JPS58144387A - アミノピラゾ−ル化合物 - Google Patents

アミノピラゾ−ル化合物

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JPS58144387A
JPS58144387A JP58013852A JP1385283A JPS58144387A JP S58144387 A JPS58144387 A JP S58144387A JP 58013852 A JP58013852 A JP 58013852A JP 1385283 A JP1385283 A JP 1385283A JP S58144387 A JPS58144387 A JP S58144387A
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JP
Japan
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carbamoyl
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sulfamoyl
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JP58013852A
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ハインツ・アイリングスフエルト
カ−ル−ハインツ・エツツバツハ
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BASF SE
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/44Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D207/444Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having two doubly-bound oxygen atoms directly attached in positions 2 and 5
    • C07D207/456Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having two doubly-bound oxygen atoms directly attached in positions 2 and 5 with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to other ring carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D487/00Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
    • C07D487/02Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D487/04Ortho-condensed systems

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 (式中R1は水素原子、置換されていてもよ(・アルキ
ル基、シクロアルキル基もしくはアリール基、アシル基
、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、
置換されていてもよ℃・カルバモイル基、チオカルバモ
イル基モシクはスルファモイル基、アルキルスルボニル
基又はアリールスルホニル基 R2は水素原子又は−級
アミンの残基な意味する)で表わされるアミノピラゾー
ル化合物に関する。
R1の例は次のものである。場合により酸素原子又は硫
黄原子により中断された01〜C12−アルキル基(こ
れはさらに水酸基、C!〜c4−アルコキシ基、フェニ
ル基、フェノキシ基、シアン基又Hc、〜Cl2−アル
コギシカルボニル基により置換されて(・てもよい)、
シクロヘキシル基、C8〜Cl2−アルカノイル基、置
換基を有しうるベンゾイル基、C,〜C4−アルコキシ
カルボニル基、フェノキシカルボニル基、カルバモイル
基、N、N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリール
カルバモイル基、チオカルバモイル基、スル77モイル
基、 NlN−ジアルキルスルファモイル基、N−−−
アリールスルファモイル基、c+〜C1−アルキルスル
ホニル基、フェニルスルホニル基、トリルスルホニル基
、場合により弗素原子、塩素原子、臭素原子、C2〜C
4−アルキル基、C1〜C4−アルコキシ基、C1〜C
4−アルカノイル基、ニトロ基、ベンゾイル基、シアン
基、C7〜C4−アルコキンスルホニル基、フェノキシ
スルホニル基、ヒドロキシスルホニル基、スルファモイ
ル基、(ツ、〜C4−アルコキシカルボニル基、フェノ
キシカルボニル基、カルボキシル基もしくはカルバモイ
ル基により置換されたフェニル基又はナフチル基。
R2の例は次のものである。場合により酸素原子又は硫
黄原子により中断された01〜Cl2−アルキル基(こ
れはさらに水酸基C1〜C4−アルコキシ基、C2〜C
4−アルカノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、フェ
ニル基、フェノキシ基、シアン基もしくは01〜C12
−アルコキシカルボニル基により置換されていてもよい
)、シクロヘキシル基、又は場合により弗素原子、塩素
原子、臭素原子、C,〜C4−アルキル基、C,〜C4
−アルコキシ基、ニトロ基、シアン基%c1〜C4−フ
ルコキシスルホニル基、フェノキシスルボニル基、ヒド
ロキシスルホニル基、CI〜C4−アルコキシカルボニ
ル基、フェノキシカルボニル基、カルボキシル基もしく
はカルバモイル基により置換されたフェニル基又はナフ
チル基。
式Iの化合物を製造するためには、式nの化合物を式■
のヒドラジンと反応させ、 そして生成したヒドラゾンを環化させる。この場合Rは
アルコールの残基である。R1及びR2は、。
中間生成物として生成したヒドラゾン(R’=H)又は
式Iの化合物(nl又はR2−H)から出発して、後か
ら導入することもできる。式■の化合物は、ジャーナル
・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ80巻16
85頁、1958年に記載の式■の化合物のための方法
と同様にして得られる。
環化は1例えば溶剤例えばメタノール、エタノール、プ
ロパツール、ブタノール、メチルグリコール、エチルグ
リコール、ブチルグリコール、複酸、酢酸又はプロピオ
ン酸の中で加熱することにより行われる。他の酸例えば
硫酸、燐酸又はドルオールスルホン酸も同様に使用でき
る。
製造の詳細は実施例に示され、そこで部及び%は特に指
示のない限り重量に関する。
式Iの化合物は、アゾ染料を製造するためのジアゾ成分
として好適である。
一般式 の化合物は特に重要であり、この式中B′は水素原子、
01〜C4−アルキル基、シアンエチル基、シクロヘキ
シル基、C1〜C4−アルカノイル基;塩素原子、シア
ン基もしくはニトロ基により置換されていてもよ(・ベ
ンゾイル基;C1〜C4−ア    lルコキシカルボ
ニル基、フェノキシカルボニル基、カルバモイル基、ス
ルファモイル基;C。
〜C4−アルキル基もしくはフェニル基によりN−モノ
−もしくはN、N−ジ置換されたカルバモイル基もしく
はスルファモイル基;チオカルバモイル基% C1〜C
4−アルキルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ト
リルスルホニル基;するいは塩素原子、シアン法、ニト
ロ基、メチル基、メトキン基、エトキシ基、01〜C4
−アルカノイル基、ベンゾイル基、01〜C4−アルコ
キシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、カルボキ
シル基、01〜C4−アルコキシスルホニル基、フェノ
キシスルホニル基、カルバモイル基、スルファモイル基
、又は01〜C4−アルキル基もしくはフェニル基によ
りN−モノ−もしくはN、N−ジ置換されたカルバモイ
ル基もしくはスルファモイル基により置換されていても
よし・フェニル基もしくはナフチル基、そしてB2は水
素原子、・z1〜c8−フルキル基、シクロヘキシル基
、アリル基、C1〜C4−アルコキシ−02〜C8−ア
ルキル基、ヒドロキシ−02〜C3−アルキル基、フェ
ノキシ−02〜C3−アルキル基、ベンジル基、フエ個
々の基の例は先にあげたもののほか下記のものである。
Blとしてメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
n−ブチル、イソブチル、フェニル、ナフチル、 O−
、rll−1p−ニトロフェニル、0−1m−1p−シ
アノフェニル、0−−1m−1p−クロルフェニル、2
,4− ジニトロフェニル、2,4−13,5−及び2
,6−ジクロルフェニル、p−メトキシスルホニルフェ
ニル、p−エトキシスルホニルフェニル、p−フェノキ
シスルホニルフェニル、 o −% m −、p=エト
キシカルボニルフェニル、o−1m−1p−オキシカル
ボニルフェニル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、
ベンゾイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル
、フェノキシカルボニル、N、N−ジメチルカルバモイ
ル、 N−フェニルカルバモイル、 N、N−ジメチル
スルファモイル、N−7エニルスルフアモイル、メチル
スルホニル、エチルスルホニル及びp−トリルスルホニ
ル B2としてメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、三級ブチル、2−メトキシエ
チル、2−エトキシエチル、2−フェノキシエチル、2
−ヒドロキシエチル、フェニル、(−)−1m−1p−
ニトロフェニル、〇−1I11−1「)−シアノフェニ
ル及び1.・−5m−1p−クロルフェニル。
実施例1 δ)2−シアノ−3−ヒドラジノ−マレインイミド 2−シアノ−6−メドキシマレインイミド50部を、イ
ンプロパツール300容量部中のヒドラジン水加物16
.5部の溶液に水冷下に添加する。次いで反応混合物を
室温で半時間攪拌し、赤色沈殿を吸引1過し、イノプロ
パノールテg浄したのち乾燥すると、2−シアノ−6−
ヒトラジノーマレイ/イミドが47部(理論値の94%
)得られる。融点650℃以上、IR(KBr):31
20.2200.1670 cm −1゜b) s−ア
ミノ−ピラゾロ=(3,4)−ジカルボキシイミド 2−シアノ−6−ヒドラジノ−マレインイミド30部を
、氷酢酸100容量部中で7時間沸騰加熱する。放冷し
、沈殿を吸引f過し、少量の氷酢酸で洗浄したのち乾燥
すると、5−アミノ−ピラゾロ−(3,4)−ジカルボ
キシイミドが22部(理論値の76%)得られる。融点
650℃以上、IR(KBr): 3500.6120
.1670crn−’。
実施例2 5−アミノ−ピラゾロ−(5,4)−N−メチルジカル
ボキシイミド 2−シアノ−6−ノドキシ−N−メチルマレインイミド
16.6部を、n−ブタノール80容景部中のヒドラジ
ン水加物5部の溶液に水冷下に添加する。次いで混合物
を4時間沸騰加熱したのち冷却させ、生成した沈殿を吸
引沢過し。
rl−ブタノールで洗浄したのち乾燥すると、5−・ア
ミノ−ピラゾロ−(5,4)−N−メチルジカルボキシ
イミドが15部(理論値の94%)得られる。融点28
5〜286℃、IR(KBr):6400.6200.
1720.1670crn−’。
出発物質として必要な2−シアノ−6−ノドキシ−N−
メチルマレインイミドの製造は、次のように行われる。
2−シアノ−6−ヒドロキシ−N−メチルマレインイミ
ドのカリウム塩(製造はJ* Arcs Chem、 
Sac、  80巻3924頁1958年に記載の塩と
同様)19部及びオキシ三塩化燐15.3部を、重質ベ
ンジン100容量部中で半時間沸騰加熱する。次いで熱
4混合物を沢過し、r液を冷却させ、生成した沈殿を吸
引沢過し、ベンジンで洗浄したのち乾燥すると、2−シ
フ / −3−クロル−N−メチルマレインイミドが9
6部(理論値の56%)得られる。
融点141〜14j℃、IR(KBr ) : 227
0.1720.1630Crn−’。
2−シアノ−6−クロル−N−メチルマレインイミド4
6部をメタノール100容量部に添加し、混合物を15
分間沸騰加熱する。冷却させたのち沈殿を吸引沢過し、
少量のメタノールで洗浄したのち乾燥すると、2−シア
ノ−6−ノドキシ−N−メチルマレインイミドが67部
(理論値の88%)得られる。融点123〜125℃、
IR(KBr ) : 2220.1720.164 
Q cm−’。
実施例3 5−アミノ−1−フェニル−ピラゾロ−(5,4)−ジ
カルボキシイミド 2−シアノ−3−メトキシマレインイミド50部を、氷
酢酸200容量部中のフェニルヒドラジン65.6部の
溶液に水冷下に添加する。次いで12時間沸騰加熱した
のち放冷し、沈殿を吸引f過し、少量の氷酢酸で洗浄し
たのち乾燥すると、5−アミノ−1−フェニル−ピラソ
ロ−(3,4)−ジカルボキシイミドが61部(理論値
の81%)得られる。融点292〜294℃、IR(K
Br ) : 3440.6220.1670Crn−
′。
実施例4 5−アミノ−1−フェニル−ピラゾロ−(3,4)−N
−メチルジカルボキシイミド 5−アミノ−1−フェニル−ピーy ソロ−(6゜4)
−ジカルボキシイミド22.8部をジメチルホルムアミ
ド100容量部に溶解し、メタノール中のナトリウムメ
チラートの30%溶液6部を添加し、反応混合物を室温
で半時間攪拌する、次いでジメチル硫酸16.8部を添
加し、室温で4時間攪拌し、混合物に水400部を加え
て沈殿させる。生成物を吸引沢過し、水洗したのち乾燥
すると、5−アミノ−1−フェニル−ピラゾロ−(5,
4)−N−メチルジカルボキシイミドが195部(理論
値の81%)得られる。融点257〜239℃、IR(
KBr ) : 5400゜6200.1720.16
40crn−’。
実施例5 5−アミノ−1−メチル−ピラゾロ−(3,4)−N−
メチルジカルボキシイミド 実施例2と同様にして、2−シアノ−3−メ! トキシーN−メチルマレインイミド16.6部、メチル
ヒドラジン4.6部、及びn−ブタノール80容量部か
ら製造する。収率13.2部(理論値の76%)。融点
240〜242℃、IR(KBr ): 3400.6
650.3250.1750.1670.1620Cr
n−’。
実施例6 5−アミノ−1−アセチル−ピラゾロ−(3,4)−N
−メチルジカルボキシイミド 実施例1と同様にして、イソプロノくノール50容量部
中の2−シアノ−6−メドキシーN −メチルマレイン
イミド8.6部及びアセトヒドラジド6.7部から、2
−シアノ−3−(2’−アセトヒドラジノ)−N−メチ
ルマレインイミドが8.7部(理論値の84°・)得ら
れる。融点220〜226℃、IF((KBr): 5
220.2250.1720.1660crn−’。こ
れをプロピオン酸4Q m(中で7時間沸騰加熱するこ
とにより環化させて、5−アミノ−1−アセチル−ピラ
ゾロ−(3,4)−N−メチルジカルボキシイミドとす
る。収量6.8 m (Fl理論値78 == )、6
00°Cで分解、IR(KBr ) : 3250.1
720.1650Crn。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 (式中R1は水素原子、置換されて℃・てもよいアルキ
    ル基、シクロアルキル基もしくはアリール基、アシル基
    、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、
    置換されていてもよいカルバモイル基、チオカルバモイ
    ル基もしくはスルファモイル基、アルキルスルホニル基
    又はアリールスルホニル基 H2は水素原子又は−級ア
    ミンの残基を意味する)で表わされるアミノピラゾール
    化合物。 2、一般式 基、シクロヘキシル基%ct〜c4−フルカッイル基;
    塩素原子、シアン基もしくはニトロ基により置換されて
    いてもよいベンゾイル基;c1〜C1−アルコキシカル
    ボニル基、フェノキシカルボニル基、カルバモイル基、
    スルファモイル基;自〜C4−アルキル基もしくはフェ
    ニル基によりN −%ノーもしくはN、N−ジ置換され
    たカルバモイル基モしくハスル7アモイル基;チオカル
    バモイル基、cm〜C3−アルキルスルホニル基、フェ
    ニルスルホニル基、トリルスルボニル基;あるいは塩素
    原子、シアン基、ニトロ基、メチル基、メトキシ基、エ
    トキシ基、C1〜C4フルカッイル基、ベンゾイル基、
    C,〜c4−アルコキシカルボニル基、フェノキシカル
    ボニル基、カルボキシル基、C,〜C4−アルコキシス
    ルボニル基、フェノキシスルホニル基、カルバモイル基
    、スルファモイル基、又は01〜c4−アルキル基もし
    くはフェニル基によりN−モノ−もしくはN、N−ジ置
    換されたカルバモイル基もしくはスルファモイル基によ
    り置換されていてもよいフェニル基もしくはナフチル基
    、そしてB2は水素原子、C7〜C8−アルキル基、シ
    クロヘキシル基、アリ/L’基、 C1〜C4−アルコ
    キシ−02〜C3−アルキル基、ヒドロキシ−02〜・
    C3−アルキル基、フェノキン−〇2〜C3−アルキル
    基、ベンジル基、フエする)で表わされる特許請求の範
    囲第1項に記載の化合物。
JP58013852A 1982-02-11 1983-02-01 アミノピラゾ−ル化合物 Pending JPS58144387A (ja)

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DE19823204713 DE3204713A1 (de) 1982-02-11 1982-02-11 Aminopyrazolverbindungen
DE32047134 1982-02-11

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ID=6155355

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US (1) US4490541A (ja)
EP (1) EP0086389B1 (ja)
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DE (2) DE3204713A1 (ja)

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JPS5721388A (en) * 1980-07-11 1982-02-04 Nippon Nohyaku Co Ltd Condensed pyrazole derivative

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Publication number Publication date
EP0086389A3 (en) 1984-07-25
US4490541A (en) 1984-12-25
DE3368262D1 (de) 1987-01-22
DE3204713A1 (de) 1983-08-18
EP0086389A2 (de) 1983-08-24
EP0086389B1 (de) 1986-12-10

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