JPS5818437B2 - Shinkinadenkaiso - Google Patents

Shinkinadenkaiso

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JPS5818437B2
JPS5818437B2 JP49134179A JP13417974A JPS5818437B2 JP S5818437 B2 JPS5818437 B2 JP S5818437B2 JP 49134179 A JP49134179 A JP 49134179A JP 13417974 A JP13417974 A JP 13417974A JP S5818437 B2 JPS5818437 B2 JP S5818437B2
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JP
Japan
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cathode
busbar
conductive metal
anode
copper
Prior art date
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Application number
JP49134179A
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Japanese (ja)
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JPS5098482A (en
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ウオルター・ダブリユー・ラゼル
レオ・ジー・エヴアンス
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Occidental Chemical Corp
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Occidental Chemical Corp
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Priority claimed from US430430A external-priority patent/US3899408A/en
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Publication of JPS5818437B2 publication Critical patent/JPS5818437B2/en
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/02Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by shape or form
    • C25B11/03Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by shape or form perforated or foraminous
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B9/00Cells or assemblies of cells; Constructional parts of cells; Assemblies of constructional parts, e.g. electrode-diaphragm assemblies; Process-related cell features
    • C25B9/17Cells comprising dimensionally-stable non-movable electrodes; Assemblies of constructional parts thereof
    • C25B9/19Cells comprising dimensionally-stable non-movable electrodes; Assemblies of constructional parts thereof with diaphragms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B9/00Cells or assemblies of cells; Constructional parts of cells; Assemblies of constructional parts, e.g. electrode-diaphragm assemblies; Process-related cell features
    • C25B9/60Constructional parts of cells
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は水性溶液の電解に適した電解槽に係り、更に詳
しくは水性アルカリ金属塩化物溶液の電解に適した電解
槽に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an electrolytic cell suitable for the electrolysis of aqueous solutions, and more particularly to an electrolytic cell suitable for the electrolysis of aqueous alkali metal chloride solutions.

電解槽は塩素、塩素酸塩、亜塩素酸塩、塩化水素酸、苛
性アルカリ、水素および他の関連化合物の製造のために
長年に亘り広く用いられてきている。
Electrolytic cells have been widely used for many years for the production of chlorine, chlorates, chlorites, hydrochloric acid, caustic, hydrogen and other related compounds.

長年に渡りこのような電解槽は、使用電力の増大に基き
、高い作動効率が得られるように開発されてきた。
Over the years, such electrolyzers have been developed to provide increased operating efficiency due to increased power usage.

、作動効率は′電流、分解エネルギー、電力および電圧
効率を包含する。
, operating efficiency includes current, decomposition energy, power and voltage efficiency.

最も新しい電解槽の開発は、高い作動効率を保ちつつ個
々の電解槽の生産能力を増大させるように改良を行うこ
とにあった。
The development of most modern electrolyzers has focused on improvements that increase the production capacity of individual electrolyzers while maintaining high operating efficiency.

この目的は、個、々の電解槽を改良あるいは再設計し、
各電解槽を作動する電流容量を増大させることにより
かなりの程度まで達成された。
The aim is to improve or redesign individual electrolyzers,
By increasing the current capacity operating each electrolyzer
achieved to a considerable extent.

より高い電流容量で作動される各電解槽の高い生産能力
は、ある一定の電解槽の床面積に7」して、より犬なる
生産速度を与え、かつ投下資本および作動コストを節減
する。
The high production capacity of each cell operated at a higher amperage capacity reduces the floor space of a given cell, provides higher production rates, and saves capital and operating costs.

一般に、極最近の電解槽における開発は、生産能力が大
きく、また高い作動効率を保ちつつ高い電流容量で作動
するように設計された、より大きな電解槽を得る方向に
向かっている。
In general, most recent developments in electrolyzers are moving toward larger electrolyzers that have greater production capacity and are designed to operate at higher current capacities while maintaining high operating efficiencies.

ある種の作動バラメーク内では、電解槽が作動すべく設
菖4されている電流容量が大きければ大きい程、電解槽
の生産能力は犬となる。
Within a certain operating system, the greater the current capacity that the electrolytic cell is designed to operate with, the greater the production capacity of the electrolytic cell.

しかしながら設計された電解槽の電流容量が増大するに
つれて高い作動効率が保たれることが重要である。
However, as the ampacity of the designed electrolyzer increases, it is important that high operating efficiency is maintained.

低い電流容量で作動すべく設計された電解槽の構成部品
を単に大きくしただけでは、高い電流容量で作動し、し
かも高い作動効率を保つことのできる電解槽を得ること
はできない33高い作動効率を維持し、かつ高い生産能
力を得るためには、多くの設計改良を高電流容量電解槽
に加えなければならない。
Simply increasing the size of the components of an electrolytic cell designed to operate at a low current capacity will not result in an electrolytic cell that can operate at a high current capacity and maintain high operating efficiency. In order to maintain and obtain high production capacity, many design improvements must be made to high current capacity electrolysers.

本発明の電解槽は種々の型の電解槽として使用するのに
適しており、中でも塩素−アルカリ電解槽が最も重要な
ものである。
The electrolytic cell of the present invention is suitable for use in various types of electrolytic cells, of which chlor-alkali electrolytic cells are the most important.

以下、本発明の電解槽を塩素−アルカリ電解槽、特に塩
素−アルカリ隔膜電解槽に関連して詳細に説明する。
Hereinafter, the electrolytic cell of the present invention will be described in detail in relation to a chlor-alkali electrolytic cell, particularly a chlor-alkali diaphragm electrolytic cell.

しかしながら、これは他の種類の電解槽に対する本発明
の電解槽の有用性を制限するものと解さるべきではない
However, this should not be construed as limiting the usefulness of the electrolyzer of the present invention relative to other types of electrolyzers.

初期の従来技術において、塩素−アルカリ隔膜電解槽は
、約10,000アンペアあるいはそれ以下の比較的低
い電流容量で作動するよ・うに設計されており、それに
応じて生産能力も低かった。
In the early prior art, chlor-alkali diaphragm electrolyzers were designed to operate at relatively low current capacities of about 10,000 amperes or less, and had correspondingly low production capacities.

かかる電解槽の代表的な例は、米国ニューヨーク州ナイ
アガラフォールスのツーカー・ケミカル・コーポレーシ
ョンにより開発された、ツーカーS型電解槽てあり、こ
のものはその開発時および初期の用途で電気化学分野で
の非常に優れたものであった。
A typical example of such an electrolyzer is the Tsuka S-type electrolyzer, developed by the Tsuka Chemical Corporation of Niagara Falls, New York, USA, which was used in the electrochemical field during its development and early use. It was very good.

ツーカーS型電解槽は次いでツーカーによりS−3型、
5−3A型、5−3B型、S−3C型、S −3D型お
よびS−4型のような一連のS型電解槽に改良され、約
15,000;20,000;25,000;30.0
00;40,000および約55,000アンペアまで
と、段々高い電流容量で作動するように設計され、それ
に応じて生産能力も向上した。
The Tsuka S type electrolyzer was then developed by Tsuka into the S-3 type,
It has been improved into a series of S type electrolyzers such as type 5-3A, type 5-3B, type S-3C, type S-3D and type S-4, approximately 15,000; 20,000; 25,000; 30.0
00; 40,000 and up to about 55,000 amperes, and production capacity increased accordingly.

これらのツーカーS型電解槽の設計ならびに性能はマツ
フグロー・ヒル社から発行されたシュレープのケミカル
・プロセス・インダストり一筆3版、第233頁(1,
967年)、マツフグo−・ヒル社から発行されたマン
テルのインダストリアル・エレクトロケミス1〜り一筆
3版、第434頁(1950年);およびラインホール
ド社から発行されたスコンスのクロライン、イツツ・マ
ニュファクチュアー、プロパチーズ・アンド・ユーシイ
ズ、A、C,S、モノグラフ、第94〜97貞(196
2年)に論じられている。
The design and performance of these Tsuka S-type electrolyzers are described in Schreb's Chemical Process Industry, 3rd Edition, published by Matsuf Grow-Hill, p. 233 (1,
967), Mantel's Industrial Electrochemistry 1st Edition, Volume 3, 1950, published by Matsufugu O. Hill, p. 434 (1950); A, Properties and Usages, A, C, S, Monograph, No. 94-97 (196
2).

米国特許第2.9 s 7,463 qには一連のツー
カーS型電解槽とは幾分ちがう約30,000アンペア
の電流容量で作動すべく設計された塩素−アルカリ隔膜
電解槽が示されている。
U.S. Pat. No. 2.9S 7,463Q shows a chlor-alkali diaphragm electrolyzer designed to operate at a current capacity of about 30,000 amperes, somewhat different from the series of Zuka S-type electrolyzers. There is.

米国特許第3.464,912号および米国特許第3,
493,487号には、約60,000アンペアの電流
容量で作動するように設計された塩素−アルカリ隔膜電
解槽が開示されている。
U.S. Pat. No. 3,464,912 and U.S. Pat.
No. 493,487 discloses a chlor-alkali diaphragm cell designed to operate at a current capacity of about 60,000 amperes.

上述の公知文献には、より高い電流容量で作動し、それ
に応じて高い生産能力をもたらす電解槽を与えるような
塩素−アルカリ隔膜電解槽の開発が記載されている。
The above-mentioned publications describe the development of chlor-alkali diaphragm electrolysers which provide electrolysers which operate at higher current capacities and yield correspondingly higher production capacities.

−・方、本発明によれば塩素−アルカリ隔膜電解槽で約
150.00 (戸′ンベア、上限では約200,00
0アンペアの高い電流容量で作動し、それに応じて高い
生産能力を与え、かつ高い作動効率を保つ電解槽が開発
された。
- On the other hand, according to the present invention, a chlorine-alkali diaphragm electrolytic cell costs about 150,000 yen (door bare, the upper limit is about 200,000 yen).
An electrolytic cell has been developed that operates at a high current capacity of 0 amperes, provides a correspondingly high production capacity, and maintains high operating efficiency.

本発明に従えば、新規な電解槽が提供される。According to the present invention, a novel electrolytic cell is provided.

この新規な電解槽は新規な陰極ブスバー構造体、新規な
陰極フィンガー構造を有する陰極フィンガー(以下単に
陰極という)、および新規な陽極支持構造体を含む。
The novel electrolytic cell includes a novel cathode busbar structure, a cathode finger (hereinafter simply referred to as cathode) having a novel cathode finger structure, and a novel anode support structure.

この新規な陰極ブスバー構造体は、少なくとも一つの引
込みブスバーと、相対的に寸法の異る複数のブスバース
トリップとを含む。
The novel cathode busbar structure includes at least one retractable busbar and a plurality of busbar strips of relatively different dimensions.

引込みブスバーおよび複数のブスバースl−IJツブは
高電導性金属から作られ、これらの引込みブスバーさ複
数のブスバースl−IJツブは電流を運び、かつ陰極に
隣接する電気的接触点まで陰極ブスバー構造体中に実質
的に均一な電流密度を保つよ・うな配置で設置されてい
て陰極ブスバー構造体を横切る著しい電圧降下を示さず
、また陰極ブスバー構造体中での最も経済的な電力消費
が達せられる。
The retractable busbar and busbar I-IJ tubes are made from highly conductive metal, and these retractable busbar busbar L-IJ tubes carry current and connect the cathode busbar structure to the point of electrical contact adjacent to the cathode. installed in an arrangement that maintains a substantially uniform current density throughout the cathode busbar structure, exhibits no significant voltage drop across the cathode busbar structure, and achieves the most economical power dissipation in the cathode busbar structure. .

この陰極ブスバー構造体は陰極担持囲繞体の少なくとも
一つの側壁に取り付けられている。
The cathode busbar structure is attached to at least one side wall of the cathode carrying enclosure.

この囲繞体には、その内部を実質的に横切って伸びる多
数の陰極が収容されており、これら陰極は該囲繞体の少
なくとも一つの側壁の内面に電気的接触を行うように取
り付けられている。
The enclosure contains a number of cathodes extending substantially across its interior and mounted in electrical contact with the inner surface of at least one sidewall of the enclosure.

陰極ブスバー構造体は、取り付けられた陰極に隣接する
囲繞体の側壁の外面に電気的接触を行うように取り付け
られている。
The cathode busbar structure is mounted to make electrical contact with the outer surface of the sidewall of the enclosure adjacent the attached cathode.

この新規な陰極ブスバー構造体は、投下資本すなわち陰
極ブスバー構造体に用いられる高電導性金属の量の最も
経済的な利用を可能とする。
This new cathode busbar structure allows for the most economical use of the invested capital, i.e. the amount of highly conductive metal used in the cathode busbar structure.

引込みブスバーと多数のブスバーストリップの構成およ
び相違する相対的寸法は、従来のものに比して陰極ブス
バー構造体に必要とされる高電導性金属の量を著しく減
少させる。
The configuration and different relative dimensions of the recessed busbar and multiple busbar strips significantly reduce the amount of highly conductive metal required in the cathode busbar structure compared to conventional ones.

この引込みブスバーと複数のブスバーストリップは、そ
れらの構成および相違する相グ」的寸法により、電流を
流し、陰極ブスバー構造体中に実質的に均一な電流密度
を保つのに適している。
The lead-in busbar and the plurality of busbar strips, by virtue of their configuration and different relative dimensions, are suitable for carrying current and maintaining a substantially uniform current density in the cathode busbar structure.

本発明による陰極ブスバー構造体には、隣接する電解槽
を飛び越してこれを電気回路から除く際の、陰極ジャン
パコネクターを取り付けるための手段を設けることがで
きる。
A cathode busbar structure according to the invention may be provided with means for attaching a cathode jumper connector to jump over an adjacent electrolytic cell and remove it from the electrical circuit.

@極ブスバー構造体に冷却手段を設け、それによって陰
極ブスバー構造体中の温度が損傷を与える高さにまで上
ることを防止上、かつ陰極ブスバー構造体に必要な高電
導性金属の量をさらに節減することもできる。
Provide cooling means for the cathode busbar structure to prevent temperatures in the cathode busbar structure from rising to damaging heights and to further reduce the amount of highly conductive metal required in the cathode busbar structure. You can also save money.

本発明による新規な陰極は、電導性金属からなる陰極補
強手段、陰極中に設置された長い高電導性金属部材、お
よび陰極補強手段に取り付けられて陰極表面および陰極
内部のガス室空間を形成する有孔電導性金属手段を含む
The novel cathode according to the present invention comprises a cathode reinforcing means made of a conductive metal, a long highly conductive metal member installed in the cathode, and attached to the cathode reinforcing means to form a gas chamber space on the cathode surface and inside the cathode. Includes perforated conductive metal means.

陰極補強手段には適当な数のペグ、ピンあるいは突出部
が設けられる。
The cathode reinforcing means is provided with a suitable number of pegs, pins or protrusions.

有孔電導性金属手段はこれらの突出部に取り付けられ、
それにより電解作業中陰極で形成され捕集室に送られる
ガスのための別の室空間が与え、−如 2、 高電導性金属部材は、好ましくは陰極内の1奪極補強手
段に設置され、高電導性金属部材を陰極補強手段に取り
付けるための手段が設けられる。
perforated electrically conductive metal means are attached to these protrusions;
This provides a separate chamber space for the gas formed at the cathode and sent to the collection chamber during the electrolytic operation; , means are provided for attaching the highly conductive metal member to the cathode reinforcing means.

高電導性金属部材は、長い高電導性金属部材が電流を運
び、陰極中に実質的に均一な電流密度を保つような構成
で陰極中に設置され、それによって陰極を横切る著しい
電圧降下は示されず、また陰極中での最も経済的な電力
消費が達成される。
The highly conductive metal member is placed in the cathode in a configuration such that the long highly conductive metal member carries the current and maintains a substantially uniform current density across the cathode, such that no significant voltage drop across the cathode is observed. The most economical power consumption in the cathode is achieved.

陰極担持囲繞体の内部を実質的に横切って多数の陰極が
延びており、これら陰極は前記囲繞体の少なくとも一つ
の側壁の内面に電気的接触を保−)ように取り付けられ
る。
A number of cathodes extend substantially across the interior of the cathode carrying enclosure and are mounted in electrical contact with the inner surface of at least one sidewall of the enclosure.

陰極ブスバー構造体は、取り付けられた陰極に隣接する
陰極担持囲繞体の側壁外表面に、電気的接触を保つよう
に取り付けられる。
The cathode busbar structure is mounted in electrical contact with the outer side wall surface of the cathode carrying enclosure adjacent to the attached cathode.

陰極が取り付けられている囲繞体側壁の反対側にある該
囲繞体の側壁内面に隣接して、陰極の他端を支持するた
めの手段が設けられている。
Means for supporting the other end of the cathode is provided adjacent the inner surface of the side wall of the enclosure opposite the side wall of the enclosure to which the cathode is attached.

本発明による陽極支持構造体は、実質的に平らで水平な
表面並びに陽極あるいは種間連結ブスバーから遠くに伸
びるにつれて小さくなる断面を有する高電導性金属手段
を含み、それによって実質的に階段状の截頭直角三角形
の形状の断面が形成される。
The anode support structure according to the invention includes highly conductive metal means having a substantially flat, horizontal surface and a cross-section that becomes smaller as it extends away from the anode or interspecies coupling busbar, thereby providing a substantially stepped structure. A cross section in the shape of a truncated right triangle is formed.

この高電導性金属手段は上述の如き構成を有する中実金
属板であってもよく、あるいはそれぞれ相対的寸法が異
なり、−上述の如き実質的に階段状の截頭直角三角形の
断面形を作るよ・うな構成で配置されている、二つある
いはそれ以上の高電導性金属板の形でありうる。
This highly conductive metal means may be a solid metal plate having a configuration as described above, or may have different relative dimensions - creating a substantially stepped truncated right triangular cross-sectional shape as described above; It may be in the form of two or more highly conductive metal plates arranged in such a configuration.

高電導性金属手段には陽極板を取り付けるための手段を
設けることができる。
The highly conductive metal means may be provided with means for attaching the anode plate.

高電導性金属手段は相対的寸法がそれぞれ異り、電流を
流し、陽極板に隣接する電気的接触点にまで、陽極支持
構造体中に実質的に均一な電流密度を維持するような構
成を有し、それによって陽極支持構造体を横切る著しい
電圧降下は示さず、また陽極支持構造体での最も経済的
な電力消費が達成される。
The highly conductive metal means vary in relative dimensions and are configured to conduct electrical current and maintain a substantially uniform current density in the anode support structure up to the point of electrical contact adjacent the anode plate. , thereby exhibiting no significant voltage drop across the anode support structure and achieving the most economical power consumption in the anode support structure.

本発明による陽極支持構造体は、また本発明の新規な電
解槽の他の構成要素を支持するに充分な手段を備えた陽
極支持構造体を得るため、高電導性金属手段用の適当な
構造的支持手段および任意の他の適当な構造的支持手段
を含むことができる。
The anode support structure according to the invention also incorporates suitable structures for highly conductive metal means in order to obtain an anode support structure with sufficient means to support the other components of the novel electrolytic cell of the invention. structural support means and any other suitable structural support means.

米国特許第3,432,422号を従来技術の状態を示
すためにここに引用しておく。
U.S. Pat. No. 3,432,422 is incorporated herein to indicate the state of the art.

本発明の陽極支持構造体によれば、投下資本すなわち陽
極支持構造体に用いられる高電導性金属の量を最も経済
的に用いることを可能にする。
The anode support structure of the present invention allows for the most economical use of the invested capital, i.e. the amount of highly conductive metal used in the anode support structure.

高電導性金属手段の構成およびその相対的に異る寸法は
、従来のものに比し、陽極支持構造体に必饗とされる高
電導性金属の量を著しく節減する。
The configuration of the highly conductive metal means and their relatively different dimensions significantly reduce the amount of highly conductive metal required for the anode support structure compared to the prior art.

高電導性金属手段は、その構成およびそれぞれちがった
相対的寸法の故に、電流を流し、陽極支持構造体中に実
質的に均一な電流密度を保つのにも適している。
The highly conductive metal means, because of their configuration and different relative dimensions, are also suitable for carrying electrical current and maintaining a substantially uniform current density in the anode support structure.

陽極支持構造体には、隣接する電解槽を飛び越してそれ
を回路から除く際に必要とされる。
Anode support structures are required to jump over adjacent electrolytic cells and remove them from the circuit.

陽極コネクタ一手段を取り付けるための陽極ジャンパブ
スバーを設けることができる。
An anode jumper busbar may be provided for mounting an anode connector means.

陽極支持構造体に冷却手段を設けて1.陽極支持構造体
における温度が損傷を与える高さにまで上昇することを
防止し、また陽極支持構造体に用いられる高電導性金属
の量をさらにへらすことも可能である。
Providing cooling means on the anode support structure; 1. It is also possible to prevent the temperature in the anode support structure from rising to damaging heights and to further reduce the amount of highly conductive metal used in the anode support structure.

本発明の新規な電解槽は、様々な多種の電解法において
使用することができる。
The novel electrolytic cell of the present invention can be used in a wide variety of different electrolysis processes.

水性アルカリ金属塩化物溶液の電解が最も重要なもので
あり、従ってこの種の方法に関連して本発明の電解槽を
さらに詳しく説明する。
The electrolysis of aqueous alkali metal chloride solutions is of paramount importance, and the electrolytic cell of the invention will therefore be explained in more detail in connection with this type of process.

しかしながら、その説明は本発明の電解槽の有用性を限
定するものと解さるべきではない。
However, that description should not be construed as limiting the usefulness of the electrolyzer of the present invention.

本発明の新規な電解槽を構成する各種要素あるいは部品
の大部分は、2種の異った型の金属を用いて造られる。
Most of the various elements or parts that make up the novel electrolytic cell of the present invention are constructed using two different types of metals.

この種の金属の一つば高電導性金属であり、他のものは
良好な強度および構造的特性を有する電導性金属である
One of these types of metals is a highly conductive metal, and the other is a conductive metal with good strength and structural properties.

本明細書において使用する「高電導性金属」なる用語は
、電流の流れに対する抵抗が低く、電流の優れた伝導体
である金属を意味する。
As used herein, the term "highly conductive metal" refers to a metal that has a low resistance to the flow of electrical current and is an excellent conductor of electrical current.

適当な高電導性金属には銅、アルミニウム、銀等および
それらの合金が含まれる。
Suitable highly conductive metals include copper, aluminum, silver, etc. and alloys thereof.

好ましい高電導性金属は銅あるいはその任意の高電導性
合金であり、本明細書において銅と述べられているもの
は、任意の他の適当なすべての高電導性金属が、銅ある
いはその任意の高電導性合金の代りに使用されうること
を意味するものと解されるべきである。
The preferred high conductivity metal is copper or any high conductivity alloy thereof; reference herein to copper means that any other suitable high conductivity metal is copper or any high conductivity alloy thereof. It should be understood to mean that it can be used in place of high conductivity alloys.

本明細書において使用する「電導性金属」なる用語は、
電流の流れに対してかなりの抵抗を有するが電流の適度
に良好な伝導体である金属を意味する。
As used herein, the term "conductive metal" refers to
Refers to a metal that has considerable resistance to the flow of electric current, but is a reasonably good conductor of electric current.

更に、電導性金属は良好な強度および構造的特性を有す
る。
Furthermore, conductive metals have good strength and structural properties.

適当な電導性金属には鉄、鋼、ニッケル等およびそれら
の合金、例えば不銹鋼およびその他のクロム鋼、ニッケ
ル鋼等が含まれる。
Suitable conductive metals include iron, steel, nickel, etc., and alloys thereof, such as stainless steels and other chromium steels, nickel steels, and the like.

好ましい電導性金属は比較的安価な低炭素鋼(以下単に
スチールという)であり、本明細書においてスチールと
述べているものとしては、任意の他の適当なすべての電
導性金属がスチールの代りに用いうると解さるべきであ
る。
The preferred conductive metal is relatively inexpensive low carbon steel (hereinafter referred to simply as steel); references herein to steel include any and all other suitable conductive metals in place of steel. It should be understood that it can be used.

高電導性金属および電導性金属は、電解槽の作;動中に
おける腐食に対して十分な耐性を有するものであるか、
あるいはこれらは腐食からト分に保護されていなければ
ならない。
Do the highly conductive metals and conductive metals have sufficient resistance to corrosion during operation of the electrolytic cell?
Alternatively, they must be adequately protected from corrosion.

以下添付図を参照しつつ本発明を更に詳細に説明する。The present invention will be explained in more detail below with reference to the accompanying drawings.

添付図の第1図を参照すると、電解槽11は耐食性プラ
スチック頂部12、陰極担持囲繞体13および電解槽基
部14を含む。
Referring to FIG. 1 of the accompanying drawings, an electrolytic cell 11 includes a corrosion-resistant plastic top 12, a cathode-carrying enclosure 13, and an electrolytic cell base 14.

頂部12は囲繞体13ヒに設置され、適当な締付具(図
示せず)により囲繞体13に固定されている。
The top 12 is mounted on the enclosure 13 and secured thereto by suitable fasteners (not shown).

頂部12と囲繞体13との間のシールは密閉用ガスケッ
トにより保証されている。
The seal between the top 12 and the enclosure 13 is ensured by a sealing gasket.

該囲繞体13は電解槽基部14上に設置され、適当な締
付具(図示せず)により電解槽基部14に固定されてい
る。
The enclosure 13 is placed on the electrolytic cell base 14 and secured to the electrolytic cell base 14 by suitable fasteners (not shown).

囲繞体13と電解槽基部14との間のシールは弾性シー
ル用パッドにより保証されている。
The seal between the enclosure 13 and the cell base 14 is ensured by an elastic sealing pad.

電解槽11はその支持手段として用いられている脚部1
5上に設置されている。
The electrolytic cell 11 has legs 1 which are used as supporting means for the electrolytic cell 11.
It is installed on 5.

陰極ブスバー構造体16は、例えば溶接の如き任意の適
当な方法で陰極担持囲繞体13のスチール側壁17に取
り付けられている。
The cathode busbar structure 16 is attached to the steel sidewall 17 of the cathode carrying enclosure 13 in any suitable manner, such as by welding.

陰極ブスバー構造体16は銅製の引込みブスバー18お
よび複数の銅製のブスバースl−IJツブ19,21お
よび22を含み、これらは相対的寸法がそれぞれ異なり
、引込みブスバー18とブスバーストリップ19.21
および22を通して電流が流れ、囲繞体13の側壁11
上の電気的接触点にまで、陰極ブスバー構造体16中に
実質的に均一 な電流密度が保たれるような構成で設置
されている。
The cathode busbar structure 16 includes a copper retractable busbar 18 and a plurality of copper busbar L-IJ knobs 19, 21 and 22, each having different relative dimensions, and a retractable busbar 18 and a busbar strip 19,21.
and 22, a current flows through the side wall 11 of the enclosure 13.
The configuration is such that a substantially uniform current density is maintained in the cathode busbar structure 16 up to the electrical contact point above.

陰極ブスバー構造体16には、溶接の如き適当な方法で
組立てられているスチール板24,25゜26および3
0と、入口27および出口28を有する冷却手段23と
を設けることができる。
The cathode busbar structure 16 includes steel plates 24, 25, 26 and 3 assembled by any suitable method such as welding.
0 and cooling means 23 having an inlet 27 and an outlet 28 can be provided.

冷却手段23は、溶接の如き適当な方法で引込みブスバ
ー18およびブスバーストリップ19に取り付けられて
いる。
The cooling means 23 are attached to the retraction busbar 18 and the busbar strip 19 in any suitable manner, such as by welding.

冷却剤(好ましくは水)が入口27および出口28を通
して冷却手段23中に循環される。
A coolant (preferably water) is circulated into the cooling means 23 through an inlet 27 and an outlet 28.

冷却手段23は、主として電解槽11に隣接する電解槽
を飛び越えてこれを電気回路から除く際に用いるように
設けられている。
The cooling means 23 is provided mainly for use in jumping over an electrolytic cell adjacent to the electrolytic cell 11 and removing it from the electrical circuit.

冷却手段23の使用により、陰極ブスバー構造体16に
用いられる銅がかなり少なくてすみ、その結果投下資本
コストが実質的に節減される。
Due to the use of the cooling means 23, significantly less copper is used in the cathode busbar structure 16, resulting in substantial savings in invested capital costs.

冷却手段23は、主として電解槽11に隣接する電解槽
を飛び越えてこれを回路からはずす時に用いるように設
けられているが、周期的な電流過負荷の際に陰極ブスバ
ー構造体16を冷却するため、あるいは陰極ブスバー構
造体16を連続的に冷却するために、通常の電解槽作動
中にも用いることができそれにより陰極ブスバー構造体
16における銅の使用量をさらに減じ、投下資本を節減
することができる。
The cooling means 23 is mainly provided to be used when jumping over an electrolytic cell adjacent to the electrolytic cell 11 to remove it from the circuit, but it is also used to cool the cathode busbar structure 16 in the event of periodic current overload. or can be used during normal electrolyzer operation to continuously cool the cathode busbar structure 16, thereby further reducing copper usage in the cathode busbar structure 16 and saving invested capital. Can be done.

引込みブスバー18には、接触手段として役立二つスチ
ール製の接触板29および31を設けることができる。
The retraction busbar 18 can be provided with two steel contact plates 29 and 31 which serve as contact means.

接触板29および31は、ねじ32の如き適当な手段で
引込みブスバー18に取り付けられている。
Contact plates 29 and 31 are attached to retraction busbar 18 by suitable means such as screws 32.

引込みブスバー18並びに接触板29および31には、
隣接する電解槽から電流を流す検量コネクター、あるい
は別の電源から引込みブスバー18に電流を供給するリ
ードを取り付けるための手段として役立つ、孔33を設
けることができる。
The retraction bus bar 18 and the contact plates 29 and 31 include
A hole 33 can be provided to serve as a means for attaching a calibrated connector for carrying current from an adjacent electrolytic cell or a lead for supplying current to the inlet busbar 18 from another power source.

引込みブスバー18およびブスバースl−IJツブ19
は、孔34を設けた場合には、隣接する電解槽を飛び越
えてこれを電気回路から除く場合に、陰極ジャンパコネ
クターを取り付は忘ための陰極ジャンパブスバーとして
用いることができる。
Retraction busbar 18 and busbar l-IJ knob 19
If the hole 34 is provided, it can be used as a cathode jumper bus bar for forgetting to attach a cathode jumper connector when jumping over an adjacent electrolytic cell and removing it from the electrical circuit.

冷却手段23が、陰極ブスバー構造体16の温度がこの
構造体16あるいは電解槽11の他の構成要素の損傷を
もたらす水準にまで上昇することを防止することにより
、その最大の利用価値を与えるのはこのジャンパ操作中
である。
The cooling means 23 provide maximum utility by preventing the temperature of the cathode busbar structure 16 from rising to a level that would result in damage to this structure 16 or other components of the electrolytic cell 11. is currently operating this jumper.

次に第2図を参照すると、ここには陰極ブスバー構造体
16が別の角度から示されており、この図は第1図で述
べた陰極ブスバー構造体16を構成する要素あるいは部
品の構成およびそれぞれちがう相対的寸法を含め、陰極
ブスバー構造体16をさらに詳しく説明するものである
Next, referring to FIG. 2, the cathode busbar structure 16 is shown from another angle, and this figure shows the structure and components of the cathode busbar structure 16 described in FIG. The cathode busbar structure 16 will now be described in more detail, including its different relative dimensions.

陰極ブスバー構造体16は、銅の引込みブスバー18と
複数の銅のブスバーストリップ19゜21および22と
を含む。
The cathode busbar structure 16 includes a copper lead-in busbar 18 and a plurality of copper busbar strips 19, 21 and 22.

ブスバースl−IJツブ19.21および22は、銅対
スチール溶接部35.37,38および41の如き適当
な手段でスチール製の陰極相持囲繞体13のスチール側
壁17に、また銅対鋼溶接部36および39の如き適当
な手段で相互に取り付けられている。
The bus bars I-IJ tubing 19.21 and 22 are connected to the steel side wall 17 of the steel cathode supporting enclosure 13 by suitable means such as copper-to-steel welds 35, 37, 38 and 41, and copper-to-steel welds. They are attached to each other by suitable means such as 36 and 39.

溶接金属は、好ましくはブスバーストリップと同じ金属
、すなわち銅である。
The weld metal is preferably the same metal as the busbar strip, ie copper.

この方法によるブスバーストリップの側壁17への取り
付けは、所要溶接面積フを著しく減少し、また側壁17
即ち陰極スチールに対する電気的接触抵抗を低くする。
Attaching the busbar strip to the side wall 17 in this manner significantly reduces the required welding area and also
That is, it lowers the electrical contact resistance to the cathode steel.

引込みブスバー18は、銅対鋼溶接部42の如き適当な
手段でブスバースl−IJツブ19に取り付けられ、引
込みブスバー18はスチール製のブロック43の如き適
当な手段で側壁17に取り付けられている。
The retractable busbar 18 is attached to the busbar I-IJ hub 19 by any suitable means, such as a copper-to-steel weld 42, and the retractable busbar 18 is attached to the side wall 17 by any suitable means, such as a steel block 43.

引込みブスバー18は一連のねじ(図示せず)の如き適
当な手段でスチールブロック43に取り付けられ、また
スチールブロック43はスチール対スチール溶接部40
の如き適当な手段で陰極担持囲繞体13の側壁17に取
り付けられている。
The retraction busbar 18 is attached to the steel block 43 by suitable means such as a series of screws (not shown) and the steel block 43 is attached to the steel-to-steel weld 40.
It is attached to the side wall 17 of the cathode carrying enclosure 13 by any suitable means such as.

スチール製接触板29および31は、ねじ32の如き適
当な手段で引込みブスバー18に取り付けられている。
Steel contact plates 29 and 31 are attached to retraction busbar 18 by suitable means such as screws 32.

上記の取り付は手段(オ陰極ブスバー構造を与え、そこ
では引込みブスバー18と複数のジスバース1ヘリツブ
19,21および22が溶接部36゜3γ、38,39
および42により電気的に相互接続されており、陰極ブ
スバー構造体16が溶接部35,3γ、38,40およ
び41により囲繞体13の側壁17に電気的接触を保つ
よう取り付けられている。
The above installation provides a means (on-cathode busbar structure, in which the retracting busbar 18 and the plurality of disverse 1 helices 19, 21 and 22 are connected to the welds 36° 3γ, 38, 39
and 42, and the cathode busbar structure 16 is attached to the side wall 17 of the enclosure 13 by welds 35, 3γ, 38, 40 and 41 to maintain electrical contact.

陰極補強手段45を側壁17に溶接するなどの適当な手
段で、陰極44は側壁11に電気的接触を保つように取
り付けられる。
The cathode 44 is mounted in electrical contact with the side wall 11 by any suitable means, such as by welding a cathode reinforcing means 45 to the side wall 17.

代表的な陰極44の一部分が図示されている。A portion of a representative cathode 44 is shown.

陰極44はスチール製の陰極補強手段45と、溶接の如
き適当な手段で取り付けられている有孔スチール板46
とを含む。
The cathode 44 comprises a steel cathode reinforcing means 45 and a perforated steel plate 46 attached by suitable means such as welding.
including.

有孔スチール板47が、溶接の如き適当な手段で、有孔
スチール板46および側壁17に取り′付けられ、周辺
室48を形成している。
A perforated steel plate 47 is attached to perforated steel plate 46 and side wall 17 by any suitable means such as welding to form a peripheral chamber 48.

複数のブスバースl−IJツブの側壁17への取す付は
点における高さは、陰極補強手段45の側壁17への取
り付は点における高さと実質的に同じである。
The height of the plurality of bus berths I-IJ at the point of attachment to the side wall 17 is substantially the same as the height of the cathode reinforcing means 45 at the point of attachment to the side wall 17.

この高さはまた、囲繞体13の高さの約]/2より大で
あるとも定義しうる。
This height may also be defined as being greater than approximately ]/2 of the height of the enclosure 13.

ブスバーストリップ21および22の厚さは、好ましく
は引込みブスバー18およびブスバーストリップ19の
厚さ以下である。
The thickness of the busbar strips 21 and 22 is preferably less than or equal to the thickness of the retraction busbar 18 and the busbar strip 19.

陰極補強手段45は、好ましくは電導性スチールシート
から作られた波型構造体であるが、他の適当な補強手段
例えば電導性金属ロンド、プレー1へ、補強シート等を
使用することもできる。
The cathode reinforcing means 45 is preferably a corrugated structure made of conductive steel sheet, although other suitable reinforcing means may be used, such as conductive metal ronds, reinforcing sheets, etc.

この陰極補強手段は、第一 に有孔スチール板46を支
持し、補強する機能と、第二に陰極補強手段を通して最
少の電気抵抗で有孔スチール板46のあらゆる部分に電
流を供給する機能との、二つの機能を果たす。
This cathode reinforcing means has the following functions: firstly, to support and reinforce the perforated steel plate 46; and secondly, to supply current through the cathode reinforcing means to all parts of the perforated steel plate 46 with minimal electrical resistance. It fulfills two functions.

陰極44および周辺室48を形成するために使用される
有孔電導性電属手段は、好ましくは有孔スチール板であ
るが、スチールスクリーンを用いることもできる。
The perforated electrically conductive metal means used to form the cathode 44 and peripheral chamber 48 are preferably perforated steel plates, but steel screens may also be used.

陰極44および周辺室48を形成するために使用しうる
他の適当な有孔電導性金属手段には、電導性金属グリッ
ド、メツシュ、スクリーン、「ツイヤ−クロス等が含ま
れる。
Other suitable perforated conductive metal means that may be used to form the cathode 44 and peripheral chamber 48 include conductive metal grids, meshes, screens, "twier cloth," and the like.

囲繞体13は電解槽基部14−Hに設置され、締付具(
図示せず)により前記電解槽基部14に固定さイアてい
る。
The surrounding body 13 is installed at the electrolytic cell base 14-H, and a fastener (
(not shown) is fixed to the electrolytic cell base 14.

電解槽基部14は、弾性シール用パッド49と、電導性
陽極支持構造体51ならびに所望により構造的支持手段
52を含む。
Cell base 14 includes a resilient sealing pad 49 and a conductive anode support structure 51 and optional structural support means 52.

弾性シール用パッド49により、囲繞体13と電解槽基
部14との間のシールが保証される5、 電解槽の代表的回路において、電流は検量コネクター(
図示せず)を通して陰極ブスバー構造体16の引込みブ
スバー18に流れる。
A resilient sealing pad 49 ensures a seal between the enclosure 13 and the electrolytic cell base 14.5 In a typical electrolytic cell circuit, the current flows through the calibration connector (
(not shown) to the retraction busbar 18 of the cathode busbar structure 16.

電流は、次に陰極ブスバー構造体16を通って流れて、
そこに実質的に均一な電流密度を保ち、それによって陰
極ブスバー構造体16を横切る著しい電圧降下はみられ
ず、最も経済的な電力消費が達成される3引込みブスバ
ー18およびブスバースI−IJツブ19.21および
22の配置およびその相対的に異る寸法により、実質的
に均一 な電流密度が陰極ブスバー構造体16「川と保
たれる。
The current then flows through the cathode busbar structure 16 and
3-lead busbars 18 and busbars I-IJ tubes 19 to maintain a substantially uniform current density so that no significant voltage drop across the cathode busbar structure 16 is observed and the most economical power consumption is achieved. .21 and 22 and their relatively different dimensions maintain a substantially uniform current density across the cathode busbar structure 16.

電流は、この上うにして陰極ブスバー構造体16を通り
、囲繞体13の側壁17の電気的接触点に流れ、そこで
陰極44に分配され、陰極補強手段45を通して最少の
電気的抵抗で有孔スチール板46のあらゆる部分に容易
に運ばれる。
The current then flows through the cathode busbar structure 16 to the electrical contact point in the side wall 17 of the enclosure 13 where it is distributed to the cathode 44 and through the cathode reinforcement means 45 through the perforation with minimal electrical resistance. It is easily transported to any part of the steel plate 46.

本発明による陰極ブスバー構造体は、投下資本すなわち
陰極ブスバー構造体に用いられる銅あるいは他の適当な
高電導性金属の量を最も経済的に用いることを可能にす
る。
The cathode busbar structure according to the invention allows for the most economical use of the invested capital, i.e. the amount of copper or other suitable highly conductive metal used in the cathode busbar structure.

この引込みブスバーおよび複数のブスバーストリップブ
の配置およびその相対的に異った寸法は、従来のものに
比して陰極ブスバー構造体に必要な銅あるいは他の適当
な高電導性金属の量を著しく節減する。
This arrangement of the recessed busbar and the plurality of busbar strips and their relatively different dimensions significantly reduces the amount of copper or other suitable highly conductive metal required in the cathode busbar structure compared to conventional ones. Save money.

引込みブスバーと複数のブスバースl−IJツブはそれ
らの構成および相対的に異った寸法のために、陰極ブス
バー構造体中に実質的に均一な電流密度を保つことがで
きる。
Because of their configuration and relatively different dimensions, the retractable busbar and the plurality of busbar I-IJ tubes can maintain a substantially uniform current density in the cathode busbar structure.

引込みブスバーおよびブスバーストリップの配置および
寸法は、電解槽の設計された電流容量により変化し、ま
た電流密度、使用する金属の導電 ”率、溶接部面積
、組立てコスト等多くの因子によっても変化する。
The placement and dimensions of the lead-in busbars and busbar strips will vary depending on the designed current carrying capacity of the electrolyzer and will also vary depending on many factors such as current density, conductivity of the metal used, weld area, and assembly cost.

本発明による陰極ブスバー構造体16は陰極44の近接
域に改良された電気伝導性を与え、それにより、金棒ブ
スバー構造体を横切る電圧降下を最小限にするかあるい
はなく(7、従来法のものに比して銅あるいは他の高電
導性金属の消費量を実質的に節減する。
The cathode busbar structure 16 according to the present invention provides improved electrical conductivity in the vicinity of the cathode 44, thereby minimizing or eliminating the voltage drop across the metal bar busbar structure (7) compared to the conventional method. substantially reduces the consumption of copper or other highly conductive metals compared to

この新規な陰極ブ、スパー構造体は、本発明の電解槽を
、約]、 50,000アンペア、最大的200,00
0アンペアの高電流容量で、しかも高い作動効率を維持
するような塩素−アルカリ隔膜電解槽として作動すべく
設計することを1剪止にする。
This novel cathode tube spar structure allows the electrolytic cell of the present invention to operate at approximately 50,000 amps and up to 200,000 amps.
The key is to design it to operate as a chlor-alkali diaphragm electrolyzer with a high current capacity of 0 amps while maintaining high operating efficiency.

こういった高い電流容量は、生産能力を大にし、一定の
電解槽床面積での生産量をも大にし7また投下資本およ
び作動コストを節減する。
These high current capacities increase production capacity and yield for a given electrolyzer floor area, 7 and also reduce capital investment and operating costs.

本発明の電解槽は、大電流で作動しうるのみならず、こ
の新規な陰極ブスバー構造体を用いて約55,000ア
ンペアの如きより小さい電流でも効率的に作動させるこ
とができる。
The electrolytic cell of the present invention is not only capable of operating at high currents, but can also be efficiently operated at lower currents, such as about 55,000 amperes, using this novel cathode busbar structure.

第3図を参照すると、陰極44はスチール製の陰極担持
囲繞体13の側壁1γ、54,55および56により囲
まれている。
Referring to FIG. 3, the cathode 44 is surrounded by the side walls 1γ, 54, 55 and 56 of the steel cathode carrying enclosure 13.

陰極44は約10〜50あるいはそれ以上の任意の数で
あってよく、好ましくは約15〜40、最も好ましくは
約20〜30である。
The number of cathodes 44 may be any number from about 10 to 50 or more, preferably about 15 to 40, and most preferably about 20 to 30.

これら陰極44の間には、陽極板(図示せず)が設置さ
れる。
An anode plate (not shown) is installed between these cathodes 44.

スチール製の陰極補強手段45には、有孔スチール板4
6が、例えば溶接の如き適当な手段で11りり付けられ
ている。
The steel cathode reinforcing means 45 includes a perforated steel plate 4.
6 is attached to 11 by suitable means, such as by welding.

、スチール板53も、溶接の如き適当な手段で陰極補強
手段45に取り付けられている。
, a steel plate 53 is also attached to the cathode reinforcing means 45 by suitable means such as welding.

陰極44は、スチール板53と陰極補強手段45とを側
壁17に溶接するなどの適当な方法で、スー升−ル側壁
17に取り付けられている。
The cathode 44 is attached to the cell side wall 17 by any suitable method, such as by welding a steel plate 53 and cathode reinforcing means 45 to the side wall 17.

有孔スチール板47が、溶接の如き適当な手段で側壁1
7,54゜55および56に、また有孔スチール板46
にホり付けられている。
A perforated steel plate 47 is attached to the side wall 1 by any suitable means such as welding.
7,54° 55 and 56, and perforated steel plate 46
It is attached to.

不孔スチール板47は、囲紗体13の側壁内向をとり囲
み、電解作業中陰極で作られる水素ガスのための捕集室
として機能する周辺室48を形成する。
A non-porous steel plate 47 surrounds the inward side wall of the shroud 13 and forms a peripheral chamber 48 which serves as a collection chamber for the hydrogen gas produced at the cathode during the electrolytic operation.

電解作業「円・こ陰極で形1Jシされる水素ガスは、陰
極44を通って、周辺室48に達し、そこからガス引抜
き部57へと進む第4図を参照すると、釘孔スチール板
46は、溶接の如き適当な手段でスチール製の陰極補強
手段45に取り付けられている。
Electrolytic work: Hydrogen gas, which is shaped like 1J at the circular cathode, passes through the cathode 44, reaches the peripheral chamber 48, and from there proceeds to the gas extraction section 57. Referring to FIG. is attached to the steel cathode reinforcing means 45 by any suitable means such as welding.

スチール板53は溶接の如き適当な手段で陰極補強手段
45に取り付けられている。
Steel plate 53 is attached to cathode reinforcing means 45 by any suitable means such as welding.

スチール製の支持手段58は、溶接の々目き適当な手段
で陰極補強手段45および囲繞体13の側壁56に取り
付けられている。
A support means 58 made of steel is attached to the cathode reinforcing means 45 and the side wall 56 of the enclosure 13 by any suitable means of welding.

有孔スチール板47は、溶接の如き適当な手段で有孔ス
チール板46に、また側壁17および56に取り付けら
れ、それにより周辺室48を形成(7ている。
A perforated steel plate 47 is attached to the perforated steel plate 46 and to the side walls 17 and 56 by any suitable means such as welding, thereby forming a peripheral chamber 48.

第4図は、その・1゛法を拡大[7であるので、周辺室
48が極めて明瞭に示されている。
FIG. 4 is an enlarged view of the .multidot.1.degree. scale [7] so that the peripheral chamber 48 is shown very clearly.

陰極補強手段45には、突出部59があり、有孔スチー
ル板46が溶接の11」き適当な手段でこれら突出部5
9に取り・[]けられているので、それによって電電解
金竹中陰極で形成される、周辺室48に導くべき水素ガ
ス用の別の室空間が与えられる3、スチールチップ61
およびスチール板53が、溶接の如き適当な手段で銅の
ロッド62に取り付けられている。
The cathode reinforcing means 45 has projections 59, and the perforated steel plate 46 is welded to these projections 5 by suitable means.
9, thereby providing another chamber space for the hydrogen gas to be conducted into the peripheral chamber 48 formed by the electrolytic gold bamboo medium cathode 3, steel tip 61.
and steel plate 53 are attached to copper rod 62 by any suitable means such as welding.

スチールチップ61とスチール板53は、溶接の如き適
当な手段で陰極補強手段45に取り付けられ、その結用
銅ロッド62は陰極補強手段45−ヒに正しく配置され
る。
The steel tip 61 and steel plate 53 are attached to the cathode reinforcing means 45 by suitable means such as welding, and the connecting copper rod 62 is properly positioned on the cathode reinforcing means 45-1.

陰極補強手段45は、好ましくはスチールシートから作
られる波型構造体であるが、他の適当な補強手段、例え
はロッド、プレー1へ、補強シート等を用いることもで
きる。
The cathode reinforcing means 45 is preferably a corrugated structure made from a steel sheet, but other suitable reinforcing means can also be used, such as rods, plates, reinforcing sheets, etc.

陰極補強手段45は、第一に有孔スチール板46を支持
し補強し、第二に陰極補強手段45を通して最少の電気
的抵抗で有孔スチール板46のあらゆる一部分に電流を
供給するという二つの機能を有する。
The cathode reinforcing means 45 has two functions: firstly, supporting and reinforcing the perforated steel plate 46, and secondly supplying current through the cathode reinforcing means 45 to any portion of the perforated steel plate 46 with minimal electrical resistance. Has a function.

第2図および第4図を参照すると、囲繞体13は′電解
槽基部14上に設置され、締付具(図示せず)により前
記基部14に固定されている。
Referring to FIGS. 2 and 4, the enclosure 13 is mounted on the cell base 14 and secured to said base 14 by fasteners (not shown).

電解槽基部14は、電導性陽極支持構造体51と所望に
より適当な構造的支持手段52とを含む。
Cell base 14 includes a conductive anode support structure 51 and, if desired, suitable structural support means 52.

囲繞体13と電解槽基部14との間のシールは、弾性シ
ール用バッド49により保証されている。
The seal between the enclosure 13 and the electrolytic cell base 14 is ensured by an elastic sealing pad 49.

陽極板72は、好ましくは金属板からなり、ナラ1−お
よび/またはボルト、同定突出部、植込ボルト、溶接等
の如き適当1手段で電導性陽極支持構造体51に、電気
的接触を保つように取り付けられている。
Anode plate 72 preferably comprises a metal plate and maintains electrical contact with electrically conductive anode support structure 51 by any suitable means such as bolts and/or bolts, identification projections, studs, welding, etc. It is installed like this.

隣接する陰極44間の中心には陽極板72が設置され、
陽極板72と陰極44との間に所定の距離を与えるよ・
うな間隔で、陰極44が設けられる。
An anode plate 72 is installed in the center between adjacent cathodes 44,
Provide a predetermined distance between the anode plate 72 and the cathode 44.
The cathodes 44 are provided at the same intervals.

第2図、第3図および第4図を参照すると、電解槽11
は、特にアルカリ金属塩化物(一般に塩化ナトリウムの
みならず、塩化カリウム、塩化リチウム、塩化ルビジウ
l、および塩化セシウj、をも含む)の溶液の電解に有
)目である。
Referring to FIGS. 2, 3, and 4, the electrolytic cell 11
is of particular interest in the electrolysis of solutions of alkali metal chlorides (generally including not only sodium chloride, but also potassium chloride, lithium chloride, rubidium chloride, and cesium chloride).

電解槽11をかXる溶液の電解に用いる場合、電信イ槽
11には陽極液室と陰極液室とを別々に作るのに役立つ
隔膜71が取付けられており、その結果塩素が陽・極で
作られ、苛性アルカリと水素とが陰極で作られる。
When the electrolytic cell 11 is used for the electrolysis of oxidizing solutions, the electrolytic cell 11 is fitted with a diaphragm 71 which serves to create separate anolyte and catholyte chambers, so that chlorine is separated from the anode and catholyte chambers. Caustic alkali and hydrogen are produced at the cathode.

隔膜71は、流体を通過させる耐ハロゲン性材料からな
り、陰極44を構成するスチール板46および周辺室4
8を形成する有孔スチール板47を被覆する。
The diaphragm 71 is made of a halogen-resistant material that allows fluid to pass through, and the steel plate 46 that constitutes the cathode 44 and the peripheral chamber 4
A perforated steel plate 47 forming 8 is coated.

好ましくは、隔膜71は有孔スチール板46.47の外
面トで所定の場所に付着されたアスベストファイバーか
らなる。
Preferably, the diaphragm 71 consists of asbestos fibers affixed in place on the outer surface of the perforated steel plate 46,47.

電解槽11志してはアスベスト織物、アスベスト紙、ア
スベストシートおよび当業者に周知の他の適当な材料を
含め、多くの型の隔膜を使用しうる。
Many types of membranes may be used in the electrolytic cell 11, including asbestos fabric, asbestos paper, asbestos sheet, and other suitable materials known to those skilled in the art.

陰極44を形成する有孔スチール板46お、よび周辺室
48を形成する有孔スチール板47は有孔電導性金属か
らなる。
The perforated steel plate 46 forming the cathode 44 and the perforated steel plate 47 forming the peripheral chamber 48 are made of perforated electrically conductive metal.

他の適当な有孔電導性金属であって、陰極44および周
辺室48を形成するために用いうるちのとしては、電導
性金属グリッド、メツシュ、スクリーン、ワイヤークロ
ス寺がある。
Other suitable perforated conductive metals that may be used to form cathode 44 and peripheral chamber 48 include conductive metal grids, meshes, screens, and wire cloth temples.

第3図および第5図を参照すると、今までの図に述べた
ものの1部がこれらの図により詳細に示されている。
Referring to FIGS. 3 and 5, some of what has been described in the previous figures is shown in greater detail.

陰極ブスバー構造体16は囲繞体13の側壁17の外面
に取り令]けられ、それに隣接する陰極44の末端は前
記各図面において説明した方法で囲繞体13の側壁17
の内面に取り付けられている。
The cathode busbar structure 16 is attached to the outer surface of the side wall 17 of the enclosure 13, and the end of the cathode 44 adjacent thereto is attached to the side wall 17 of the enclosure 13 in the manner described in each of the previous drawings.
is attached to the inner surface of the

陰極44の他端は、好ましくは次のように配置される。The other end of the cathode 44 is preferably arranged as follows.

すなわち、スチール製の陰極補強手段45の後ろの末端
63がスチール製の支持部材64.65,66および6
7により、囲繞体13のスチール側壁55に隣接して設
置される。
That is, the rear end 63 of the steel cathode reinforcing means 45 is connected to the steel support members 64, 65, 66 and 6.
7 is installed adjacent to the steel side wall 55 of the enclosure 13.

支持部材64および65は、溶接の如き適当な手段で陰
極補強手段45に取り付けられ、溶接の如き適当な手段
で側壁55に取り付けられている支持部材66および6
7上に乗っている。
Support members 64 and 65 are attached to cathode reinforcing means 45 by any suitable means such as welding, and support members 66 and 6 are attached to side wall 55 by any suitable means such as welding.
7 on top.

支持部材64および65はそれぞれ支持部材66および
67に取り付けるか、あるいは固定することができるが
、支持部材64および65を取り付けるかあるいは固定
ぜずに、陰極44の直線的な並びに水平方向の熱膨張お
よび/または収縮が可能となるようにすることが好まし
い。
Support members 64 and 65 can be attached or fixed to support members 66 and 67, respectively, but linear and horizontal thermal expansion of cathode 44 can be avoided with or without support members 64 and 65 attached. and/or shrinkage is preferably possible.

有孔スチール板47は、溶接の如き適当な手段で側壁1
7,54,55および56に、また隣接する有孔スチー
ル板46に取り付けられ、その結果周辺室48が形成さ
れる。
The perforated steel plate 47 is attached to the side wall 1 by any suitable means such as welding.
7, 54, 55 and 56 and to the adjacent perforated steel plate 46, thereby forming a peripheral chamber 48.

銅ロッド62は、好まし7くはそれぞれ長さが異なり、
好ましくは第5図に示される如く陰極補強手段45−ヒ
に設置される。
The copper rods 62 preferably have different lengths;
Preferably, the cathode reinforcing means 45-A is installed as shown in FIG.

スチールチップ61を、溶接の如き適当な手段で銅ロッ
ド62の末端68に取り付け、スチール板53を溶接の
如き適当な手段で銅ロッド62の末端73に取り付け、
それにより陰極銅アセンブリ69を形成する。
a steel tip 61 is attached to the distal end 68 of the copper rod 62 by any suitable means such as welding; a steel plate 53 is attached to the distal end 73 of the copper rod 62 by any suitable means such as welding;
A cathode copper assembly 69 is thereby formed.

陰極銅アセンブリ69は、スチールチップ61とスチー
ル板53とをスチール陰極補強手段45に溶接するなど
して、適当な手段で陰極補強手段45に取り付けられて
いる。
The cathode copper assembly 69 is attached to the cathode reinforcement means 45 by any suitable means, such as by welding the steel tip 61 and steel plate 53 to the steel cathode reinforcement means 45.

銅ロッド62は、こうして陰極補強手段45上に設置さ
れる。
The copper rod 62 is thus placed on the cathode reinforcing means 45.

銅ロッド62は、陰極44中に実質的に均一な電流密度
を保つに充、分な長さのもので、好ましくはそれぞれ長
さの異るものである。
The copper rods 62 are of sufficient length to maintain a substantially uniform current density in the cathode 44, and are preferably of different lengths.

銅ロッド62は、必ずしも丸あるいは均一な断面をもつ
必要はなく、断面は正方形、長方形、六角形、へ角形等
であってもよく、またその長さにそって断面が異ってい
てもよい。
The copper rod 62 does not necessarily have to have a round or uniform cross-section; the cross-section may be square, rectangular, hexagonal, hexagonal, etc., and the cross-section may vary along its length. .

しか4しながら、銅ロッド62は電流を流1〜、実質的
に均一な電流密度を保つに充分な長さおよび断面を有し
、その結果陰極44を横切る著しい電圧降下を示さず、
また陰極44における最も経済的な電力消費を達成する
ことが重要である。
However, the copper rod 62 has a length and cross-section sufficient to carry the current and maintain a substantially uniform current density so that it does not exhibit a significant voltage drop across the cathode 44.
It is also important to achieve the most economical power consumption at cathode 44.

第4図乃至第8図に示されているように、陰極44に銅
の如き適当な高電導性金属を用いることは、陰極での高
電導性金属の新規用途と考えられる。
The use of a suitable highly conductive metal, such as copper, for cathode 44, as shown in FIGS. 4-8, is considered a novel use of highly conductive metals in cathodes.

陰極に銅を用いることは米国特許第3.464,912
号および米国特許第3,493,487号に記載されて
いる。
The use of copper for the cathode is disclosed in U.S. Patent No. 3,464,912.
No. 3,493,487.

しかしながら、陰極に銅を用いるこれら特許明細書記載
の利用法は、本明細書記載のように電解槽の陰極に銅を
用いることは教示していない。
However, the use of copper in the cathode described in these patents does not teach the use of copper in the cathode of an electrolytic cell as described herein.

陰極補強手段45上に、また陰極44中に銅ロッド62
を配置する、この好ましい方法もまた新規である。
A copper rod 62 is placed on the cathode reinforcing means 45 and in the cathode 44.
This preferred method of arranging is also novel.

スチールデツプ61は銅ロッド62の末端68に溶接さ
れ、スチール板53が銅ロッド62の末端73に溶接さ
れ、それにより陰極銅アセンブリ69が形成される。
Steel depth 61 is welded to distal end 68 of copper rod 62, and steel plate 53 is welded to distal end 73 of copper rod 62, thereby forming cathode copper assembly 69.

この陰極銅アセンブリ69を陰極補強手段45に取り付
ける前に、スチールチップ61とスチール板53を銅ロ
ッド62に溶接したことによるゆがみを、すべで修正あ
るいは補償しておく。
Before attaching the cathode copper assembly 69 to the cathode reinforcing means 45, any distortions caused by welding the steel tip 61 and steel plate 53 to the copper rod 62 are corrected or compensated for.

スチールチップ61とスチール板53をスチール陰極補
強手段45に溶接することにより、陰極銅ア(Zンブリ
69が陰極補強手段45に取り付けられる。
By welding the steel tip 61 and the steel plate 53 to the steel cathode reinforcing means 45, the cathode copper assembly 69 is attached to the cathode reinforcing means 45.

銅ロッド62はこうして陰極補強手段45十に、また陰
極44中に配置される3、この方法で、陰極銅アセンブ
リ69を陰極補強手段45に溶接する前に、すべての銅
対スチール溶接が行なイっれ、この溶接によって生じる
金属ゆがみは実質的になくされる。
The copper rod 62 is thus placed in the cathode reinforcing means 45 and in the cathode 44; in this manner, all copper-to-steel welds are performed prior to welding the cathode copper assembly 69 to the cathode reinforcing means 45. In turn, metal distortion caused by this welding is substantially eliminated.

この新規な陰極は本発明の電解槽を、約 ]、 50,000アンペア、最大的200,000ア
ンペアの高い電流容量で、しかも高い作動効率を保つよ
うな塩素−アルカリ隔膜槽として作動するよう設計する
ことを可能ならしめる。
This novel cathode allows the electrolytic cell of the present invention to be designed to operate as a chlor-alkali diaphragm cell with a high current capacity of approximately 50,000 amps and up to 200,000 amps while maintaining high operating efficiency. make it possible.

こういった高い電流容量は高い生産能力を与え、一定の
電解槽床面積での高い生産速度をもたら(7、投1″:
′資本および作動コストを節減する。
These high current capacities give high production capacity and result in high production rates for a given electrolyzer floor area (7, 1" throw:
'Save capital and operating costs.

本発明の電解槽は、大電流で運転し・うるだけでなく、
この新規な陰極を用いて約55,000アンペアの如き
低い電流でも効果的に運転することができる。
The electrolytic cell of the present invention not only operates and draws large currents, but also
With this new cathode, currents as low as about 55,000 amperes can be effectively operated.

第6図を参照すると、こXに゛は第5図に示した陰極補
強手段45の反対側が示されている。
Referring to FIG. 6, the opposite side of the cathode reinforcing means 45 shown in FIG. 5 is shown here.

またその上に設置されている銅ロッド62の構成も示さ
れている。
Also shown is the configuration of the copper rod 62 installed thereon.

銅ロッド62、スチール板53およびスチールチップ6
1を含む陰極銅アセンブリ69が陰極補強手段45上に
配置されていることが示されている。
Copper rod 62, steel plate 53 and steel tip 6
A cathode copper assembly 69 comprising 1 is shown disposed on the cathode reinforcement means 45 .

陰極補強手段45には突出部59が設けられ、有孔スチ
ール板46が溶接の如き適当な手段で突出部59に取り
付けられ、それにより電解作業中に陰極で形成された、
周辺室48に送らるべき水素ガスに対する別の室空間が
形成される。
The cathode reinforcing means 45 is provided with a projection 59 to which the perforated steel plate 46 is attached by suitable means such as welding, thereby forming a cathode during the electrolytic operation.
A separate chamber space is created for the hydrogen gas to be sent to the peripheral chamber 48.

突出部59は、陰極補強手段45上に間隔をあけて配置
されており、その代表的な一部のみが第6図に示されて
いる。
The protrusions 59 are arranged at intervals on the cathode reinforcing means 45, and only a representative part thereof is shown in FIG.

次に第7図および第8図を参照すると、こメには陰極補
強手段の別の態様が示され、その−ヒに置かれた銅ロン
ドの構成も示されている。
Referring now to FIGS. 7 and 8, another embodiment of the cathode reinforcing means is shown in the top and the arrangement of copper ronds placed in the top.

この態様において、陰極補強手段111はスチール板1
12を含み、これはそこから伸びているスチール製のペ
グあるいはピン113を有している。
In this embodiment, the cathode reinforcing means 111 is the steel plate 1
12, which has a steel peg or pin 113 extending therefrom.

銅ロッド62、スチール板53およびスチールチップ6
1を含む陰極銅アセンブリ69が陰極補強手段111の
スチール板112封に設置され、スチール板112の一
部はスチール板53を収容するために取り除かれている
Copper rod 62, steel plate 53 and steel tip 6
1 is installed in the steel plate 112 envelope of the cathode reinforcing means 111, and a portion of the steel plate 112 is removed to accommodate the steel plate 53.

陰極銅アセンブリ69は、スチール板53とスチールチ
ップ61とをスチール板112に溶接するなどして、適
当な手段で陰極補強手段111に取り付けられている。
Cathode copper assembly 69 is attached to cathode reinforcing means 111 by any suitable means, such as by welding steel plate 53 and steel tip 61 to steel plate 112.

有孔スチール板46に溶接の如き適当な手段でスチール
製ペグ113に取りつけられ、それにより電解作業中に
陰極で形成された周辺室48に送らるべき水素ガスのた
めの室空間が与えられる。
A perforated steel plate 46 is attached to the steel pegs 113 by suitable means such as welding, thereby providing chamber space for the hydrogen gas to be conveyed to the peripheral chamber 48 formed by the cathode during the electrolytic operation.

次に第9図および第10図を参照すると、陽極支持構造
体74は銅板75,76を含み、またスチール板77.
78,79,81および98あるいは任意の他の適当な
構造手段をも含むことができる。
9 and 10, anode support structure 74 includes copper plates 75, 76 and steel plates 77.
78, 79, 81 and 98 or any other suitable construction means may also be included.

銅板75.76およびスチール板77゜78.79,8
1および98は、ボルト止めあるいは溶接の如き適当な
手段で接合され、適当な構造的支持手段をもつ一体的構
造体を与える。
Copper plate 75.76 and steel plate 77°78.79,8
1 and 98 are joined by any suitable means such as bolting or welding to provide a unitary structure with suitable structural support means.

陽極支持構造体74は弾性シール用パッド49で腐食か
ら保護することができる。
The anode support structure 74 can be protected from corrosion by resilient sealing pads 49.

銅板75および76には陽極板72を銅板75および7
6に取り付けるために用いられる陽極板取り付は手段8
2がもうけられる。
The anode plate 72 is attached to the copper plates 75 and 76.
The anode plate attachment used for attaching to 6 is means 8
2 can be made.

陽極板72は、それと接触する各種の電解槽反応成分お
よび生成物の腐食的攻撃に対して耐性をもつ任意の適当
な電気伝導性材料から作られる。
Anode plate 72 is made of any suitable electrically conductive material that is resistant to corrosive attack by the various electrolyzer reaction components and products with which it comes into contact.

陽極板72は好ましくは金属板である。Anode plate 72 is preferably a metal plate.

通常、陽極板72は所謂バルブ金属例えばチタン、タン
クルあるいはニオブまたはそれらの合金で、バルブ金属
が合金の少なくとも約90%をなすものから作られる。
Typically, the anode plate 72 is made from a so-called valve metal, such as titanium, tankard, or niobium, or an alloy thereof, with the valve metal making up at least about 90% of the alloy.

バルブ金属の表面は一種あるいはそれ以上の貴金属、貴
金属酸化物あるいはか\る酸化物の混合物単独あるいは
バルブ金属酸化物との混合物の被覆で活性にすることが
できる。
The surface of the valve metal can be activated by coating with one or more noble metals, noble metal oxides or mixtures of such oxides, alone or in mixtures with valve metal oxides.

使J旧−うる貴金属としてはルテニウム、ロジウム、パ
ラジウム、イリジウムおよび白金が包まれる。
Precious metals that can be used include ruthenium, rhodium, palladium, iridium, and platinum.

!侍に好ましい金属陽極はチタンから作られ、表向に酸
化チタンと酸化ルテニウムとの混合物の被覆をもつ米国
特許第3,632,498号に記載されているようなも
のである。
! The samurai's preferred metal anode is made of titanium and is such as described in US Pat. No. 3,632,498, which has a coating of a mixture of titanium oxide and ruthenium oxide on the surface.

また、バルブ金属基質をアルミニウム、スチール、銅等
の如き一層電気伝導性の高い金属の芯上にかぶせること
もできる。
The valve metal substrate can also be overlaid on a more electrically conductive metal core such as aluminum, steel, copper, and the like.

陽極板72は、ナツトおよび/またはボルト、同定突出
部、植込みボルト、溶接等の適当な方法で銅板75.7
6に取り付けることができる。
The anode plate 72 is attached to the copper plate 75.7 by any suitable method such as nuts and/or bolts, identification projections, studs, welding, etc.
It can be attached to 6.

陽極板72を銅板75,76に取り付けるための代表的
な方法は、米国特許第3,591,483号に記載され
ている。
A typical method for attaching anode plate 72 to copper plates 75, 76 is described in US Pat. No. 3,591,483.

陽極ブスバー97は、取り付は手段85によってスチー
ル製の接触板89および91を銅板75に取り付け、か
つこのスチール板および銅板に孔83をもうけることに
より与えられ、これらの孔は隣接する電解槽から電流を
流す種間コネクターあるいは他の電源から陽極ブスバー
97に電流を通すリードを取り付けるための手段として
役立つ。
The anode busbar 97 is mounted by attaching steel contact plates 89 and 91 to the copper plate 75 by means 85 and by drilling holes 83 in the steel plate and the copper plate, which holes are connected to the adjacent electrolytic cell. It serves as a means for attaching current carrying leads to the anode busbar 97 from a current carrying interspecies connector or other power source.

第10図は銅板γ5,76の断面構造が実質的に段階状
の截頭直角三角形の断面形を形成していることを示す。
FIG. 10 shows that the cross-sectional structure of the copper plates γ5, 76 forms a substantially stepped truncated right triangular cross-section.

銅板75.76はそれぞれちがった相対的寸法を有し、
陽極72に隣接する電気的接触点にまで陽極支持構造体
74中に実質的に均一 な電流密度を保つように配置さ
れ、その結果陽極支持構造体74を横切る著しい電圧時
Fを示さず、また陽極支持構造体74での最も経済的な
電力消費を達成する。
The copper plates 75, 76 each have different relative dimensions;
It is arranged to maintain a substantially uniform current density in the anode support structure 74 up to the point of electrical contact adjacent the anode 72 so that it does not exhibit a significant voltage difference across the anode support structure 74, and The most economical power consumption in the anode support structure 74 is achieved.

実質的に均一な電流密度は、断面を異にする銅板75,
76によって達成され、これら銅板は実質的に階段状の
截頭直角正直形の断面形状を形成しており、そこにおい
て銅板の断面が減少するにつれて、電流が実質的に均一
に該銅板から取り出される。
The substantially uniform current density is achieved by using copper plates 75, which have different cross-sections.
76, the copper plates form a substantially step-like truncated rectangular cross-sectional shape in which current is drawn substantially uniformly from the copper plates as the cross-section of the plates decreases. .

電解槽の代表的な回路においては、電流は種間コネクタ
ー(図示せず)を通じて陽極支持構造体74の陽極ブス
バー97に供給される。
In a typical electrolyzer circuit, current is supplied to the anode busbar 97 of the anode support structure 74 through an interspecies connector (not shown).

電流は、次に陽極支持構造体74に運ばれ、実質的に均
一な電流密度が陽極支持構造体中に保たれ、陽極支持構
造体74を横切る著しい電圧降下を示さずまた陽極支持
構造体74中での最も経済的な電力消費を達成する。
The current is then carried to the anode support structure 74 such that a substantially uniform current density is maintained in the anode support structure and exhibits no significant voltage drop across the anode support structure 74. Achieve the most economical power consumption in the market.

電流は、銅板75および76の構成および相対的に異っ
た」一法により、実質的に均一な電流密度を維持しつつ
陽極支持構造体74に運ばれる。
Current is delivered to the anode support structure 74 while maintaining a substantially uniform current density due to the configuration of the copper plates 75 and 76 and the relatively different manner in which the copper plates 75 and 76 are arranged.

かくして、電流は陽極支持構造体74を通り電気的接触
点に流れ、そこで陽極板72に分配される。
Thus, current flows through the anode support structure 74 to the electrical contact points where it is distributed to the anode plate 72.

このような条件の−1・で、電流は陽極板72のあらゆ
る部分に容易に運ばれる。
Under these conditions -1., current is easily carried to all parts of the anode plate 72.

この新規な陽極支持構造体は、投下資本すなわち陽極支
持構造体に用いられる銅あるいは他の適当な高電導性金
属の量を最も経済的に利用することを(i]it?とす
る。
The new anode support structure makes the most economical use of the invested capital, i.e. the amount of copper or other suitable highly conductive metal used in the anode support structure.

前記銅板の構成および相対的に異−)た寸法は、従来の
ものに比し陽極支持構造体に必要とされる銅あるいは他
の適当な高電導性金属の量を著しく低減する。
The configuration and relatively different dimensions of the copper plates significantly reduce the amount of copper or other suitable high conductivity metal required in the anode support structure compared to prior art.

これら銅板はその構成並びに相対的に異る手法の故に、
電流を流し、陽極支持構造体中に実質的に均一な電流密
度を保つことを可能とする。
Due to their composition and relatively different techniques, these copper plates
It allows current to flow and maintain a substantially uniform current density in the anode support structure.

前記銅板の構成および寸法は、電解槽の電流容量によっ
て変化し、かつ多数の因子例えば電流密度、使用する金
属の導電率、溶接面積、組立てコスト等によっても変化
する。
The configuration and dimensions of the copper plate will vary depending on the ampacity of the electrolytic cell and will also vary depending on a number of factors such as current density, conductivity of the metal used, weld area, assembly cost, etc.

この新規な陽極支持構造体は、陽極板に改良された電気
伝導性を与え、それにより陽極支持構造体を横切る電圧
降下を最少限にし、あるいはなくし、従来法のものと比
して銅あるいは他の高電導性金属の所要量を実質的に節
減する。
This novel anode support structure provides improved electrical conductivity to the anode plate, thereby minimizing or eliminating voltage drop across the anode support structure, compared to those of conventional methods. substantially reduces the amount of highly conductive metal required.

この陽極支持構造体は、本発明の電解槽を、高い作動効
率を保ちながら約150,000アンペア、最大成約2
00,000アンペアまでの高い電流容量で塩素−アル
カリ隔膜電解槽として作動すべく設計することを可能と
する。
This anode support structure allows the electrolytic cell of the present invention to operate at approximately 150,000 amps, up to approximately 2 amps, while maintaining high operating efficiency.
It allows it to be designed to operate as a chlor-alkali diaphragm electrolyzer with high current capacities up to 00,000 amperes.

これらの高い電流容量は、高い生産能力を与え、一定の
電解槽床面積での高い生産速度を与え、投F資本および
作動コストの低減をもたらす。
These high current capacities provide high production capacity, high production rates for a given cell floor area, and reduced investment capital and operating costs.

本発明の電解槽は、大電流で運転しうるだけでなく、新
規な陽極支持構造体を用いることにより約55,000
アンペアの如きより低い電流でも効果的に作動しうるも
のである。
In addition to being capable of operating at high currents, the electrolyzer of the present invention utilizes a novel anode support structure to provide approximately 55,000
It can also operate effectively with lower currents, such as amperes.

陽極支持構造体74には冷却手段92を設けることがで
きる。
The anode support structure 74 may be provided with cooling means 92 .

冷媒、好ましくは水は、入口93を通して導入され、冷
媒通路95中を通るこ吉により冷却手段92中に循環さ
れる。
A refrigerant, preferably water, is introduced through the inlet 93 and circulated into the cooling means 92 by means of passages through the refrigerant passages 95.

入口93を通して入った後、冷媒はスチール板8γにそ
って流れて冷却装置96「円こ送られ、かつその中を通
って流れ、次に再びスチール板87にそって流れる0、
冷媒は次にスチール板88にそって流れ、次にスチール
板89にそって流れまたそのまわりに送られる。
After entering through the inlet 93, the refrigerant flows along the steel plate 8γ and is routed through and through the cooling device 96, and then flows again along the steel plate 87.
The refrigerant then flows along steel plate 88 and then along and around steel plate 89.

冷媒は次にスチール板89の反対側にそって、さらにス
チール板88の反対側にそって送られる。
The refrigerant is then routed along the opposite side of steel plate 89 and then along the opposite side of steel plate 88.

冷媒は次にスチール板87の反対側にそって送られ、出
ト]94から放出される。
The refrigerant is then routed along the opposite side of the steel plate 87 and discharged through an outlet 94.

冷媒通路95は任意の適当な冷媒輸送手段であることが
でき、例えばか5る冷媒移送手段は冷却装置96を連結
する銅製管路とスチール接触板87,88および89の
両側および各末端にそって配置させた冷媒輸送用流路で
あり得る。
Refrigerant passages 95 may be any suitable refrigerant transport means, such as those located along opposite sides and at each end of steel contact plates 87, 88 and 89 with copper conduits connecting cooling device 96. The refrigerant transport channel may be arranged in a manner similar to the above.

この図に示され、ここで説明した如き冷却手段92は、
単に代表的冷却手段にすぎず、冷却手段92は図面に示
されかっこメで説明したような設計のものに限定される
ものと解釈されるべきではない。
Cooling means 92, as shown in this figure and as described herein, comprises:
Merely representative cooling means, cooling means 92 should not be construed as being limited to the design shown in the drawings and described in parentheses.

冷却手段92を使用すると、陽極支持構造体74に用い
るべき銅がかなり少なくなり、陽極銅についての資本投
下コストが実質的に低減される。
The use of cooling means 92 requires significantly less copper to be used in the anode support structure 74, substantially reducing capital investment costs for the anode copper.

冷却手段92は、主として隣接する電解槽を飛び越えて
これを電気回路から除く際に用いるために設けられてい
るのであるが、冷却手段92は周期的な電流過負荷時に
陽極銅を冷却するために、あるいは陽極銅を連続的に冷
却するために通常の電解槽作動中に使用することができ
、それにより陽極支持構造体74での銅の使用量をさら
に少なくし7、それに伴って陽極銅に対する資本コスI
・を低減することができる。
The cooling means 92 is provided primarily for use in jumping over adjacent electrolytic cells to remove them from the electrical circuit, but the cooling means 92 is used to cool the anode copper during periodic current overloads. , or can be used during normal electrolyzer operation to continuously cool the anode copper, thereby further reducing copper usage in the anode support structure 74 and concomitantly reducing the amount of copper used for the anode copper. Capital cost I
・Can be reduced.

陽極ジャンパブスバー99は、取り付は手段86を用い
てスチール接触板87,88を銅板75に取り付け、隣
接する電解槽を飛び越してこれを電気回路から除く時の
、陽極ジャンパコネクターを取り付ける手段として役立
つ、孔84を前記スチール板および銅板に設けることに
より、与えられる。
The anode jumper bus bar 99 serves as a means for attaching an anode jumper connector when attaching the steel contact plates 87, 88 to the copper plate 75 using attachment means 86 to jump over an adjacent electrolytic cell and remove it from the electrical circuit. , by providing holes 84 in the steel and copper plates.

冷却手段92が、電解槽11の陽極支持構造体74ある
いは他の構成要素に損害を及ぼすような高さにまで陽極
支持構造体74の温度が上昇することを防止することに
より、その最大の有効性を発揮するのはこのジャンパ操
作中である。
The cooling means 92 maximizes its effectiveness by preventing the temperature of the anode support structure 74 from rising to a height that would damage the anode support structure 74 or other components of the cell 11. It is during this jumper operation that it shows its true potential.

第11図を参照するよ、こ\には別の態様にガかイつる
陽極支持構造体74が示されており、そこではこの陽極
支持構造体74に構造支持手段52がもうけられている
Referring to FIG. 11, an alternative embodiment of a flexible anode support structure 74 is shown in which the anode support structure 74 is provided with structural support means 52.

この支持手段52により該構造体74の追加の構造支持
体を提供することかできる。
This support means 52 can provide additional structural support for the structure 74.

この態様は、陽11似支持構造体74が、優れた電気的
特性をもつか比較的弱い構造的特性をもつ銅の如き高電
導・にF金属から作られる場合には有利であり好ましい
This embodiment is advantageous and preferred when the support structure 74 is made from a highly conductive metal such as copper, which has excellent electrical properties or relatively weak structural properties.

構造支持手段52はアルミーウj・、鉄、銅等およびそ
れらの合金例えば不銹鋼および他のクロム鋼、ニッケル
鋼等必安な支持体をlヒえるに充分な強度をもつ多くの
適当な構造H料の任意のものから作シ)うる。
Structural support means 52 may be made of any number of suitable structural materials having sufficient strength to support the necessary support, such as aluminum, iron, copper, etc. and their alloys, such as stainless steel and other chrome steels, nickel steel, etc. It can be made from any material.

か\る構造材料は■ビーム、′rビーj1、■7ビーム
、1丁ビーム等の形を有しうる。
Such structural materials may have the form of a beam, a beam, a seven beam, a single beam, etc.

構造支持手段52は必ずしも全屈から作らねばならない
わけてはなく、コンクリート、補強コンクリート等信の
適当な構造材料から作ることもできる。
Structural support means 52 does not necessarily have to be made of full-length material, but can be made of any suitable structural material, such as concrete, reinforced concrete, or the like.

第12図、第13図および第14図を参照すると、こ5
には第9図、第10図および第11図に示されたものと
は別の態様にか\イっる陽極支持構造体74が示されて
いる。
Referring to FIGS. 12, 13 and 14, this 5
9 shows an anode support structure 74 that is different from that shown in FIGS. 9, 10, and 11.

第9図、第10図およびが11図の説明が第12図、第
13図および第14図にもあてはまる。
The description of FIGS. 9, 10 and 11 also applies to FIGS. 12, 13 and 14.

第12図、第13図および第14図が第9図、第10図
および第11図とちがっているのは銅板101および1
02とスチール板103および104がさらに加えられ
ている点である。
The difference between FIGS. 12, 13 and 14 from FIGS. 9, 10 and 11 is that the copper plates 101 and 1
02 and steel plates 103 and 104 are further added.

さらにまた、4列の陽極板72があり、冷却手段92と
ジャンパブスバー99に幾分変更が加えられている。
Furthermore, there are four rows of anode plates 72, with some modifications to the cooling means 92 and jumper bus bar 99.

第13図および第14図は銅板75,76゜101およ
び102の断面構造が実質的に階段状の截頭直角三角形
の断面形をしていることを示している。
13 and 14 show that the cross-sectional structure of the copper plates 75, 76° 101 and 102 has a substantially step-like truncated right triangular cross-sectional shape.

銅板75,76.101および102はそれぞれ相対的
寸法を異にし銅板75,76゜101および102は電
流を流し、陽極板72に隣接する電気的接触点にまで陽
極支持構造体74中に実質的に均一な電流密度を保つよ
うな配置で設置されており、その結果陽極支持構造体7
4を横切る著しい電圧降下を示さず、また陽極支持構造
体74での最も経済的な電力消費を達成する。
The copper plates 75, 76, 101 and 102 each have different relative dimensions so that the copper plates 75, 76, 101 and 102 carry current and substantially penetrate into the anode support structure 74 to the point of electrical contact adjacent to the anode plate 72. The anode support structure 7 is arranged in such a way as to maintain a uniform current density.
4 and achieves the most economical power consumption in the anode support structure 74.

実質的に均一な電流密度は異った断面を有する銅板75
,76.101および102によって達成され、これら
は実質的に階段状の截頭直fr」三角形の断面を形成し
ており、そこで銅板の断面が減少するのに伴って実質的
に均一な電流がこれら銅板から取り出される。
Substantially uniform current density is achieved through copper plates 75 with different cross sections.
, 76.101 and 102, which form a substantially stepped truncated triangular cross-section in which a substantially uniform current flows as the cross-section of the copper plate decreases. It is extracted from these copper plates.

電解槽の代表的な回路においては、電流は検量コネクタ
ー(図示せず)を通じ陽極支持構造体74の陽極ブスバ
ー97に供給される。
In a typical electrolytic cell circuit, current is supplied to the anode busbar 97 of the anode support structure 74 through a calibration connector (not shown).

電流は、次に陽極支持構造体74に流れ、かつそこで実
質的に均一な電流密度を維持し、そこでは陽極支持構造
体74を横切る電圧降下はみられず、また陽極支持構造
体74での最も経済的な電力消費が達成される。
The current then flows to the anode support structure 74 and maintains a substantially uniform current density therein, where there is no voltage drop across the anode support structure 74 and where there is no voltage drop across the anode support structure 74. The most economical power consumption is achieved.

銅板75,16,101および102の構成およびその
相対的に光った仕法のために、電流が陽極支持構造体7
4に流れ、かつ実質的に均一 な電流密度が陽極支持構
造体中に保たれる。
Due to the configuration of the copper plates 75, 16, 101 and 102 and their relatively shiny manner, the current flows through the anode support structure 7.
4 and a substantially uniform current density is maintained in the anode support structure.

電流は、こうして陽極支持構造体74中を電気的接触点
まで流れ、そこで陽極板72に分配される。
Current thus flows through the anode support structure 74 to the point of electrical contact where it is distributed to the anode plate 72.

このような状況の下で電流は陽極板72のあらゆる部分
に容易に運ばれる。
Under these circumstances, current is easily carried to all parts of the anode plate 72.

この新規な陽極支持構造体は、投下資」〈すなわち陽極
支持構造体に用いられる銅あるいは他の高電導性金属の
量を、最も経済的に利用することを可能とする。
This new anode support structure allows for the most economical use of the investment capital, i.e. the amount of copper or other highly conductive metal used in the anode support structure.

銅板の配置およびその異った相対的寸法は、従来のもの
に比しI1gA極支持横支持に必要な銅あるいは他の適
当な高電導性金属の量を著しく低減する。
The arrangement of the copper plates and their different relative dimensions significantly reduces the amount of copper or other suitable high conductivity metal required for the I1gA pole support lateral support compared to the prior art.

これら銅板は、またそれらの配置およびその異った相対
的寸法の故をもって、陽極支持構造体に電流を流し、実
質的に均一な電流密度を陽極支持構造体[川こ保っのに
適している。
These copper plates, because of their arrangement and their different relative dimensions, are also suitable for carrying current through the anode support structure and maintaining a substantially uniform current density through the anode support structure. .

銅板の配置および寸法は電解槽の電流容量により変化し
、また多くの因子例えば電流密度、使用金属の導電率、
溶接面積、組立てコスト等によっても変化する。
The placement and dimensions of the copper plate will vary depending on the ampacity of the electrolyzer and will depend on many factors such as current density, conductivity of the metal used,
It also varies depending on the welding area, assembly cost, etc.

この新規な陽極支持構造体は、陽極板に対して良好な電
気伝導性を1j、え、それにより陽極支持構造体を横切
る電圧降下を最少限のものとしあるいはなくし、しかも
従来のものに比し銅あるいは他の適当な高電導性金属の
所要量を実質的に低減する。
This novel anode support structure provides good electrical conductivity to the anode plate, thereby minimizing or eliminating voltage drop across the anode support structure, yet compared to conventional ones. Substantially reduces the amount of copper or other suitable highly conductive metal required.

第9図乃至第14図に示した陽極支持構造体74は、第
2図および第4図に示した主導性陽極 ゛支持構造
体51の1態様でありうる。
The anode support structure 74 shown in FIGS. 9-14 may be one embodiment of the active anode support structure 51 shown in FIGS. 2 and 4.

この新規な陽極支持構造体は、本発明の電解槽を、高い
作動効率を保ちつつ約]、 50,000アンペア、最
大成約200,000アンペアまでの高い電流容量で作
動する塩素−アルカリ隔膜槽として設計することを可能
とする。
This novel anode support structure allows the electrolyzer of the present invention to operate as a chlor-alkali diaphragm cell operating at high current capacities of approximately 50,000 amps up to approximately 200,000 amps while maintaining high operating efficiency. It allows you to design.

こういった高い電流容量は高い生産能力を与え、一定の
電解槽の床面積での高い生産速度を与え、資本所要量お
よび作動コストを低減する。
These high current capacities provide high production capacity, high production rates for a given cell floor area, and reduced capital requirements and operating costs.

本発明の電解槽は、大電流で作動しうるのみならず、こ
の新規な陽極支持構造体を用いることにより約55,0
00アンペアの如き低い電流でも効果的に作動させるこ
とが可能である。
Not only is the electrolytic cell of the present invention capable of operating at high currents, but by using this novel anode support structure, the electrolytic cell of the present invention can
It is possible to operate effectively with currents as low as 0.00 amps.

下記実症例は本発明の実施ならびに本発明の利用の態様
を示すものである。
The following illustrative case illustrates the practice of the present invention as well as the manner in which the present invention is utilized.

実症例 下記のデータは電流容量150,0007ンペアで作動
した本発明の新規な電解槽の代表的な性能を示す。
Actual Case The data below shows the typical performance of the novel electrolytic cell of the present invention operated at a current capacity of 150,0007 amperes.

この性能を、従来の小さな電解槽で金属陽極板をもうけ
たものを電流容量84,000アンペアで作動した時の
性能と比較した。
This performance was compared to that of a conventional small electrolyzer with a metal anode plate operating at a current capacity of 84,000 amperes.

どちらの電解槽も塩素−アルカリ隔膜槽である。Both electrolyzers are chlorine-alkali diaphragm cells.

*・・・電解槽は電解槽液の苛性アルカリ含有量がさら
に低い場合にも作動可能。
*...The electrolytic cell can operate even when the caustic alkali content of the electrolytic cell liquid is even lower.

この場合電流効率はさらに犬となる。In this case, the current efficiency will be even higher.

上記データは本発明の新規な電解槽が従来の小さい電解
槽と同じ陽極電流密度で実質的に同じ電4流効率、電圧
および作動条件で操作されることを示している。
The above data show that the new electrolyzer of the present invention operates at the same anode current density and at substantially the same current efficiency, voltage and operating conditions as the conventional small electrolyzer.

本発明の新規な電p);4槽は一定の電解槽の床面積に
対し高い生産速度を有し、作動労力が少なくまた生産さ
れる塩素1トン当りの投下資本が少なくてすむ。
The novel cell p) of the present invention has a high production rate for a given cell floor area, requires less operating effort and requires less capital invested per ton of chlorine produced.

本実症例は電解槽を高い電流容量で作動し、高い生産能
力を与えまた高い作動効率を保ちつト高い生産速度のも
のにすべく設計することを可能にする。
This example allows electrolytic cells to be designed to operate at high current capacities, provide high production capacity, and have high production rates while maintaining high operating efficiency.

本発明の電解槽は多くの他の用途をもつ。The electrolyzer of the present invention has many other uses.

例えば生成する苛性アルカリと塩素とを電解槽外でさら
に反応させアルカリ金属塩素酸塩を製造することができ
る。
For example, an alkali metal chlorate can be produced by further reacting the generated caustic alkali and chlorine outside the electrolytic cell.

この場合、アルカリ金属塩素酸塩とアルカリ金属塩化物
双方を含む溶液をさらに電解するためにこの電解槽に循
環することができる。
In this case, a solution containing both alkali metal chlorate and alkali metal chloride can be circulated to this cell for further electrolysis.

電解槽は塩酸単独あるいはアルカリ金属塩化物との組合
せを電解することにより、塩酸の電解に利用しうる。
The electrolytic cell can be used to electrolyze hydrochloric acid by electrolyzing hydrochloric acid alone or in combination with an alkali metal chloride.

このように本発明の新規な電解槽はかかる方法および多
くの他の水性液処理に極めて有用である。
The novel electrolytic cells of the present invention are thus extremely useful in such processes and in many other aqueous liquid treatments.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の好ましい一態様にか\わる電解槽の正
面図、第2図は第1図の電解槽を線2−2で切断した拡
大部分断面側面図、第3図は第1図の電解槽の陰極相持
囲繞体の拡大部分平面図、第4図は第3図の電解槽を線
4−4にそって切断した陰極と陰極担持囲繞体の拡大部
分断面図、第5図は第3図の電解槽を線5−5にそって
切断した陰極と陰極相持囲繞体の拡大断面図、第6図は
第5図の陰極補強手段の反対1u11の側面図、第7図
は別の態様にかXわる陰極補強手段の倶)自国、第8図
は第7図の陰極補強手段を線8−8にそって切断した端
面図、第9図は第1図の電解槽に用いられる陽極支持構
造体の平面図(説明の都合」−1陽極板は省略しである
)、第10図(ま第9図の陽極支持構造体を線10−1
0にそって切1析した断面図、第11図は第10図のも
のに構造的槽支持手段が加えられたものを示す図、第1
2図は第1図の電解槽に用いうる陽極支持構造体の一例
の平面図(説明の都合−ヒ、陽極板は省略しである)、
第13図は第12図の陽極支持構造体を線]:3−13
にそって切断した側面図、第14図は第13図のものに
構造的槽支持手段を取り付けたものを示す図である。
FIG. 1 is a front view of an electrolytic cell according to a preferred embodiment of the present invention, FIG. 2 is an enlarged partial cross-sectional side view of the electrolytic cell of FIG. 1 taken along line 2-2, and FIG. FIG. 4 is an enlarged partial sectional view of the cathode and cathode supporting enclosure taken along line 4--4 of the electrolytic cell shown in FIG. 3; FIG. is an enlarged sectional view of the cathode and the cathode supporting enclosure taken along the line 5-5 of the electrolytic cell shown in FIG. 3, FIG. 8 is an end view of the cathode reinforcing means of FIG. 7 cut along line 8-8, and FIG. 9 is an end view of the cathode reinforcing means of FIG. A plan view of the anode support structure used (for convenience of explanation - 1 anode plate is omitted), Figure 10 (also, the anode support structure in Figure 9 is drawn along line 10-1)
FIG. 11 is a cross-sectional view taken along line 0, and FIG. 11 is a diagram showing the structure shown in FIG.
FIG. 2 is a plan view of an example of an anode support structure that can be used in the electrolytic cell shown in FIG. 1 (for convenience of explanation, the anode plate is omitted);
Figure 13 shows the anode support structure in Figure 12]: 3-13
FIG. 14 is a cross-sectional side view showing the version of FIG. 13 with structural tank support means attached.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 陰極ブスバー構造体、陰極担持囲繞体、該陰極担持
囲繞体により担持された陰極、陽極支持構造体、および
該陽極支持構造体により支持された陽極を含む電解槽で
あって、 (a) 前記陰極ブスバー構造体が少なくとも1つの
引込みブスバーと、相対的に異る寸法を有する複数の高
電導性ブスバーストIJツブとを含み、該ブスバースl
−IJツブは相互にかつ該引込みブスバーと連結され、
かつ電気的に接続されており、前記陰極ブスバー構造体
は電導性金属で造られ、かつ側壁を有する前記陰極担持
囲繞体の少なくとも1つの側壁に取付けられかつ電気的
に接続しており、該陰極担持囲繞体はその中に・ 多数
の陰極を含み、該陰極ブスバー構造体は該陰極に隣接す
る接触点に電流を流す。 (b) 前記陰極は電導性金属の陰極補強手段、該陰
極内に設けられた長い高電導性金属部材および該陰極補
強手段に取付けられて該陰極の外表面と該陰極内部のガ
ス室空間を形成する有孔電導性金属手段を有し、前記長
い高電導性金属部材は該陰極中に設置されて、電流を運
び、前記陰極担持囲繞体はこの内部を実質的に横切って
伸びている多数の陰極を含み、該陰極は該囲繞体□ の
少なくとも1つの内壁に取付けられかつ電気的に接続し
ており、該陰極ブスバー構造体は前記囲繞体の、取付け
られた陰極に隣接する側壁外表面に取付けられて電気的
に接続しており、(c) 前記陽極支持構造体は、実
質的に平らで水平な面を有し、かつ陽極もしくは槽間連
結ブスバーから遠方に伸びるにつれて減少する断面積を
有する高電導性金属手段を含み、それによって実質的に
階段状の截頭直角三角形断面形状を形成し、該高電導性
金属手段が相対的に異る寸法・ を有し、かつ電流を運
ぶ、 前記電解槽。
[Scope of Claims] 1. An electrolytic cell comprising a cathode busbar structure, a cathode carrying enclosure, a cathode supported by the cathode carrying enclosure, an anode support structure, and an anode supported by the anode support structure. (a) the cathode busbar structure includes at least one retraction busbar and a plurality of highly conductive busburst IJ tubes having relatively different dimensions;
- the IJ knobs are connected to each other and to the retraction busbar;
and electrically connected, the cathode busbar structure being attached to and electrically connected to at least one sidewall of the cathode carrying enclosure made of a conductive metal and having sidewalls; The carrying enclosure includes a number of cathodes therein, and the cathode busbar structure conducts electrical current to contact points adjacent to the cathodes. (b) The cathode includes cathode reinforcing means made of conductive metal, a long highly conductive metal member disposed within the cathode, and a long highly conductive metal member attached to the cathode reinforcing means that connects the outer surface of the cathode and the gas chamber space inside the cathode. forming a perforated electrically conductive metal means, said elongated highly electrically conductive metal member being disposed within said cathode to carry an electrical current, and said cathode-carrying enclosure having a plurality of conductive metal means extending substantially across the interior thereof. a cathode attached to and electrically connected to at least one inner wall of the enclosure, and the cathode busbar structure is attached to an outer surface of a side wall of the enclosure adjacent to the attached cathode. (c) the anode support structure has a substantially flat, horizontal surface and a cross-sectional area that decreases with distance from the anode or intervessel connecting busbar; comprising highly conductive metal means having a substantially stepped truncated right triangular cross-sectional shape, the highly conductive metal means having relatively different dimensions and carrying an electrical current. , the electrolytic cell.
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