JPS58144792A - 炭素ポテンシヤルの制御方法 - Google Patents
炭素ポテンシヤルの制御方法Info
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- JPS58144792A JPS58144792A JP57027699A JP2769982A JPS58144792A JP S58144792 A JPS58144792 A JP S58144792A JP 57027699 A JP57027699 A JP 57027699A JP 2769982 A JP2769982 A JP 2769982A JP S58144792 A JPS58144792 A JP S58144792A
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- heating
- circulation system
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- Y02E30/30—Nuclear fission reactors
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/10—Reduction of greenhouse gas [GHG] emissions
- Y02P10/143—Reduction of greenhouse gas [GHG] emissions of methane [CH4]
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- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な炭素ポテンシャルの制釧1方法に関する
。詳しくは水素(H2)とメタン(CH4)又は−酸化
炭素(CO)と二酸化炭素(CO3)との混合ガス循環
系内の加熱炉に炭素を固溶した金属又は合金あるいは非
化学量論的炭化物等の試料および金属と炭化物との混合
物(M−MC;Mは金属を示す、以下1バツフア物質“
と称す。)を装荷して、該加熱炉を400°C〜200
0℃の温度範囲で加熱することにより試料と平衡する混
合ガス循環系の炭素ポテンシャルを制御する方法に関す
る。
。詳しくは水素(H2)とメタン(CH4)又は−酸化
炭素(CO)と二酸化炭素(CO3)との混合ガス循環
系内の加熱炉に炭素を固溶した金属又は合金あるいは非
化学量論的炭化物等の試料および金属と炭化物との混合
物(M−MC;Mは金属を示す、以下1バツフア物質“
と称す。)を装荷して、該加熱炉を400°C〜200
0℃の温度範囲で加熱することにより試料と平衡する混
合ガス循環系の炭素ポテンシャルを制御する方法に関す
る。
現在、液体金属冷却高速増殖炉用燃料として、ウラン・
プルトニウム混合酸化物燃料ペレットをステンレス鋼で
被覆した燃料ピンが用いられているが、この酸化物燃料
に優る高速増殖炉用燃料として、ウラン・プルトニウム
混合炭化物燃料の開発が進められている。しかし、混合
酸化物燃料にくらべて混合炭化物燃料の場合、照射挙動
およびその物性値などのデータが十分に集積されていな
い。
プルトニウム混合酸化物燃料ペレットをステンレス鋼で
被覆した燃料ピンが用いられているが、この酸化物燃料
に優る高速増殖炉用燃料として、ウラン・プルトニウム
混合炭化物燃料の開発が進められている。しかし、混合
酸化物燃料にくらべて混合炭化物燃料の場合、照射挙動
およびその物性値などのデータが十分に集積されていな
い。
特に、燃料と被覆材との化学的相互作用は燃料ピンの健
全性を支配するが、この化学的相互作用に影響する重要
な因子は燃料と被覆材の炭素ポテンシャルである。また
、核分裂によって燃料中に生成した核分裂生成物の化学
形およびその挙動は炭素ポテンシャルに大きく影響され
、燃料と被覆材との機械的相互作用を支配する要因とな
るので、炭素ポテンシャルを制御することは重要である
。
全性を支配するが、この化学的相互作用に影響する重要
な因子は燃料と被覆材の炭素ポテンシャルである。また
、核分裂によって燃料中に生成した核分裂生成物の化学
形およびその挙動は炭素ポテンシャルに大きく影響され
、燃料と被覆材との機械的相互作用を支配する要因とな
るので、炭素ポテンシャルを制御することは重要である
。
従来性われてきた炭素ポテンシャルの制御方法の一つに
は一定混合比の水素(H3)とメタン(CH,)又は−
酸化炭素(CO)と二酸化炭素(C02)との混合ガス
気流中で試料を加熱する方法かまたは、標準物質(一般
に鉄(Fe )、ニッケル(Ni)など)と試料および
炭素とを接触させない状態で水素ガスとともに石英アン
プルに封入し、該石英アンプルを加熱炉に装荷して加熱
する方法かあるいは、水素(H3)とメタン(CH4)
との混合ガス循環系内で試料を加熱する方法か更には、
水素(H3)とメタン(C%)との混合ガス循環系内で
標準物質(鉄(Fe)と炭素(C)との固溶体)と試料
を接触させない状輻で加熱・することにより炭素ポテン
シャルを制御する方法等がある。
は一定混合比の水素(H3)とメタン(CH,)又は−
酸化炭素(CO)と二酸化炭素(C02)との混合ガス
気流中で試料を加熱する方法かまたは、標準物質(一般
に鉄(Fe )、ニッケル(Ni)など)と試料および
炭素とを接触させない状態で水素ガスとともに石英アン
プルに封入し、該石英アンプルを加熱炉に装荷して加熱
する方法かあるいは、水素(H3)とメタン(CH4)
との混合ガス循環系内で試料を加熱する方法か更には、
水素(H3)とメタン(C%)との混合ガス循環系内で
標準物質(鉄(Fe)と炭素(C)との固溶体)と試料
を接触させない状輻で加熱・することにより炭素ポテン
シャルを制御する方法等がある。
しかしながら、以上述べたいずれの方法においても問題
がある。すなわち、雰囲気ガスとして水素(H2)およ
びメタ/(CH4)などの可燃性ガスが使用されるため
、これらのガス気流中で長時間加熱する場合、爆発の危
険性がある。また、水素(H2)とメタン(CH4)と
の混合ガスを長時間循環させた場合には循環系内の加熱
炉部材として用いられるアルミナ(A/203)および
タングステアCW)IJなとの反応管、あるいは真空系
のガスケット村などが −らの脱メタン(CH4)ガ
スのために、該循環系内のガス濃度が平衡に到達しなく
なり、したがって、炭素ポテンシャルを制御することが
できなくなる。
がある。すなわち、雰囲気ガスとして水素(H2)およ
びメタ/(CH4)などの可燃性ガスが使用されるため
、これらのガス気流中で長時間加熱する場合、爆発の危
険性がある。また、水素(H2)とメタン(CH4)と
の混合ガスを長時間循環させた場合には循環系内の加熱
炉部材として用いられるアルミナ(A/203)および
タングステアCW)IJなとの反応管、あるいは真空系
のガスケット村などが −らの脱メタン(CH4)ガ
スのために、該循環系内のガス濃度が平衡に到達しなく
なり、したがって、炭素ポテンシャルを制御することが
できなくなる。
更には標準物質(鉄と炭素との固溶体)の調製および水
素ガス入り石英アンプルの作成、あるいは標準物質と試
料を接触させない状態で加熱炉内に装荷するなど、非常
に煩雑で困難な操作が伴う。
素ガス入り石英アンプルの作成、あるいは標準物質と試
料を接触させない状態で加熱炉内に装荷するなど、非常
に煩雑で困難な操作が伴う。
本発明は、従来技術における上記の欠点や煩雑な操作を
除いた高精度で広範囲にわたる炭素ポテンシャルの制御
方法の提供を目的とする。すなわち本発明は水素(H3
)とメタ/ (CH4)などの混合ガス循環系内の加熱
炉に試料およびバッファ物質を個別に装荷して400°
C〜2000°Cの温度範囲で、それらの加熱炉を加熱
することにより試料と平衡する混合ガス循環系の炭素ポ
テンシャルを制御する方法であり、従来の炭素ポテンシ
ャルの制御方法にくらべて煩雑な操作を除いた高精度で
広範囲にわたる炭素ポテンシャルの制御方法である。
除いた高精度で広範囲にわたる炭素ポテンシャルの制御
方法の提供を目的とする。すなわち本発明は水素(H3
)とメタ/ (CH4)などの混合ガス循環系内の加熱
炉に試料およびバッファ物質を個別に装荷して400°
C〜2000°Cの温度範囲で、それらの加熱炉を加熱
することにより試料と平衡する混合ガス循環系の炭素ポ
テンシャルを制御する方法であり、従来の炭素ポテンシ
ャルの制御方法にくらべて煩雑な操作を除いた高精度で
広範囲にわたる炭素ポテンシャルの制御方法である。
以下に本発明に係る炭素ポテンシャルの制御方法の構成
な述へる。
な述へる。
水素(H2)とメタy (CH4)又は−酸化炭素(c
o)と二酸化炭素(C02)との混合ガス(該混合ガス
の比PCH4/P2H2又は P2CQ/Pco2が1
0−15〜lO6;ここでPxはX成分の分圧を示す。
o)と二酸化炭素(C02)との混合ガス(該混合ガス
の比PCH4/P2H2又は P2CQ/Pco2が1
0−15〜lO6;ここでPxはX成分の分圧を示す。
)循環系(その循環流量は1分間に約100薗3〜20
00an”。)内の二つの加熱炉に試料(炭素を固溶し
た金属又は合金、あるいは非化学量論的炭化物など)お
よび試料に対して2倍以上の重量比からなる金属と炭化
物との混合物M−MC(Mは金属を示す;以下バッファ
物質と称す;その混合比は1対1である。)を個別に装
荷して400°C〜2000’Cの温度範囲で加熱を続
ける。この間に当該ガス循環系の該混合ガスとバッファ
物質とは以下の反応式により平衡に到達する。
00an”。)内の二つの加熱炉に試料(炭素を固溶し
た金属又は合金、あるいは非化学量論的炭化物など)お
よび試料に対して2倍以上の重量比からなる金属と炭化
物との混合物M−MC(Mは金属を示す;以下バッファ
物質と称す;その混合比は1対1である。)を個別に装
荷して400°C〜2000’Cの温度範囲で加熱を続
ける。この間に当該ガス循環系の該混合ガスとバッファ
物質とは以下の反応式により平衡に到達する。
水素(H2)とメタン(CH4)との混合ガスの場合。
M + CH44MC+ 2H2・・・・・−(1)−
酸化炭素(Co)と二酸化炭素(Co2)との混合カス
の場合−M + 2CO: MC+Co2・・・・・
・・・ (2)ここで、(1)および(2)式において
金属と炭化物との混合物M−MCが共存する状態下では
、一定温度に加熱するとPCl4/P2H2の比、又は
P2CO/PCO2の比が定まる。当該ガス循環系のガ
ス濃度が平衡に到達したことを確定する方法としては、
当該ガス循環系内の混合ガスを少量採取して、まず、循
環系に水素(H2)とメタン(CH,)との混合ガスを
用いた場合は、該混合ガス中のメタン(CH4)を、ま
た、−酸化炭素(CO)と二酸化炭素(Co、)との混
合ガスの場合には、該混合ガス中の二酸化炭素(Co、
)をそれぞれガスクロマトグラフ分析装置等により定量
する手段が採用された。炭素ポテンシャルの値は当該ガ
ス循環系のガス濃度が平衡に到達した状轢において定量
されたメタン(C)I、)又は二酸化炭素(CO2)ガ
スの濃度を次に示した(3)式に代入して計算した。
酸化炭素(Co)と二酸化炭素(Co2)との混合カス
の場合−M + 2CO: MC+Co2・・・・・
・・・ (2)ここで、(1)および(2)式において
金属と炭化物との混合物M−MCが共存する状態下では
、一定温度に加熱するとPCl4/P2H2の比、又は
P2CO/PCO2の比が定まる。当該ガス循環系のガ
ス濃度が平衡に到達したことを確定する方法としては、
当該ガス循環系内の混合ガスを少量採取して、まず、循
環系に水素(H2)とメタン(CH,)との混合ガスを
用いた場合は、該混合ガス中のメタン(CH4)を、ま
た、−酸化炭素(CO)と二酸化炭素(Co、)との混
合ガスの場合には、該混合ガス中の二酸化炭素(Co、
)をそれぞれガスクロマトグラフ分析装置等により定量
する手段が採用された。炭素ポテンシャルの値は当該ガ
ス循環系のガス濃度が平衡に到達した状轢において定量
されたメタン(C)I、)又は二酸化炭素(CO2)ガ
スの濃度を次に示した(3)式に代入して計算した。
ここでは、水素(H2)とメタン(CH,)との混合ガ
ス系における炭素ポテンシャルを次式により定義するが
、−酸化炭素(CO)と二酸化炭素(CO2)との混合
ガス系についても同様の式を導くことができる。(ここ
では省略) ここで、△GCは炭素ポテンシャル(K ca//mo
/ ) ’Rはガス定数(”e/mat ) ’rは絶
対温度(”K);7n は自然対数; αCは炭素活量
;ΔG子(4)は次式で定義される。C+2H2=CH
4・・・・(4)△G 子(4) = 16520
+ 12.25T10IIT 15.62T 5ここで
、Tは絶対温度じK ) ; eotiは常用対数。
ス系における炭素ポテンシャルを次式により定義するが
、−酸化炭素(CO)と二酸化炭素(CO2)との混合
ガス系についても同様の式を導くことができる。(ここ
では省略) ここで、△GCは炭素ポテンシャル(K ca//mo
/ ) ’Rはガス定数(”e/mat ) ’rは絶
対温度(”K);7n は自然対数; αCは炭素活量
;ΔG子(4)は次式で定義される。C+2H2=CH
4・・・・(4)△G 子(4) = 16520
+ 12.25T10IIT 15.62T 5ここで
、Tは絶対温度じK ) ; eotiは常用対数。
当該ガス循環系のガス平衡に関しては特に、該ガス循環
系内の加熱炉にバッファ物質が装荷されていない状態で
加熱を続けた場合には、該ガス循環系のガス濃度が平衡
に到達しないが、バッファ物質が装荷され〜た状態で加
熱が続けられた場合においては該ガス循環系のガス平衡
は容易に得られる。
系内の加熱炉にバッファ物質が装荷されていない状態で
加熱を続けた場合には、該ガス循環系のガス濃度が平衡
に到達しないが、バッファ物質が装荷され〜た状態で加
熱が続けられた場合においては該ガス循環系のガス平衡
は容易に得られる。
この事実から、バッファ物質は当該ガス循環系の炭素ポ
テンシャルを制御する緩衝物質として効果があることが
明らかである。しかしながら、たとえ当該ガス循環系内
の加熱炉にバッファ物質が装荷された状態でも、循環系
に一酸化炭素(CO)と二酸化炭素(C02)との混合
ガスを使用して、その加熱温度が約1000℃以上にお
いては、特に、−酸化炭素(CO)ガスの分解による炭
素の析出が起るために、該ガス循環系のガス平衡が得ら
itなくなる。このため、当該ガス循環系に、これらの
混合ガスを使用して炭素ポテンシャルを制御する場合は
、加熱温度を1000℃以下にして実施することが好ま
しい。本発明を、次の実施例によって更に詳しく説明す
る。
テンシャルを制御する緩衝物質として効果があることが
明らかである。しかしながら、たとえ当該ガス循環系内
の加熱炉にバッファ物質が装荷された状態でも、循環系
に一酸化炭素(CO)と二酸化炭素(C02)との混合
ガスを使用して、その加熱温度が約1000℃以上にお
いては、特に、−酸化炭素(CO)ガスの分解による炭
素の析出が起るために、該ガス循環系のガス平衡が得ら
itなくなる。このため、当該ガス循環系に、これらの
混合ガスを使用して炭素ポテンシャルを制御する場合は
、加熱温度を1000℃以下にして実施することが好ま
しい。本発明を、次の実施例によって更に詳しく説明す
る。
実施例1〜7
各実施例において、使用した試料はオーステナイトステ
ンレス鋼管(SUS316)を厚さ約50μmのターニ
ング(切削片)に旋盤加工したものである。該試料は洗
浄(アセトン→硝酸とフッ酸との混液→蒸溜水)してか
ら約150℃の温度で2時間乾燥したのち、約0.51
をアルミナ(A1203)製のルツボに装填した。また
、バッファ物質にはMo(純度99.7%)とMO2C
(純度99.8%)およびSi(純度99,5チ)と5
iC(純度99.8%)との2種類の金属と炭化物との
粉末(粒度325メンシー以下)を使用し、それぞれの
金属と炭化物を原子比で1対1に混合したのち、約5t
o”71m2 の圧力で圧粉体とした。次に、これら
の圧粉体をそれぞれ約30メツシユの粒度に粉砕しMO
MO2Cおよび5i−8iCからなるバッファ物質とし
て調製された。これらのバッファ物質は、それぞれ約1
054をアルミナ製ルツボに装填した。
ンレス鋼管(SUS316)を厚さ約50μmのターニ
ング(切削片)に旋盤加工したものである。該試料は洗
浄(アセトン→硝酸とフッ酸との混液→蒸溜水)してか
ら約150℃の温度で2時間乾燥したのち、約0.51
をアルミナ(A1203)製のルツボに装填した。また
、バッファ物質にはMo(純度99.7%)とMO2C
(純度99.8%)およびSi(純度99,5チ)と5
iC(純度99.8%)との2種類の金属と炭化物との
粉末(粒度325メンシー以下)を使用し、それぞれの
金属と炭化物を原子比で1対1に混合したのち、約5t
o”71m2 の圧力で圧粉体とした。次に、これら
の圧粉体をそれぞれ約30メツシユの粒度に粉砕しMO
MO2Cおよび5i−8iCからなるバッファ物質とし
て調製された。これらのバッファ物質は、それぞれ約1
054をアルミナ製ルツボに装填した。
試料およびバッファ物質が装填された、これらのアルミ
ナ製ルツボは個別に、循環系内の二つの加熱炉に白金線
で吊して装荷したのち、循環系内をl X 10−2m
mHIiJ以下に真空抜気し、該循環系内には、水素(
H2)とメタン(CH,)との混合ガス(純水素中に約
102ppmのメタン含有)を約1気圧充填した。つい
で、該充填ガスは、循環ボ/ブにより循環系内を1分間
に約800−の流量で循環させ、この状態で試料および
バッファ物質が装荷されている加熱炉を加熱して、試料
の温度を1000℃に保持し、バッファ物質の温度を8
00℃〜1050℃の温度範囲で50℃毎に各温度で7
3〜96時間加熱を続けた。これらの各温度で試料と平
衡する水素(H2)とメタン(CH4)との混合ガス循
環系内の該混合ガスを少量採取して、ガスクロマトグラ
フ分析装置で分析し、メタノ(CH4)の濃度を定量し
た。以上の操作により得られたメタン(CH,)の分析
値を所定の計算式に代入して求めた炭素ポテンシャルお
よび試料(SUS 316)の炭素分析による炭素含有
量を第1表に示す。
ナ製ルツボは個別に、循環系内の二つの加熱炉に白金線
で吊して装荷したのち、循環系内をl X 10−2m
mHIiJ以下に真空抜気し、該循環系内には、水素(
H2)とメタン(CH,)との混合ガス(純水素中に約
102ppmのメタン含有)を約1気圧充填した。つい
で、該充填ガスは、循環ボ/ブにより循環系内を1分間
に約800−の流量で循環させ、この状態で試料および
バッファ物質が装荷されている加熱炉を加熱して、試料
の温度を1000℃に保持し、バッファ物質の温度を8
00℃〜1050℃の温度範囲で50℃毎に各温度で7
3〜96時間加熱を続けた。これらの各温度で試料と平
衡する水素(H2)とメタン(CH4)との混合ガス循
環系内の該混合ガスを少量採取して、ガスクロマトグラ
フ分析装置で分析し、メタノ(CH4)の濃度を定量し
た。以上の操作により得られたメタン(CH,)の分析
値を所定の計算式に代入して求めた炭素ポテンシャルお
よび試料(SUS 316)の炭素分析による炭素含有
量を第1表に示す。
筐1表に示す結果から明らかなように、炭素ポテンシャ
ルの値は、表中例7を除いて、実験値と計算値とを比較
すると最大で約0.4 K cal//rn61の精度
で制御される。実験による結果では、試料の加熱温度を
1000℃として、バッファ物質(ここではM o −
Mo 2C)を800℃〜1050℃の温度範囲で加熱
した場合の炭素ポテンシャルの値は約2 K ea/’
/moeの範囲内で制御される。また同じ温度範囲(8
00℃〜10508C)で、バッファ物質の加熱温度を
約50℃毎変えて加熱した場合の炭素ポテンシャルの値
は約0.5 K cthe/mo1以内の精度で制御さ
れ、更に、バッファ物質の加熱温度を約10℃毎変えて
加熱すれば、炭素ポテンシャルの直は約0.1 K c
al/molの精度で制御し得る。
ルの値は、表中例7を除いて、実験値と計算値とを比較
すると最大で約0.4 K cal//rn61の精度
で制御される。実験による結果では、試料の加熱温度を
1000℃として、バッファ物質(ここではM o −
Mo 2C)を800℃〜1050℃の温度範囲で加熱
した場合の炭素ポテンシャルの値は約2 K ea/’
/moeの範囲内で制御される。また同じ温度範囲(8
00℃〜10508C)で、バッファ物質の加熱温度を
約50℃毎変えて加熱した場合の炭素ポテンシャルの値
は約0.5 K cthe/mo1以内の精度で制御さ
れ、更に、バッファ物質の加熱温度を約10℃毎変えて
加熱すれば、炭素ポテンシャルの直は約0.1 K c
al/molの精度で制御し得る。
つぎに、第1表の例7に示すように、バッファ物質をシ
リコン金属とシリコ/炭化物との混合物(Si=SiC
)とし、1000℃で加熱した場合における炭素ポテン
シャルの値は、バッファ物質にMOMO2Cを用いて同
じ加熱温度で加熱した場合の値と比較すると、約2 K
cthe/molだけ高い値で制御される。また、バ
ッファ物質(ここでは5i−8iC)を800℃〜10
50℃の温度範囲で加熱した場合の各加熱温度における
炭素ポテンシャルの値は、バッファ物質にM o −M
o 2Cを用いて同じ温度範囲で加熱した場合の各加熱
温度における値とくらべて、約2 K cal/mat
だけ高い値で制御され得ることが判明した。
リコン金属とシリコ/炭化物との混合物(Si=SiC
)とし、1000℃で加熱した場合における炭素ポテン
シャルの値は、バッファ物質にMOMO2Cを用いて同
じ加熱温度で加熱した場合の値と比較すると、約2 K
cthe/molだけ高い値で制御される。また、バ
ッファ物質(ここでは5i−8iC)を800℃〜10
50℃の温度範囲で加熱した場合の各加熱温度における
炭素ポテンシャルの値は、バッファ物質にM o −M
o 2Cを用いて同じ温度範囲で加熱した場合の各加熱
温度における値とくらべて、約2 K cal/mat
だけ高い値で制御され得ることが判明した。
更に、バッファ物質にタングステン金属とタングステン
炭化物との混合物(W −WC)を用いて同じ温度範囲
(soo’c〜1050’c)で加熱すると、各加熱温
度における炭素ポテンシャルの値は、バッファ物質に5
i−8iCを用いた場合とくらべて約4 K ca//
ino/高い値で制御される。さらに、その上、バッフ
ァ物質にW−WCを用いた場合に得られる炭素ポテンシ
ャルの値よりも高い炭炭化物との混合物を、また、バッ
ファ物質にM。
炭化物との混合物(W −WC)を用いて同じ温度範囲
(soo’c〜1050’c)で加熱すると、各加熱温
度における炭素ポテンシャルの値は、バッファ物質に5
i−8iCを用いた場合とくらべて約4 K ca//
ino/高い値で制御される。さらに、その上、バッフ
ァ物質にW−WCを用いた場合に得られる炭素ポテンシ
ャルの値よりも高い炭炭化物との混合物を、また、バッ
ファ物質にM。
−Mo2Cを用いて得られる炭素ポテンシャルよりも低
い値の炭素ポテンシャルを制御するときは、Y、U、N
b、zト「よびTi等の金属と炭化物との混合物を用い
て加熱操作することにより、広範囲にわたる任意の炭素
ポテンシャルを高精度で制御し得る。
い値の炭素ポテンシャルを制御するときは、Y、U、N
b、zト「よびTi等の金属と炭化物との混合物を用い
て加熱操作することにより、広範囲にわたる任意の炭素
ポテンシャルを高精度で制御し得る。
第1表に示した結果からも明らかなように、実験に用い
た試料中の炭素含有量は、バッファ物質の加熱温度によ
って増減し、また、バッファ物質の種類を変えて加熱操
作することによっても変化し得る。この事実からもわか
るように、本発明によって、炭素ポテンシャルを高精度
および広範囲にわたって制御すれば、試料中の炭素含有
量は精度よく広範囲にわたり調節されることになる。
た試料中の炭素含有量は、バッファ物質の加熱温度によ
って増減し、また、バッファ物質の種類を変えて加熱操
作することによっても変化し得る。この事実からもわか
るように、本発明によって、炭素ポテンシャルを高精度
および広範囲にわたって制御すれば、試料中の炭素含有
量は精度よく広範囲にわたり調節されることになる。
更に、従来技術と比較して、本発明゛では、バッファ物
質および試料加熱炉の加熱温度を調節すれば容易に高精
度で広範囲の炭素ポテンシャルを制御できるという顕著
な効果がある。
質および試料加熱炉の加熱温度を調節すれば容易に高精
度で広範囲の炭素ポテンシャルを制御できるという顕著
な効果がある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 +11 水素(H2)とメタン(CH,)又は−酸化
炭素(co)と二酸化炭素(CO2)との混合ガス循環
系内の二つの加熱炉に試料および金属と炭化物との混合
物から成るバッファ物質を個別に装荷して、該加熱炉を
4006C〜2000℃の温度範囲で加熱することによ
り試料と平衡する混合ガス循環系の炭素ポテンシャルを
制御することを特徴と1−る炭素ポテンシャルの制御方
法。 (2) 混合ガスの比PCH4/P2H2又(まp
2 c冑/PCO2が10−15〜106(ここでPx
はX成分の分圧をY、U、Nb、ZrおよびTiから成
る群から選択される金属と該金属の炭化物との混合物で
ある特許請求の範囲第1項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57027699A JPS58144792A (ja) | 1982-02-23 | 1982-02-23 | 炭素ポテンシヤルの制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57027699A JPS58144792A (ja) | 1982-02-23 | 1982-02-23 | 炭素ポテンシヤルの制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58144792A true JPS58144792A (ja) | 1983-08-29 |
JPH034485B2 JPH034485B2 (ja) | 1991-01-23 |
Family
ID=12228223
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57027699A Granted JPS58144792A (ja) | 1982-02-23 | 1982-02-23 | 炭素ポテンシヤルの制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58144792A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5126394U (ja) * | 1974-08-16 | 1976-02-26 | ||
JPS54132442A (en) * | 1978-03-21 | 1979-10-15 | Ipsen Ind Int Gmbh | Method and apparatus for controlling carbon level of mixture gas reacting in furnace chamber |
JPS5713169A (en) * | 1980-06-24 | 1982-01-23 | Oriental Eng Kk | Method for controlling concentration of carbon in carburizing atmosphere |
-
1982
- 1982-02-23 JP JP57027699A patent/JPS58144792A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5126394U (ja) * | 1974-08-16 | 1976-02-26 | ||
JPS54132442A (en) * | 1978-03-21 | 1979-10-15 | Ipsen Ind Int Gmbh | Method and apparatus for controlling carbon level of mixture gas reacting in furnace chamber |
JPS5713169A (en) * | 1980-06-24 | 1982-01-23 | Oriental Eng Kk | Method for controlling concentration of carbon in carburizing atmosphere |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH034485B2 (ja) | 1991-01-23 |
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