JPS58179985A - Transfer pattern of ion implantation bubble device - Google Patents
Transfer pattern of ion implantation bubble deviceInfo
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- JPS58179985A JPS58179985A JP57061830A JP6183082A JPS58179985A JP S58179985 A JPS58179985 A JP S58179985A JP 57061830 A JP57061830 A JP 57061830A JP 6183082 A JP6183082 A JP 6183082A JP S58179985 A JPS58179985 A JP S58179985A
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- G11C19/0808—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements using thin films in plane structure using magnetic domain propagation
- G11C19/0816—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements using thin films in plane structure using magnetic domain propagation using a rotating or alternating coplanar magnetic field
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(IJ、発明の技術分野
本発明はイオン注入法で作成される磁気バブルメモリデ
バイスのバブル転送路に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (IJ, Technical Field of the Invention) The present invention relates to a bubble transfer path for a magnetic bubble memory device fabricated by ion implantation.
(2)、技術の背景
磁気バブルを利用して情報の蓄積、l!1liI理演鼻
等を行なう磁気バブル利用装置は、不揮発性高記憶密度
及び低消費電力等積々の%atもち、さらには機械的9
!累會全く含1ない固体素子であることから非常に高い
信頼性t−有している。このような磁気バブルメモリ装
置にも最近の情報量の増加。(2), Technology background: Information accumulation using magnetic bubbles, l! The magnetic bubble utilization device that performs 1liI physical performance etc. has a high non-volatile storage density, low power consumption, etc., and also has a mechanical
! Since it is a solid-state device that does not contain any additives, it has extremely high reliability. Recently, the amount of information on such magnetic bubble memory devices has also increased.
装置の小型化要求などにより記憶密度の増加が求められ
ている。このため最近、バブル転送路をイオン注入法に
よシ形成し記憶密度を高度化する方法が開発されている
0この方法は第1図の平面図及び第2図の断面図に示す
如くガドリニウム・ガリウム・ガーネット基板1の上に
バブル用結晶となる磁性ガーネットの薄膜2t−液相エ
ビタキシヤル成長させて形成し、この磁性薄膜2に対し
パターン3以外の部分4に水素、ネオン、ヘリウム等の
イオンを注入するのである。このようにパターン3全形
成した素子はイオンを注入された部分4の磁化容易軸方
向が矢印aの如く面内方向と一致し、パターン部分3の
磁化容易軸方向は矢印すの如くもとの111の面内方向
と垂Iである。従ってバブル5は回転磁界によってパタ
一ン3の周縁に沿って矢印Cの如く転送される。そして
このパターンは円形や六角形をその一部がlなるように
して列状に並べた形状であり、従来のパーマロイパター
ンの如くギャップを必要としない九め寸法指度が緩くと
も良く、従ってパターンが小さくでき高密度化が東視さ
れる。There is a demand for increased storage density due to demands for smaller devices. For this reason, a method has recently been developed to improve storage density by forming bubble transfer paths by ion implantation.This method uses gadolinium as shown in the plan view of FIG. A thin film 2t of magnetic garnet that will become a bubble crystal is formed on a gallium garnet substrate 1 by liquid phase epitaxial growth, and ions of hydrogen, neon, helium, etc. are applied to a portion 4 of the magnetic thin film 2 other than the pattern 3. Inject it. In the device in which the entire pattern 3 is formed in this way, the direction of the easy axis of magnetization of the ion-implanted part 4 coincides with the in-plane direction as shown by arrow a, and the direction of the easy axis of magnetization of pattern part 3 is the same as the original direction as shown by arrow a. 111 in the in-plane direction and perpendicular I. Therefore, the bubble 5 is transferred along the periphery of the pattern 3 as shown by the arrow C by the rotating magnetic field. This pattern has a shape in which circles and hexagons are arranged in a row so that some of the shapes are l, and unlike the conventional permalloy pattern, the nine-point dimension does not require a gap, and the index of the ninth dimension may be loose, so the pattern can be made smaller and higher density is expected.
このイオン注入法によりパターンを形成しfCC注性薄
膜は第3図に示す如くストライブ・アウトされやすいm
が3方向lυ、 1ffJ 、 [jJIJK l 2
0’(D11a崗倉なして存在し、これら120°の間
隔をなすストライプ容易方向に対し、連接ディスクパタ
ーン3がいずれの方向に一列に韮んでいるかによってス
ーパー・トラック畠とパッド・トラックbとグツド・ト
ラックgの3通りのバブル移動通路ができるO
ここでスーパー争トラック纒と#2磁性薄膜バブル結晶
のに1方向と転送路の進行方向とが第3図に示す関係で
あり、駅伝送路のバイアス・マージンが大きいと一般に
言われている転送路であり、バブルが転送され易い通路
である。パッド・トラックbは第3図に示す関係でバイ
アス・マージンが最も小さいとされている転送路でバブ
ルが転送δれ―い通路である0クツド・トラックgはバ
ブル転送については中間的動作マージンケ有する通路で
ある。そして第3図に示す如くスーパー・トラック纂に
対して反対側の通路はパッド・トラックbとなる。Iた
磁性薄膜バブル結晶のに、方向の連像ディスクパターン
の通路はいずrLの通路もクッドOトラックgとなる。A pattern is formed by this ion implantation method, and the fCC injection thin film is easily striped out as shown in Figure 3.
is in three directions lυ, 1ffJ, [jJIJK l 2
0' (D11a exists without a granary, and depending on which direction the connected disk pattern 3 runs in a row with respect to the easy direction of the stripes that are spaced at 120 degrees, the super track field, pad track b, and hard track・Three paths for bubble movement in track g are created. Here, the relationship between the super track line, the #2 magnetic thin film bubble crystal direction, and the traveling direction of the transfer path is shown in Figure 3, and the station transmission line This transfer path is generally said to have a large bias margin, and is the path through which bubbles are easily transferred.Pad track b is a transfer path that is said to have the smallest bias margin due to the relationship shown in Figure 3. The path on the opposite side of the super track chain is the pad track g, which is the path where the bubble is transferred.・It becomes a track b.In the case of the magnetic thin film bubble crystal, any path of the continuous image disk pattern in the direction rL becomes a quad O track g.
こnc)tよ磁性薄膜バブル結晶の結晶磁気異方性に起
因してバブル転送の特異性が埃われるためである。This is because the specificity of bubble transfer is lost due to the magnetocrystalline anisotropy of the magnetic thin film bubble crystal.
(3)、従来技術と問題点
このようなイオン注入法を用いた磁気バブルデバイスに
おいて、パッド・トラック側の転送路としては従来第4
図aに示すタイヤモンド型と、これt−改良し次第41
8bに示すルー7トツプ型とがあったが、いずれt躯1
1J磁界の回転方向には依存しないものの十分なマージ
ンが侍らnないとい9欠点があった。(3) Prior art and problems In a magnetic bubble device using such an ion implantation method, conventionally the fourth transfer path on the pad/track side was used.
The tire mold type shown in figure a and this after improvement 41
There was a root 7 top type shown in 8b, but eventually the T body 1
Although it does not depend on the direction of rotation of the 1J magnetic field, there are 9 drawbacks in that a sufficient margin cannot be maintained.
(4)9発明の目的
本発明は上記従来の欠点に鑑み、イオン注入バブルデバ
イスのパッド−トラック側において十分なマージンを有
する転送パターンを提供することを目的とするものであ
る〇
(5)0発明の構成
そして仁の目的扛本発明によれば、ffi気バブル結晶
にイオン注入法によってバブルの転送路を形成したイオ
ン注入パズルデバイスにおけるバブル転送路であって、
各ピットにカスプを持つ略鋸歯状をなし、バブルをカス
プより引き出す辺は磁気バブル結晶のストライプ容易方
向のいずれか1つの方向と垂[會なし、バブルをカスプ
に引き込む側の辺扛カスプの開き角が狭くなり過ぎず且
つ隣りのビットの辺となめらかに接続され、カスプの最
も窪んだ部分にはバブルの転送方向に平行な辺を設けた
ことを特徴とするイオン注入バブルデバイス用転送パタ
ーンt−提供することによって達成される。(4)9 Purpose of the Invention In view of the above-mentioned conventional drawbacks, it is an object of the present invention to provide a transfer pattern with sufficient margin on the pad-track side of an ion implantation bubble device.〇(5)0 According to the present invention, there is provided a bubble transfer path in an ion implantation puzzle device in which a bubble transfer path is formed in an FFI bubble crystal by an ion implantation method,
Each pit has a roughly serrated shape with a cusp, and the side that pulls out the bubble from the cusp is perpendicular to one of the stripe directions of the magnetic bubble crystal. Transfer pattern t for an ion implantation bubble device, characterized in that the corners are not too narrow and are smoothly connected to the sides of adjacent bits, and the most concave part of the cusp has a side parallel to the bubble transfer direction. -Achieved by providing
(6)1発明の実施例
以下本発明実施例t−i面によって詳述する0第5図は
本発明によるイオン注入バブルデバイス用転送パターン
を示す図であるO同図において。(6) 1 Embodiments of the Invention Embodiments of the Invention The embodiments of the invention will be described in detail in the t-i plane below.FIG. 5 is a diagram showing a transfer pattern for an ion implantation bubble device according to the present invention.
6線転送パターン、7はカスプ、に、は磁性薄膜バブル
結晶のストライプ容易方向、 HILは駆動磁界をそ
れぞれ示している。In the 6-line transfer pattern, 7 indicates the cusp, 2 indicates the easy stripe direction of the magnetic thin film bubble crystal, and HIL indicates the driving magnetic field.
本実施fllはパッド・トラック側に形成され、且つバ
ブルの転送方向が矢印P方向である場合を示したもので
あり、各ビットにカスプ7を持つ略鋸歯状をなしている
◇そしてバブルがカスグアより引き出される辺abは磁
気バブル結晶のストライプ容易方向に、のいずれか1つ
の方向と垂[t−なしている。またバブルをカスプ7に
引き込む儒の辺cdはカスプ7の開き角が狭くなり過ぎ
ないように(狭くなりすき6とマージンが劣化する)且
つ114vのピットの辺となめらかに接続されるよう罠
形成されている。さらにカスプ7の最も窪んだ部分はそ
の製作時にパターンの抜は會良くするためにバブルの転
送方向と平行な辺bCY7!:設けている0このように
形成された本発明の転送パターンは駆動磁界HRが反時
計回りに回転し、A方向に向いたときはバブルは転送パ
ターン6のににいるが。This embodiment FLL is formed on the pad/track side, and the bubble transfer direction is in the direction of arrow P, and has a roughly sawtooth shape with cusp 7 on each bit. The side ab that is drawn out is perpendicular to any one direction of the stripe easy direction of the magnetic bubble crystal. In addition, the edge cd that draws the bubble into the cusp 7 is formed into a trap so that the opening angle of the cusp 7 does not become too narrow (which would cause the gap 6 and margin to deteriorate) and to connect smoothly with the edge of the 114v pit. has been done. Furthermore, the most concave part of the cusp 7 is the side bCY7 parallel to the bubble transfer direction to improve the pattern punching during manufacturing. In the transfer pattern of the present invention formed in this way, when the driving magnetic field HR rotates counterclockwise and faces in the A direction, the bubble is located in the transfer pattern 6.
駆動磁界HRがB方向に向くとバブルは転送パターンの
カスプ7へ引き込1 n B’に位置する。更に駆動磁
界HRがC,Dに向いている間はバブルはカスプに滞在
い駆動磁界HRがDからAへ回転するときにカスグアよ
ジEの位置に引き出される。When the driving magnetic field HR is directed in the B direction, the bubble is drawn into the cusp 7 of the transfer pattern and located at 1 n B'. Furthermore, while the driving magnetic field HR is directed toward C and D, the bubble stays at the cusp, and when the driving magnetic field HR rotates from D to A, it is pulled out to the position of the casp yoke E.
このよりにしてバブルは駆動磁界の1回転により1ビツ
ト転送される。In this way, the bubble is transferred one bit per revolution of the driving magnetic field.
第6図は駆動磁界が時計回りの場合の本発明による転送
パターンを示し九図である。本実施例は前実施例のパタ
ーンを裏返したものであり、その作用は@実施例と全く
同様である。FIG. 6 is a diagram showing a transfer pattern according to the present invention when the driving magnetic field is clockwise. This embodiment is an inversion of the pattern of the previous embodiment, and its operation is exactly the same as that of the @embodiment.
第7図は本発明のパターンの動作特性(周波数I Hz
のときのバイアス−駆動磁界マージン)?ルーフトップ
型パターンのマージン及ヒス−パートラックパターンの
マージンと比較して示した図である。FIG. 7 shows the operating characteristics of the pattern of the present invention (frequency I Hz
Bias-driving magnetic field margin)? FIG. 3 is a diagram showing a comparison between the margin of a rooftop pattern and the margin of a hypertrack pattern.
四重において縦軸にはバイアス磁界HBを、横軸には駆
動磁界HR′にと9.自縁Aおよびにによp本発明によ
るパターンのマージンを1曲11B及びB′によりスー
パートラックパターンのマージン金2曲?sCによりル
ーフトップ型パターンのマージンをそれぞれ示している
0
図より本発明のパターンはスーパート2ツクノ(ターン
に比べ低駆動磁界でのマージンが狭くなっているがルー
7トツプ型パターンよりははるかに良いマージン″fr
有している°ことがわかる。なおこの時のダイヤモンド
型のパッド・トラックはマージンがなかった。9. In the quadruple, the vertical axis is the bias magnetic field HB, and the horizontal axis is the drive magnetic field HR'. The margin of the pattern according to the present invention is made by self-edge A and 2. The margin of the super track pattern is made by 11B and B'. The margins of the rooftop pattern are shown by sC, respectively.From the figure, the pattern of the present invention has a narrower margin at low driving magnetic fields than the super top pattern (compared to the turn pattern, but it is much smaller than the top pattern). Good margin”fr
It can be seen that it has °. The diamond-shaped pad track at this time had no margin.
(7)、発明の効果
以上、詳細に6(明したように1本発明のイオン注入バ
ブルデバイス用転送パターンはパッドトラック側の転送
路として十分なマージンを有するものであり、イオン注
入バブルデバイスの信頼性を向上し得るといった効果大
なるものである0(7) The effects of the invention will be explained in detail in 6 (1) The transfer pattern for an ion implantation bubble device of the present invention has a sufficient margin as a transfer path on the pad track side. It has a great effect of improving reliability0
第1図はイオン注入法により形成される磁気バブルメモ
リ素子の平面図、第2図は第1崗のn−r1吻における
Wr面図、第3図は磁性薄膜バブル結晶の結晶方向と転
送路との関係全説明するための図、第4図はパッド管ト
ラック側の従来の転送パターン紮示すN、$5図及び第
6図は本発明のイオン注入バブルデバイス用転送パター
ン金示す図。
第7図は本発明の転送パターンの動作特性をルーフトッ
プ型パターン及びスーパートラックパp −ンと比較し
て示した特性図である。
園商において、6は転送パターン、7はカスプ七それぞ
れ示す。
特許出願人
富士通株式会社
特許出願代理人
弁理士 青 木 朗
弁理士 西舘和之
弁理士 円田幸男
弁理士 山 口 昭 之Figure 1 is a plan view of a magnetic bubble memory element formed by ion implantation, Figure 2 is a Wr plane view at the n-r1 proboscis of the first layer, and Figure 3 is the crystal direction and transfer path of the magnetic thin film bubble crystal. FIG. 4 shows the conventional transfer pattern on the pad tube track side; FIG. 5 and FIG. 6 show the transfer pattern for the ion implantation bubble device of the present invention. FIG. 7 is a characteristic diagram showing the operating characteristics of the transfer pattern of the present invention in comparison with a rooftop pattern and a super track pattern. In garden sales, 6 indicates a transfer pattern, and 7 indicates cusp 7. Patent applicant Fujitsu Limited Patent agent Akira Aoki Patent attorney Kazuyuki Nishidate Patent attorney Yukio Enda Akira Yamaguchi
Claims (1)
送路を形成したイオン注入パズルデバイスにおけるバブ
ル転送路であって、各ビットにカスプを持つ略鋸歯状を
なし、バブルをカスプより引出す辺は磁気バブル結晶の
ストライプ容易方向のいずれか1つの方向と垂1!t−
fkL・バブルをカスプに引き込む側の辺はカスプの開
き角が狭くなり過ぎず且つ隣りのピットの辺となめらか
に接続され、カスプの最も績んだ部分にはバブルの転送
方向に平行な辺t−設けたことvi−特徴とするイオン
注入バブルデバイス用転送パターン。■Bubble transfer path in an ion-implanted puzzle device in which a bubble transfer path is formed in a magnetic bubble crystal by ion implantation.It has a roughly sawtooth shape with a cusp on each bit, and the side that pulls out the bubble from the cusp is a magnetic bubble. Crystal stripes can be easily aligned in any one direction and perpendicular! t-
fkL - On the side that draws the bubble into the cusp, the opening angle of the cusp is not too narrow and it is smoothly connected to the side of the adjacent pit, and the most curved part of the cusp has a side t parallel to the bubble transfer direction. - Provided vi - A transfer pattern for an ion implantation bubble device characterized by:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57061830A JPS58179985A (en) | 1982-04-15 | 1982-04-15 | Transfer pattern of ion implantation bubble device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57061830A JPS58179985A (en) | 1982-04-15 | 1982-04-15 | Transfer pattern of ion implantation bubble device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58179985A true JPS58179985A (en) | 1983-10-21 |
Family
ID=13182398
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57061830A Pending JPS58179985A (en) | 1982-04-15 | 1982-04-15 | Transfer pattern of ion implantation bubble device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58179985A (en) |
-
1982
- 1982-04-15 JP JP57061830A patent/JPS58179985A/en active Pending
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