JPS58191403A - Voltage non-linear resistor and method of producing same - Google Patents

Voltage non-linear resistor and method of producing same

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JPS58191403A
JPS58191403A JP57073371A JP7337182A JPS58191403A JP S58191403 A JPS58191403 A JP S58191403A JP 57073371 A JP57073371 A JP 57073371A JP 7337182 A JP7337182 A JP 7337182A JP S58191403 A JPS58191403 A JP S58191403A
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JP
Japan
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glass
oxide
resistor
temperature
zinc
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Application number
JP57073371A
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Japanese (ja)
Inventor
山崎 武夫
研 高橋
忠彦 三吉
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はアレスタ中ナージアブンーパなどに使用できる
酸化亜鉛を主成分とした焼結体から成る電圧非直III
抵抗体とその製法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention is directed to a voltage non-straight type III motor which is made of a sintered body mainly composed of zinc oxide, which can be used in a surge arrester, etc.
Concerning resistors and their manufacturing methods.

酸化亜鉛系の電圧非直線抵抗体は一般に良く知られてい
るセラミック焼結技術で製造される。
Zinc oxide-based voltage nonlinear resistors are generally manufactured using well-known ceramic sintering techniques.

その概要は酸化亜鉛粉末を主成分として、それに酸化ビ
スマ、X (B15on ) 、酸化アンチモン(8b
sOs ) 、酸化コバルト(0ozes )、酸化ク
ロム(Or*Os )、酸化マンガン(MnO2)、酸
化ケイ素(810,)、酸化ホウ累(B鵞Os ) 1
.tl化ニッケル(NiO)などを加え十分に混合し、
これに水及びポリビニルアルコールなどの適当な結合剤
を加えて造粒して成形する。焼gは電気炉を用いて90
0〜1400℃の温度で行う。
Its main component is zinc oxide powder, bisma oxide, X (B15on), and antimony oxide (8B).
sOs), cobalt oxide (0oz), chromium oxide (Or*Os), manganese oxide (MnO2), silicon oxide (810,), boron oxide (B鵞Os) 1
.. Add nickel chloride (NiO) etc. and mix thoroughly.
Water and a suitable binder such as polyvinyl alcohol are added to this, followed by granulation and molding. Baking is done using an electric furnace.
It is carried out at a temperature of 0 to 1400°C.

焼成した抵抗体社沿面放電防止の目的で抵抗体の側面に
ホウケイ酸鉛系の低融点ガラス族【400〜,700℃
で焼付は大径、電極を形成する両端面を所定O厚さに研
−1Ij費し、浴射又に焼付り法によって電極を形成し
て電圧非[iIIIg抵抗体としている。また、ガラス
として軟化点が350〜650℃の鉛ガラスに耐火物充
てん物を混合したものを用いた例本知られている。
For the purpose of preventing creeping discharge, a borosilicate lead-based low melting point glass group [400 to 700℃] is coated on the side of the fired resistor to prevent creeping discharge.
The baking process is performed by polishing both end faces of the resistor, which will form electrodes, to a predetermined thickness, and then forming the electrodes using a bath irradiation or baking method to form a voltage resistor. Furthermore, examples are known in which lead glass having a softening point of 350 to 650° C. is mixed with a refractory filler as the glass.

しかし、この方法で得られ九抵抗体には次のような欠点
がある。第1には、用いるガラスの耐湿性や耐酸性が悪
いために、高温度中での使用時や電極形成前Oエツチン
グ処理待Knラスがf實したり、侵食されたり、あるい
はアレスタOように窒素中に封入して使用されゐと、コ
ーナ放電により生成する硝酸ガスによってガラスか侵さ
れて、抵抗体O沿面耐・圧が低下するという欠点がある
。第2にはガラスを50Ω〜800℃0温度でψ付性る
と、抵抗体O非電蘇係数がガラス焼付は前に比べて小さ
くなるという欠点がある。
However, the nine-resistor obtained by this method has the following drawbacks. First, because the moisture resistance and acid resistance of the glass used is poor, the glass may become damaged or eroded during use at high temperatures or during the etching process before forming the electrodes, or the glass may become eroded. If the resistor is used sealed in nitrogen, the glass is corroded by the nitric acid gas generated by the corner discharge, resulting in a decrease in creeping resistance and pressure of the resistor O. Second, when glass is subjected to ψ deposition at a temperature of 50Ω to 800° C., there is a drawback that the non-electrostatic coefficient of the resistor O becomes smaller than before.

本発明は上記にかんがみてなされたもので非直紳俤数及
び沿面耐圧など特性の安定な電圧非直射抵抗体、■ひに
その製法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to provide a voltage non-direct radiation resistor with stable characteristics such as non-direct radiation number and creepage withstand voltage, and (1) a method for manufacturing the same.

すなわち、本発明を概説すれば、本発明O纂10発明(
1!圧非直線抵抗体)扛、酸化亜鉛を主成分とした焼結
体の少なくとも側面にセラミックス高抵抗層を介し、又
は介することなく、ガラス層が形成され、かつ焼結体上
下両端面に電極が形成され九電圧非**抵抗体において
、上記ガラス層が以下OJi!分: 酸化亜鉛(ZnO)  : 30〜71重量−酸化ホウ
素(Blam):S〜20亀量嘩酸化ケイ素(810鵞
)=10〜50電1に嘩酸化鉛(PI)O)   : 
 5〜23ti1%を含むホウケイ酸亜鉛系ガラスであ
ることを特徴とする電圧非直線抵抗体に関する。
That is, if the present invention is summarized, the present invention summary 10 inventions (
1! Piezo nonlinear resistor) A glass layer is formed on at least the side surface of a sintered body mainly composed of zinc oxide, with or without a ceramic high-resistance layer, and electrodes are provided on both the upper and lower end surfaces of the sintered body. In the formed nine-voltage non** resistor, the glass layer is below OJi! Minutes: Zinc oxide (ZnO): 30 to 71 weight - boron oxide (Blam): S to 20 weight, silicon oxide (810 weight) = 10 to 50 weight, lead oxide (PI) O):
The present invention relates to a voltage nonlinear resistor characterized in that it is a zinc borosilicate glass containing 1% to 23ti.

そして、本発明O第20発明(電圧非直射抵抗体の製法
)祉、酸化亜鉛を主成分とする焼結体011画に竜う建
ツクス高抵抗層を形成し、かつそO上に酸化亜@30〜
71電量−1酸化ホウ素5〜20重量−1醗化ケイ素1
0〜50電量−1酸化鉛5〜25111t%及び酸化タ
ンタル2〜6重′j14sを含有するホウケイ緻亜鉛系
ガラス成分と結合剤からなるペーストをm布し、酸素含
有ガス雰囲気中において850℃以上で前記ψ給体の焼
成温度よりも低く、かつガラスの軟化m度と作業温度O
関O温度で焼付けてガラス層を形成し、前記焼結体の上
下jll端面に電極を形成することを特徴とする電圧非
直線抵抗体C製法に関する。
Then, according to the 20th invention of the present invention (method for producing a voltage non-direct radiation resistor), a high resistance layer is formed on the sintered body 011 whose main component is zinc oxide, and an oxidized layer is formed on the sintered body 011. @30~
71 coulometric capacity - 1 boron oxide 5 to 20 weight - 1 silicon fluoride 1
A paste consisting of a binder and a borosilicate zinc-based glass component containing 0 to 50 coul-1 lead oxide 5 to 25111 t% and tantalum oxide 2 to 6 t% is spread and heated to 850°C or higher in an oxygen-containing gas atmosphere. is lower than the firing temperature of the ψ feeder, and the softening temperature of the glass is m degrees and the working temperature is O
The present invention relates to a method for manufacturing a voltage non-linear resistor C, characterized in that a glass layer is formed by baking at a temperature of about 100 liters, and electrodes are formed on the upper and lower end faces of the sintered body.

本発明の特徴は酸化亜鉛を主地分とし喪焼給体から成る
電圧非直線抵抗体の1lIPj7Jに、奄2オツクス高
抵抗層を介し、又は介することなく、酸化亜鉛30〜7
1伽會嘔、酸化ホウ素5〜20菫l慢、酸化ケイ素10
〜50if慢、酸化鉛5〜15電を囁及び場合によ砂酸
化タンタル2〜6i1−11Tt言むホウケイ酸亜鉛系
ガラスO@を850℃以上で焼結体の焼成温度よ)低い
温度で焼灼け、そして抵抗体の上下両端面に電極を形成
した°ものでおる。また酸素含有ガス雰囲気中、特に酸
素雰囲気中で焼成することによシ非直線係数が良くなる
。本発BAO電圧非直紐抵抗体O構造の一実施の態様t
−第1図及び第2図に示した。
The feature of the present invention is that the voltage nonlinear resistor 1lIPj7J, which is mainly composed of zinc oxide and composed of a burnout element, is coated with zinc oxide 30 to 7
100% boron oxide, 5-20% boron oxide, 10% silicon oxide
~50 if arrogant, lead oxide 5~15 electric current and, if necessary, sand tantalum oxide 2~6i1-11Tt, borosilicate zinc-based glass O @ 850℃ or higher (the firing temperature of the sintered body) is cauterized at a low temperature. In addition, electrodes are formed on both the upper and lower end surfaces of the resistor. Furthermore, the nonlinear coefficient is improved by firing in an oxygen-containing gas atmosphere, particularly in an oxygen atmosphere. An embodiment of the present BAO voltage non-straight chain resistor O structure
- As shown in Figures 1 and 2.

すなわち、第1図は、不発明においてセラ建、ツクス高
抵抗層を用いない場合の構造の一例を示す断面図である
。91図において、1は焼結体、2は−JI2ス層、5
は電極である。
That is, FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the structure in the case where the Cera-based high resistance layer is not used in the invention. In Figure 91, 1 is a sintered body, 2 is a −JI2 layer, and 5 is a sintered body.
is an electrode.

また、第2図は、本発明においてセラミックス 高抵抗
層を用いた場合の徊遣の一例を示す断面図である。第2
図において、1〜Sは第1図と同義であ夛、4は竜うミ
ックス高抵抗層である。
Further, FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the movement when a ceramic high-resistance layer is used in the present invention. Second
In the figure, 1 to S have the same meanings as in FIG. 1, and 4 is a mixed high resistance layer.

第2図に示したようにガラス層と焼結体の界面にZny
8blO11やZ nl a i 04などから成る高
抵抗セラミックス層を設けて、ガラス層と焼結体との密
着性を更に良くしても良い。更に、ガラス層は電極の設
けられた上下面O一部を儂橿しても良いことは言うまで
、もない。
As shown in Figure 2, Zny is added to the interface between the glass layer and the sintered body.
A high-resistance ceramic layer made of 8blO11, Znl a i 04, or the like may be provided to further improve the adhesion between the glass layer and the sintered body. Furthermore, it goes without saying that the glass layer may partially cover the upper and lower surfaces O where the electrodes are provided.

また、第51!3は、本発明における電圧非直−抵抗体
O熱処理温度(横軸、℃)と、非直ai係数(I Q 
FA@111ム)O変化率(縦軸、96)との関係【示
すグラフである。熟3図において、1111111は大
気中で各温良で1時間熱処理を行った場合、m@2は酸
素中で各温度で1時間処理を行った場合を示したもので
ある。
In addition, No. 51!3 shows the voltage non-direction-resistance O heat treatment temperature (horizontal axis, °C) and the non-direction ai coefficient (IQ
This is a graph showing the relationship between FA@111m) O change rate (vertical axis, 96). In the diagram, 1111111 shows the case where the heat treatment was performed at each temperature for 1 hour in the atmosphere, and m@2 shows the case where the heat treatment was performed at each temperature for 1 hour in oxygen.

本発明者等が撞種検討した結果、■抵抗体と電極との密
着性を良くするためには、研摩後O抵抗体imt塩酸中
硝酸などの酸でエツチングすれば良い。このためKは側
面コーテング用ガラスとしてIIK酸性のものを用いる
必要があること。■第3図に見られるようKX鱗成後の
抵抗体を熱処理し次聯合、40O〜aQθ℃O温度範囲
でに抵抗体の非直−係数が低下するが、850℃以上で
は熱処理前と#=ソ同じか逆に大きくなること。■一般
にガラスの耐酸性はガラス中に8101やpboがある
程度増すに従って大きくなる。ガラスの組成は酸化グイ
単10〜。
As a result of various studies by the present inventors, (1) In order to improve the adhesion between the resistor and the electrode, the O resistor imt may be etched with an acid such as nitric acid in hydrochloric acid after polishing. For this reason, it is necessary to use IIK acidic K as the side coating glass. ■As shown in Figure 3, when the resistor is heat-treated after KX scaling, the non-linearity coefficient of the resistor decreases in the temperature range of 40O to aQθ℃, but at temperatures above 850℃, it is different from that before heat treatment. = So to be the same or to become larger. (2) Generally, the acid resistance of glass increases as 8101 and pbo increase to a certain extent in the glass. The composition of the glass is oxide oxide.

5ates、酸化鉛3〜23重量−1酸化ホウ素5〜2
0iit、I慢であればそのエツチングi[K対する耐
腐食性に失用土問題がないこと、■焼成温度が850℃
以上の高融点ホウケイ駿亜鉛−JIツスO熱I#脹体数
は普通は抵抗体よ)も小さいため、ガラス躾に亀裂0人
る恐れがあるか、該ガラスであっても線化亜鉛を60〜
711量−含むガラスであれば熱膨張係数が大きくなっ
て亀裂O入aSいことがわかったわ 400〜80oco温度で熱処理するとB110゜相変
化が起に、非直線係数か像下し、Big偽融、4(82
0℃)以上では**後と同一〇相が形成して非直線係数
が低下しないものと考えられる。また、酸素中で熱処理
すると、酸化亜鉛O粒子表面に多量の酸素イオンが1l
ll看され非直醐gk数が大きくなる。なお、ガラス焼
付は温度としてはガラスの軟化温度と作業温度の閣の温
度が遍ばれる。
5ates, lead oxide 3-23 weight - 1 boron oxide 5-2
0iit, if the etching is slow, there should be no problem with the corrosion resistance to K, and the firing temperature is 850°C.
Since the above high melting point zinc - JI TSU O heat I# is usually a resistor), there is a risk that there will be cracks in the glass, or even if the glass is wired zinc. 60~
It was found that if the glass contains 711, the coefficient of thermal expansion will increase and cracks will occur.When heat treated at a temperature of 400 to 80 degrees Celsius, a B110 phase change occurs, the nonlinear coefficient decreases, and the Big False Toru, 4 (82
0° C.) or higher, the same 〇 phase as after ** is formed, and the nonlinear coefficient is considered not to decrease. In addition, when heat treated in oxygen, a large amount of oxygen ions are released on the surface of the zinc oxide O particles.
As a result, the non-direction gk number increases. In addition, the temperature for glass baking is the same as the softening temperature of the glass and the working temperature.

また、本発aj4の抵抗体においてに、ガラスの耐酸性
が優れていることを述べたが、アレスタのように抵抗体
を窒素雰囲気中に刺入して使用する際に虹、コロナが発
生して生成する硝酸によタエッチングされる恐れがなく
、%性が゛安定である。
In addition, I mentioned that the glass has excellent acid resistance in the resistor of the AJ4, but rainbows and corona may occur when the resistor is inserted into a nitrogen atmosphere like an arrester. There is no risk of being etched by the nitric acid produced, and the percentage is stable.

本発@O電圧非WLIIIII抵抗体は敵化亜鉛にそれ
ぞれ(LO1〜10モkfk(D*化ビスマス及び酸化
マンガンを加え、更に望ましくはそれぞれa[11〜7
モル%OIM 化アンチモン、il化:f)<ルト、酸
化クロム、酸化ホウ素及び酸化ケイ末裔どt711[]
えて1000〜1400℃で焼成し、耐WIgのホウケ
イ酸亜鉛系ガラス粉を塗布し、a50〜1300℃の温
度で熱処理してガラスt−*aぜしめ、込抗体の一端面
を縮歪の厚さく研摩した俊、好着しくは始摩向を塩酸中
硝a1tでエツチングし、その後に電極を形成して得ら
れる。ここで、ガラスを電極形rlX、vkに被橿する
と電極かガラス快付時に酸化されて曳くない。
The present invention @O voltage non-WLIII resistor is made by adding a[11 to 7
Mol% OIM Antimony oxide, ilization: f)
Then, it is baked at 1000 to 1400℃, coated with WIg-resistant zinc borosilicate glass powder, and heat treated at a temperature of 50 to 1300℃ to form the glass T-*A, and one end surface of the plate is made to have a shrinkage strain thickness. It is obtained by etching the ground surface, preferably the first surface, with nitric acid in hydrochloric acid, and then forming an electrode. Here, if glass is applied to the electrodes rlX, vk, the electrodes will be oxidized and will not be drawn when the glass is attached.

ま°曳、ガラス焼付!′jgA度が1350℃以上に1
にるとガラスと焼結体とか激しく反応してガラスが焼結
体内部へ多重に拡散し、抵抗体の特性を損う九k)好1
しくない。
Ma°hiki, glass firing! 'jgA degree is 1350℃ or higher
When exposed to heat, the glass and sintered body react violently, causing the glass to diffuse into the sintered body multiple times, impairing the characteristics of the resistor.
It's not right.

本発明に使用するカラスとしては次の点か電要である。The crow used in the present invention is a telegraph as follows.

すなわち、第1には抵抗体本来の非直線係数を劣化させ
ないために、抵抗体K115Q〜1300℃の高温でガ
ラスを焼付ける必要があり、筒一点ガラスであること。
That is, firstly, in order not to deteriorate the inherent non-linear coefficient of the resistor, it is necessary to bake the glass at a high temperature of 1300° C. for the resistor K115Q, and the glass must be a single-point glass tube.

第2にはt極−抵抗体own性虻良くするために、抵抗
体にガラスを焼付は友後に塩酸や硝酸などを用いてエツ
チングすることが望ましい。また、窒素雰囲気中に新入
し良紙抗体0沿面せん絡を防止するために耐酸性ガラス
であること。第3にはガラス0成分中K11a、K、L
i  などのアルカリ金属やムtが少ないことが要求さ
れる。また、抵抗体−ガラス族の密着性を良くシ、かつ
沿面せんM【防止するためにはガラス膜の厚さを約20
μm以上にする会費かあり、抵抗体とガラスO熱1#脹
係数が近いことが望ましい。緻化岨鉛抵抗体O熱膨張係
数に50〜7QX10−7/℃であるため、ガラスの熱
j11鰻係数は30〜? OX 10−’/l:の範囲
が良い。熱膨張係数に大きな差があると、熱処理して?
6II却する間や太11EfILを印加した時に抵抗体
わるいはガラスに応力が働き、ガラスに亀裂又ははがれ
が生じ、通電に対する安定性や沿面せん絡防正に十分な
効果をあげることができない。こ扛ら0亀裂やはがれに
:防止するためKは、ガラスがkAi化ガツガラスる仁
とが特Kw1ましい。
Secondly, in order to improve the t-pole resistor's own property, it is desirable to etch the glass on the resistor using hydrochloric acid, nitric acid, etc. after baking the glass. In addition, it must be made of acid-resistant glass to prevent surface creepage when it enters a nitrogen atmosphere. Thirdly, K11a, K, L in glass 0 components
It is required that the amount of alkali metals such as i and t is small. In addition, in order to improve the adhesion between the resistor and the glass, and to prevent creepage, the thickness of the glass film should be approximately 20 mm.
There is a fee to make it more than μm, and it is desirable that the resistor and the glass O thermal 1# expansion coefficient are similar. Since the thermal expansion coefficient of the densified lead resistor O is 50~7QX10-7/℃, the thermal coefficient of glass is 30~? A range of OX 10-'/l is preferable. If there is a large difference in the coefficient of thermal expansion, should it be heat treated?
6II or when a thick 11EfIL is applied, stress acts on the resistor or the glass, causing cracks or peeling of the glass, making it impossible to achieve sufficient stability against current flow and protection against creepage. To prevent this from cracking or peeling, it is especially recommended that the glass be made into kAi.

本発明のホウケイ酸亜鉛系ガラスの主な組成としてis
、酸化亜鉛が30〜71重を慢、酸化ホウ素5〜201
ull酸化ケイ素10〜5・0璽量慢、酸化メンタル2
〜6tt嘩、酸化鉛5〜23!!量sO範囲であること
が望ましい。酸化ケイ累がこ○範囲よりも多かったり、
酸化鉛又は酸化ホウ素の量が少なすぎると、ガラスの軟
化点や作業温度が高くなり、ガラスO焼付温度が135
0℃以上となることによる不都合を生じる。一方、酸化
鉛や酸化ホウ素の1が多すぎると、ガラスの焼付温度が
800℃以下となり、かつガラスの倉r酸性が悪くなる
欠点が生じる。なお、酸化鉛を多く富み酸化ホウ素を少
量含むカラスの方が一般に1湿性が優れている。
The main composition of the zinc borosilicate glass of the present invention is
, zinc oxide weighs 30-71%, boron oxide weighs 5-201%
ul silicon oxide 10-5.0 arrogant, oxidized mental 2
~6tt fight, lead oxide 5~23! ! It is desirable that the amount is in the sO range. The silicon oxide accumulation is higher than this range,
If the amount of lead oxide or boron oxide is too small, the softening point and working temperature of the glass will be high, and the glass O baking temperature will be 135%.
Inconveniences arise when the temperature exceeds 0°C. On the other hand, if there is too much lead oxide or boron oxide, the baking temperature of the glass will be 800° C. or lower, and the glass will have a disadvantage of poor acidity. Note that crow rich in lead oxide and containing a small amount of boron oxide generally has better moisture properties.

酸化鉛か3〜25@1i%の範囲で耐湿性、耐酸性及び
抵抗体とガラス膜のぬれ性が良くなる。
Moisture resistance, acid resistance, and wettability between the resistor and the glass film improve when the lead oxide content ranges from 3 to 25@1i%.

ま九、ガラス成分中の酸化タンタルはガラスO結晶化i
ii IfrC影qIIを及ばし、ガラス・O熱的強度
を向上芒ぜる効果を有する。特に熱的強度の浚れ九ガラ
スか侍らnる組成に2〜6f[量−である。
9. Tantalum oxide in the glass component is glass O crystallized.
ii It has the effect of increasing the IfrC influence qII and improving the thermal strength of the glass. In particular, the thermal strength of the glass is 2 to 6 F [amount].

本発明Oガラス#′i30〜71重量sO酸化亜鉛を含
有することが、ガラスの機械的強度向上O上で%Kii
ましい。酸化亜鉛の含有されたガラスは焼付は時に結晶
化ガラスになって、ガラス層の強度を高め、ガラスO亀
裂が防止でき素子O耐量が向上する。酸化亜鉛O1が上
記範囲よりも夕ないとこO効果は十分でなく、上記範囲
よ)多すぎるとガラスの耐酸性が低下する。
The present invention O glass #'i30~71wt sO Containing zinc oxide improves the mechanical strength of the glass by %Kii
Delicious. Glass containing zinc oxide sometimes becomes crystallized glass when baked, increasing the strength of the glass layer, preventing glass O cracks, and improving element O resistance. If zinc oxide O1 is less than the above range, the O effect will not be sufficient, and if it is too much (below the above range), the acid resistance of the glass will decrease.

したがって、本発明のガラスO%に望ましい組成は40
≦jsno≦60電量憾、7≦B、03≦12重量−1
2Ω≦8101≦40電量チ、 2≦i&!Os≦6重
量囁、5≦pbo≦15重量慢である。
Therefore, the desirable composition for the glass O% of the present invention is 40
≦jsno≦60 electric power, 7≦B, 03≦12 weight-1
2Ω≦8101≦40 electric power, 2≦i&! Os≦6 weight whisper, 5≦pbo≦15 weight arrogance.

以下、本発明t1実施例によシ例証するが、本発明はこ
れにより限定されない。
The present invention will be illustrated below using Example t1, but the present invention is not limited thereto.

実施f1i1 酸化亜鈴(MnO) 7452 f % 592化ビス
マス(Bi、O,)324?、酸化コバルト(como
s)1bbt、11化iンガy (Mn01 )  5
7 f −、ell化アンナモン(sb、ox)  2
92 t、 Wl化10ム(0r203 )  ” ’
 % al化ニッケル(NiO) 75FXel化ケイ
素(810,)  ?Ofをボールイルで12時時間式
で混合する。混合粉は乾燥した後造粒して、12饋φ×
4■に成形する。成形体は大気中で1250℃、2時間
保持して焼成し友。
Implementation f1i1 Duplex oxide (MnO) 7452 f % 592 Bismuth oxide (Bi, O,) 324? , cobalt oxide (como
s) 1bbt, 11-in-gay (Mn01) 5
7 f-, ell-formed Annamon (sb, ox) 2
92t, Wl conversion 10m (0r203) ” '
% Nickel alumide (NiO) 75FXel silicon (810,) ? Of is mixed in a ball oil at 12 o'clock. After drying, the mixed powder is granulated to give a size of 12mmφ×
Shape into 4■. The molded body was fired at 1250°C in the air for 2 hours.

別に高融点結晶化ガラスで、かつ耐酸性oJLいGP・
14(日本電気碍子社製O商品名)ガラス粉をエチルセ
ルローズートリクロロエデレン#淑に懸濁しておき、こ
れを焼成した抵抗体011面に厚−g50−300μm
 になるように篭塗り又は浸漬方式で塗布した。これを
大気中1000℃で30分間熱処理し友。こ0ときの昇
降温速度に100℃/hである。ガラスを機種した抵抗
体にその両端面をラップオスターで約α5■ずつ研摩し
、洗浄した。洗浄し良紙抗体はムt#射電極を形成し友
。こ0本発明品と従来品(ホウケイ緻鉛系の低融点結晶
化ガラスを用い650℃0低温での焼付は品)とO非直
線係数を比較すると第1表となる。
Specially made of high melting point crystallized glass and acid resistant OJL GP・
14 (O product name manufactured by Nippon Electric Insulators) Glass powder was suspended in ethylcellulose-trichloroedelene #suk, and this was baked on the 011 surface of the resistor with a thickness of -g50-300μm.
It was applied using a basket coating or dipping method to achieve the desired results. This was heat treated at 1000℃ for 30 minutes in the air. The rate of temperature rise and fall at zero is 100°C/h. Both end faces of a resistor made of glass were polished with a Lap Oster to a depth of approximately α5cm and then cleaned. After washing, the antibody will form an injection electrode. Table 1 shows a comparison of the O nonlinear coefficients of the product of the present invention and a conventional product (made of borosilicate lead-based low melting point crystallized glass and baked at a low temperature of 650° C.).

第  1  表 本発明品は従来品よりも非直線係数が極めて大きく優れ
ていることがわかる。
Table 1 It can be seen that the products of the present invention have extremely large nonlinear coefficients and are superior to the conventional products.

実施例2 実施例1と同様に酸化亜鉛(ZnO) 、酸化ビ、Xw
ス(Bt、am ) 163 f 、酸化コバルト(C
!0,0.)  34 f、酸化’?7ガン(MnOl
)29t1酸化アンチモン(S’btO1)  195
 fX酸化クロム(0rlO1)  38 f、 酸化
ニッケル(Mlo)S a F、酸化ケイ素(1101
) 45 f X酸化ホウ素(BmOs) 5 tをボ
ールミルで13時閣湿式で混合する。混合粉は乾燥した
後造粒’l、、12■φ×6−に形成し、1270℃2
時間保持して焼成した。焼成した抵抗体は実施例1のa
pe14ガラスペーストを厚さ15G−200p1Km
布し、酸素雰囲気中にて1020℃で1時間熱処理した
。このときの昇降温速度祉40℃/hである。ガラス薔
橿した抵抗体はそO両端面をラップマスターで約1■ず
つ研摩し、洗浄した。洗浄した抵抗体はムt#!射電極
を形成し友。この発明品と従来品(ホウケイ酸鉛系の低
一点結晶化ガラスを用い750cOIl温での焼付は品
)との非血脈係数を比較すると第2表となる。本発明品
は従来品よシも非直線係数が極めて憬れていることがわ
かる。
Example 2 Same as Example 1, zinc oxide (ZnO), vinyl oxide, Xw
(Bt, am) 163 f, cobalt oxide (C
! 0,0. ) 34 f, oxidation'? 7 gun (MnOl
)29t1 antimony oxide (S'btO1) 195
fX chromium oxide (0rlO1) 38 f, nickel oxide (Mlo)S a F, silicon oxide (1101
) 45fX boron oxide (BmOs) 5t are mixed in a ball mill at 13:00 in a wet manner. After drying, the mixed powder was formed into granules of 12 mm x 6 mm and heated at 1270℃2.
It was held for a time and fired. The fired resistor was a of Example 1.
PE14 glass paste thickness 15G-200p1Km
It was heat-treated at 1020° C. for 1 hour in an oxygen atmosphere. The rate of temperature rise and fall at this time was 40°C/h. Both end faces of the glass-shaped resistor were polished by approximately 1 inch using a lap master and cleaned. The cleaned resistor is great! A friend that forms a radiation electrode. Table 2 shows a comparison of the non-correlation coefficients between this invention and a conventional product (made of lead borosilicate based low single point crystallized glass and baked at a temperature of 750 cOIl). It can be seen that the nonlinear coefficient of the product of the present invention is significantly lower than that of the conventional product.

概 2 表 実施例3 実り例1と同様に酸化亜鉛(ZnO) 3816fX域
化ビスマス(Bhos)1 ” ’% tl化コバルト
(aolol )  S 4 f X酸化マンガン(M
uoz)29f1酸化アンチモン(8b10g)  1
95 t。
General 2 Table Example 3 Same as Fruiting Example 1 Zinc oxide (ZnO) 3816f
uoz) 29f1 antimony oxide (8b10g) 1
95t.

酸化クロム(0rlO1)  58 f、酸化ニッケル
(Mlo)511rX@化ケイ集(810鵞) 45 
F。
Chromium oxide (0rlO1) 58 f, nickel oxide (Mlo) 511rX @ oxidation collection (810) 45
F.

酸化ホウ寡(IhOn)5ftボールミルで15時時間
式で混合する。混合粉は乾燥した後造粒し、12−φ×
4霞に成形し、大気中で1250℃、2時間保持して焼
成した。焼成した抵抗体Fi実施例10GP・14ガラ
スペーストを厚さ100〜200111!IK塗布し、
大気中にて1000℃で1時間熱処理した。ガラスbe
した抵抗体はその両端面をラップマスターで約1111
1ずつ研摩し、洗浄する。ここで従来品は研摩、洗浄後
の抵抗体にそのま筐ムtH射電極を形成していた。
Mix in an IhOn 5ft ball mill for 15 hours. After drying, the mixed powder is granulated and 12-φ×
The molded product was molded into a 4-haze color and fired at 1250° C. for 2 hours in the air. Baked resistor Fi Example 10GP/14 glass paste with thickness 100~200111! Apply IK,
Heat treatment was performed at 1000° C. for 1 hour in the air. glass be
Both end faces of the resistor were wrapped around 1111 mm using a lap master.
Polish and clean one by one. Here, in the conventional product, the housing tH injection electrode was directly formed on the resistor after polishing and cleaning.

本発明品は研摩、洗浄優O抵抗体を塩V:水−に70エ
ツチング11に3分間浸して研摩面をエツチングし先後
にムL浴射電at形成する。
In the product of the present invention, a polished and cleaned O resistor is immersed in salt V:Water 70 and Etching 11 for 3 minutes to etch the polished surface, and then a mulch bath is formed.

この本発明品と従来品の特性を比較すると第3表となる
Table 3 shows a comparison of the characteristics of the product of the present invention and the conventional product.

第3表 本発明品は従来品よりも非直線係数及びバリスタ電圧が
大きく、かつ通電による電圧変化率が小さく、また5e
tIt耐量も大きく優れていることかわかる。
Table 3: The products of the present invention have larger nonlinear coefficients and varistor voltages than conventional products, and have a smaller rate of voltage change due to energization, and 5e
It can be seen that the tIt tolerance is also greatly superior.

実施例4 実施例1及び3と同様に酸化亜in (ZnO)581
6?、酸化ビスマス(Bi、Os )  1 M口f1
酸化コバル) (00103)  34 f、酸化マン
ガン(mno、)291X鋏化アンチモア (Elbt
on )225 f、酸化クロム(0rzO1)  3
8 t、績化ニッケル(lli、o)58t、酸化ケイ
素(81へ)55t1酸化ホウ素(B意0. ) 5 
F、をボールミルで15時間混合する。混合粉は乾燥し
た後造粒し、12箇φ×5−に成形する。成形体は81
01−ah、Os −Bi、Ol  を含有するペース
トを塗布し先後1300℃で2時間保持して焼成した。
Example 4 Similar to Examples 1 and 3, nitrous oxide (ZnO) 581
6? , bismuth oxide (Bi, Os) 1M port f1
(cobal oxide) (00103) 34 f, manganese oxide (mno, ) 291X scissored antimore (Elbt
on ) 225 f, chromium oxide (0rzO1) 3
8t, graded nickel (lli, o) 58t, silicon oxide (to 81) 55t1 boron oxide (B0.) 5
F. was mixed in a ball mill for 15 hours. After drying, the mixed powder is granulated and shaped into 12 φ×5- pieces. The molded body is 81
A paste containing 01-ah, Os-Bi, and Ol was applied and then fired at 1300° C. for 2 hours.

焼成した抵抗体にはw、4表に示す各種のガラス1用い
て実施例1と同様にペースト1作製し、1o。
For the fired resistor, paste 1 was prepared in the same manner as in Example 1 using various glasses 1 shown in Table 4, and 1o.

〜20Qp墓の厚さKll布、所定の温度で1時間大気
中て熱処理した。
~20Qp grave thickness Kll cloth, heat treated in air at a given temperature for 1 hour.

ガラス被噴した抵抗体はラップマスターで両端面約aS
、−研摩する。研摩した抵抗体は硝酸二弗酸:水−5:
1:410エツチング箪中に3分間浸して研摩面上エツ
チングした後、ムを溶射電極を形成した。
The glass-blown resistor has both end faces approx. aS using a lap master.
, - polish. The polished resistor was prepared using nitric acid difluoric acid:water-5:
After etching the polished surface by immersing it in a 1:410 etching chamber for 3 minutes, the mold was sprayed to form an electrode.

このことから、wJz図に見られるように1抵抗体O@
画にZny8blO11及びZ nl II i 04
からなる高抵抗セラミックス層、更にそO上にガラス膜
0*成された抵抗体が得られた。その結果を第5表及び
第6表に示す。
From this, as seen in the wJz diagram, one resistor O@
In the image Zny8blO11 and Znl II i 04
A resistor was obtained in which a high-resistance ceramic layer was formed, and a glass film was further formed on the high-resistance ceramic layer. The results are shown in Tables 5 and 6.

壇ず、第5表に見られるように、ガラスO耐酸性は!7
ラスの組成によって異)、本発明O組成範囲をもつ之G
P・14ガラス0llK対するエツチング速度は他のガ
ラス01/2〜1/10以下である。
As shown in Table 5, the acid resistance of glass O is! 7
Depending on the composition of the lath), the present invention has a composition range of O.
The etching rate with respect to P.14 glass 0llK is 01/2 to 1/10 or less of other glasses.

#!6衣から明らかなようにインパルス耐量(波形4×
10μ日)もap・14ガラス(番号4)がliIも潰
れており、次いでG1・351(番号1)、OT・1(
番号2)、Gム・4(1号5)、BH・5(II号6)
0@である。
#! As is clear from 6, the impulse tolerance (waveform 4×
10μ days), ap・14 glass (number 4) and liI were also crushed, followed by G1・351 (number 1), OT・1 (
No. 2), Gmu・4 (No. 1 5), BH・5 (No. II 6)
It is 0@.

一方鹸化ホウ素の多いガラス(番号1.2.4)中酸化
鉛O多いガラス(番号5.5)ではガラス0ITIt嫁
性や耐湿性が悪く、インパルス耐量は本発明Oガラスを
用いた場合のに以下である。
On the other hand, glass with a large amount of boron saponide (No. 1.2.4) and glass with a large amount of lead oxide O (No. 5.5) have poor resistance to 0ITIt and moisture resistance, and the impulse resistance is lower than that when using the O glass of the present invention. It is as follows.

t*、インパルス1量は結晶ガラスを用いたとき(番号
1.2.4)0方が非晶質ガラス(1号!S、5、りを
用いたときよりも大きく、前者は後者OtS債以上であ
る。
t*, impulse 1 amount is larger when using crystalline glass (No. 1.2.4) than when using amorphous glass (No. 1! S, 5, RI); That's all.

実施例5 実m例1と同様な方法で12■φx4mKJiK形し、
12110℃で2時間保持してv8成した。
Example 5 A 12mmφx4mKJiK shape was prepared in the same manner as in Example 1.
It was held at 12110°C for 2 hours to form v8.

m成した抵抗体には第4表に示したガラスを実施例1.
5及び4と1ift様に10G〜2 Q Q pmO厚
さに塗布し、750〜1000℃で1時間大気中で熱感
珊した。こOときO昇・降温速度は70℃/hである。
The glass shown in Table 4 was used for the resistor in Example 1.
5 and 4 and 1ift were applied to a thickness of 10G to 2QQpmO, and heated in the air at 750 to 1000°C for 1 hour. The rate of temperature rise and fall during this time was 70°C/h.

ガラス1被覆した抵抗体はその両端面をα5mずつ研摩
する。研摩しに抵抗体はHMO@二Hν:Hlo −5
: 1 : 4Qエツデンダi[K5分関浸して研摩I
jをエツチングし丸後、ムtWM射電極を形成した。こ
のようにして得喪抵抗体は窒素雰囲気中KM人してコロ
ナ放電tさせ友前彼で特性の変化を調べ友。コロナ放電
を1時間行つ九前vkO%性は第7表となる。
Both end faces of the glass 1-coated resistor were polished by α5m. The resistor for polishing is HMO@2Hν: Hlo -5
: 1 : 4Q Etsudenda i [K5 minute soaking and polishing I
After etching and rounding, a mutwm injection electrode was formed. In this way, the resistor was exposed to corona discharge in a nitrogen atmosphere and the changes in its characteristics were investigated. Table 7 shows the vkO% after 1 hour of corona discharge.

GP・14を用いた場合はコロナ放電試験前後でインパ
ルス耐量が#魯は不変である。一方、耐酸性のやや劣る
GIN−351及び0〒・1ガラスでは試験前後でイン
パルス耐量が約101i低下している1、これは、抵抗
体を窒素雰囲気中に封入してコロナ放電させえため、雰
囲気中の徽量の水が窒素と反応して硝酸を生成し、この
硝酸がガラス膜をエツチングして劣化し友も、Oと考え
られる。また、従来のガラスである工P・810ガラス
を被覆した素子について試験し九ところ、試験前後でイ
ンパルス耐量が20−以上低下した。
When GP-14 is used, the impulse withstand capacity remains unchanged before and after the corona discharge test. On the other hand, with GIN-351 and 0〒・1 glass, which have slightly lower acid resistance, the impulse withstand capacity decreased by about 101i before and after the test1. This is because the resistor can be encapsulated in a nitrogen atmosphere and cause corona discharge. A large amount of water in the atmosphere reacts with nitrogen to produce nitric acid, and this nitric acid etches and deteriorates the glass film. Furthermore, when a device coated with a conventional glass, P.810 glass, was tested, the impulse withstand capacity decreased by more than 20 points before and after the test.

実施例6 実施例1と匣j様な方法で561φX24−に成形し、
1250℃で3時間保持して焼成した。
Example 6 It was formed into a size of 561φ x 24- by the same method as in Example 1,
It was held and fired at 1250°C for 3 hours.

焼成した抵抗体には第8表に示した組成のガラスから成
るペーストを実施例1.5.4及び5とM様に100〜
200μmの犀さに塗布し、aOU〜1050℃で1時
間大気中で焼付けた。
For the fired resistor, a paste consisting of glass having the composition shown in Table 8 was applied to Examples 1.5.4 and 5 and M.
It was applied to a 200 μm rhinoceros and baked in the air at a OU to 1050° C. for 1 hour.

このと1!O昇・降−速度は40℃/hである。This and 1! The O rising/falling rate is 40°C/h.

ガラスを被覆し大抵抗体はその両端面を(15mずつ研
摩し喪。研摩した抵抗体はHMO,: ’Fill :
H,O−4:1:4のエツチング箪に3分間浸して研摩
面をエツチングし友彼ムL溶射電極を形成した。このよ
うにして得九素子の電流10pム〜1mム におりる非
直縁係数、初期のインlくルス耐量、コロナ放電試験後
のインノ(ルス耐量、煮沸水中に10時間放置後のイン
パルス耐量、−40℃5150℃O熱サイクル1000
回後Oインパルス耐量は@a表のとおりである。
Glass is coated and the antibody is usually polished by polishing both end faces (15 m each. The polished resistor is HMO. Fill:
The polished surface was etched by immersing it in an etching chamber containing H, O-4:1:4 for 3 minutes to form a thermal sprayed electrode. In this way, we obtained the non-linear coefficient for the current of 9 elements ranging from 10 pm to 1 mm, the initial impulse withstand capacity, the impulse withstand capacity after the corona discharge test, and the impulse withstand capacity after being left in boiling water for 10 hours. , -40℃5150℃O heat cycle 1000
The O impulse withstand capacity after rotation is as shown in table @a.

アレスフ用累子Oインパルス耐量としては288にマ系
続以下11’[100ICA、  420XV系統以上
では150にム以上が必要である。
For Aresfu, the cumulative O impulse withstand capacity is 11' [100 ICA below 288 to M connection, and 150 to 100 ICA or more is required for 420XV system or above.

第8表に見られるように、本発明の範囲内にある番号5
.4.7.8.9.12.15.1.7及び184D試
料は非直線係数が大きく、インパルス耐量がコロナ試験
後、煮沸試験後、熱ディタル試験後いずれでも150ム
以上で、420Iマ系絖以上のアレスタ素子として利用
可能である。なお、第8表から明らかなように、ZnO
量が601it%以上の試料(番号5)ではガラスOi
1酸性が悪く、コロナ放電試験後のインパルス耐to劣
化が他の試料に比べて大きい。まえ、日10鵞やBtu
s tが多すぎる試料(番号2.6.10.14.15
yで社ガラスO耐水性が悪くなり、煮沸試験後のインパ
ルス耐量の劣化が弛O試料に比べて大さい。更に、Pt
1O量が多すぎ不試料(11号19.20)ではガラス
0焼は温度か800℃付近になって非直−係数か暴くな
る傾向にある。
As seen in Table 8, number 5 within the scope of the invention
.. 4.7.8.9.12.15.1.7 and 184D samples have a large nonlinear coefficient, and the impulse withstand capacity is 150 μm or more after the corona test, boiling test, and thermal digital test, and the 420I matrix It can be used as an arrester element larger than a wire. Furthermore, as is clear from Table 8, ZnO
In the sample (number 5) with an amount of 601 it% or more, the glass Oi
1 has poor acidity, and the impulse resistance to deterioration after the corona discharge test is greater than other samples. Mae, day 10 goose and Btu
Sample with too many s t (number 2.6.10.14.15
At y, the water resistance of the glass O deteriorates, and the deterioration of the impulse resistance after the boiling test is greater than that of the loosened O sample. Furthermore, Pt
When the amount of 1O is too large and the sample is not sampled (No. 11, 19.20), the non-linearity coefficient tends to become obvious when the temperature of the glass 0 firing reaches around 800°C.

以上詳細KIIIIj4したように本発明は抵抗体表面
に耐酸性、耐湿性Ojlいガラスを被覆している丸め沿
面せん絡をなくすることの効果を持ち、また、ガラスを
従来よりも高温で焼付ける友め抵抗体特性O非直線係数
を劣化することがない。
As detailed above, the present invention has the effect of eliminating the round creepage that coats the resistor surface with acid-resistant and moisture-resistant glass, and also allows the glass to be baked at a higher temperature than conventional methods. There is no deterioration of the non-linear coefficient of the resistor characteristic O.

更に、ガラス0機械的強度及び耐酸性が優れ、抵抗体〇
−造工程中jラス躾に電装やカケなどが発生せず、しか
もアレスタのように窒素雰囲気中での使用時に硝酸が生
成されてもガラス躾をエツチングされる心配がないなど
、予m九に顕著な効果を持っている。
Furthermore, the glass has excellent mechanical strength and acid resistance, and no electrical equipment or chips occur during the resistor manufacturing process, and nitric acid is not generated when used in a nitrogen atmosphere like an arrester. It also has a remarkable effect on the preparation of children, as there is no need to worry about being etched by the glass attendant.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図及び第2図は本発明の電圧非直線抵抗体0構造〇
−実施O1l様を示す断面図である。 第5図は本発#IKおりる電圧非直線抵抗体O熱処理温
度と非直線係数の変化率と01[Iを示すグラフである
。 1:焼結体、2ニガラス層、3:電極、4:セ2電ツク
ス高抵抗層 菓 / 図 (。 第 2 図 第 3 図 イ tOPA< 〆 (’3 ジ星度(°C〕 6− 手続補正書(方式) 昭和57年8月24日 特許庁長官 若 杉 和 夫  殿 −事件の表示  昭和57年特許願第75571、発明
の名称  電圧非直線抵抗体及び七am法五補正をする
者 事件とO関係   特許出願人 住 所   東京都千代田区丸の内−丁目5番1号名 
称  (510)  株式会社日立製作所代表者  三
 1)腸 茂 住 所   東京都港区西新橋S丁目15番8号西新橋
中央ビル302号電話(457)−5467昭和57年
7月9日(発送日 昭和57年7月27日)瓜補正O対
象  明細書の全文
FIGS. 1 and 2 are cross-sectional views showing a voltage nonlinear resistor structure 0-implementation O11 of the present invention. FIG. 5 is a graph showing the heat treatment temperature of the #IK voltage nonlinear resistor O, the rate of change of the nonlinear coefficient, and 01[I]. 1: Sintered body, 2 Glass layer, 3: Electrode, 4: Cell high resistance layer/Fig. Procedural amendment (method) August 24, 1980 Kazuo Wakasugi, Commissioner of the Patent Office - Indication of case 1982 Patent Application No. 75571, title of invention Voltage nonlinear resistor and 7 am method 5 amendment person Incident and O relationship Patent applicant address: 5-1 Marunouchi-chome, Chiyoda-ku, Tokyo
Name (510) Hitachi, Ltd. Representative 3 1) Shigeru Kou Address 302 Nishi-Shinbashi Chuo Building, 15-8 Nishi-Shinbashi S-chome, Minato-ku, Tokyo Telephone (457)-5467 July 9, 1982 (Shipping date) July 27, 1981) Full text of the specification subject to melon amendment O

Claims (1)

【特許請求の範囲】 t 酸化亜鉛を主区分とした愛結体の少なくともm1t
iK竜ラミックス高抵抗層を介し、又は介することなく
、ガラス層が形成され、かつ焼結体上下両端面に電極が
形成された電圧非直線抵抗体において、上記ガラス層が
以下の成分: 酸化亜@ (ZnO)  : 50〜71電j1嘩象化
ネウ素(B鵞Os):S〜20電量嘔酸化ケイ素(81
0m) : 10〜50 @量囁酸化鉛 (PbO) 
 :  5〜25重量嚢を含むホウケイ酸亜鉛系ガラス
であることを特徴とする電圧非直線抵抗体。 2 #ホウケイ酸亜鉛系ガラスが、酸化タンタル(テa
gOi)t2〜6重量囁含有する一〇である特許請求の
範囲w、1項記載の電圧非直−抵抗体。 五 該ホウケイ酸亜鉛系カラスが、結晶化ガラスでめる
特1FFii1!求の範囲第1項又は第2よに記軟の電
圧非直線抵抗体。 4 該ホウケイ酸亜je糸ガラスが、850℃から該焼
結体の吹成温度θ間の焼付は温度を持つ高一点ガラスで
ある特許l11釆の範I!l第1〜第3項のい丁れかに
ffi@C)電圧非直線抵抗体。 −酸化亜鉛を主成分とする決結体の側面にセラミックス
高抵抗層を形成し、かつその上に酸化亜鉛50〜11電
普囁、酸化ホウ素5〜20@@%、叡化ケイ事10〜5
0重量慢、除1ヒ組5〜23亀ji−及び酸化タンタル
2〜4N6%?百有するホウケイ酸亜鉛系ガラス成分と
結合剤からなるペーストを車高し、駿素含有ガス雰囲気
中において850℃以上で前に栄@俸C決成龜度よりも
低く、かつガラスC軟化温度と作蓼湛星の間の温度で焼
付けてガラス1倉形成し、前記焼結体O上下一端面rc
 m憧を形成することt特徴とする電圧非jl−砥抗俸
O製床。
[Claims] t At least m1t of a love body whose main segment is zinc oxide.
In a voltage non-linear resistor in which a glass layer is formed with or without the iK Ryu Lamix high-resistance layer and electrodes are formed on both the upper and lower end surfaces of the sintered body, the glass layer contains the following components: oxidation Substance (ZnO): 50-71 Electron (B-Os): S-20 Electron Silicon Oxide (81
0m): 10~50 @ Lead oxide (PbO)
: A voltage nonlinear resistor characterized in that it is a zinc borosilicate glass containing 5 to 25 weight bags. 2 #Zinc borosilicate glass has tantalum oxide (tea)
gOi) The voltage non-linear resistor according to claim 1, which is 10 containing t2 to 6 weight. 5. Special 1FFii1 where the zinc borosilicate glass is made of crystallized glass! Voltage non-linear resistor whose range is 1st or 2nd. 4 The borosilicate jelly thread glass is a high single point glass with a baking temperature between 850°C and the blowing temperature θ of the sintered body, which is the range I of Patent 111! l Any one of the first to third terms ffi@C) Voltage nonlinear resistor. - A ceramic high-resistance layer is formed on the side surface of a compact mainly composed of zinc oxide, and on top of that, zinc oxide is 50 to 11%, boron oxide is 5 to 20%, and silicon oxide is 10 to 10%. 5
0 heavy weight, except 1 group 5-23 turtle ji- and tantalum oxide 2-4N6%? A paste consisting of a zinc borosilicate glass component and a binder having 100% is heated to a temperature of 850°C or higher in a halogen-containing gas atmosphere, and the temperature is lower than the temperature determined by Glass C and the softening temperature of Glass C. The sintered body O is baked at a temperature between 100 and 200 mm to form a glass plate, and one end surface of the sintered body O is rc.
A floor made of a non-voltage abrasive material characterized by forming a magnetic field.
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JPS60119705U (en) * 1984-01-20 1985-08-13 岡谷電機産業株式会社 surge absorption element

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JPH0349365Y2 (en) * 1984-01-20 1991-10-22

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