JPS58174598A - 複合メツキ装置 - Google Patents
複合メツキ装置Info
- Publication number
- JPS58174598A JPS58174598A JP5649482A JP5649482A JPS58174598A JP S58174598 A JPS58174598 A JP S58174598A JP 5649482 A JP5649482 A JP 5649482A JP 5649482 A JP5649482 A JP 5649482A JP S58174598 A JPS58174598 A JP S58174598A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrodeposition
- processed
- workpiece
- composite plating
- electrolyte
- Prior art date
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- Pending
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は複合メッキ装置に関する。
複合メッキは金属を不溶性の例えば酸化物、炭化物、ダ
イヤモンド、金属性物質、セラミックもしくは俺の無機
物のような物質を１４１類もしくは数種類含んだ粉末状
の固形添加物と共に電着するものであるが、従来の複合
メッキ装置では被加工体の形状が複雑であったり、また
コーナ一部分や凹部は特に電着析出、及び複合メッキし
にくく、このため加工精度の向上が行なえないという問
題点があった。また被加工体の一部に所望の模様、形状
の部分の複合電着を行なうには、いちいち複雑、面倒な
マスキング手段を講する必要があり、効率的な部分的複
合電着が行なえず、寸法的にも限度があった。
イヤモンド、金属性物質、セラミックもしくは俺の無機
物のような物質を１４１類もしくは数種類含んだ粉末状
の固形添加物と共に電着するものであるが、従来の複合
メッキ装置では被加工体の形状が複雑であったり、また
コーナ一部分や凹部は特に電着析出、及び複合メッキし
にくく、このため加工精度の向上が行なえないという問
題点があった。また被加工体の一部に所望の模様、形状
の部分の複合電着を行なうには、いちいち複雑、面倒な
マスキング手段を講する必要があり、効率的な部分的複
合電着が行なえず、寸法的にも限度があった。
本発明は畝上の観点に立って為されたものであって、そ
の目的とするところは、被加工体の加工部分及び電着析
出しにくい部分にレーザ光またはクセノン光、若しくは
赤外線等の実質上の熱線を照射して、当該部分の表面を
活性化し、電着析出の効率を高めつつ選択的部分的複合
電着又は走査により所定領域の複合電着加工を行なう複
合メッキ装置を提供することにある。
の目的とするところは、被加工体の加工部分及び電着析
出しにくい部分にレーザ光またはクセノン光、若しくは
赤外線等の実質上の熱線を照射して、当該部分の表面を
活性化し、電着析出の効率を高めつつ選択的部分的複合
電着又は走査により所定領域の複合電着加工を行なう複
合メッキ装置を提供することにある。
即ち、本発明は電着における電気化学的反応、特に化学
反応速度が高温程高く、かつこれらの反応が電着面に活
性点を生成することにより促進されるものであることか
ら、光照射によってそのような作用を付与せんとするも
のである。
反応速度が高温程高く、かつこれらの反応が電着面に活
性点を生成することにより促進されるものであることか
ら、光照射によってそのような作用を付与せんとするも
のである。
以下、図面により本発明の詳細な説明する。
図面は本発明にかかる複合メッキ装置の一実施例を示す
説明図である。
説明図である。
図中、電解槽１内には、電解液２が満たされており、こ
の電解液２は電着しようとする金属に適した金属例えば
ニッケル、クローム、カドミウム、綱のイオン等と、粉
末状の例えばアルミニウムや鉄の酸化物、タングステン
や珪素の炭化物、ダイヤモンド、その他の金属等の粉末
状物質３とを含んでいる。電解槽ｌ上部には陽極板４が
電解液２に浸漬するように設けられており、電解液２の
深部には被加工体５に回転運動を与えるためのターンテ
ーブル６が設けられ、このターンテーブル６は電解槽ｌ
底部に設け、た、シールされた軸孔１ａに挿通する軸７
を介してモータ８に連結されている。
の電解液２は電着しようとする金属に適した金属例えば
ニッケル、クローム、カドミウム、綱のイオン等と、粉
末状の例えばアルミニウムや鉄の酸化物、タングステン
や珪素の炭化物、ダイヤモンド、その他の金属等の粉末
状物質３とを含んでいる。電解槽ｌ上部には陽極板４が
電解液２に浸漬するように設けられており、電解液２の
深部には被加工体５に回転運動を与えるためのターンテ
ーブル６が設けられ、このターンテーブル６は電解槽ｌ
底部に設け、た、シールされた軸孔１ａに挿通する軸７
を介してモータ８に連結されている。
９は被加工体５を陰極にするための軸７に接触するブラ
シであり、電源回路１０によって陽極板４と被加工体５
に所定の極性の直流電圧又はパルス電圧が供給されてい
る。１１は被加工体５の表面を照射するレーザ光線篩で
、このレーザ光線源１１はモーター２に連結された送り
ネジ１３によって図面上左右方向に移動する。電源回路
１０の通電条件や、レーザ光線１ｉ１１及びターンテー
ブル６の相対加工送りは、被加工体５の形状等に合せて
ｐめ作成されたプログラムに従って数値制御装置１４か
ら発せられる制御信号に基づいて実行されている。尚、
図では省略しである電解液循環装置や、し・−ザ光［１
１１のビームスポットの大きさ、照射光のエネルギ又は
間欠発光の条件等も数値制御装置１４により制御されて
いる。
シであり、電源回路１０によって陽極板４と被加工体５
に所定の極性の直流電圧又はパルス電圧が供給されてい
る。１１は被加工体５の表面を照射するレーザ光線篩で
、このレーザ光線源１１はモーター２に連結された送り
ネジ１３によって図面上左右方向に移動する。電源回路
１０の通電条件や、レーザ光線１ｉ１１及びターンテー
ブル６の相対加工送りは、被加工体５の形状等に合せて
ｐめ作成されたプログラムに従って数値制御装置１４か
ら発せられる制御信号に基づいて実行されている。尚、
図では省略しである電解液循環装置や、し・−ザ光［１
１１のビームスポットの大きさ、照射光のエネルギ又は
間欠発光の条件等も数値制御装置１４により制御されて
いる。
以上の様な構成により、この装置により複合メッキを施
す場合には先ず被加工体５に公知の前処理を施してから
表面が酸化しないうちに電解槽ｌ１１ 内のターンテーブル６に置き、この電解槽ｌ内に所望の
粉末状物質３を予め混合しｅ濁させた電解液２壱滴たし
、この電解液２を電解液循環装置で循環させる０次に数
値制御、装置１４を作動させることにより被加工体５と
陽極板４には所定の極性の電圧が電源回路１０から供給
され、ターンテーブル６並びに被加工体５表面を照射し
たレーザ光線ｉ！ｌ１１１は被加工体５の形状に合うよ
うに加工送りを始め、そして被加工体５表面に金属メッ
キ膜内に不溶性の酸化物、炭化物、ダイヤモンド、金属
性物質、セラミックス、もしくはその他の無機物のよう
な粉末状物質が１＠頬もしくは数種頬含まれる複合メッ
キ膜が施されるわけであるが、被加工体５表面にレーザ
光を照射することにより、被加工体５の当該レーザ光照
射加工部分の表面又は該表面近くの電解液２の温度が例
えば室温より高い約４５〜６０℃の電着に適当な温度に
加熱され、当該部分が活性化されるので、電着析出効率
が向上して、 当該照射部分のみがほぼ選択的に電着さ
れることになる。即ち部分的又は局部的に複合電着され
る。 従ってレーザ光をレンズその他の光学装置により
拡大又は収斂させれば、そのビームスポットの大きさに
応じた領域が選択的に電着され、その電着速度に対して
モータ８．１２を駆動して、被加工体５、レーザ光線源
１１を適当な速さで移動させれば、レーザ光線［１１の
ビームスポットの移動輪廓線パターンの電着が行われる
。そして、ビーム・スポットの大きさは原理的には照射
光の波長の約２倍迄と極めて小さくできる訳であるから
高精密部分電着が可能である。
す場合には先ず被加工体５に公知の前処理を施してから
表面が酸化しないうちに電解槽ｌ１１ 内のターンテーブル６に置き、この電解槽ｌ内に所望の
粉末状物質３を予め混合しｅ濁させた電解液２壱滴たし
、この電解液２を電解液循環装置で循環させる０次に数
値制御、装置１４を作動させることにより被加工体５と
陽極板４には所定の極性の電圧が電源回路１０から供給
され、ターンテーブル６並びに被加工体５表面を照射し
たレーザ光線ｉ！ｌ１１１は被加工体５の形状に合うよ
うに加工送りを始め、そして被加工体５表面に金属メッ
キ膜内に不溶性の酸化物、炭化物、ダイヤモンド、金属
性物質、セラミックス、もしくはその他の無機物のよう
な粉末状物質が１＠頬もしくは数種頬含まれる複合メッ
キ膜が施されるわけであるが、被加工体５表面にレーザ
光を照射することにより、被加工体５の当該レーザ光照
射加工部分の表面又は該表面近くの電解液２の温度が例
えば室温より高い約４５〜６０℃の電着に適当な温度に
加熱され、当該部分が活性化されるので、電着析出効率
が向上して、 当該照射部分のみがほぼ選択的に電着さ
れることになる。即ち部分的又は局部的に複合電着され
る。 従ってレーザ光をレンズその他の光学装置により
拡大又は収斂させれば、そのビームスポットの大きさに
応じた領域が選択的に電着され、その電着速度に対して
モータ８．１２を駆動して、被加工体５、レーザ光線源
１１を適当な速さで移動させれば、レーザ光線［１１の
ビームスポットの移動輪廓線パターンの電着が行われる
。そして、ビーム・スポットの大きさは原理的には照射
光の波長の約２倍迄と極めて小さくできる訳であるから
高精密部分電着が可能である。
また特に電着加工が困難な被加工体５の凹状コーナやＶ
滴状部分及び四部には、数値制御装置１４が予め定めら
れたプログラムに従って、電源回路１０を制御し、他の
部分よりも高い電圧で集中的にレーザ光線の照射が行な
われるか、モータ８．１２を制御して被加工体５とレー
ザ光線源１１の相対速度を減じるか、または照射光線の
エネルギを増大させる等のうちの１つ以上の制御が行な
われるので、被加工体５は、電着不足部分等のない全体
に均一な、或いは適宜のパターン等の部分電着加工が行
なわれるのである。また使用光源の種類と電解液２の組
合せによっては、照射光線が被加１体５上の電着液２に
より多く吸収される場合があるが、そのような場合には
、被加工体５上の所望メンキ領域が活性化されない可能
性があるから、そのような場合には、照射光が貫通する
電解液２の深さを浅くするとか、グラスファイバ等によ
って被加工体５の直近の位置迄光を誘導させて照射させ
るようにする必要がある。例えばＮｉ、 Ｃｕ−Ｃｒ等
に於て、硫酸銅やスルホン酸ニッケル系の電解液を用い
ると、アルゴン（Ａｒ）ガス・レーザ（波長約４８８０
〜５１４５人、緑色）光に対する透過性が轟く、従って
被加工体５上に約１〜５ｃｓオーダ前後に近い電解液層
があっても、それを貫通照射させた場合、液をあまり加
温することなく被加工体５の照射表面部分領域が加温さ
れて、選択的部分電着を行うことができるが、炭酸ガス
（ＣＯ２） レーザ（波長的１０．６μｍ）やＹＡＧレ
ーザ（波長が約１．０６μｍ）等では、上記Ｎｌ、Ｃｕ
電解液では遇過度が低いから、被加工体５上の電解液層
の厚さ１１１１・１１： を数日前後以下と薄くして、被加工体５の照射表面部分
領域に対応する部分の電解液のみが加温されるようにす
る。
滴状部分及び四部には、数値制御装置１４が予め定めら
れたプログラムに従って、電源回路１０を制御し、他の
部分よりも高い電圧で集中的にレーザ光線の照射が行な
われるか、モータ８．１２を制御して被加工体５とレー
ザ光線源１１の相対速度を減じるか、または照射光線の
エネルギを増大させる等のうちの１つ以上の制御が行な
われるので、被加工体５は、電着不足部分等のない全体
に均一な、或いは適宜のパターン等の部分電着加工が行
なわれるのである。また使用光源の種類と電解液２の組
合せによっては、照射光線が被加１体５上の電着液２に
より多く吸収される場合があるが、そのような場合には
、被加工体５上の所望メンキ領域が活性化されない可能
性があるから、そのような場合には、照射光が貫通する
電解液２の深さを浅くするとか、グラスファイバ等によ
って被加工体５の直近の位置迄光を誘導させて照射させ
るようにする必要がある。例えばＮｉ、 Ｃｕ−Ｃｒ等
に於て、硫酸銅やスルホン酸ニッケル系の電解液を用い
ると、アルゴン（Ａｒ）ガス・レーザ（波長約４８８０
〜５１４５人、緑色）光に対する透過性が轟く、従って
被加工体５上に約１〜５ｃｓオーダ前後に近い電解液層
があっても、それを貫通照射させた場合、液をあまり加
温することなく被加工体５の照射表面部分領域が加温さ
れて、選択的部分電着を行うことができるが、炭酸ガス
（ＣＯ２） レーザ（波長的１０．６μｍ）やＹＡＧレ
ーザ（波長が約１．０６μｍ）等では、上記Ｎｌ、Ｃｕ
電解液では遇過度が低いから、被加工体５上の電解液層
の厚さ１１１１・１１： を数日前後以下と薄くして、被加工体５の照射表面部分
領域に対応する部分の電解液のみが加温されるようにす
る。
尚、レーザ光発生装置は高価であるから、例えばクセノ
ン等やタングステン線管、種々の発光放電管その他のよ
り安価なものを用いるのが良く、電解液との組合せで光
吸収を避けるために低価格光源と被加工体との間に、例
えば種々の光フィルタを挿設する等の手段によって可な
りの程度対応できるものであり、またさらに必要に応じ
集光レンズの使用により、所要とする熱線ビーム・スポ
ットを得ることができる。
ン等やタングステン線管、種々の発光放電管その他のよ
り安価なものを用いるのが良く、電解液との組合せで光
吸収を避けるために低価格光源と被加工体との間に、例
えば種々の光フィルタを挿設する等の手段によって可な
りの程度対応できるものであり、またさらに必要に応じ
集光レンズの使用により、所要とする熱線ビーム・スポ
ットを得ることができる。
本発明の複合メッキ装置によれば、ワイヤ状、適宜の寸
法形状の棒状又は柱状、或いは円板状、円柱等の母材（
金属、合金材に限らず、少なくとも表面所望部分を導電
化処理した例えばビトリファイド砥石やその他の砥石材
の如き各樵セラミ・ツク材でも良い。）の所望先端部分
、側面部分、及び／又は周端縁部分等に、メッキ複合物
としてダイヤモンド、炭化チタン゛ミ立方晶窒化硼素等
の粒１１１ 子を綱又はニッケルメッキして、研摩、研削、切断等の
工具が製作できるだけでなく、複合メ、／キ面を耐摩或
いはさらに耐熱処理面とする例えば摩擦物品の製作、及
び各＠磁気感能材や熱抵抗特性材等の各種機能材の製作
に適用して、精密な寸法及び形状の部分的複合メブキが
可能である所から有用である。前述図示実施例の装置は
、円板状等適宜の形状の板状被加工体５の一方の側面に
複合メッキを施す例を示しているが、例えば回転研−１
研削砥石として所定の板厚の円板状ビトリファイド砥石
の外周端面を適宜の手段で導電化処理し、該砥石を複合
すべき粉末状物質３を混濁した電解液２中に立てて、即
ち砥石軸を水平方向に向けて上端が電解液２面下数鱈前
後となるように沈潰し、鉛直上方に配置したレーザ光綿
ｆｉｌｌより上記液面下の砥石端面にレーザ光線を適宜
の径のビーム・スポットとして照射するようにし、前記
砥石を水平軸の廻りに所望の速度で回転させると共に上
記ビーム・スポットを上記回転軸の方向へ砥石端面の板
厚分所望の速度で往復移動させるようにして複合メッキ
を行い、上記砥石外周端面に、円周方向に適宜の密度の
正弦波状の線状複合メッキを形成させるようにすると、
メッキの電圧、電流、砥石の回転速度、或いはビーム・
スポットのエネルギ、往復移動速度等のａｎ、設定によ
り、上記正弦波状の線状複合メッキの円周方向の密度の
種々異なる、従って研摩、研削性能が順次に且つ微細に
櫨々異なるものを精密に製作でき有用である。
法形状の棒状又は柱状、或いは円板状、円柱等の母材（
金属、合金材に限らず、少なくとも表面所望部分を導電
化処理した例えばビトリファイド砥石やその他の砥石材
の如き各樵セラミ・ツク材でも良い。）の所望先端部分
、側面部分、及び／又は周端縁部分等に、メッキ複合物
としてダイヤモンド、炭化チタン゛ミ立方晶窒化硼素等
の粒１１１ 子を綱又はニッケルメッキして、研摩、研削、切断等の
工具が製作できるだけでなく、複合メ、／キ面を耐摩或
いはさらに耐熱処理面とする例えば摩擦物品の製作、及
び各＠磁気感能材や熱抵抗特性材等の各種機能材の製作
に適用して、精密な寸法及び形状の部分的複合メブキが
可能である所から有用である。前述図示実施例の装置は
、円板状等適宜の形状の板状被加工体５の一方の側面に
複合メッキを施す例を示しているが、例えば回転研−１
研削砥石として所定の板厚の円板状ビトリファイド砥石
の外周端面を適宜の手段で導電化処理し、該砥石を複合
すべき粉末状物質３を混濁した電解液２中に立てて、即
ち砥石軸を水平方向に向けて上端が電解液２面下数鱈前
後となるように沈潰し、鉛直上方に配置したレーザ光綿
ｆｉｌｌより上記液面下の砥石端面にレーザ光線を適宜
の径のビーム・スポットとして照射するようにし、前記
砥石を水平軸の廻りに所望の速度で回転させると共に上
記ビーム・スポットを上記回転軸の方向へ砥石端面の板
厚分所望の速度で往復移動させるようにして複合メッキ
を行い、上記砥石外周端面に、円周方向に適宜の密度の
正弦波状の線状複合メッキを形成させるようにすると、
メッキの電圧、電流、砥石の回転速度、或いはビーム・
スポットのエネルギ、往復移動速度等のａｎ、設定によ
り、上記正弦波状の線状複合メッキの円周方向の密度の
種々異なる、従って研摩、研削性能が順次に且つ微細に
櫨々異なるものを精密に製作でき有用である。
本発明は畝上の如く構成されるので、従来の複合メッキ
装置と興なり、被加工体への複合電着析出が均一に行な
われ、且つ複雑な形状で複合電着析出しにくいものの複
合電着加工も可能となるのである。
装置と興なり、被加工体への複合電着析出が均一に行な
われ、且つ複雑な形状で複合電着析出しにくいものの複
合電着加工も可能となるのである。
尚、本発明は畝上の実施例に限定されるものではなく、
その目的の範囲内で自由に設計変更できるものであり、
本発明はそれらの全てを包摂するものである。
その目的の範囲内で自由に設計変更できるものであり、
本発明はそれらの全てを包摂するものである。
図面は本発明にかかる複合メッキ装置の一実施例を示す
説明図である。 ｉ −−電解槽 ２−−−−−電解液 ３−−一粉末状物質 ５−−−−−一被加工体 ６ ・ターンテーブル ８．１２−−・−モータ １０−−−電源回路 １１−−レーザ光線源 １４−−−−一数値Ｗ＊装置 特許出願人 株式会社 井上ジャパックス研究所代理人
（７５２４）最、上正太部
説明図である。 ｉ −−電解槽 ２−−−−−電解液 ３−−一粉末状物質 ５−−−−−一被加工体 ６ ・ターンテーブル ８．１２−−・−モータ １０−−−電源回路 １１−−レーザ光線源 １４−−−−一数値Ｗ＊装置 特許出願人 株式会社 井上ジャパックス研究所代理人
（７５２４）最、上正太部
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｆｌ） 電解槽内に電着しようとする金属イオンと所
望の粉末状物質とを含んだ電解液を入れ、この電解液と
電解液に浸漬された被加工体に通電してメッキ羨内に上
記添加物もしくは粉末状物質を析出させるを特徴とする
複合メッキ装置において、電解槽内の被加工体の表面の
被メツキ部分に光を照射するための光源を設けたことを
特徴とする複合メッキ馳置。 （２）上記被加工体及び光源の変位と、電解液と被加工
体に通電を行う電源の電圧を数値制御したことを特徴と
する特許請求の５ｉｎｓｉ項に記載の複合メッキ装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5649482A JPS58174598A (ja) | 1982-04-07 | 1982-04-07 | 複合メツキ装置 |
| US06/401,247 US4430165A (en) | 1981-07-24 | 1982-07-23 | Laser-activated electrodepositing method and apparatus |
| FR828212947A FR2513273B1 (fr) | 1981-07-24 | 1982-07-23 | Procede et appareil d'electro-deposition d'un metal sur une piece par utilisation d'un faisceau laser ou un faisceau lumineux thermique analogue |
| GB08221336A GB2106542B (en) | 1981-07-24 | 1982-07-23 | A method and apparatus for electrodeposition |
| DE19823227878 DE3227878A1 (de) | 1981-07-24 | 1982-07-26 | Verfahren und vorrichtung zum galvanischen abscheiden eines metalls auf ein werkstueck |
| IT8248887A IT1148391B (it) | 1981-07-24 | 1982-07-26 | Metodo ed apparecchiatura per la elettrodeposizione attivata con laser |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5649482A JPS58174598A (ja) | 1982-04-07 | 1982-04-07 | 複合メツキ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58174598A true JPS58174598A (ja) | 1983-10-13 |
Family
ID=13028644
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5649482A Pending JPS58174598A (ja) | 1981-07-24 | 1982-04-07 | 複合メツキ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58174598A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5538806A (en) * | 1993-05-03 | 1996-07-23 | Morgan Adhesive Company | Battery with tester label and method for producing it |
-
1982
- 1982-04-07 JP JP5649482A patent/JPS58174598A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5538806A (en) * | 1993-05-03 | 1996-07-23 | Morgan Adhesive Company | Battery with tester label and method for producing it |
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