JPS5817123B2 - 再結合器 - Google Patents

再結合器

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Publication number
JPS5817123B2
JPS5817123B2 JP50041275A JP4127575A JPS5817123B2 JP S5817123 B2 JPS5817123 B2 JP S5817123B2 JP 50041275 A JP50041275 A JP 50041275A JP 4127575 A JP4127575 A JP 4127575A JP S5817123 B2 JPS5817123 B2 JP S5817123B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
flow rate
reaction vessel
reaction
temperature
Prior art date
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Expired
Application number
JP50041275A
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English (en)
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JPS51117193A (en
Inventor
広 後藤
哲男 堀内
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP50041275A priority Critical patent/JPS5817123B2/ja
Publication of JPS51117193A publication Critical patent/JPS51117193A/ja
Publication of JPS5817123B2 publication Critical patent/JPS5817123B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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  • Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、気体中に含まれる水素と酸素を結合させる再
結合器に係り、特に水素と酸素の濃度が一定でない原子
力発電所の格納容器用として用いるに好適な再結合器に
関する。
再結合器には、水素と酸素の反応に触媒を使用する触媒
方式と触媒を使用しな(、Ni[]−%方式とがあるが
、従来の再結合器にはいずれの方式のものにも反応量に
よって処理気体の流量を制御する装置を備えていなかっ
た。
従って、水素または酸素の濃度が変化しても常に一定の
酸素と水素を反応させることができず、濃度が低くなれ
ば反応量も減少することになる。
この場合、酸素と水素のある一定量以上を常に反応させ
て気体から取り除こうとする場合、気体中の水素または
酸素の濃度が最も低いときの流量を処理流量としなけれ
ばならないが、水素および酸素の濃度が高くなってぐる
と・反応熱によって反応容器温度が上昇し、材料の耐熱
温度を超過するので、水素および酸素の最大濃度を想定
して再結合器の容量を犬きくしたり設置台数を多くした
りしなければならない。
従来例として、再循環ループを有する加熱式再結合器を
第1図に示す。
第1図において、4は気体入口配管、7は流量検出系9
から制御線15を通して送られて来る流量信号で気体の
吸込み量を一定に保つ流量調節弁、1は気体を反応容器
2に導入するためのファン、3は反応容器2からの高温
気体を冷却する冷却器で14はその冷却水配管、6は入
6配管4からの気体を薄めるために設けられる再循環配
管、8は流量検出糸10から制御線16を通して送られ
て来るトータルの気体流量により反応容器2内に導入さ
れる気体流量を一定にすべく再循環流量を変える流量調
節弁、12は気体予熱用ヒータ、11は反応容器の温度
検出系13から制御線17を通して送られて来る温度信
号によってヒータ12の加熱温度を変えるヒータ制御系
である。
水素および酸素を含んだ気体は、入口配管4から流量調
整弁7、流量検出系9を通過して再循環配管6からの水
素および酸素濃度の少ない反応後の気体と合流し、流量
検出系10、ポンプ1を通リ、ヒータ12で予熱されて
反応容器2で反応し、冷却器3で冷却後、出口配管5と
再循環配管6に分かれて流れる。
この再結合器において、例えば反応容器2の耐熱設計上
、反応容器2内で酸素濃度2%までの気体の反応しか反
応させないとしたとき、入口配管4からの気体の酸素濃
度が5%まで上昇すると予想される場合、再循環配管6
を通して反応後の気体を導入気体に混合し、酸素濃度を
25倍に薄めて2%まで下げる必要があり、一定の流量
を反応容器に送るこの方式では、前記のような最大濃度
を考慮した大量の反応後の気体を常に再循環させなけれ
ばならないことになり、前記したように、ファン1およ
び反応容器2等を大容量のものとしなければならず、効
率が悪いという欠点があった。
本発明の目的は、上記従来技術の欠点を無くし、効率よ
く稼動し、設備を小型かつ安価とすることのできる再結
合器を提供することにある。
本発明は、吸入気体中の酸素と水素を再結合させる反応
容器と、前記吸入気体の流路に設けた第1の弁と、前記
反応容器を通過した気体の一部を前記吸入気体に混合し
て再循環させるための流路に設けた第2の弁とを有する
ものにおいて、前記反応容器の前後に設けられて反応前
後の気体の温度差を検知する手段と、前記温度差に応じ
て前記第1の弁の開度を調節する手段と、前記吸入気体
量と前記再循環気体量の和がほぼ一定に保たれるように
前記第2の弁の開度を調節する手段とを設けた再結合器
に特徴がある。
第2図本発明の一実施例を示す。
この実施例では、反応容器2の入口における気体温度を
検出する温度検出系18と、該温度検出系18の中力信
号と反応容器出口の温度検出系13からの信号を比較し
て流量調整弁7を制御する20はその節脚線温度差検出
系19とを、第1図の従来の再結合器に加え、第1図の
流量検出系9を除去したものであり、他の機器の構成と
動作は第1図のものと同様である。
この構成において、反応容器2の中を通る気体の流量は
、流量検出糸10で検出され、この検出信号により再循
環配管6の流量調整弁8の開度を制御して常に一定のト
ータル流量が流れるようにする。
また反応容器2の中の温度は、出口側の温度検出系13
で検出し、この検出値でヒータ12の加熱温度を制御し
て反応容器内温度が常時一定(例えば700°C)とな
るようにする。
従って、例えば反応容器2内で全く反応が起っていない
ときは、温度検出系13と温度検出系18は同温度(7
00°C)を検出することになる。
すなわちヒータ12の加熱温度を上げることになる。
また、酸素温度と反応による温度上昇との関係は、ファ
ン1の流量に係らず、第3図に示すように、反応酸素量
1%あたり約300℃の温度上昇となることが判ってい
るので、例えば気体中の酸素濃度が2%であれば反応容
器2内で約600℃温度が上昇することになり、この場
合はヒータ12の加熱温度が下がって温度検出系18は
約100℃を検出することになる。
従って温度差検出系19の検出信号は、等測的に反応酸
素量を検出していることになり、その検出値によって吸
込み流量を流量調整弁7を制御することによって調整す
れば、吸込み流量と再循環流量との比が調整でき反応酸
素量を制御できることになる。
すなわち、例えば反応容器2内で反応する設計酸素量を
2%(水素4%)とすれば、入口配管4の酸素濃度が2
%以上の場合、そのまま反応容器2に導入すると反応熱
による温度上昇が約600℃以上となるので、温度差検
出系19がこれを検出することにより、第4図に示すよ
うに流量調整弁7をわずかに閉じる。
流量調整弁1の開度が小さくなると、ファン1の入口流
量が減少し、この流量減少は流量検出系10で検出され
両循環系の;流量調整弁8の開度を大きくして再循環流
量が増加する。
、これによって入口配管4からの気体は酸素濃度2%に
薄められ、従って反応容器2の入口の気体の酸素濃度は
2%になるように自動的に調整されることになる。
逆に入口配管4からの吸込み気体の酸素濃度が減少すれ
ば、温度差検出系19によって検出される温度差が減少
し、流量調整弁7の開度が犬きくなり、再循環系の流量
調整弁8の開度が小さくなって再循環流量が減少する。
そして、もし吸込み気体の酸素濃度が2%以下であれば
再循環の必要はないので再循環流量をゼロとする。
従来技術では最大酸素濃度を想定して弁開度(すなわち
流量)を決めており、最大酸素濃度を5%とし、許容酸
素濃度を2%とした場合、第4図に示すように吸込み流
量と再循環流量との比は1:1.5と設計として不要な
までの再循環流量を循環させていたが、本発明により入
口配管での酸素濃度に応じて適切な吸込み流量と再循環
流量を与えることができることになり、通常時の処理流
量の増大が可能となる。
このように本発明によればζ効率のよい再結合器が実現
でき、設備を小型かつ安価とすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の再結合器の一例を示す系統図、第2図本
発明による再結合器の一実施例を示す系統図、第3図は
反応による上昇温度と酸素反応量との関係を示す図、第
4図は本発明による再結合器の動作の一例を説明する図
である。 符号の説明、1・・・・・・ファン、2・・・・・・反
応容器、3・・・・・・冷却器、4・・・・・・入口配
管、5・・・・・・出口配管、6・・・・・・再循環配
管、7,8・・・・・・流量調整弁、10・・・・・・
流量検出系、11・・・・・・ヒータ制御系、12・・
・・・・ヒータ、13,18・・・・・・温度検出系、
19・・・・・・温度差検出系。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 吸入気体中の酸素と水素を再結合させる反応容器と
    、前記吸入気体の流路に設けた第1の弁と、前記反応容
    器を通過した気体の一部を前記吸入気体に混合して再循
    環させるための流路に設けた第2の弁とを有するものに
    おいて、前記反応容器の前後に設けられて反応前後の気
    体の温度差を検知する手段と、前記温度差に応じて前記
    第1の弁の開度を調節する手段と、前記吸入気体量と前
    記再循環気体量の和がほぼ一定に保たれるように前記第
    2の弁の開度を調節する手段とを設けたことを特徴とす
    る再結合器。
JP50041275A 1975-04-07 1975-04-07 再結合器 Expired JPS5817123B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP50041275A JPS5817123B2 (ja) 1975-04-07 1975-04-07 再結合器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP50041275A JPS5817123B2 (ja) 1975-04-07 1975-04-07 再結合器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS51117193A JPS51117193A (en) 1976-10-15
JPS5817123B2 true JPS5817123B2 (ja) 1983-04-05

Family

ID=12603882

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP50041275A Expired JPS5817123B2 (ja) 1975-04-07 1975-04-07 再結合器

Country Status (1)

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JP (1) JPS5817123B2 (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1314170A (en) * 1969-07-28 1973-04-18 Lucas Industries Ltd Manufacture of silicon nitride powder
JPS4912298A (ja) * 1972-01-10 1974-02-02

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1314170A (en) * 1969-07-28 1973-04-18 Lucas Industries Ltd Manufacture of silicon nitride powder
JPS4912298A (ja) * 1972-01-10 1974-02-02

Also Published As

Publication number Publication date
JPS51117193A (en) 1976-10-15

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