JPS5818711B2 - ハンドウタイキオクソウチノ デンアツセンスカイロ - Google Patents

ハンドウタイキオクソウチノ デンアツセンスカイロ

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JPS5818711B2
JPS5818711B2 JP50144522A JP14452275A JPS5818711B2 JP S5818711 B2 JPS5818711 B2 JP S5818711B2 JP 50144522 A JP50144522 A JP 50144522A JP 14452275 A JP14452275 A JP 14452275A JP S5818711 B2 JPS5818711 B2 JP S5818711B2
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JP
Japan
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output line
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circuit
sense
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JP50144522A
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English (en)
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JPS5267926A (en
Inventor
落井清文
鈴木八十二
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
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Priority to US05/680,236 priority patent/US4103345A/en
Priority to GB17236/76A priority patent/GB1522753A/en
Priority to FR7612595A priority patent/FR2309953A1/fr
Priority to DE2618760A priority patent/DE2618760C3/de
Publication of JPS5267926A publication Critical patent/JPS5267926A/ja
Priority to MY1981312A priority patent/MY8100312A/xx
Publication of JPS5818711B2 publication Critical patent/JPS5818711B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/41Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
    • G11C11/413Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction
    • G11C11/417Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/419Read-write [R-W] circuits

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は絶縁ゲート形電界効果トランジスタ(In5u
lated Gate Field Effect T
ransistor略してIG−FET或いはMOS−
FET)を用いた記憶装置において特に同一半導体ウェ
ハ上にPチャネル形IG−FET及びNチャネル形IG
−FETの双方を集積しだ相補形半導体記憶装置の出力
線の電圧検出を行なう場合に好適する半導体記憶装置の
電圧センス回路に関するものである。
半導体記憶回路方式には、ダイナミック形とスタティッ
ク形の双方があり、メモリセル及びその周辺回路それぞ
れに種々のダイナミック回路、スタティック回路が考案
されている。
第1図はランダムアクセス形ICメモリにおいて従来使
用されている相補形スタティック電圧センス回路例であ
る。
この回路はいわゆる相補形クロックドインバータ回路を
構成し、RAM即ち上記メモリのデータ出力線の電圧を
検出する。
いまこのセンス回路において列選択がなされ、列選択線
L21 t L3□に互いに補元関係にある信号が供給
されてPチャネル形トランジスタQtt及びNチャネル
形トランジスタQ41の双方がオン状態になると、Pチ
ャネル形トランジスタQ21、Nチャネル形トランジス
タQ31によりデータ出力線L1□の情報が反転されて
センス出力線L4□に読み出される。
しかして通常の場合、データ出力線L□、は論理It
I IIレベル(或いは論理II 01!レベル)にプ
リチャージされ、読み出しによる電圧変化は論理1!
I IIレベルから論理II □ IIレベル(或いは
論理II □ !lレベルから論理II I IIレベ
ル)への変化に限られるため、クロックドインバータ回
路のスイッチング特性としては、論理It □ Ifレ
ベル(或いは論理IT I IIレベル)の電圧センス
感度を最大限に上げるよう彦設計が々されている。
しかしながらメモリ回路の常として、センス出力線L4
1もまた共通パスラインとして各列のセンス出力線すべ
てと共通接続され、かつまたセンス出力線L41に接続
される素子数が多く々るため、共通パスラインに付随す
る容量・抵抗積が大きくなり、従ってセンス回路は同時
にドライバー回路を兼ねるように設計する必要があった
本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、従来のスタ
ティック形インバータ回路をダイナミック形またはセミ
ダイナミック形に変形することにヨリ、素子数を減少さ
せてパターンサイズの減少、付加容量・抵抗積の減少、
ドライバー能力の増加をはかり、以ってパターンサイズ
が小でありながら動作が高速で安定した感度をもつ半導
体記憶装置の電圧センス回路を提供しようとするもので
ある。
以下図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
第2図は複数のチップ(メモリ)よりなるRAM(ラン
ダム・アクセス・メモリ)の成るチップのデータ出力線
の電圧センス回路を示し、第1図と対応した個所を示す
即ち読み出しデータ線L5□がゲートに接続されるPチ
ャネル形トランジスタQ6□と、チップ選択がなされか
つ列選択がなされた時にのみオン状態になるPチャネル
形トランジスタQ51を直列接続し、この直列回路の一
端を電源VDDに、他端をセンス出力線L7□にはチッ
プ非選択時に該出力線L71をプリチャージするための
Nチャネル形トランジスタQ7の一端を接続し、その他
端を電源v88(アース)に接続する。
またセンス出力線L71にはNチャネル形の負荷トラン
ジスタQ8の一端を接続し、その他端を電源VSSに接
続する。
トランジスタQ8のゲートには正電源電圧VDDを供給
し、トランジスタQ8を舞小の負荷として使用する。
データ出力線L51以外の各データ出力線についても、
Pチャネル形トランジスタQ5□y Q6□と同様の回
路を形成し、各データ出力線は接続線11で共通接続し
ておく。
上記回路の動作は、データ出力線L5□の個所に着目す
ると、この出力線り、□がチップ非選択時に論理If
I Ifレベルにプリチャージされ、同時にチップ選択
信号の反転信号が供給される選択線L0が論理If I
Ifとなることから、トランジスタQ7がオン状態に
々す、センス出力線L7□を論理If□Ifレベルにチ
ャージアップする。
しかる後チップ選択信号が入ると、データ出力線L5□
にメモリセルからの読み出しデータが出てくるが、論理
II I IIを読み出す場合にはデータ出力線L51
はII I Ifレベルのま\不変であり、論理II
□ Itレベルを読み出す場合にのみデータ出力線L
51はIf I ItレベルからII □ Ifレベル
に変化する。
従って前者の場合にはPチャネル形トランジスタQ61
はオフのま\であり、センス出力線L71は論理If
□ IIレベルのま\不変である。
後者の場合にはデータ出力線L51が論理II □ I
IレベルになるとPチャネル形トランジスタQ61がオ
ン状態になり、Pチャネル形トランジスタQ51もオン
状態であることから、センス出力線L71は論理If
□ ItレベルからIf I Ifレベルにチャージア
ップされ、センス出力での読み出しが行なわれる。
またNチャネル形トランジスタQ8は、本来ダイナミッ
ク形の本センス回路にあってセミスタティック動作を可
能とする。
即ちゲート人力VDDで常時オンとなるトランジスタQ
8のymは小であることにより、センス出力線L7□の
充電々荷のリーク分の補給を行なうものである。
第1図の従来回路と第2図の回路とを比較して分ること
は次のことである。
即ち第1図では各データ出力線についてトランジスタQ
□〜Q4の4個ずつの素子が要るのに対し、第2図では
トランジスタQ、□、Q61の2個ずつと、各データ出
力線に共通に用いられるトランジスタQ7及びQ8の2
個のみである。
従って第2図に要する素子数は第1図の約半分になり、
半導体回路で占めるパターンサイズが縮少できる。
また第1図及び第2図回路のa点に着目してみると、第
2図の場合は第1図のトランジスタQ31側の配線が省
略されているから、各センス出力線の容量・抵抗積が小
と々る。
また第1図の反転電圧はインバータ回路のスレッショル
ド電圧で決まるのに対し、第2図の回路反転電圧は素子
のスレッショルド電圧で決まる。
従って第2図のセンス回路は動作の高速化が可能となる
ものである。
第3図は本発明の他の実施例で、データ出力線L81.
・・・がチップ非選択時に論理If OIIにチャージ
アップされる場合の例であり、第2図の場合とは用いる
素子のチャネル形が反対にガっている。
即ちデータ出力線L8□はチップ非選択時に論理II
() Ifにチャージアップされ、同時にチップ選択信
号が供給される選択線L2が論理II □ IIとなる
ことから、Pチャネル形トランジスタQ?’がオン状態
になり、センス出力線L91を論理It I IIレベ
ルにチャージアップする。
しかる後、チップ選択状態になると、データ出力線L8
1にメモリからの読み出しデータが出てくるが、論理I
t □ I!を読み出す場合にはデータ出力線L81は
II □ Ifレベルのま\不変であり、論理It I
Ifレベルを読み出す場合にのみL81はII □
Ifレベルから!I I Ifレベルに変化することに
なる。
従って前者の場合にはPチャネル形トランジスタQ9□
はオフ状態のま\であり、センス出力線L9□は論理I
f I Ifレベルのま\不変である。
後者の場合にはデータ出力線L81が論理If I I
fレベルになると、Nチャネル形トランジスタQ91が
オン状態になり、Nチャネル形トランジスタQ1o1
もオン状態であることから、センス出力線L9□は論理
If I If レベノ勢ら論理ゞ■レベルにチャージ
アップさベセンス出力での読み出しが行なわi+44た
Pチャネル形トランジスタQs’はいわゆる負荷トラン
ジスタとして加えられており、これは第2図の場合と同
じく、本来ダイナミック形回路である本センス回路をセ
ミスタティック動作させるだめのものである。
以上説明した如く本発明によれば、IG−FET数(素
子数)を減少できるのでパターンサイズの縮少化、及び
容量・抵抗積の減少化が可能であり、上記素子数の減少
化及び回路スレッショルド電圧を低く保持できることに
よりドライバー能力の増加が期待でき、従って高速動作
が行なえる半導体記憶装置の電圧センス回路が提供でき
るものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のセンス回路図、第2図は本発明の一実施
例を示す回路図、第3図は本発明の他の実施例を示す回
路図である。 L51・・・データ出力線、L7□・・・センス出力線
、Q519Q6□・・・Pチャネル形トランジスタ、Q
7.Q8・・・Nチャネル形トランジスタ、11・・・
共通接続部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 成るチャネル形の第1及び第2のIG−FETを電
    源の一方の電極とセンス出力線間に直列接続すると共に
    前記第1のIG−FETのゲートを信号線に接続し、か
    つこの信号線を選択する信号を前記第2のIG−FET
    のゲートに供給するようにしてなる回路を複数組設け、
    この回路の各センス出力線を共通に接続し、この各セン
    ス出力線共通接続部と電源の他方の電極との間に前記チ
    ャネル形とは異なるチャネル形のIG−FETを接続し
    、このIG−FETのゲートに前記複数組の回路全体を
    指定する選択信号を供給するようにしたことを特徴とす
    る半導体記憶装置の電圧センス回路。 2、特許請求の範囲1において、各センス出力線共通接
    続部にそのリーク電流補充用IG−FETを一続したこ
    とを特徴とする半導体記憶装置の電圧センス回路。
JP50144522A 1975-04-28 1975-12-03 ハンドウタイキオクソウチノ デンアツセンスカイロ Expired JPS5818711B2 (ja)

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JP50144522A JPS5818711B2 (ja) 1975-12-03 1975-12-03 ハンドウタイキオクソウチノ デンアツセンスカイロ
US05/680,236 US4103345A (en) 1975-04-28 1976-04-26 Semiconductor memory with data detection circuit
GB17236/76A GB1522753A (en) 1975-04-28 1976-04-28 Semiconductor memory device
FR7612595A FR2309953A1 (fr) 1975-04-28 1976-04-28 Memoire a semi-conducteur utilisant des transistors a effet de champ complementaires
DE2618760A DE2618760C3 (de) 1975-04-28 1976-04-28 Halbleiter-Speichervorrichtung
MY1981312A MY8100312A (en) 1975-04-28 1981-12-31 Semiconductor memory device

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JPS5267926A JPS5267926A (en) 1977-06-06
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JPS5429531A (en) * 1977-08-09 1979-03-05 Sharp Corp Sense circuit for cmos static random access memory
JPS57129484A (en) * 1981-02-03 1982-08-11 Mitsubishi Electric Corp Liquid crystal display device

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JPS5267926A (en) 1977-06-06

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