JPS58194348A - Automatic classification confirmation system for chip in wafer - Google Patents

Automatic classification confirmation system for chip in wafer

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JPS58194348A
JPS58194348A JP7630382A JP7630382A JPS58194348A JP S58194348 A JPS58194348 A JP S58194348A JP 7630382 A JP7630382 A JP 7630382A JP 7630382 A JP7630382 A JP 7630382A JP S58194348 A JPS58194348 A JP S58194348A
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chip
wafer
button
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chips
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JP7630382A
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Akio Yokoyama
横山 昭男
Toru Araki
徹 荒木
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enable to confirm automatically that the chip in the wafer belongs to what class of the chip by a method wherein the transferred distance to transfer the specified pattern for chip name of the chip positioning directly under a probe to a pattern recognition region in the field of vision of a reader by manual operation is stored only in regard to the first wafer. CONSTITUTION:A joy stick is manually operated to transfer a wafer chuck table 5 as to put the chip ICM containing the specified pattern NK for chip name positioning directly under the probe to be in the field of vision of an image sensor ITV. When the chip ICM containing the specified pattern NK for chip name is put in the field of vision of the image sensor ITV, the transferred distance M1 of the wafer chuck table 5 up to the present position from the directly under part of the probe is detected to be stored in a memory unit MEM. Then the push button of a panel unit PANL is operated to show a frame the same or a little larger than the specified pattern NK for chip name shown on the picture at the specified position on the picture of a display. Then, the frame thereof is transferred as to put therein the specified pattern NK for the chip name. Then the transferred distance M2 thereof is written in the memory unit MEM.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体、セラミック等のウェハを検査。[Detailed description of the invention] This invention inspects wafers of semiconductors, ceramics, etc.

測定、加工等するに際し、位置決めされたウェハ内チッ
プが如何なる種別であるか自動的に確認し得るようにし
たウェハ内チップの自動種別確認方式に関するものであ
る。
The present invention relates to an automatic type confirmation method for chips within a wafer, which enables automatic confirmation of the type of a positioned chip within a wafer during measurement, processing, etc.

集積回路製造において、各種処理工程を終えた半導体ウ
ェハの性能検査を行なう為にチップの移動と試験を繰り
返すウェハプローバが多く使われている。
In integrated circuit manufacturing, wafer probers are often used to repeatedly move and test chips in order to inspect the performance of semiconductor wafers that have undergone various processing steps.

このウェハの最終チェソク工程を担うウェハプロービン
グ工程において、ウェハの大口径化と共にその取り扱い
の確実化、省力化(自動化)のためにウェハの自動ロー
ド/アンロード化が進められている。
In the wafer probing process, which is the final checking process for wafers, automatic loading/unloading of wafers is being promoted in order to increase the diameter of wafers, ensure reliable handling of the wafers, and save labor (automation).

この構成においては、例えば25枚のウェハを収納でき
るカセットからウェハが順次1枚ずつベルトコンベアに
よりプリアライメントステージに移送される。そして、
例えばベルヌイチャンクを使ってブロービングマシンの
ウェハチャックテーブル(測定台)、上に置かれる。一
方、測定が終了したウェハは、上記ウェハチャックテー
ブルからアンロード位置に搬送され、ベルトコンベアに
より収納カセットに収められる。また、ブロービングマ
シンでは、ITV等のイメージセンサからの撮像信号を
デジタルバタン信号に変換し、これをバタン認識するこ
とによって、チップ或いはサブチップを画成する区分線
(スクライブライン)を検出するというアライニング及
びチップに対する針合せを自動的に行なう。
In this configuration, wafers are sequentially transferred one by one from a cassette that can accommodate, for example, 25 wafers to the prealignment stage by a belt conveyor. and,
For example, a Bernoulli chunk is used to place the wafer on the wafer chuck table (measuring table) of a blobbing machine. On the other hand, the wafer whose measurement has been completed is conveyed from the wafer chuck table to an unloading position, and placed in a storage cassette by a belt conveyor. In addition, the probing machine converts an image signal from an image sensor such as an ITV into a digital bang signal, and by recognizing the digital bang signal, detects the dividing line (scribe line) that defines a chip or subchip. Automatically performs needle alignment for lining and tip.

しかしながら、例えば研究試作用のウー・・番モ見られ
るように異なる種類の一チップが形成されたウェハに対
しては、それぞれのチップの種類を判別することが、上
記の全自動ウェハプローバではできないという欠点があ
る。従って、例えば第1図に示すように点線で示された
異なる9種類のチップiC(サブチップ)が実線で示す
ようにチ・ノブ群毎に配列された場合、チップ種別の管
理に対してはX、Y軸方向にそれぞれ3サブチップ分ず
つ飛び飛びに測定する等の特別な考慮を必要とするが、
そのようなことが困難であるという欠点があった。
However, for example, for wafers on which different types of chips are formed, as seen in the research prototyping process, the fully automatic wafer prober described above cannot distinguish the types of each chip. There is a drawback. Therefore, for example, if nine different types of chip iCs (subchips) indicated by dotted lines are arranged in each chip/knob group as indicated by solid lines as shown in FIG. , special consideration is required, such as measuring 3 subchips at intervals in the Y-axis direction.
The drawback was that such a task was difficult.

また、本発明者等は、ウェハ上の位置が特定されている
特定チップ及びこの特定チップに対する相対位置が定め
られている(アドレスが管理されている)複数チップを
1枚のウェハ上に形成し、アドレスが管理されている複
数個のチップについて各種の測定を行ない、その測定結
果によりウェハ全体の評価を行なう方法を考えているが
、上記従来の全自動ウェハブローバでは単にウェハチッ
プの針合せだけを目的とするものであったため、チップ
種別対応での多様な測定、試験項目をそれぞれ能率良〈
実施しでウェハ全体を上記方法で評価することが困難で
あった。
In addition, the inventors have formed on a single wafer a specific chip whose position on the wafer is specified and a plurality of chips whose relative positions with respect to this specific chip are determined (addresses are managed). , we are considering a method of performing various measurements on multiple chips whose addresses are managed and evaluating the entire wafer based on the measurement results, but the conventional fully automatic wafer blower mentioned above only performs alignment of the wafer chips. Since the purpose was to efficiently perform various measurements and test items for each chip type,
It was difficult to evaluate the entire wafer using the above method.

本発明はこのような従来の欠点を改善したものであり、
その目的は、所定の処理位置に位置決めされたウェハ内
のチップが如何なる種別のチップであるかを自動的に確
認し得るようにすることにある。以下実施例について詳
細に説明する。
The present invention improves these conventional drawbacks, and
The purpose is to be able to automatically confirm what type of chip is in a wafer positioned at a predetermined processing position. Examples will be described in detail below.

第2図は本発明方式を実施する自動ウェハプローバの一
構成例を示す概略平面図である。この構成例における自
動ウェハブローバlは、ブロービングマシン部1aとウ
ェハ移送部1bとから成る。
FIG. 2 is a schematic plan view showing an example of the configuration of an automatic wafer prober that implements the method of the present invention. The automatic wafer blowbar l in this configuration example is composed of a blowing machine section 1a and a wafer transfer section 1b.

このブロービングマシン部1aは、ウェハチャックテー
ブル5 (Ii送器)を水平面内(X、Y方向)で移動
させられ、且つθ方向の水平面内で回転させられる。こ
れにより、尖端が測定電極に対応して配列されている探
針に対しウェハの相対位置を任意に変えることができる
In this blowing machine section 1a, the wafer chuck table 5 (Ii feeder) is moved within a horizontal plane (X, Y directions) and rotated within a horizontal plane in the θ direction. This allows the relative position of the wafer to be arbitrarily changed with respect to the probe whose tips are arranged in correspondence with the measurement electrodes.

一方、測定時には、ウェハチャックテーブル5が押し上
げられた状態で探針とチップの電極(ポンディングバソ
ト)とが所要の接触圧をもって電気的に接続される。更
にアライニングを含む自動位置合せ並びにチップの種別
判定のために、ウェハ表面を拡大して撮影する読み取り
装置例えば撮像装置ITVが設けられている。そして、
撮像装置ITVからの撮像信号を受けて、上記拡大した
画像を表示するディスプレイ装置(図示せず)が設けら
れている。
On the other hand, during measurement, with the wafer chuck table 5 pushed up, the probe and the electrode of the chip (ponding base) are electrically connected with a required contact pressure. Furthermore, for automatic positioning including alignment and chip type determination, a reading device, for example, an imaging device ITV, which magnifies and photographs the wafer surface is provided. and,
A display device (not shown) is provided that receives an imaging signal from the imaging device ITV and displays the enlarged image.

また、ブロービングマシン部1aには、トランスファア
ーム(図示せず)が取り付けられている。
Further, a transfer arm (not shown) is attached to the blowing machine section 1a.

このトランスファアームは、ロードステージ3に移送さ
れたウェハを、ロードポジション5aに移動されたウニ
ハチ中ツクテーブル5上に搬送する。
This transfer arm transfers the wafer transferred to the load stage 3 onto the Uchihachi medium pick table 5 which has been moved to the load position 5a.

一方、測定が終了したウェハは、ウェハチャックテーブ
ル5がアンロードポジション5bに移動した後、アンロ
ード位置4に搬送される。
On the other hand, the wafer whose measurement has been completed is transported to the unload position 4 after the wafer chuck table 5 moves to the unload position 5b.

ウェハ移送部1bは、上述したウェハの自動ロード/ア
ンロード機構を備えたブロービングマシン部1aに対し
、ウェハが収納されているカセットを設置する4個のエ
レベータ機構(サドル)2a、2b並びにプリアライメ
ントステージとしても機能するロード位置3及びアンロ
ード位置4のそれぞれに連なるベルトコンベア6a、5
b、7a及び7bで構成されている。
The wafer transfer section 1b has four elevator mechanisms (saddles) 2a and 2b for installing cassettes containing wafers, and a pre-loading machine section 1a, which is equipped with the above-mentioned automatic wafer loading/unloading mechanism. Belt conveyors 6a and 5 connected to the loading position 3 and unloading position 4, which also function as alignment stages.
b, 7a and 7b.

これらの各機能を有する全自動ウェハプローバの各動作
は、第3図に示すような構成の制御システムの制御プロ
グラムに従って行なわれる。
Each operation of the fully automatic wafer prober having each of these functions is performed according to a control program of a control system configured as shown in FIG.

マイクロプロセッサCPUは、次のような各制御プログ
ラムに従って、信号パスラインBUSを介して接続され
た各制御ユニットを制御する。パネルユニットPANL
はマイクロプロセッサCPUの起動、停止を行なうと共
に、各制御プログラムにおいてd・要なプリセント情報
を入力ないし指示し、また必要なプリセント情報の入力
ないし指示及び必要な表示を行なう。またステージ制御
ユニット5TGCに対するマニュアル制御のための制御
信号を入力するためにも用いら、nる。
The microprocessor CPU controls each control unit connected via the signal path line BUS according to each control program as follows. Panel unit PANL
starts and stops the microprocessor CPU, inputs or instructs necessary precent information in each control program, inputs or instructs necessary precent information, and performs necessary display. It is also used to input a control signal for manual control of the stage control unit 5TGC.

ローダ部制御ユニットRODCは前記エレベータ機構。The loader section control unit RODC is the elevator mechanism.

ベルトコンベア及びプリアライメントを制御し、またト
ランスファアーム及びウェハチャックテーブル5の制御
を受は持つ。
The receiver controls the belt conveyor and pre-alignment, and also controls the transfer arm and wafer chuck table 5.

ステージ制御ユニット5TGCは、パルス信号(1個の
パルスが所定の移動量と高精度に対応している)を受け
て、パルスモータを駆動するものであり、x、 y−、
zステージ制御及びθステージ制御が、各動作モードに
応じて行なわれる。
The stage control unit 5TGC receives a pulse signal (one pulse corresponds to a predetermined movement amount with high precision) and drives a pulse motor,
Z stage control and θ stage control are performed according to each operation mode.

上記ロードポジション5aにおいて、ウェハの搬送が行
なわれた後、ウェハチャックテーブル5は一定量移動さ
せられ、撮像装置ITV直下の撮像ポジション5cで停
止する。
After the wafer is transported at the load position 5a, the wafer chuck table 5 is moved by a certain amount and stops at an imaging position 5c directly below the imaging device ITV.

撮像装置ITVからの撮像信号は、A/D変換器ADC
でデジタル化され、記憶装置MEMに書き込まれる。こ
の時、撮像装置ITVで映し出されるウェハの部分は特
に限定しないがl tm X l ’w程度である。
The imaging signal from the imaging device ITV is sent to the A/D converter ADC.
is digitized and written to the storage device MEM. At this time, the portion of the wafer imaged by the image pickup device ITV is approximately l tm x l'w, although it is not particularly limited.

次いで、この制御システムは、ウェハチャックテーブル
5をステージ制御ユニット5TGCを介してX或いはY
方向に移動させてスクライブラインを検出し、更に回転
させてスクライプラインの向きをX軸方向に平行となる
ように調整する。これが終ると以後はθ方向の回転は行
なわず、探針直下にチップが正しく位置するように上記
ウェハチャックテーブル5はX、Y方向に移動させられ
る。こうしてウェハチャックテーブル5の移動量が公知
の移動量検出手段により検出され、パネルユニットPA
NLからの指示によって記憶装置MEMに書き込まれる
。以上によってウェハの位置決めが完了する。第2枚目
以降のウェハは$1枚目のウェハについて実施された位
置決めに必要なウェハチャックテーブル5の移動量に関
する記憶情報に導かれて自動的に位置決めされる。そし
て、位置決めが終ると、ウェハ上の所望チップと検査装
置TSTとが探針を介して電気的に接続されて各種の測
定、検査が行なわれる。なお以上のような位置決め動作
の詳細は、例えば特願昭56−185952号添付明細
書等に記載されているが、他の位置決め方法を採用して
も良いことは勿論のことである。
Next, this control system moves the wafer chuck table 5 to X or Y via the stage control unit 5TGC.
direction to detect the scribe line, and further rotate to adjust the direction of the scribe line so that it is parallel to the X-axis direction. When this is completed, the wafer chuck table 5 is moved in the X and Y directions so that the chip is correctly positioned directly under the probe without further rotating in the θ direction. In this way, the movement amount of the wafer chuck table 5 is detected by the known movement amount detection means, and the panel unit PA
It is written to the storage device MEM according to instructions from NL. With the above steps, the positioning of the wafer is completed. The second and subsequent wafers are automatically positioned based on stored information regarding the amount of movement of the wafer chuck table 5 necessary for positioning the first wafer. When the positioning is completed, the desired chips on the wafer and the inspection device TST are electrically connected via the probes, and various measurements and inspections are performed. The details of the positioning operation as described above are described, for example, in the attached specification of Japanese Patent Application No. 185952/1982, but it goes without saying that other positioning methods may be employed.

探針の直下に位置しているチップの種別(チップ名)を
読み取る手順は次のようにして行なわれる。
The procedure for reading the type (chip name) of the chip located directly below the probe is performed as follows.

(A)位置決めを終了した後、最初のウェハに対し手動
動作により以下の手順に従って、探針直下から空間的に
固定されている撮像装置ITVの読み取り領域内にチッ
プ多用特定パタンを収めることができる位置までウェハ
チャックテーブル5等を移動させ、このウェハチャック
テーブル5の移動量(ステージの移動量)等を検出して
記憶させる。
(A) After completing the positioning, the chip-rich specific pattern can be placed within the reading area of the image pickup device ITV, which is spatially fixed from directly below the probe, by manually operating the first wafer and following the steps below. The wafer chuck table 5 and the like are moved to the position, and the amount of movement of the wafer chuck table 5 (the amount of movement of the stage) is detected and stored.

(1)まず、ジツイスティソクを手動操作して例えば第
4図に示すような探針直下にあるチップ多用特定パタン
NKを含むチップICMが撮像装置ITVの視野(ディ
スプレイ画面)内に収まるようにウェハチャックテーブ
ル5を移動させる。チップ多用特定バタンNKは、操作
者がディスプレイ画面上で見分けることができる程度の
適当な大きさ1例えば30X 30ドツト位の大きさと
パタン的な特徴を持っている。このチップ多用特定バタ
ンNKの実施例は後で詳述する。
(1) First, manually operate the twister so that the chip ICM containing the chip-rich specific pattern NK located directly under the probe as shown in FIG. 4 falls within the field of view (display screen) of the imaging device ITV. Move the wafer chuck table 5. The chip-intensive specific button NK has an appropriate size, for example, 30 x 30 dots, and has a characteristic pattern so that the operator can distinguish it on the display screen. An embodiment of this chip-intensive specific button NK will be described in detail later.

(2)チップ多用特定バタンNKを含むチップICMを
撮像装置ITVの視野内に収めると、探針直下から現在
の位置までのウェハチャックテーブル5の移動量M1を
検出して記憶装置MEMに記憶させる。
(2) When the chip ICM containing the chip-heavy specific button NK is placed within the field of view of the imaging device ITV, the amount of movement M1 of the wafer chuck table 5 from directly below the probe to the current position is detected and stored in the storage device MEM. .

(3)次にパネルユニットPANLの押釦を操作して、
画面上のチップ多用特定パタンNKと同一または多少太
き目の枠(読み取り領域)をディスプレイ画面上の特定
位置に表示させる。           ((4)次
に、チップ多用特定パタンNKがその中に納まるように
その枠を移動させる。そして、その移動量M2を記憶装
置MEMに書き込む。
(3) Next, operate the push button on the panel unit PANL,
A frame (reading area) that is the same as or somewhat thicker than the chip-intensive specific pattern NK on the screen is displayed at a specific position on the display screen. ((4) Next, move the frame so that the chip-intensive specific pattern NK fits within it.Then, write the amount of movement M2 into the storage device MEM.

(5)以上の操作を終了すると上記子II (2)にお
ける記憶された移動量Mlに基づき該チップ■CMは再
び探針直下に移動される。
(5) When the above operations are completed, the tip CM is moved directly below the probe again based on the movement amount Ml stored in the child II (2).

なお、ここまで述べた操作は1枚目のウェハについて位
置決めを終了した直後に引き続いて実施しておくだけで
良い。これ以後ウェハの測定評価の実施に入る。
Note that the operations described so far only need to be performed immediately after the positioning of the first wafer is completed. After this, wafer measurement and evaluation will begin.

(B)次に探針直下にあるチップの種別を読み取る手順
を述べる。
(B) Next, the procedure for reading the type of chip located directly below the probe will be described.

(6)操作者からの命令によりチップ名読み取り指令が
測定システムの上位計算機から出力されると、本装置は
上記手順(2)の移動量M1を記憶装置MEMから読み
出して、その分だけステージ制御ユニット5TGCを介
してウェハチャックテーブル5を撮像装置ITV直下に
自動的C:移動させる。
(6) When a chip name reading command is output from the host computer of the measurement system in response to an instruction from the operator, this device reads the movement amount M1 in step (2) above from the storage device MEM, and controls the stage by that amount. The wafer chuck table 5 is automatically moved C: directly below the imaging device ITV via the unit 5TGC.

(7)次に枠(読み取り領域)を表出させた後、再び記
憶装置MEMから上記手順(4)の移動量M2を読み取
り、その分だけ枠を移動させてチップ多用特定バタンN
Kをその枠内にとらえる。
(7) Next, after exposing the frame (reading area), read the movement amount M2 in the above step (4) from the storage device MEM again, move the frame by that amount, and press the chip-heavy specific button N.
Consider K within that framework.

(8) 次に、この枠内のパタンは撮像装置ITVによ
り撮像信号化されたあとA/D変換器ADCを介して記
憶装置MEMに明暗の2値化されたチップ名情報として
書き込まれる。
(8) Next, the pattern within this frame is converted into an image signal by the image pickup device ITV, and then written to the storage device MEM as bright and dark binary chip name information via the A/D converter ADC.

(9)次に、この枠内の所定の場所に対応する場所の明
暗の組合せによりチップ種別の認識を行なう。これは予
め記憶させておいたチップ種別判別資料に基づいて行な
われる。
(9) Next, the chip type is recognized based on the combination of brightness and darkness at a location corresponding to a predetermined location within this frame. This is done based on chip type discrimination data stored in advance.

(10)最後に再びウェハは元の位置に戻される。(10) Finally, the wafer is returned to its original position.

第5図は、チップ種別を表示する特定パタンの実施例を
示す線図である。同図(A)は櫛形パタン、同図(B)
は点列形バタンを示し、点線が上記小枠によって仕切ら
れた撮像領域を示している。
FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a specific pattern for indicating chip type. The same figure (A) is a comb-shaped pattern, the same figure (B)
indicates a dot array type button, and the dotted line indicates the imaging area partitioned by the small frame.

斜線を施した部分は明度Φ高い撮像信号を発生させる部
分である。このパタンは分割線100によって2つの領
域41口に分けられている。領域イはチップ種別tUa
用信号を構成する部分、口は−ト記小枠に対する合せマ
ーク部分である。即ち、口の部分はチップ種別読み取り
領域を指定するものである。同図(B)の点列形バタン
では口の部分が両端に設けられているが、どちらか一方
のみであっても良い。領域イは本実施例では更に5分割
されて明暗の組合せが作れるようになっている。
The shaded area is the area where an imaging signal with high brightness Φ is generated. This pattern is divided into two areas 41 by a dividing line 100. Area A is chip type tUa
The part constituting the signal for use, the opening, is the alignment mark part for the small frame of -G. That is, the mouth part specifies the chip type reading area. Although the dot array type button shown in FIG. 2B has mouth portions provided at both ends, the mouth portions may be provided at only one of the ends. In this embodiment, region A is further divided into five parts so that combinations of brightness and darkness can be created.

第5図ではこれらの各分割領域にそれぞれ81〜B5の
符号を付しである。
In FIG. 5, these divided areas are labeled 81 to B5, respectively.

第6図はこれらの各分割領域の組合せ、即ち明暗の組合
せによる26種のチップ多用特定パタンの構成を示す線
図である。この図によれば、第5図のパタンはチップ種
別■を示している。
FIG. 6 is a diagram showing the configuration of 26 types of chip-intensive specific patterns based on combinations of these divided areas, that is, combinations of brightness and darkness. According to this figure, the pattern in FIG. 5 indicates chip type (■).

なお、操作者がチップ種の判別を命令した際に、上記手
順(7)の枠の移動量M2のみではパタンをその枠内に
とりこめぬ場合には、第5図のパタンの口部分が枠内に
くるように(読み取り領域内にチップ多用特定バタンか
含まれるように)枠若しくはウニへの位置を調整する。
In addition, when the operator instructs chip type discrimination, if the pattern cannot be placed within the frame only by the movement amount M2 of the frame in step (7) above, the opening of the pattern in FIG. Adjust the position of the frame or sea urchin so that it is within the frame (so that the chip-intensive specific button is included in the reading area).

このためには、口部分の撮像信号がすべて明になる方向
に枠を動かせば良い。この際、枠位置調整量に或閾値を
設けておくことは極めて有効である。例えばその閾値と
して探針がパッド部分から外れてしまう量を用いること
ができる。
To do this, it is sufficient to move the frame in a direction where all the imaging signals of the mouth area become bright. At this time, it is extremely effective to set a certain threshold value for the frame position adjustment amount. For example, the amount by which the probe deviates from the pad portion can be used as the threshold value.

以上は、画面上のチップ多用特定パタンNKと同−又は
多少太き目の枠を表出させて行なうチップ種別の自動確
認方式を説明してきたが、この際用いた枠はチップ種別
を認識すべく適宜に設定されるべき認識領域であって、
その領域の形状は任意のものであって良い。また上記手
順(9)で述ぺたチップ種別の認識に必要な明暗の読み
取り部分は第5図のイ部分内の各分割領域B1〜BSな
る定義域内の各領域についてそれぞれ必要な明暗情報を
読み取れば足りる。従って、チップ種別の認識に必要な
情報を得るための認識領域は、例えば上記枠の幅を極端
に小さくして(最小の場合は読み取り用走査線1本)、
それを上記各定義域を貫通するように設定することもで
きる。
Above, we have described an automatic chip type confirmation method that displays a frame that is the same as or slightly thicker than the chip-rich specific pattern NK on the screen. A recognition area that should be set as appropriate as possible,
The shape of the region may be arbitrary. In addition, the reading part of the brightness necessary for recognizing the chip type mentioned in step (9) above can be obtained by reading the necessary brightness information for each area in the defined area of each divided area B1 to BS in part A of Fig. 5. Enough. Therefore, the recognition area for obtaining the information necessary for recognizing the chip type can be created by, for example, making the width of the above frame extremely small (in the minimum case, one scanning line for reading).
It can also be set so that it passes through each of the above definition areas.

チップ多用特定バタンとしてはアルファベントのような
文字或いは製品名を示す記号等を用いて定義することも
容易にできる。更にチップに特有         i
′な回路や素子のパタンの一部を定義して用いることも
容易にできる。これらの場合には上で説明したような単
に明暗の組合せ情報の読み取りではなく2次元的な広が
りをもったパタン認識を行なう必要がある。従ってその
チップ多用特定パタンを予めチップ種別判別資料として
記憶させておき、この記憶したパタンと現在認識したパ
タンとの一致をとってチップ種別を確認すれば良い。
The chip-frequent use specific button can be easily defined using characters such as alphabento or a symbol indicating a product name. Furthermore, specific to the chip i
It is also possible to easily define and use a part of a circuit or element pattern. In these cases, it is necessary to perform pattern recognition with a two-dimensional spread, rather than simply reading the combination information of brightness and darkness as described above. Therefore, the chip-frequently used specific pattern may be stored in advance as chip type discrimination data, and the chip type may be confirmed by matching the stored pattern with the currently recognized pattern.

更に、上述した移動量設定手順において、処理位置にあ
るチップに設けた特定パタンか撮像装置の読み取り領域
に含まれるようにテーブル5を手動で移動させた際の移
動量を記憶させ、枠の移動を省略する構成とすることも
可能である。また、当初位置決めされたウェハ設置場所
から、その場所にあったチップについて設けたチップ多
用特定パタンの一部若しくは全部を読み取る装置のある
場所までの相対位置関係が予め明らかであるときは、そ
の値を移動量設定手段によりメモリに記憶すれば足りる
Furthermore, in the movement amount setting procedure described above, the movement amount when the table 5 is manually moved so that the specific pattern provided on the chip at the processing position is included in the reading area of the imaging device is memorized, and the movement of the frame is It is also possible to omit the configuration. In addition, if the relative positional relationship from the initially positioned wafer installation location to the location of the device that reads part or all of the chip-intensive specific pattern set for the chips at that location is known in advance, the value It is sufficient to store this in the memory using the movement amount setting means.

以上説明したように、本発明は、最初のウェハについて
のみ手動操作により探針直下に位置するチップのチップ
多用特定パタンを撮像装置ITVの視野内におけるパタ
ン認識領域に移す移動量を記憶させておけば、それ以降
の任意の時点に探針直下にあるチップ名を確認できるの
であるから、例えば研究、開発段階のウェハ若しくは異
なったICを含む完成ウェハのように異種の素子や回路
をもったチップから構成されているウェハであっても、
能率良くウェハ評価を行なうことができる。
As explained above, in the present invention, it is possible to memorize the amount of movement of the chip-rich specific pattern of the chip located directly under the probe into the pattern recognition area within the field of view of the imaging device ITV by manual operation only for the first wafer. For example, the name of the chip directly under the probe can be confirmed at any time after that, so it is possible to identify chips with different types of elements and circuits, such as wafers in the research or development stage, or completed wafers containing different ICs. Even if the wafer is made up of
Wafer evaluation can be performed efficiently.

即ち、予め各チップ種について定められた試験項目にし
たがって必要な試験プログラム名を登録しておけば、チ
ップ種の確認によってこれらプログラムを順序良くスケ
ジュールして各種の測定を自動的に実施できる利点があ
る。
In other words, by registering the necessary test program names in advance according to the test items determined for each chip type, the advantage is that by checking the chip type, these programs can be scheduled in an orderly manner and various measurements can be performed automatically. be.

また、測定には探針が正しくパッドに接触していること
が必要であるが、例えば外部からの雑音によってブロー
バが誤動作し1チップ分ずれた場合とか、針がパッドか
ら外れてしまった場合にも対処することができる。この
ことは、何枚ものウェハを人手を介さずに自動的にプロ
ービングする際には試験を中断して無効データをとらず
に済ませたり、素子の電気的破壊を防いだりすることが
可能となるなど特段の効果がある。
In addition, it is necessary for the probe to be in proper contact with the pad for measurement, but for example, if the blower malfunctions due to external noise and shifts by one chip, or if the probe comes off the pad. can also be dealt with. This means that when automatically probing multiple wafers without human intervention, it is possible to interrupt the test to avoid collecting invalid data, and to prevent electrical damage to devices. There are special effects such as

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は研究用ウェハの一例を示すチップバタン図、第
F図は本発明方式を実施する自動ウェハプローバの構成
例を示す平面図、第3図は第2図示自動ウェハプローバ
の制御システムの一実施例を示すブロック図、第4図は
ブローバ動作を説明するためのチップバタン図、第5図
はチップ多用特定パタンの一例を示す線図、第6図は第
5図に示すチップ多用特定パタンのバタン形状の違いに
よる分類を説明する線図である。 1は自動ウェハフ゛ローバ、1aはブロービングマシン
部、1bはウェハ移送部、2a、2bはエレベータ機構
、3はロード位置、4はアンロード位置、5はウェハチ
ャックテーブル、5aはロードポジション、5bはアン
ロードポジション、5Cは撮影ポジション、6a、6b
、7a、7bはベルトコンベア、ITVは撮像装置、C
PUはマイクロプロセッサ、PANLはパネルユニ・7
ト、5TGCはステージ制御ニー3−ソト、RODCは
ローダ部制御ユニット、MEMは記憶装置、ADCはA
/D変換器、Iloは入出力インターフェイス、TST
は検査装置、PCはプローブカード、100はバタンの
役割を説明するための分割線、イはバタン種別定義領域
、口はバタン種別ul識用小枠の位置合せ用領域である
。 特許出願人 日本電信電話公社 代理人弁理士 玉蟲久五部 (外3名) ( 第 11!!1 第2図 n 第 3 図 第4図 11Il!!5  図 A 第60 −199=
FIG. 1 is a chip baton diagram showing an example of a research wafer, FIG. A block diagram showing one embodiment, FIG. 4 is a tip baton diagram for explaining the blowbar operation, FIG. 5 is a line diagram showing an example of a chip-intensive use specification pattern, and FIG. 6 is a tip-heavy use specification shown in FIG. 5. FIG. 6 is a diagram illustrating classification based on the difference in the shape of a pattern. 1 is an automatic wafer follower, 1a is a blowing machine section, 1b is a wafer transfer section, 2a and 2b are elevator mechanisms, 3 is a loading position, 4 is an unloading position, 5 is a wafer chuck table, 5a is a loading position, 5b is a Unloading position, 5C is shooting position, 6a, 6b
, 7a, 7b are belt conveyors, ITV is an imaging device, C
PU is a microprocessor, PANL is a panel uni-7
5TGC is stage control knee 3-soto, RODC is loader control unit, MEM is storage device, ADC is A
/D converter, Ilo is input/output interface, TST
1 is an inspection device, a PC is a probe card, 100 is a dividing line for explaining the role of the button, 1 is a button type definition area, and 1 is an area for aligning the small frame for identifying the button type UL. Patent Applicant Nippon Telegraph and Telephone Public Corporation Patent Attorney Gobe Tamamushi (3 others)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)複数のチップが配列されてなるウェハを搬送器に
より移動させて予め定めた処理位置にチップの位置決め
を行ない、所定の処理を終えたウェハは移動させて格納
する自動ウェハ処理装置におけるウェハ内チップの自動
種別確認方式において、前記ウェハ内の各チップにチッ
プ種別を表すチップ冬用特定パタンを設けるとともに、
該チップ多用特定バタンの一部若しくは全部を読み取る
空間的に固定された読み取り装置と、前記処理位置にあ
るチップに設けたチップ冬用特定パタンを前記読み取り
装置の読み取り領域内に含ませるのに必要な移動量をメ
モリに記憶させる移動量設定手段と、チップ名読み取り
指令があったとき前記処理位置にあるチップのチップ多
用特定バタンか前記読み取り装置の読み取り領域内に含
まれるように前記メモリに記憶させた移動量に基づいて
少なくとも前記搬送器を移動させるバタン位置決め手段
と、前記チップ冬用特定パタンの種別判別用資料を記憶
させであるバタン認識手段とを設け、前記バタン位置決
め手段による位置決め後、前記読み取り装置によりその
チップ多用特定バタンを読み取らせ、該読み取ったバタ
ン情報から前記バタン認1手段で該チップの種別を判別
させるようにしたことを特徴とするウェハ内チップの自
動種別確認方式。 (2、特許請求の範囲第1項記載のウェハ内チップの自
動種別確認方式において、前記移動量設定手段は、前記
処理位置にあるチップに設けたチ・ノブ名用特定バタン
か前記読み取り装置の読み取り領域内に含まれるまで前
記搬送器を手動操作により移動させた際の移動量を検出
する移動量検出手段を含むことを特徴とするウェハ内チ
ップの自動種別確認方式。 (3)特許請求の範囲第1項記載のウェハ内チップの自
動種別確認方式において、前記移動量設定手段は、前記
処理位置にあるチップに設けたチソプ名用特定バタンか
前記読み取り装置の視野内に含まれるまで前記搬送器を
手動操作により移動させた際の移動量を検出する第1の
移動量検出手段と、前記読み取り装置の視野内の特定位
置に読み取り領域を表出させ且つ該読み取り領域を前記
特定位置から前記チップ多用特定パタンの一部若しくは
全部をその中に含む位置まで移動させた際の移動量を検
出する第2の移動量検出手段とを含むことを特徴とする
ウェハ内チップの自動種別確認方式。 (4)特許請求の範囲第3項記載のウェハ内チップの自
動種別確認方式において、前記バタン位置決め手段は、
前記メモリに記憶させた移動量に基づいて前記読み取り
領域を前記特定位置から移動させたときに、その読み取
り領域とチップ冬用特定バタンとの間に位置ずれを生じ
たときは、その読み取り領域内にチップ冬用特定バタン
か含まれるように所定の許容限界をもって該読み取り領
域若しくは前記搬送器の位置を調整する位置調整手段を
有することを特徴とするウェハ内チップの自動種別確認
方式。
[Claims] (1) A wafer having a plurality of chips arranged thereon is moved by a carrier and the chips are positioned at predetermined processing positions, and the wafers that have undergone predetermined processing are moved and stored. In an automatic type confirmation method for chips in a wafer in an automatic wafer processing apparatus, each chip in the wafer is provided with a specific pattern for chip winter indicating the chip type;
A spatially fixed reading device for reading part or all of the chip-heavy use specific pattern, and a chip winter specific pattern provided on the chip at the processing position necessary for including the chip winter specific pattern within the reading area of the reading device. a movement amount setting means for storing a movement amount in a memory; and a movement amount setting means for storing a movement amount in a memory so that a chip-heavy use specific button of a chip in the processing position is included in a reading area of the reading device when a chip name reading command is issued. a button positioning means for moving at least the conveyor based on the amount of movement made; and a button recognition means for storing data for determining the type of the chip winter specific pattern, and after positioning by the button positioning means, An automatic type confirmation method for chips in a wafer, characterized in that the reading device reads the chip-frequently-used specific button, and the type of the chip is determined by the button recognition means from the read button information. (2. In the automatic type confirmation method for chips in a wafer as set forth in claim 1, the movement amount setting means may be configured to be a specific button for CH/knob name provided on the chip at the processing position or a button on the reading device. An automatic type confirmation method for chips in a wafer, characterized in that the method includes a movement amount detection means for detecting a movement amount when the carrier is manually moved until it is included in a reading area. (3) Patent Claims In the automatic type confirmation method for chips in a wafer according to scope 1, the movement amount setting means moves the movement amount until a specific button for chip name provided on the chip at the processing position is included in the field of view of the reading device. first movement amount detection means for detecting the amount of movement when the device is moved by manual operation; 1. A method for automatically confirming the type of chips in a wafer, comprising: second movement amount detection means for detecting the amount of movement when a part or all of a chip-intensive specific pattern is moved to a position included therein. (4) In the automatic type confirmation method for chips in a wafer as set forth in claim 3, the button positioning means:
When the reading area is moved from the specific position based on the movement amount stored in the memory, if a positional shift occurs between the reading area and the chip winter specific button, the reading area is moved. 1. A method for automatically confirming the type of chips in a wafer, comprising a position adjusting means for adjusting the position of the reading area or the carrier within a predetermined permissible limit so that the chip winter specific button is included in the chip winter specific button.
JP7630382A 1982-05-07 1982-05-07 Automatic classification confirmation system for chip in wafer Granted JPS58194348A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6251235A (en) * 1985-08-30 1987-03-05 Canon Inc Wafer prober
JPH04130386U (en) * 1991-05-23 1992-11-30 株式会社ダイクレ Laminated structure of FRP grating

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JPH0715931B2 (en) * 1985-08-30 1995-02-22 キヤノン株式会社 Wafer processing equipment
JPH04130386U (en) * 1991-05-23 1992-11-30 株式会社ダイクレ Laminated structure of FRP grating

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