JPS58166917A - ガス分離方法 - Google Patents
ガス分離方法Info
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- JPS58166917A JPS58166917A JP58021403A JP2140383A JPS58166917A JP S58166917 A JPS58166917 A JP S58166917A JP 58021403 A JP58021403 A JP 58021403A JP 2140383 A JP2140383 A JP 2140383A JP S58166917 A JPS58166917 A JP S58166917A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- separator
- hydrogen
- gas
- hydrocarbons
- mixture
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はがスの混合物から１種のがスを分離する方法に
関する。
関する。
ある種の成分を除去するために、水素含有がス流を洗浄
（スクラッピング）することは知られている。例えば、
米国特許第４，１８０，５５２号明細゛書には、第１１
欄、第２９行ないし６２行にアンモニアパージ流を水で
洗浄＼＼（＼べして少ｉのアンモニアを除去することが
開示されている。
（スクラッピング）することは知られている。例えば、
米国特許第４，１８０，５５２号明細゛書には、第１１
欄、第２９行ないし６２行にアンモニアパージ流を水で
洗浄＼＼（＼べして少ｉのアンモニアを除去することが
開示されている。
米国特許第４，１８２，９０２号明細書には、廃がスか
らダストまたは硫黄または窒素酸化物のような有害ガス
を除去するために特別の洗浄液体の使用が開示されてい
る。ｃｌないしＣ５炭化水素をガス流から除去するため
の洗浄液体として炭化水素を用いることは提案されてい
ない。
らダストまたは硫黄または窒素酸化物のような有害ガス
を除去するために特別の洗浄液体の使用が開示されてい
る。ｃｌないしＣ５炭化水素をガス流から除去するため
の洗浄液体として炭化水素を用いることは提案されてい
ない。
米国特許第３，２０８，１９９号明細書には、ガス流か
ら水素を回収する方法において、ガス流を第１吸収器に
おいて熱吸収油で処理し、水素を減少された液体の洗浄
媒質をもって処理し、次いでが ゛ス混合物を第２
吸収工程に送る、ガス流から水素を回収する方法が開示
されている。第２工程において、がス流は冷却されて水
素を放出する。これは第１の油吸収器において高い吸収
油温度を利用し、かつ第、２吸収器においてはるかに低
い吸収油温度を利用することによって行われる。
ら水素を回収する方法において、ガス流を第１吸収器に
おいて熱吸収油で処理し、水素を減少された液体の洗浄
媒質をもって処理し、次いでが ゛ス混合物を第２
吸収工程に送る、ガス流から水素を回収する方法が開示
されている。第２工程において、がス流は冷却されて水
素を放出する。これは第１の油吸収器において高い吸収
油温度を利用し、かつ第、２吸収器においてはるかに低
い吸収油温度を利用することによって行われる。
米国特許第４，２９９，１８８号明細書には、ｃ５また
はそれより大きい炭化水素を含む流れから水素を回収す
る方法において、この流れを保ＩＩｒＩＩＬ収器を通し
て、炭化水素を除去し、次いでこの流れを選択吸収器に
供給して水素生成物を得る、Ｃ５またはそれより大きい
炭化水素を含む流れから水素を回収する方法が開示され
ている。選択吸収器からのパージガス流から水素を回収
するために、膜分離器を利用し、次いで水素流は保膜吸
収器にもどされる。
はそれより大きい炭化水素を含む流れから水素を回収す
る方法において、この流れを保ＩＩｒＩＩＬ収器を通し
て、炭化水素を除去し、次いでこの流れを選択吸収器に
供給して水素生成物を得る、Ｃ５またはそれより大きい
炭化水素を含む流れから水素を回収する方法が開示され
ている。選択吸収器からのパージガス流から水素を回収
するために、膜分離器を利用し、次いで水素流は保膜吸
収器にもどされる。
米国特許第４，１２９，４９６号明細書には、Ｃ２ない
しＣ６炭化水素を、リーンオイルを用いて、改質帯域を
バイパスさせるために、水素含有ガス流からこの炭化水
素を吸収する方法が開示されている。
しＣ６炭化水素を、リーンオイルを用いて、改質帯域を
バイパスさせるために、水素含有ガス流からこの炭化水
素を吸収する方法が開示されている。
水素と炭化水素の混合物からなるがス流からの高純度水
素の回収方法において、このがス流を直列の２個の分離
帯域を通し、１帝城中においてガス流から水素を分離し
、次いで他の帯域において、ガス流から炭化水素を分離
することを特徴とする水素と炭化水素の混合物からなる
がス流からの高純度水素の回収方法である。更に詳しく
は、がス流をこのがス流の他のがスより一層水素透過性
の膜と接触させ、次いで水素を膜を透過させて回収する
ことによって、がス流から水素を分離、一方 他の帯域
においては、ガス流から一層軽質の０１ないしＣ５炭化
水素を高い液封ガス比において洗浄するためにスフラッ
パーを用いる。このスフラッパーにおいては、がス流は
、液体形のＣ５ないしＣ１２、好ｔＬ＜はＣδないしＣ
８の炭化水素からなる洗浄液体と、比較的高圧において
液封ガスのモル比的１ないし５において洗浄接触される
。
素の回収方法において、このがス流を直列の２個の分離
帯域を通し、１帝城中においてガス流から水素を分離し
、次いで他の帯域において、ガス流から炭化水素を分離
することを特徴とする水素と炭化水素の混合物からなる
がス流からの高純度水素の回収方法である。更に詳しく
は、がス流をこのがス流の他のがスより一層水素透過性
の膜と接触させ、次いで水素を膜を透過させて回収する
ことによって、がス流から水素を分離、一方 他の帯域
においては、ガス流から一層軽質の０１ないしＣ５炭化
水素を高い液封ガス比において洗浄するためにスフラッ
パーを用いる。このスフラッパーにおいては、がス流は
、液体形のＣ５ないしＣ１２、好ｔＬ＜はＣδないしＣ
８の炭化水素からなる洗浄液体と、比較的高圧において
液封ガスのモル比的１ないし５において洗浄接触される
。
第１図は、本発明の方法を具体的に示す簡単な略図であ
る。この方法において、水素とＣ□ないしＣ５炭化水素
のがス混合物を、直列に接続された２個の分離帯域１１
および１２に通す。分離帯域１１において、がス混合物
は、水素が膜を透過し７、がス流から取り除かれるよう
に混合物の炭化水素よりも一層水素透過性６膜と接触さ
れる。水素の大部分が帯域１１の流れから取り除かれる
ように、膜の水素およびＣ１ないしＣ５炭化水素に対す
る分離係数αは２０ないし１００の範囲内である。
る。この方法において、水素とＣ□ないしＣ５炭化水素
のがス混合物を、直列に接続された２個の分離帯域１１
および１２に通す。分離帯域１１において、がス混合物
は、水素が膜を透過し７、がス流から取り除かれるよう
に混合物の炭化水素よりも一層水素透過性６膜と接触さ
れる。水素の大部分が帯域１１の流れから取り除かれる
ように、膜の水素およびＣ１ないしＣ５炭化水素に対す
る分離係数αは２０ないし１００の範囲内である。
帯域１２内において、がス流は、大部分のｃｌないしＣ
５炭化水素がこの帯域中でガス流から分離されるような
条件の下で１種またはそれ以上のＣ５ないし０１２、好
ましくはＣ５ないしＣ８の炭化水素の混合物からなる洗
浄液体と抗争接触される。
５炭化水素がこの帯域中でガス流から分離されるような
条件の下で１種またはそれ以上のＣ５ないし０１２、好
ましくはＣ５ないしＣ８の炭化水素の混合物からなる洗
浄液体と抗争接触される。
がス流が帯域１１のがス流から除かれた炭化水素である
限り、この帯域はＣＩないしＣ５炭化水素に対して水素
に対する逆の分離係数を有すると言うことができる。分
離帯域１２の出口側を出るガス流の残りは、分離帯域１
１０入口側に再循環される。帯域１２で行われる洗浄工
程において高圧および高い液封がスモル比を用いること
によって、大部分のＣ〕ない１．Ｃ５炭化水素が除去さ
れることが分かった。このスクラッピングは２０に＆／
ｄないし、９０ゆ／−の範囲内、好ましくは６５ゆ／−
ないし、７０１＃／−の圧力において行われる。Ｃ１な
いしＣ５炭化水素の除去において、より低い圧力では、
この方法は同じ程度には有効でない。
限り、この帯域はＣＩないしＣ５炭化水素に対して水素
に対する逆の分離係数を有すると言うことができる。分
離帯域１２の出口側を出るガス流の残りは、分離帯域１
１０入口側に再循環される。帯域１２で行われる洗浄工
程において高圧および高い液封がスモル比を用いること
によって、大部分のＣ〕ない１．Ｃ５炭化水素が除去さ
れることが分かった。このスクラッピングは２０に＆／
ｄないし、９０ゆ／−の範囲内、好ましくは６５ゆ／−
ないし、７０１＃／−の圧力において行われる。Ｃ１な
いしＣ５炭化水素の除去において、より低い圧力では、
この方法は同じ程度には有効でない。
一般に、第１図に示された配置は、供給がスの水素含量
が約５０％より高い場合に利用される。
が約５０％より高い場合に利用される。
多くの場合、供給がスの水素含量は約５０％より少なく
、供給ガスがまず帯域１２を通過し次いで帯域１１を通
過するように帯域１１および１２の位置は切り換えられ
る。
、供給ガスがまず帯域１２を通過し次いで帯域１１を通
過するように帯域１１および１２の位置は切り換えられ
る。
第２図は、本発明の方法を実施するために用いられる装
置を一層詳しく示す。水素とＣＩないしＣ５炭化水素の
混合物からなる供給がスをガス流としてライン１４を経
て既知の型の膜分離器１５に加圧下に供給する。このよ
うな供給ガスは精油所プロセスにおいて普通に見られる
。膜分離器１５において、がス混合物は、ＣよないしＣ
５炭化水素に関して水素の膜分離係数αが約２０ないし
１００の範囲内にあるような性質を有する膜と接触され
る。この分離器においては、水素の大部分が膜を透過し
ライン１６を経て系から取り除かれるように差圧が保た
れる。ここでＣ１ないしＣ５炭化水素リッチのしかも少
量の水素を含有するがス流は透過器１５から取り出され
、次いでライン１８を経てスフラッパ−１９に供給され
る。スクラッパー１９において、がス混合物は１種また
はそれ以上の０５ないしＣ１２炭化水素、好まし７〈は
Ｃ５ないしＣ８炭化水素の混合物からなる洗浄液体と洗
浄接触され、この洗浄液体はライン２０を経てスフラッ
パ−１９に供給される。洗浄液体対ガス混合−〇モル比
は約１ないし約５の範囲内、好ましくは１ないし６の範
囲内に保たれ、かつ洗浄は圧力２０に９／−ないし９０
ゆ／−１好ましくは６５に９／−ないし７０ゆ／−の範
囲内の圧力で行われる。ガス流から炭化水素を除去する
ためにこの高い液体対ガス比および高圧を用いる必要が
あり、一層低い液体対ガス比および圧力はガス流から軽
質ＣＩないしＣ２炭化水素を除くことができないことが
分かった。ガス流の残部はスフラッパ−１９を出てライ
ン２３を経て分離器１５の入口側に再循環され、次いで
系内を消滅まで再循環し続ける。ライン２３の圧縮機２
４はガス流の圧力を１ 人口ライン１４の圧力に上昇させるのに役立つ。
置を一層詳しく示す。水素とＣＩないしＣ５炭化水素の
混合物からなる供給がスをガス流としてライン１４を経
て既知の型の膜分離器１５に加圧下に供給する。このよ
うな供給ガスは精油所プロセスにおいて普通に見られる
。膜分離器１５において、がス混合物は、ＣよないしＣ
５炭化水素に関して水素の膜分離係数αが約２０ないし
１００の範囲内にあるような性質を有する膜と接触され
る。この分離器においては、水素の大部分が膜を透過し
ライン１６を経て系から取り除かれるように差圧が保た
れる。ここでＣ１ないしＣ５炭化水素リッチのしかも少
量の水素を含有するがス流は透過器１５から取り出され
、次いでライン１８を経てスフラッパ−１９に供給され
る。スクラッパー１９において、がス混合物は１種また
はそれ以上の０５ないしＣ１２炭化水素、好まし７〈は
Ｃ５ないしＣ８炭化水素の混合物からなる洗浄液体と洗
浄接触され、この洗浄液体はライン２０を経てスフラッ
パ−１９に供給される。洗浄液体対ガス混合−〇モル比
は約１ないし約５の範囲内、好ましくは１ないし６の範
囲内に保たれ、かつ洗浄は圧力２０に９／−ないし９０
ゆ／−１好ましくは６５に９／−ないし７０ゆ／−の範
囲内の圧力で行われる。ガス流から炭化水素を除去する
ためにこの高い液体対ガス比および高圧を用いる必要が
あり、一層低い液体対ガス比および圧力はガス流から軽
質ＣＩないしＣ２炭化水素を除くことができないことが
分かった。ガス流の残部はスフラッパ−１９を出てライ
ン２３を経て分離器１５の入口側に再循環され、次いで
系内を消滅まで再循環し続ける。ライン２３の圧縮機２
４はガス流の圧力を１ 人口ライン１４の圧力に上昇させるのに役立つ。
スフラッパー１９内の０１ないしＣ５炭化水素の除去は
ライン２３内の水素含量をほぼ供給がスの水素含量に上
昇させるのに十分である。
ライン２３内の水素含量をほぼ供給がスの水素含量に上
昇させるのに十分である。
ストリツぎングされた低級炭化水素を運ぶストリツビン
ダ液体は、スフラッパ−１９からライン２６を経て、Ｃ
ＩないしＣ３炭化水素が圧力低下によって流れから分離
され次いで蒸気としてライン２８を経て運び去られる既
知の型のフラッシュドラム２７に至る。フラッシュドラ
ム２７からの液体はライン３１を経て抜き出され、この
液体の若干はライン３２を経て系から除かれる。ライン
３２を経て除去される液体通常約５％ないし７２０％の
１は再循環される液体の一層軽質のＣ□ないし、Ｃ４炭
化水素の低水準を保つに十分である。残りの液体はライ
ン３３を経てボンｆ３６に供給される。ライン３２を経
て取シ出される量にバランスするに十分な量の新しい補
充洗浄液体はライン３．７を紅でライン３３に供給され
る。ボンデ３６は洗浄液体をライン２０を経てスフラッ
パ−１９に再循環させる。
ダ液体は、スフラッパ−１９からライン２６を経て、Ｃ
ＩないしＣ３炭化水素が圧力低下によって流れから分離
され次いで蒸気としてライン２８を経て運び去られる既
知の型のフラッシュドラム２７に至る。フラッシュドラ
ム２７からの液体はライン３１を経て抜き出され、この
液体の若干はライン３２を経て系から除かれる。ライン
３２を経て除去される液体通常約５％ないし７２０％の
１は再循環される液体の一層軽質のＣ□ないし、Ｃ４炭
化水素の低水準を保つに十分である。残りの液体はライ
ン３３を経てボンｆ３６に供給される。ライン３２を経
て取シ出される量にバランスするに十分な量の新しい補
充洗浄液体はライン３．７を紅でライン３３に供給され
る。ボンデ３６は洗浄液体をライン２０を経てスフラッ
パ−１９に再循環させる。
第２図に示す配置は一般に、供給ガスの組成が約５０容
ｉ％より多量の水素を含有するような場合に利用される
。供給ガスが約５０容量％より少量の水素を含有する場
合、膜分離器１５およびスフラッパ−１９の位置は、供
給ガスがまずスフラッパーを通り次いで膜分離器を通る
ように逆にされる。
ｉ％より多量の水素を含有するような場合に利用される
。供給ガスが約５０容量％より少量の水素を含有する場
合、膜分離器１５およびスフラッパ−１９の位置は、供
給ガスがまずスフラッパーを通り次いで膜分離器を通る
ように逆にされる。
膜分離器はがス流から水素を除去するのに十分であるこ
とが知られている。ガス流中の水素の純度を向上させる
（ＣＩないしＣ５の炭化水素を除去することによって）
場合に、本明細書に明記された条件の下でスフラッパー
の利用効率を示すために、ガス流はスフラッパー中で下
記のように処理された。水素７７．４％、メタン９．６
％、エタン７．１％、プロパン４．０％、ブタン１．６
％、およびペンタン０．６％からなる供給ガス混合物は
上記の種々の圧力でスフラッパーに供給される。Ｃ５な
いしＣ１２の炭化水素の混合物からなる洗浄油はライン
２０を経て種々の流量でスフラッパー１９中に供給し、
スフラッパ−１９に異なった液体対がスモル比を与える
。これは供給系に種々の水素量を利用して繰り返した。
とが知られている。ガス流中の水素の純度を向上させる
（ＣＩないしＣ５の炭化水素を除去することによって）
場合に、本明細書に明記された条件の下でスフラッパー
の利用効率を示すために、ガス流はスフラッパー中で下
記のように処理された。水素７７．４％、メタン９．６
％、エタン７．１％、プロパン４．０％、ブタン１．６
％、およびペンタン０．６％からなる供給ガス混合物は
上記の種々の圧力でスフラッパーに供給される。Ｃ５な
いしＣ１２の炭化水素の混合物からなる洗浄油はライン
２０を経て種々の流量でスフラッパー１９中に供給し、
スフラッパ−１９に異なった液体対がスモル比を与える
。これは供給系に種々の水素量を利用して繰り返した。
第１表には、供給流（ライン１８）、スフラッパー１９
中の液体対がス比、スフラッパー中の圧力、スフラッパ
ーから回収される水素の純度（ライン２３）、ライン２
３の水素とライン１８を通る供給がス中の水素の純度差
を示す。
中の液体対がス比、スフラッパー中の圧力、スフラッパ
ーから回収される水素の純度（ライン２３）、ライン２
３の水素とライン１８を通る供給がス中の水素の純度差
を示す。
第 １ 表
液体対 水素純度Ｍ 水素純度差 スフラッパ
ーガスのモル比 供給 回収 （至） 圧力 （ライン１８）（ライン２３）
（ゆ／−）２．８ ７６．２ ９４．２ １８
７００．０６５ ７９．１ ８３．４ ４．３
６７０．３２ ７８．８ ８７．２ ８．４
６Ｂ１．３３ ７７．３ ９２．２ １４．９
７００．１６ ７３．５ ８２．４ ８．９
６７０．１５ ７２．７ ７９．６ ６．９ ３
＜ＳＯ，６Ｂ２．５ ９２．１ ９．６ ６９０．
２６ ７９．０ ８６．７ ７．７ ５１スフラ
ッパ−１９における液体がスモル比が約１より大きい場
合、回収された水素の純度百分率は驚異的に増加するこ
とが容易に理解で断る。液体対がス比的１ないし５を用
いることができるが、しかし約１ないし約６．０の範囲
内の液体対ガス比を用いるのが好ましい。表に示すよう
に、液体比が約１より小さいと回収された水素の純度は
供給流の水素の純度と比較して驚異的には増大しない。
ーガスのモル比 供給 回収 （至） 圧力 （ライン１８）（ライン２３）
（ゆ／−）２．８ ７６．２ ９４．２ １８
７００．０６５ ７９．１ ８３．４ ４．３
６７０．３２ ７８．８ ８７．２ ８．４
６Ｂ１．３３ ７７．３ ９２．２ １４．９
７００．１６ ７３．５ ８２．４ ８．９
６７０．１５ ７２．７ ７９．６ ６．９ ３
＜ＳＯ，６Ｂ２．５ ９２．１ ９．６ ６９０．
２６ ７９．０ ８６．７ ７．７ ５１スフラ
ッパ−１９における液体がスモル比が約１より大きい場
合、回収された水素の純度百分率は驚異的に増加するこ
とが容易に理解で断る。液体対がス比的１ないし５を用
いることができるが、しかし約１ないし約６．０の範囲
内の液体対ガス比を用いるのが好ましい。表に示すよう
に、液体比が約１より小さいと回収された水素の純度は
供給流の水素の純度と比較して驚異的には増大しない。
５より大きい液体対がスモル比を用いることができるが
、しかし経済的には望ましくない。
、しかし経済的には望ましくない。
第１図は、本発明の概念を具体的に示す簡単な略図であ
る。 第２図は、本発明の方法の実施に利用される装置を示す
図である。 １１．１２：分離帯域 １５：膜分離器 １９ニスクラッパ− ２４：圧縮機 ２７：フラッシュドラム ３６：ポンプ 代理人 浅 村 皓 外４名
る。 第２図は、本発明の方法の実施に利用される装置を示す
図である。 １１．１２：分離帯域 １５：膜分離器 １９ニスクラッパ− ２４：圧縮機 ２７：フラッシュドラム ３６：ポンプ 代理人 浅 村 皓 外４名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）１種のガスを、そのガスと他の少なくとも１種の
ガスとの混合物から分離する方法において、（ａ）
流れているガス混合物を直列に接続された第１および第
２の分離器を通すこと（該分離器の１つは前記１種のガ
スの大部分が該１つの分離器中で流れから除去されるよ
うに、他のガスに対する該１種のガスの分離係数を２０
ないし１００の範囲内に有する膜の形態であり、他の分
離器は前記他のガスの大部分が該他の分離器中で流れか
ら除去されるような逆分離係数を有する）、（ｂ）
前記１つの分離器から分離されたガスを取り出すこと、
そして （Ｃ） 前記他の分離器から分離された他のがスを取
り出すことを特徴とする、前記ガス分離方法０（２）
前記１つの分離器が前記系列の第１の分離器である、
特許請求の範囲第１項に記載の方法。 （３）前記他の分離器が前記系列の第１の分離器である
、特許請求の範囲第１項に記載の方法。 （４）水素とＣ１ないしＣ５炭化水素のがス状混合物か
らの水素の分離方法において、 Ｇ１１）直列に接続された第１および第２の分離器を通
してがス状混合物を流れとして送ること（前記分離器の
１つは前記炭化水素に対する水素の分離係数を２０ない
し１００の範囲内有し、他の分離器は水素が前記１つの
分離器の流れから除去されかつＣ１ないしＣ５炭化水素
が前記他の分離器の流れから除去されるような逆水素分
離係数を有し、該他の分離器はスクラツバーの形であり
、そして前記ガス混合物は約１−５の範囲の液体対ガス
混合物のモル比液体の形のＣ５ないしＣ１２炭化水素の
群から選ばれた混合物とスフラッパー中で洗浄接触され
る） （ｂ） 分離された水素を前記１つの分離器から除去
すること、そして （ｒ） 分離されたＣＩないしＣ５炭化水素を前記の
他の分離器から除去することを特徴とする特許水素の分
離方法。 （５） がス流が、系列中の第２の分離器の出口側か
ら骸系列の第１の分離器の入口側に再循環される、特許
請求の範囲第４項に記載の方法。 （６）前記１つの分離器がＣ１ないしＣδ炭化水素より
も一層水素透過性である膜の形である、特許請求の範囲
第４項に記載の方法。 （７） スクラツバーが圧力２０に９／ａｉないし９
０に９／ｃｌｌにおいて運転される、特許請求の範囲第
６項に記載の方法。 （８） スクラツバーからの吸収されたＣＩないしＣ
５炭化水素を含有する洗浄液体を７ラツシユさせてＣ５
ないしＣ１２の洗浄液体から０１ないしＣ４炭化水素を
除去し、前記液体がスクラツバーに再循環される、特許
請求の範囲第７項に記載の方法。 （９）水素とＣ１ないしＣ５炭化水素のがス状混合物か
らの水素の分離方法において、 １１１１：１ （ａ） 第１帯域において、前記がス混合物からの水
素が膜を透過させるに十分な圧力の下で、ｃｌないしＣ
５炭化水素よりも一層水素透過性の膜の一面と皺ガス混
合物をガス流として接触させること、 （ｂ） ＝遇した水素を膜の他面から除去すること、
（Ｃ） 第２帯域において、Ｃ５ないしＣ１２炭化水
素からなる群から選ばれた１種またはそれ以上の液体か
らなる洗浄液体と非透過ガス流を洗浄接触させること（
洗浄液体対がス混合物のモル比はｃｌないしＣ５炭化水
素ががス流がら除去されるような１ないし６の範囲内で
あり、そして前記スクラッピングは圧力２０ｋｇ／ｌ：
ｌ’ｌないし９０ｋＦＩ／ｃ、！において行われる）、 （ｄ） 洗浄されたガス流を再循環させて前記第１帯
域の前記膜の前記−面と接触させること、そして（ｅ）
第２帯域からの洗浄液体を再循環させて前記第２帯
域においてがス流と洗浄接触させることを特徴とする、
前記水素の分離方法。 θＧ 洗浄が圧力６５ｋｌＩ／ｃｌ／Ｉないし７０ｋ
ｌ？／ｉにおいて行われ、しかも洗浄液体が１種または
それ以上のＣ５ないしＣ８炭化水素の混合物である、特
許請求の範囲第９項に記載の方法。 ｃｌ） がス状混合物が、まず洗浄帯域を通過し、次い
で勝運過器帯域を特徴する特許請求の範囲第９項に記載
の方法。 （１２＋ ガス流からのＣ１ないし、Ｃ５炭化水素の
除去方法において、 ガス流を、圧力２０ｋ１９．／ｃｄないし９０ｋｐ／ｄ
において、液体／がスモル比１ないし５において、１種
またはそれ以上の０５ないしＣ１２炭化水素液体をもっ
て洗浄することを特徴とする、ガス流からのＣ１ない［
７Ｃ５炭化水素の除去方法。 （１３１前記圧力が３５ｋＰ／ｃｄないし、７０に９／
−の範囲内であり、しかも＼嶌′％Ｘ（洗浄液体が１種
またはそれ以上の０５ないし７０８炭化水素液体の混合
物である、特許請求の範囲第１２項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US34784982A | 1982-02-11 | 1982-02-11 | |
| US347849 | 1982-02-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58166917A true JPS58166917A (ja) | 1983-10-03 |
Family
ID=23365543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58021403A Pending JPS58166917A (ja) | 1982-02-11 | 1983-02-10 | ガス分離方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58166917A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5990613A (ja) * | 1982-07-29 | 1984-05-25 | リンデ・アクチエンゲゼルシヤフト | ガス混合物の分離方法及び装置 |
| JPS61171523A (ja) * | 1984-12-21 | 1986-08-02 | エアー．プロダクツ．アンド．ケミカルス．インコーポレーテツド | ガス分離方法 |
| JPS6249927A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-03-04 | エア−．プロダクツ．アンド．ケミカルス．インコ−ポレ−テツド | 水素精製に対するハイブリツドメンブレン／極低温方法 |
-
1983
- 1983-02-10 JP JP58021403A patent/JPS58166917A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5990613A (ja) * | 1982-07-29 | 1984-05-25 | リンデ・アクチエンゲゼルシヤフト | ガス混合物の分離方法及び装置 |
| JPS61171523A (ja) * | 1984-12-21 | 1986-08-02 | エアー．プロダクツ．アンド．ケミカルス．インコーポレーテツド | ガス分離方法 |
| JPS6249927A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-03-04 | エア−．プロダクツ．アンド．ケミカルス．インコ−ポレ−テツド | 水素精製に対するハイブリツドメンブレン／極低温方法 |
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