃で焼成し、次いで厚膜抵抗体層を作成し、その
上に抵抗体層を保護するガラスペーストを塗布し、50
0〜330℃で焼成して形成する場合はミ 850℃の
焼成で導体を形成する際導電ペースト中のホウケイ酸鉛
ビスマスガラスが流れ出し、銀、ノミラジウム表面をぬ
らしていたガラスが少なくなっているため、500〜3
30℃で焼成しガラス層を形成する際、パラジウムが酸
化してしまい、導体層のはんだぬれ性が著しく低下し、
はんだが全くつかなくなってしまうという欠点がある。
A conductive paste using Ag and Pd as conductor components was fired at 850°C, then a thick film resistor layer was created, and a glass paste to protect the resistor layer was applied on top of it.
If the conductor is formed by firing at 0 to 330°C, the lead-bismuth borosilicate glass in the conductive paste will flow out when firing at 850°C, and the glass that wet the silver and noradium surfaces will decrease. ,500~3
When baking at 30°C to form a glass layer, palladium oxidizes, significantly reducing the solderability of the conductor layer.
The disadvantage is that the solder will not stick at all.

はんだぬれ性を改善するだめには、導体成分中の銀含有
量を増せば良いが、銀が多くなると導体層と基板との接
着強度が小さくなるという欠点が生じてしまう。
In order to improve the solder wettability, it is possible to increase the silver content in the conductor component, but if the silver content increases, the adhesive strength between the conductor layer and the substrate decreases, which is a drawback.

本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくシ、(
I)導体層と基板との接着強度が大であり、(9)誘電
体層の特性を変化させず、(2)導体層のはんだぬれ性
を低下させない厚膜導体を提供するにある。
The object of the present invention is to eliminate the above-mentioned drawbacks of the prior art;
The object of the present invention is to provide a thick film conductor that (1) has high adhesive strength between the conductor layer and the substrate, (9) does not change the characteristics of the dielectric layer, and (2) does not reduce the solderability of the conductor layer.

上記目的は、PbO15〜19.4ωt% 、CaO3
〜4.3ωt%t ZnO1,7〜2.2 ωt %t
A12032.2〜2.8ωを係ツB2031.8〜
2.3ωt%。
The above purpose is PbO15~19.4ωt%, CaO3
~4.3ωt%t ZnO1,7~2.2ωt%t
A12032.2~2.8ω is connected B2031.8~
2.3ωt%.

5in210〜14ωt%りBi2O350〜70ωt
%の組成を有する亜鉛含有ホウケイ酸鉛ビスマス結晶化
ガラスとAg70〜95ωを係、Pa5〜30ωt%の
混合物、A、967〜92.6ωを係。
5in210~14ωt% Bi2O350~70ωt
% of zinc-containing lead borosilicate bismuth crystallized glass and Ag70-95ω, a mixture of Pa5-30ωt%, A, 967-92.6ω.

Pd07.4ωを係〜33ωt%の混合物、Ag70〜
95ωt%、Pd5〜30ωtチのAルーPd合金のう
ちのいずれか一種類の導体と、有機ビヒクルよシなる導
体ペーストを印刷、焼成することによって得られる。
Pd07.4ω ~33ωt% mixture, Ag70~
It is obtained by printing and firing a conductor paste consisting of any one type of A-Pd alloy of 95 ωt%, Pd5 to 30 ωt, and an organic vehicle.

なお上記の膜厚導体を形成する導体ペースト中のバイン
ダガラスとしては、上記組成を有するガラスフリットを
用いるか、PbO15〜19.4ωt%+Ca03〜4
.3ωt%、、ZnO1,7〜2.2ωt%。
As the binder glass in the conductor paste forming the conductor with the above film thickness, a glass frit having the above composition is used, or PbO15~19.4ωt%+Ca03~4
.. 3 ωt%, ZnO 1.7 to 2.2 ωt%.

A12032.2〜2.8ωを係、B2031.8〜2
.3ωを係5iO210〜14ωを勅組成を有する結晶
化ガラスフリットにBi2O3粉末を加えてその組成の
合計が前記の亜鉛含有ホウケイ酸鉛ビスマス結晶化ガラ
スフリットと同一組成としだもの、前記亜鉛含有ホウケ
イ酸鉛ビスマス結晶化ガラス中のBi O量を少なめに
しておいて、これにBi2O3粉を加えてこれらの合計
が前記の亜鉛含有ホウケイ酸鉛ビスマス結晶化ガラスと
同一組成にしたもののうちから選ばれた1種類のバイン
ダガラスを使用すれば良い。
A12032.2~2.8ω, B2031.8~2
.. 3ω and 5iO210 to 14ω. Bi2O3 powder is added to a crystallized glass frit having a composition such that the total composition is the same as that of the zinc-containing lead-bismuth borosilicate crystallized glass frit, and the zinc-containing borosilicate The amount of BiO in the lead-bismuth crystallized glass was kept small, and Bi2O3 powder was added to it to make the total composition the same as the zinc-containing lead-bismuth borosilicate crystallized glass. It is sufficient to use one type of binder glass.

まだ導電ペースト中の導体粉末はN170〜95ωt%
、Pa5〜30ωを係の混合物XNl67〜92.60
を係、Pd07.4ωを係〜33ωを係の混合物、N1
70〜95ωを係、Pd5〜30ωを勅Aud合金のう
ちから選ばれた一種類の導体粉末が良い。
The conductor powder in the conductive paste is still N170~95ωt%
, Pa5~30ω is the mixture XNl67~92.60
A mixture of Pd07.4ω and 33ω, N1
It is preferable to use one kind of conductor powder selected from Aud alloys with a resistance of 70 to 95ω and an alloy of Pd of 5 to 30ω.

ビヒクルとしては、通常の有機ビヒクル(例えばエチル
セルロースのα−テルピネオール溶液)を用いる。
As a vehicle, a conventional organic vehicle (for example, an α-terpineol solution of ethyl cellulose) is used.

以下本発明を実施例により説明する。The present invention will be explained below with reference to Examples.

実施例 1 酸化鉛(pbo)、炭酸カルシウム(CaCO3)、酸
化亜鉛(ZnO)、アルミナ(A/l’203χホウ酸
(H3BO,)、酸化ケイ素(S A02 )および三
酸化ビスマス(B1203 )を第1表の%1〜Nn3
及び比較例1.2のように配合して、白金るつぼに入れ
、1200℃で溶融したのち、水中に投入して急冷しガ
ラスを作成した。
Example 1 Lead oxide (pbo), calcium carbonate (CaCO3), zinc oxide (ZnO), alumina (A/l'203χ boric acid (H3BO,), silicon oxide (S A02 ) and bismuth trioxide (B1203) were %1~Nn3 in table 1
The mixture was mixed as in Comparative Example 1.2, placed in a platinum crucible, melted at 1200°C, and then poured into water to be rapidly cooled to produce glass.

この組成比のガラスをメノウ製ボールミルで粉砕し、平
均粒径2.5μの粉末にし、示差熱分析により軟化点と
結晶化点(ピーク温度)を測定した結果第1表に示す値
であった。
Glass with this composition ratio was ground in an agate ball mill to form a powder with an average particle size of 2.5μ, and the softening point and crystallization point (peak temperature) were measured by differential thermal analysis, and the results were as shown in Table 1. .

このガラスの結晶化部分はケイ酸ビスマス(B14 (
S104)3 )からなっておシ、非晶質分はホウケイ
酸鉛ビスマスより々っていた。
The crystallized portion of this glass is bismuth silicate (B14 (
The amorphous content was higher than that of lead bismuth borosilicate.

PbOはガラスの軟化点を低くし、流動性に寄与し、1
5%未満では流動性不足、19.4%を越えると流動し
すぎる。
PbO lowers the softening point of glass, contributes to fluidity, and
If it is less than 5%, there is insufficient fluidity, and if it exceeds 19.4%, it is too fluid.

CaOとZnOは結晶化度の調整に役立ち、CaO3ω
t % t ZnO1,7ωt%未満では結晶化不足、
Ca04.3 ωt % t Zn02.2 ωt%よ
り大では結晶化が進みすぎる。
CaO and ZnO help adjust the crystallinity, and CaO3ω
t % t ZnO If less than 1,7 ωt%, crystallization is insufficient;
Ca04.3 ωt % t Zn02.2 If it is larger than ωt %, crystallization progresses too much.

Al2O3は耐水性を増すために加え、2.2ωtチ未
満では効果なく、2.8ωt%を越えると結晶化を妨げ
る。
Al2O3 is added to increase water resistance; if it is less than 2.2 ωt%, it is ineffective, and if it exceeds 2.8 ωt%, it inhibits crystallization.

B2O3とSiO2はガラスのネットワーク構成成分で
あり、B2031.8ωt01)、SiO210%未満
では流動性が大きすぎ、B2032.3ωt % tS
in214ωt%を越えると流動性不足となる。
B2O3 and SiO2 are network components of glass, B2031.8ωt01), less than 10% SiO2 has too high fluidity, and B2032.3ωt% tS
When in214ωt% is exceeded, fluidity becomes insufficient.

Bi2O3は金属とガラスのぬれ性をよりシ、マタガラ
スを結晶化させる成分であって、50ωt%未満では金
属のぬれ性が不足し、70ωt%よシ多いと結晶化しな
い。
Bi2O3 is a component that improves the wettability of metal and glass and crystallizes the glass. If it is less than 50 ωt%, the metal wettability is insufficient, and if it is more than 70 ωt%, it will not crystallize.

なお、導電ペースト中のガラスフリットとしては、前述
せるように上記の組成を有するガラスのうちBi2O3
の1部または全。
In addition, as the glass frit in the conductive paste, among the glasses having the above composition, Bi2O3 is used as the glass frit in the conductive paste.
Part or all of.

部を除いた成分のガラスフリットに、全体として上記ガ
ラス組成となるようにBi2O3を混合した場合、導体
焼成後には同様に結晶化ガラスになシ、金属とのぬれ性
においても同じ効果が得られる。
If Bi2O3 is mixed with the glass frit of the components excluding the above so that the glass composition as a whole becomes the above, after firing the conductor, the same effect as that of crystallized glass and the same effect on wettability with metal can be obtained. .

つぎに前記した第1表の試料克1〜Nl13と同様にし
て第2表の試料N[L4〜覧8のガラス粉末を作成し、
これらに、それぞれ第2表に示すととくBi2O3を混
合し全体の組成が第1表の%1と同じになる混合フリッ
トにした。
Next, glass powders of samples N [L4 to 8 in Table 2 were prepared in the same manner as samples K1 to Nl13 in Table 1, and
These were mixed with Bi2O3 as shown in Table 2 to form a mixed frit whose overall composition was the same as %1 in Table 1.

; 第1表の試料N111〜%3及び比較例1.2のガ
ラスフリットおよび第2表の試料%4〜N18の混合物
フリット15重量係を、銀70重量%、パラジウム30
重量係よりなる金属粉末85重量%と混合し、この混合
粉末70重量部に対し、エチルセルロースのα−テルピ
ネオール溶液(エチルセルロース15重量%を含む)3
0重量部を加えて3段式ロールで混練し、導電ペースト
を製造した。
; The glass frits of Samples N111 to %3 in Table 1 and Comparative Example 1.2 and the mixture frits of Samples %4 to N18 in Table 2 were mixed with 70% by weight of silver and 30% by weight of palladium.
3 parts by weight of an α-terpineol solution of ethylcellulose (containing 15% by weight of ethylcellulose) was mixed with 85% by weight of a metal powder consisting of
0 parts by weight was added and kneaded using a three-stage roll to produce a conductive paste.

これらの導電ペーストのほかに、比較例としてDupo
nt社の導電ペースト#8151を第1図のアルミナ基
板1上に印刷し、900℃で10分間焼成して、厚膜コ
ンデンサの下部電極2および2mmX2mmのはんだ付
は用端子を形成した。
In addition to these conductive pastes, Dupo
Conductive paste #8151 manufactured by NT Corporation was printed on the alumina substrate 1 shown in FIG. 1 and baked at 900° C. for 10 minutes to form the lower electrode 2 of the thick film capacitor and a 2 mm×2 mm soldering terminal.

つぎに誘電体ペーストとして、チタン酸バリウムを主成
分とするDupont社の#8456を用いて、下部電
極の上に重ねて印刷、乾燥し、さらにその上に前記導電
ペーストを印刷、乾燥後900℃で10分間焼成して誘
電体層3、上部電極4を形成して厚膜コンデンサを作成
した。
Next, as a dielectric paste, #8456 manufactured by DuPont, which is mainly composed of barium titanate, was printed and dried on top of the lower electrode, and then the conductive paste was printed on top of that, and after drying, the temperature was increased to 900°C. This was baked for 10 minutes to form a dielectric layer 3 and an upper electrode 4, thereby producing a thick film capacitor.

コンデンサの誘電体層の厚さは40μ、有効電極面積は
9−としだ。
The thickness of the dielectric layer of the capacitor is 40μ, and the effective electrode area is 9−.

コンデンサの上に低温結晶化ガラスペースト(PbO6
8ωt % 、 ZnO20ωt%、B2O33ωt%
、A12035ωt%、5i022ωt%よりなるガラ
スフリット70ωt%エチルセ■トルロースのα−テル
ピネオール溶液30ωt%よりなるもの)を印刷し、5
30℃で10分間焼成して防湿用オーバコートを施した
Apply low temperature crystallized glass paste (PbO6) on top of the capacitor.
8ωt%, ZnO20ωt%, B2O33ωt%
, A12035ωt%, 5i022ωt% glass frit 70ωt% ethylcetolose α-terpineol solution (30ωt%) was printed;
A moisture-proof overcoat was applied by baking at 30° C. for 10 minutes.

これら各コンデンサについて、静電容L tanδ、絶
縁破壊電圧を測定し、はんだ付は端子にはスズ60%、
鉛40%のはんだを用いて、230℃で浸漬したときの
はんだぬれ性および直径0.6mの銅線をはんだ付けし
、この銅線を基板と垂直方向に引張ってひきはがすとき
の基板との接着強さを測定した。
For each of these capacitors, the capacitance L tan δ and dielectric breakdown voltage were measured, and the terminals were soldered with 60% tin.
Solder wettability when immersed at 230℃ using 40% lead solder, and the relationship between the solder and the board when a copper wire with a diameter of 0.6 m is soldered and the copper wire is pulled perpendicularly to the board and peeled off. Adhesive strength was measured.

結果を第3表に示す。また、これら厚膜コンデンサを1
00℃で直流100vを印加したときの絶縁破壊電圧の
時間による変化を第2図に示す。
The results are shown in Table 3. In addition, these thick film capacitors are
Figure 2 shows the change in dielectric breakdown voltage over time when 100 V DC was applied at 00°C.

第3表中、(表中の電は第1表、表2表の%に対応する
)Nctl 、 2 、3は良好な値を示している。
In Table 3, Nctl, 2, and 3 (the electric current in the table corresponds to the percentage in Table 1 and Table 2) show good values.

第3表の比較例1,2では、(1,2,3の実験例に比
べてコンデンサの静電容量、tanδがやや大きく、絶
縁破壊電圧が低い。
In Comparative Examples 1 and 2 in Table 3, the capacitance and tan δ of the capacitor were slightly larger and the dielectric breakdown voltage was lower than in Experimental Examples 1, 2, and 3.

また導体のはんだぬれ性もや\劣り、接着強さも小さく
なっていて実用できない。
Furthermore, the solderability of the conductor is rather poor, and the adhesive strength is also low, making it impractical.

また第1表の比較例1の組成からZnOを除去したPb
014.5 ωt % 、 CaO2,9ωt%2 A
120s 1.8ωt%、B2031.6ωt%。
In addition, Pb obtained by removing ZnO from the composition of Comparative Example 1 in Table 1
014.5 ωt%, CaO2,9ωt%2 A
120s 1.8ωt%, B2031.6ωt%.

5in29.1ωを係、 Bi2O370,1ωを係の
組成を有するガラスも結晶化せず本発明の効果は得らi
れなかった。
Glass having a composition of 5in29.1ω and Bi2O370.1ω also did not crystallize and the effect of the present invention could not be obtained.
I couldn't.

この原因は第1表の比較例1,2のガラスの結晶化度が
他の場合より小さいだめ、ガラスが流動したためと考え
られる。
The reason for this is thought to be that the crystallinity of the glasses in Comparative Examples 1 and 2 in Table 1 was lower than in the other cases, and the glasses fluidized.

まだ第3表中の比較例3の場合もこの現象が著しいので
実用し得ない。
This phenomenon is still significant in the case of Comparative Example 3 in Table 3, so that it cannot be put to practical use.

第2図は高温負荷試験の結果である。第2図の曲線5は
第3表の比較例1、曲線6は第3表の(1、曲線7は第
3表の比較例3の厚膜コンデンサの試験結果を示しだも
のである。
Figure 2 shows the results of the high temperature load test. Curve 5 in FIG. 2 shows the test results of the thick film capacitor of Comparative Example 1 in Table 3, curve 6 shows the test results of Comparative Example 3 of Table 3, curve 6 shows the test results of Comparative Example 3 of Table 3.

曲線7は時間が経過するにつれて著しく耐電圧が劣化し
、実用に供し得ない。
In curve 7, the withstand voltage deteriorates significantly as time passes, and it cannot be put to practical use.

曲線5は時間がたつにつれてや\耐電圧が劣化している
Curve 5 shows that the withstand voltage deteriorates over time.

しかし、曲線6では5000時間経過後もまったく劣化
せず良好な結果を示している。
However, curve 6 shows good results with no deterioration at all even after 5000 hours.

第3表中の述4〜8は、ガラスフリットとBi2O3の
混合フリットを使用している。
Items 4 to 8 in Table 3 use a mixed frit of glass frit and Bi2O3.

これら混合フリットは、焼成後ではいずれも第1表%1
のガラスと同一組成になっている。
After firing, these mixed frits are all %1 in Table 1.
It has the same composition as glass.

そして、これらの特性を第1表のNtllと比較してみ
ると、第3表のN114〜8は全ての特性について表1
のMlと差異が認められない。
Comparing these characteristics with Ntll in Table 1, N114 to 8 in Table 3 are similar to Table 1 for all characteristics.
No difference was observed between Ml and Ml.

このことより導電ペースト中にBi2O3は予めガラス
の成分として加えガラス化した状態で存在しても、ガラ
スフリットと混合した状態で存在しても、焼成された厚
膜導体中では結晶化ガラスの成分として存在し、本発明
の組成範囲では全く同じ効果を有することがわかる。
From this, whether Bi2O3 is added in advance as a glass component in the conductive paste and exists in a vitrified state or in a mixed state with glass frit, Bi2O3 is a component of crystallized glass in the fired thick film conductor. It can be seen that the composition range of the present invention has exactly the same effect.

実施例 2 実施例1における第1表%2のガラスフリット15ωt
%を、AgとPdの混合物中Agの含有量が75.80
.85.90.95ωを係となるように混合したAg、
Pd粉末85ωt%と混合し、この混合粉末70ωt%
に実施例1と同様の有機物ビヒクル30ωt%を加え、
実施例1と同様にペースト状にし、実施例1と同様の実
験を行った。
Example 2 Glass frit 15ωt of Table 1 %2 in Example 1
%, the content of Ag in the mixture of Ag and Pd is 75.80
.. Ag mixed with 85.90.95ω,
Mixed with Pd powder 85ωt%, this mixed powder 70ωt%
30 ωt% of the same organic vehicle as in Example 1 was added to
The mixture was made into a paste in the same manner as in Example 1, and the same experiment as in Example 1 was conducted.

その結果を第4表に示す。The results are shown in Table 4.

AgとPd混合比が、Ag85ωt%までは、厚膜コン
デンサの特性、導体の特性とも実施例1、第3表rl!
12(Ag70ωtチ)と同等である。
When the mixing ratio of Ag and Pd is up to Ag85ωt%, both the characteristics of the thick film capacitor and the characteristics of the conductor of Example 1, Table 3 rl!
12 (Ag70ωtchi).

これよpAg量が多くなるとコンデンサの静電容量とt
anδの値かや\大きくなり、絶縁破壊電圧かや\小さ
くなる。
When the amount of pAg increases, the capacitance of the capacitor and t
The value of an δ becomes slightly larger, and the dielectric breakdown voltage becomes slightly smaller.

また導体の接着強度かや\小さくなる。Also, the adhesive strength of the conductor becomes slightly smaller.

しかしAg量95ωt%tで実用可能であんAg量が7
0ωt%よ妙ない場合は、Pd量が多いため、はんだぬ
れ性が劣り、Ag量が95ωt%よシ多くなると厚膜コ
ンデンサの信頼性が劣り゛、導体の接着強度も小さくな
るため、ともに実用できない。
However, it is practical with an Ag amount of 95ωt%t, and the Ag amount is 7
If the amount is less than 0 ωt%, the solderability will be poor due to the large amount of Pd, and if the amount of Ag is greater than 95 ωt%, the reliability of the thick film capacitor will be poor, and the adhesive strength of the conductor will be low, both of which are not suitable for practical use. Can not.

したがって、導体成分のAgとPdの含有比は、Ag7
0〜95ωを係、Pd5〜30ωを係が適当である。
Therefore, the content ratio of Ag and Pd in the conductor component is Ag7
It is appropriate to use 0 to 95ω and Pd5 to 30ω.

実施例 3 Ag70ωt%、 Pd 30ωを係を含む混合粉末と
、実施例1における第1表%2のガラスフリットを用い
、導体成分がそれぞれ75 、80 、90ωt%、ガ
ラスフリットがそれぞれ25 、20 。
Example 3 A mixed powder containing 70 ωt% of Ag and 30 ωt of Pd was used, and the glass frit of %2 in Table 1 in Example 1 was used, and the conductor components were 75, 80 and 90 ωt%, respectively, and the glass frit was 25 and 20%, respectively.

10ωt%となるようした組成物について、実施例1と
同様の実験を行った結果を第5表に示す。
Table 5 shows the results of an experiment similar to that of Example 1 performed on a composition having a concentration of 10 ωt%.

この結果を実施例1、第3表、%2と比較すると、ガラ
スフリットが多くなると厚膜コンデンサの静電容量が減
少し、導体の接着強度は大きくなる。
Comparing this result with Example 1, Table 3, %2, it can be seen that as the amount of glass frit increases, the capacitance of the thick film capacitor decreases and the adhesive strength of the conductor increases.

ガラスフリットが少なくなると逆の結果になる。The opposite result occurs when the glass frit is reduced.

ガラスフリットが25ωt%より多くなるとコンデンサ
の静電容量が不足するほか、導体の電気抵抗が犬きくな
シ実用できない。
If the glass frit is more than 25 ωt%, the capacitance of the capacitor will be insufficient and the electrical resistance of the conductor will be too high to be practical.

ガラスフリットが10ωt%より少ない場合は、導体の
接着強度が小さくなり、やはシ実用に供し得ない。
If the glass frit content is less than 10 ωt%, the adhesive strength of the conductor will be so low that it cannot be put to practical use.

しだがって導体成分とガラスフリットの含有割合は導電
成分70〜95ω覧バインダ10〜25ωt%となる。
Therefore, the content ratio of the conductive component and the glass frit is 70 to 95 ωt % for the conductive component and 10 to 25 ωt % for the binder.

実施例 4 導電成分として、AgとPdの割合がAg70ωt%、
pa3oωt%となるようにしたAg粉末と円粉末の混
合物、Ag−Pd合金粉末およびAg粉末とPdO粉末
のそれぞれ85ωt%に、実施例1で示した第1表Il
l!12のガラスフリットを15係を混合して、実施例
1と同様にして、3種類の導電ペストを作成した。
Example 4 As a conductive component, the ratio of Ag and Pd was Ag70ωt%,
Table 1 Il shown in Example 1 was added to a mixture of Ag powder and circular powder, Ag-Pd alloy powder, and Ag powder and PdO powder each having a pa3oωt% of 85ωt%.
l! Three types of conductive pastes were prepared in the same manner as in Example 1 by mixing 12 glass frits and 15 glass frits.

これら3種の導電ペーストを96係アルミナ基板に印刷
し、900℃で10分1間焼成して、厚膜コンデンサの
下部電極を形成した。
These three types of conductive pastes were printed on a 96-type alumina substrate and fired at 900° C. for 10 minutes to form a lower electrode of a thick film capacitor.

この上にデュポン社の誘電体ペース)#9101を印刷
、乾燥し、さらにその上に前記3種の導電ペーストを印
刷して、900℃で10分間焼成し、厚膜コンデンサを
形成した。
On top of this, DuPont's dielectric paste #9101 was printed and dried, and then the three types of conductive pastes mentioned above were printed on top of this and baked at 900° C. for 10 minutes to form a thick film capacitor.

形状は実施例1と同じである。The shape is the same as in Example 1.

これらのコンデンサの静電容量、tanδ、絶縁破壊電
圧を第6表に示す。
Table 6 shows the capacitance, tan δ, and dielectric breakdown voltage of these capacitors.

以上説明したように、本発明の厚膜導体を用いだ厚膜コ
ンデンサは信頼度が高く、配線導体としてのはんだ付は
性を著しく改善し、セラミック基板との接着強さも満足
され、厚膜回路の高信頼化、低価格化に大きな効果を有
する。
As explained above, the thick film capacitor using the thick film conductor of the present invention has high reliability, has significantly improved soldering properties as a wiring conductor, has satisfactory adhesion strength with a ceramic substrate, and has a high reliability in thick film capacitors. This has a great effect on increasing reliability and lowering costs.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は厚膜コンデンサの断面図、第2図は実験データ
である。 2・・・・・・下部電極、3・・・・・・誘電体層、4
・・・・・・上部電極。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a thick film capacitor, and FIG. 2 is experimental data. 2... lower electrode, 3... dielectric layer, 4
...Top electrode.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 lAg70〜95ωtチtPds〜30ωt%のAJ−
Pd合金導体75〜90ωを係と、pb。 15〜19.4ωt%、Ca03〜4.3ωt%tZn
01.7〜2.2G)t%t A/2032.2〜2.
8ωtP係νB2031.8〜2.3ωt−係、S 1
0210〜14ωt%t Bi2O350〜70ωt%
の組成を有する結晶性ガラス10〜25ωt%とからな
ることを特徴とする厚膜導体。
[Claims] lAg70~95ωtchitPds~30ωt% AJ-
Pd alloy conductor 75~90ω, pb. 15~19.4ωt%, Ca03~4.3ωt%tZn
01.7~2.2G) t%t A/2032.2~2.
8ωtP coefficient νB2031.8~2.3ωt-coefficient, S 1
0210~14ωt%t Bi2O350~70ωt%
A thick film conductor comprising 10 to 25 ωt% of crystalline glass having a composition.
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US5363271A (en) * 1992-09-24 1994-11-08 E. I. Du Pont De Nemours And Company Thermal shock cracking resistant multilayer ceramic capacitor termination compositions

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