JPS58134151A - アゾリルスチリル化合物 - Google Patents
アゾリルスチリル化合物Info
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- JPS58134151A JPS58134151A JP58010001A JP1000183A JPS58134151A JP S58134151 A JPS58134151 A JP S58134151A JP 58010001 A JP58010001 A JP 58010001A JP 1000183 A JP1000183 A JP 1000183A JP S58134151 A JPS58134151 A JP S58134151A
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- alkyl
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D271/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two nitrogen atoms and one oxygen atom as the only ring hetero atoms
- C07D271/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two nitrogen atoms and one oxygen atom as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D271/06—1,2,4-Oxadiazoles; Hydrogenated 1,2,4-oxadiazoles
- C07D271/07—1,2,4-Oxadiazoles; Hydrogenated 1,2,4-oxadiazoles with oxygen, sulfur or nitrogen atoms, directly attached to ring carbon atoms, the nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
- C07D413/10—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a carbon chain containing aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/6527—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07F9/653—Five-membered rings
- C07F9/65306—Five-membered rings containing two nitrogen atoms
- C07F9/65318—Five-membered rings containing two nitrogen atoms having the two nitrogen atoms in positions 1 and 3
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、式
〔式中、Ａは準芳香族性の複素環式基
（ｑｕａａｉａｒｏｔｎａｔｔａ ｈａｔａｒａｇｙａ
ｌｉｃデαｄｉｅα１）を表わ゛し、 Ｂは式 ％式％ 鴨はＯＳ ＩＳ２または３、好適にはＯ〜２、を表わし
、 Ｒ１は水素、ＣＮ、Ｒ，−３０，Ｒ，−ＣＯＲ。
ｌｉｃデαｄｉｅα１）を表わ゛し、 Ｂは式 ％式％ 鴨はＯＳ ＩＳ２または３、好適にはＯ〜２、を表わし
、 Ｒ１は水素、ＣＮ、Ｒ，−３０，Ｒ，−ＣＯＲ。
−ＣＯＯＲ，−ＣＯＮＨＲまたは一〇〇Ｎ （ｊｊ’）
意を門わし、 Ｒ１は水素、ｔｓ ’Ｅｌ ｆ ７、−０Ｒ１−ＨＥＲ
ｌ−Ｎ （Ｒ’）ｔ を九は−ＮＥＣＯＲｔ−表わし
、Ｒ′はアルキル“を表わし、モーして ＲはＲ′、アルケニル、アラルキル、シクロアルキルま
たはアリールを表わし、 ここでＡ１Ｂ％Ｒ′及びＲは光学的明色化剤化学又はレ
ーザー染料（ｌａｍｅｒ ｄｙｍｓ ）で一般的な他の
非発色性置換基類を有することができる〕 の化合物類またはそれらの異性体混合物類に関するもの
である。
意を門わし、 Ｒ１は水素、ｔｓ ’Ｅｌ ｆ ７、−０Ｒ１−ＨＥＲ
ｌ−Ｎ （Ｒ’）ｔ を九は−ＮＥＣＯＲｔ−表わし
、Ｒ′はアルキル“を表わし、モーして ＲはＲ′、アルケニル、アラルキル、シクロアルキルま
たはアリールを表わし、 ここでＡ１Ｂ％Ｒ′及びＲは光学的明色化剤化学又はレ
ーザー染料（ｌａｍｅｒ ｄｙｍｓ ）で一般的な他の
非発色性置換基類を有することができる〕 の化合物類またはそれらの異性体混合物類に関するもの
である。
適当な準芳香族性の複素環式基Ａは、５員もしくは６員
の、ｌ−核〜３−核の、複素環式化合物類、例えばオキ
サゾール、イ２〆ゾール、ｌ。
の、ｌ−核〜３−核の、複素環式化合物類、例えばオキ
サゾール、イ２〆ゾール、ｌ。
２．４−オキサジアゾール、ｌ−３，４−オキサジアゾ
ール、１，３．４−チアジアゾール、ｌ。
ール、１，３．４−チアジアゾール、ｌ。
２．３−１１，２．４−及びｌ、３，４−）リアゾール
、ピリミシン、１．３．５−トリアジン、□ペンツキサ
ソール、ベンゾチアゾール、ベンズインダゾール、ナフ
トキサゾール、ベンゾ−虐−トリアゾール、ナフト−１
−トリアゾール、ベンゾ（ｂ）−フラン、キナゾリンま
たはキノキサリン系の基でアシ、それらは一般的方法で
残シの分子基と結合されている。
、ピリミシン、１．３．５−トリアジン、□ペンツキサ
ソール、ベンゾチアゾール、ベンズインダゾール、ナフ
トキサゾール、ベンゾ−虐−トリアゾール、ナフト−１
−トリアゾール、ベンゾ（ｂ）−フラン、キナゾリンま
たはキノキサリン系の基でアシ、それらは一般的方法で
残シの分子基と結合されている。
ベンゾキサソール、ベンゾ（６）フラン、ベンゾ−８−
トリアゾール、ナフト−８−トリアゾ−ル、１．２．４
−及び１，３．４−オキサジアゾール、１ 、２．３−
１１．２．４−及び１．３゜４−トリアゾール並びに１
．３．４−トリアジン系が特に好適である。
トリアゾール、ナフト−８−トリアゾ−ル、１．２．４
−及び１，３．４−オキサジアゾール、１ 、２．３−
１１．２．４−及び１．３゜４−トリアゾール並びに１
．３．４−トリアジン系が特に好適である。
適商な非発色性の置換基類は、＃、ＯＫ、ＣＭ。
ＯＲ，ＣＯＲ，５０，ＲＳＮＨＣＯＲ，ＣＯＲ鳥、ＮＨ
３０，Ｒ，０ＣＯＲ，Ｃ０ＯＲ，Ｃ００ＨＳＮＨＲＩ、
５０、Ｈ及び他のものである。
３０，Ｒ，０ＣＯＲ，Ｃ０ＯＲ，Ｃ００ＨＳＮＨＲＩ、
５０、Ｈ及び他のものである。
アルキルは特にＣ，Ｃ６−アルキルであｐｌそれはヒド
ロキシル、Ｃ（−、Ｃ，−アルコキシ、ＣＭ、★ルＩキ
シル、Ｃｒ−Ｃ◆−アル−キシカルカニル、ＣＯＲ鳥、
塩素もしくは臭素、を九はトリフルオロメチルによジ置
換されていてもよ′い。
ロキシル、Ｃ（−、Ｃ，−アルコキシ、ＣＭ、★ルＩキ
シル、Ｃｒ−Ｃ◆−アル−キシカルカニル、ＣＯＲ鳥、
塩素もしくは臭素、を九はトリフルオロメチルによジ置
換されていてもよ′い。
アルケニルは特に’ ｆ”’＝Ｃ＊−アルケニルである
。
。
ハロダンは特に弗素ζ塩・素及び臭素、好適には塩素、
でおる。
でおる。
シクロアルキルは好適にはシクロヘキシルであル、それ
は例えばメチルもしくは塩素によりモノー〜トリー置換
されていてもよい。
は例えばメチルもしくは塩素によりモノー〜トリー置換
されていてもよい。
アリールは特にフェニルでろ夕、それは任意ＫＣｌ、Ｃ
４−アルキル、トリフルオロメチル、塩素、臭素、カル
？キシル、シアノ％’ｌ〜Ｃ４−アルーキシカルがニル
もしくはＣ８〜Ｃ４−アルコキシによジ置換されていて
もよい。
４−アルキル、トリフルオロメチル、塩素、臭素、カル
？キシル、シアノ％’ｌ〜Ｃ４−アルーキシカルがニル
もしくはＣ８〜Ｃ４−アルコキシによジ置換されていて
もよい。
アラルキルは％ｌｃフェニルーＣ８〜ｃ 、−フルキル
であｐｌそれもフェニル核中で塩素、メチルもしくはメ
トキシにより置換されていてもよい。
であｐｌそれもフェニル核中で塩素、メチルもしくはメ
トキシにより置換されていてもよい。
好適な化合物類は、
Ａが１．２．４−オキサジアゾール、１，３．４−オキ
サジアゾール、１，２．３−トリアゾール□ 基、或いは任意：１に、、ｘ４Ｌ＜は２個のＣαＣ４−
アルキル％’ｌ〜Ｃ４−アぶコキシ、ｌもしくは２個の
塩素、ベンジル、フェニル、シクロヘキシル、’１〜Ｃ
４−アルキルスルホニル１ｌｌ−ハＣ＊〜Ｃ１−アルコ
キシカル？ニルによジ置換されていてもよいベンゾキサ
ゾール、ベンゾ（６） ｙラン、ベンゾ−５−）リアゾ
ール、ナフトー−一トリアゾール、５−フェニル−１，
３，４−オキサゾアゾール、＄−７エエルー１．２．４
−オキサゾアゾールま九は３−フェニル−１，２，４−
オキサジアゾール基ヲ表わし、そして Ｂが式 の基（またはこれらの２種の混合物）を衆わし、ここで
Ｒ１が水素、アリル、ＣＩＣ４−フルコΦシカ元カニル
、任意にヒドロキシル、アセトキシ、Ｃ（、、Ｃ４−ア
ルコキシ、フェノキシ、塩素、シアノ、スルホもしくは
ＣＦ、により置換されていてもよいアルキル赫、または
任寒に−Ｃ，−ｃ 、−アルキル、’１〜Ｃ４アルコキ
シ、’ （”’ ４−アル−キシカルがニル、シアノも
しくは塩素によジ置換されていてもよりベンジルもしく
はベンゾイル基を表わす、式！の化合物である。
サジアゾール、１，２．３−トリアゾール□ 基、或いは任意：１に、、ｘ４Ｌ＜は２個のＣαＣ４−
アルキル％’ｌ〜Ｃ４−アぶコキシ、ｌもしくは２個の
塩素、ベンジル、フェニル、シクロヘキシル、’１〜Ｃ
４−アルキルスルホニル１ｌｌ−ハＣ＊〜Ｃ１−アルコ
キシカル？ニルによジ置換されていてもよいベンゾキサ
ゾール、ベンゾ（６） ｙラン、ベンゾ−５−）リアゾ
ール、ナフトー−一トリアゾール、５−フェニル−１，
３，４−オキサゾアゾール、＄−７エエルー１．２．４
−オキサゾアゾールま九は３−フェニル−１，２，４−
オキサジアゾール基ヲ表わし、そして Ｂが式 の基（またはこれらの２種の混合物）を衆わし、ここで
Ｒ１が水素、アリル、ＣＩＣ４−フルコΦシカ元カニル
、任意にヒドロキシル、アセトキシ、Ｃ（、、Ｃ４−ア
ルコキシ、フェノキシ、塩素、シアノ、スルホもしくは
ＣＦ、により置換されていてもよいアルキル赫、または
任寒に−Ｃ，−ｃ 、−アルキル、’１〜Ｃ４アルコキ
シ、’ （”’ ４−アル−キシカルがニル、シアノも
しくは塩素によジ置換されていてもよりベンジルもしく
はベンゾイル基を表わす、式！の化合物である。
特に好適な基Ａは、ベンゾキサゾリル−２、ベンゾ（６
）フラニル、１．２．４−もしくはｌ、３゜４−オキサ
ジアゾール、ナフト−トリアゾリル及びベンゾ−Ｊｌ−
）リアゾール−２−イル基である。
）フラニル、１．２．４−もしくはｌ、３゜４−オキサ
ジアゾール、ナフト−トリアゾリル及びベンゾ−Ｊｌ−
）リアゾール−２−イル基である。
他の群の好適な化合物類は、
Ａが上記の好適な！味を有し、そして
の基を嵌わし、
ここでＲ−が水素、塩素、アミン、Ｃｒ” ’ ４−フ
ルキルアミノ、フェニルアミノまたは式 ％式％ Ｗが水素、任意に塩素もしくはシアノにより置換されて
いてもよいＣ１−、Ｃ、−アルキル、ベンジル、シクロ
ヘキシルまたはフェニルを示し、そして情が０〜丁の整
数を示す 式１のものである。
ルキルアミノ、フェニルアミノまたは式 ％式％ Ｗが水素、任意に塩素もしくはシアノにより置換されて
いてもよいＣ１−、Ｃ、−アルキル、ベンジル、シクロ
ヘキシルまたはフェニルを示し、そして情が０〜丁の整
数を示す 式１のものである。
別の群の好適な化合物類は、
Ａが１紀の好適な意味を有し、そして
１
ここでＲ１が水素、任意にヒドロキシル、０１〜Ｃ４−
アルコキシ、塩素、シアン、ｃｒｃ４−アルキルスルホ
ニルもしくはフエ二λにより置換されていてもよい０１
〜Ｃじアルキルを示す、式Ｉのものである。 １
゛ 特に好適な化合物類は、 Ａが式 ％式％ Ｂが式 の基を表わし、 ここで外はｌであり、 ｒｌ ’ｒｉ 水素、’ ｒ＝ ’ ４−アルキル、シ
クロヘキシル、Ｃ１〜Ｃ４−フルコキシ、ｍ素、ベンジ
ル、フェニル、Ｃ３〜Ｃ４−アルキルスルホニルまたは
Ｃ３〜Ｃ１−アルキルスルホニルを示し、 ｒ、は水素、Ｃ，−Ｃンア・キー、塩素またはＣ・〜ｃ
、アルコキシを示し、 Ｆ、は水素、Ｃｆ−Ｃ４−アルキルまたは塩素を示し、
そして ｒ、は任意に０１〜Ｃ４−アルコキシ、ヒドロキシル、
塩素もしくはシアノによシ曾換されていてもよい０１〜
Ｃ，−フルキル；ベンジル、シクロヘキシルまたはフェ
ニルを示す、 式（りのものである。
アルコキシ、塩素、シアン、ｃｒｃ４−アルキルスルホ
ニルもしくはフエ二λにより置換されていてもよい０１
〜Ｃじアルキルを示す、式Ｉのものである。 １
゛ 特に好適な化合物類は、 Ａが式 ％式％ Ｂが式 の基を表わし、 ここで外はｌであり、 ｒｌ ’ｒｉ 水素、’ ｒ＝ ’ ４−アルキル、シ
クロヘキシル、Ｃ１〜Ｃ４−フルコキシ、ｍ素、ベンジ
ル、フェニル、Ｃ３〜Ｃ４−アルキルスルホニルまたは
Ｃ３〜Ｃ１−アルキルスルホニルを示し、 ｒ、は水素、Ｃ，−Ｃンア・キー、塩素またはＣ・〜ｃ
、アルコキシを示し、 Ｆ、は水素、Ｃｆ−Ｃ４−アルキルまたは塩素を示し、
そして ｒ、は任意に０１〜Ｃ４−アルコキシ、ヒドロキシル、
塩素もしくはシアノによシ曾換されていてもよい０１〜
Ｃ，−フルキル；ベンジル、シクロヘキシルまたはフェ
ニルを示す、 式（りのものである。
Ｖ４は特に非常に好適には未置換のＣ８〜Ｃ４−アルキ
ル基、例えばメチル、エチル、外−プロビル、イソプロ
ピルまたは詐−ブチル、を表わし；ｒ、は特に非常に好
適には水素、メチルまたは塩素を表わし；そして ｒ、及びｒ、は％に非常に好適には水素を表わす。
ル基、例えばメチル、エチル、外−プロビル、イソプロ
ピルまたは詐−ブチル、を表わし；ｒ、は特に非常に好
適には水素、メチルまたは塩素を表わし；そして ｒ、及びｒ、は％に非常に好適には水素を表わす。
式（１）の化合物類はそれ自体公知である種々の方法に
従って製造できる。好適には、 α）式 〔式中、Ｚは式 ＯＯ ＯＲ の基を表わす〕 のホスホノ化合物を式 のアルデヒドと縮合反応させるか、或いはｂ）式 のホスホノ化合物を式 のアルデヒドと、有機溶媒中で、塩基性縮合剤の存在下
で縮合反応させる〔例えばドイツ公開明細書第４５２４
６８４号、第λ８３亀４７０号及び嬉＆０１亀２７９号
参照〕。
従って製造できる。好適には、 α）式 〔式中、Ｚは式 ＯＯ ＯＲ の基を表わす〕 のホスホノ化合物を式 のアルデヒドと縮合反応させるか、或いはｂ）式 のホスホノ化合物を式 のアルデヒドと、有機溶媒中で、塩基性縮合剤の存在下
で縮合反応させる〔例えばドイツ公開明細書第４５２４
６８４号、第λ８３亀４７０号及び嬉＆０１亀２７９号
参照〕。
好適な基ＲＦｉ、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、シクセヘキシ
ルまたはフェニルである。
ルまたはフェニルである。
不活性溶媒類、例えば炭化水素類、例えばトルエンもし
くはキシレンまたはアルコール類、例えばメタノール、
エタノール、イソデロノ臂ノール、７’ｌ’）−ル、グ
リコール、グリコールエーテル類、例えば２−メトキシ
−エタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、シ
クロオクタツール、エーテル類、例えばソイソデロビル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、並びにさ
らにホルムアミド類またはＮ−メチルピロリドンが溶媒
として有利に選択される。双極性の非プロトン性溶媒類
、例えばジメチルホル・ムアミド及びジメチルスルホキ
シドが特に−シソいる。
くはキシレンまたはアルコール類、例えばメタノール、
エタノール、イソデロノ臂ノール、７’ｌ’）−ル、グ
リコール、グリコールエーテル類、例えば２−メトキシ
−エタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、シ
クロオクタツール、エーテル類、例えばソイソデロビル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、並びにさ
らにホルムアミド類またはＮ−メチルピロリドンが溶媒
として有利に選択される。双極性の非プロトン性溶媒類
、例えばジメチルホル・ムアミド及びジメチルスルホキ
シドが特に−シソいる。
使用可能な縮合剤類は、強塩基性化合物類、例えばアル
カリ金属及びアルカリ土類金属水酸化物類、アルカリ金
属及びアルカリ土類金属アミド類、並びにアルカリ金属
及びアルカリ土類金属アルコレート類、例えば水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム、カリウムターシャリー−ブ
チレート、ナトリウムアミド葦たは、ナトリウムメチレ
ート、並びにジメチルスルホキシドのアルカリ金属化合
物類及びアルカリ金属水素化物類、並びに任意にアルカ
リ金属分散液類である。
カリ金属及びアルカリ土類金属水酸化物類、アルカリ金
属及びアルカリ土類金属アミド類、並びにアルカリ金属
及びアルカリ土類金属アルコレート類、例えば水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム、カリウムターシャリー−ブ
チレート、ナトリウムアミド葦たは、ナトリウムメチレ
ート、並びにジメチルスルホキシドのアルカリ金属化合
物類及びアルカリ金属水素化物類、並びに任意にアルカ
リ金属分散液類である。
反応社好適には０−１００Ｃの温度範囲内で実施される
。
。
本発明に従う式！の化合物類は、対応するアルデヒドア
ニル類（ａｌｄｔｔｈｖｄａ ａｎｉｌｓ＞を双極性の
非プロトン性情、媒例えばジメチルホルムアミド、中で
塩基性 ！、、剤の存在下で対応するメチル化合□。
ニル類（ａｌｄｔｔｈｖｄａ ａｎｉｌｓ＞を双極性の
非プロトン性情、媒例えばジメチルホルムアミド、中で
塩基性 ！、、剤の存在下で対応するメチル化合□。
物類（ｍｅ ｔｈｙｌ ｃｏｍｐｏｓ４ｎｄｓ ）と反
応させるような方法でも製造できる。
応させるような方法でも製造できる。
化合物２ｍ及びＶは一般的に公知でおるが（ドイツ公開
甲細瞥第１．２２４．９１７号、第２．１４８゜０１４
号、第２４５＆３５５号、＠ｚｙｏ亀ｓｇ４号及び第４
９２６．２３４号並びに米国′特許明細書５ａａｓｔ、
ｓｅｔ号及びｇ４１４３０４４号参照）、弐曹及びＶの
化合物類（Ｒ，／Ｒ，〆水嵩）はこれまで文献中に記さ
れておらず、これらの化合物類はそれ自体は公知である
方法で下記の反応式に従って得られる： （１） （イ） Φ出発化
合物類（璽α） ＣＢ−１，２，３，４−ナト２ゾー
ル基）は公知の方法の方法にょり、ナトリウムアジドを
ｐ−トルニトリルに環付加（ｅｙｅ ｌ ｏａｄｄイｔ
イ０３）Ｌ、その後生成物を対応するハライド類と反応
させることにより製造できる〔例えばＪ、 Ｏｒｇ、
Ｃｈａｖｎ、 １ Ｂ、１０８２（１９５Ｇ ） 、Ｊ
、 Ｏｒｇ、Ｃｈａｔｎ、 ２２１，１１４ｇ （１
９５７）、Ｊ、 Ａｍｇｒ、 Ｃｈａｔｎ、 Ｓｏｅ、
８Ｑ、５ｅａｓ （ｔｓｓ８）及びＣａｎ、 Ｊｏ
ｕｒｎａｌ ｏｆ （、”ｈｅｍ、 ４ ？、８１ｇ
（１９６９）参照〕。
甲細瞥第１．２２４．９１７号、第２．１４８゜０１４
号、第２４５＆３５５号、＠ｚｙｏ亀ｓｇ４号及び第４
９２６．２３４号並びに米国′特許明細書５ａａｓｔ、
ｓｅｔ号及びｇ４１４３０４４号参照）、弐曹及びＶの
化合物類（Ｒ，／Ｒ，〆水嵩）はこれまで文献中に記さ
れておらず、これらの化合物類はそれ自体は公知である
方法で下記の反応式に従って得られる： （１） （イ） Φ出発化
合物類（璽α） ＣＢ−１，２，３，４−ナト２ゾー
ル基）は公知の方法の方法にょり、ナトリウムアジドを
ｐ−トルニトリルに環付加（ｅｙｅ ｌ ｏａｄｄイｔ
イ０３）Ｌ、その後生成物を対応するハライド類と反応
させることにより製造できる〔例えばＪ、 Ｏｒｇ、
Ｃｈａｖｎ、 １ Ｂ、１０８２（１９５Ｇ ） 、Ｊ
、 Ｏｒｇ、Ｃｈａｔｎ、 ２２１，１１４ｇ （１
９５７）、Ｊ、 Ａｍｇｒ、 Ｃｈａｔｎ、 Ｓｏｅ、
８Ｑ、５ｅａｓ （ｔｓｓ８）及びＣａｎ、 Ｊｏ
ｕｒｎａｌ ｏｆ （、”ｈｅｍ、 ４ ？、８１ｇ
（１９６９）参照〕。
抽出物（ｇｄｗｃｔｇ）（ｌ ａ） （Ｂｍ １ 、
３ 、４−オキシジアゾール基）は文献中で知られてい
る種種の方法に従って製造できる〔例えばＧａｚｔ。
３ 、４−オキシジアゾール基）は文献中で知られてい
る種種の方法に従って製造できる〔例えばＧａｚｔ。
Ｃｈｉｍ、 ｓｔａｇ、 、９１．８６ ｇ （１９６
１） ＨＴｇｔｒａｈａｄｒｏｎ Ｌａｔｔａｒａ
４ ２ （１９６４） ３ １１９及びＡｎ
ｎ、６８６ （１９６５）１４５参照〕。
１） ＨＴｇｔｒａｈａｄｒｏｎ Ｌａｔｔａｒａ
４ ２ （１９６４） ３ １１９及びＡｎ
ｎ、６８６ （１９６５）１４５参照〕。
アミドキシム類去クロ■ぎ酸エステル類との縮合（Ｂ＃
ｒ、１８．２４６５ （１８ｇ！Ｓ）及びＢ−デ。
ｒ、１８．２４６５ （１８ｇ！Ｓ）及びＢ−デ。
す、１４８１ （１８８ｇ）並びにＢａｒ、 １８、
２４５６ （２８８５）及びＢａｒ、１９．１４７！
５＜２８８６）参照〕及び生成物類と対応するハライド
類との塩基類の存在下におけるその後の反応により、抽
出物（Ｉα）またれ直接的に（ｉ）（Ｂ−１，２，４−
オキサジアゾリノン−２基）が生成する。
２４５６ （２８８５）及びＢａｒ、１９．１４７！
５＜２８８６）参照〕及び生成物類と対応するハライド
類との塩基類の存在下におけるその後の反応により、抽
出物（Ｉα）またれ直接的に（ｉ）（Ｂ−１，２，４−
オキサジアゾリノン−２基）が生成する。
最後に、抽出−（Ｉｇ）（Ｂ−１，２，４−オキサノア
ゾール基）はそれ自体は公知である方法で未置換のオキ
サジアゾリノン−２−化合物１から、塩素化及びアルコ
ール類またはアンン類との反応により得られる〔例えば
Ｂｕｌｌ、 Ｓｅａ、 Ｃｋｉ−Ｂａｊｇｍｓ ７ ｇ
（ｌす６９）４１及びＢ賢Ｅ１．Ｓｏｃ。
ゾール基）はそれ自体は公知である方法で未置換のオキ
サジアゾリノン−２−化合物１から、塩素化及びアルコ
ール類またはアンン類との反応により得られる〔例えば
Ｂｕｌｌ、 Ｓｅａ、 Ｃｋｉ−Ｂａｊｇｍｓ ７ ｇ
（ｌす６９）４１及びＢ賢Ｅ１．Ｓｏｃ。
Ｃｈｉｖｒ、 Ｂｕｌｇｅｓ ？ Ｂ、４７ （１
９６９）参照〕。
９６９）参照〕。
式（１）の化合物類を製造するための特に有利な方、′
ｌ。
ｌ。
法は、式
の化付物類を極性有機溶媒中で金属アジド類と反の化合
物類を与え、そしてこれを σ） 任意に式 ％式％ ｃ式中、Ｘｔよハロゲンを表わす〕 の化合ｏｈと反応させて式 の化合物類を与えるか、または ｂ） 任意□に式 ％式％） ： の化合物類と反応させて、式 〔式中、Ｂ′は の化合物ＷＡを与えることにより特徴づけられている。
物類を与え、そしてこれを σ） 任意に式 ％式％ ｃ式中、Ｘｔよハロゲンを表わす〕 の化合ｏｈと反応させて式 の化合物類を与えるか、または ｂ） 任意□に式 ％式％） ： の化合物類と反応させて、式 〔式中、Ｂ′は の化合物ＷＡを与えることにより特徴づけられている。
この製電方法では、化合物類■祉反応条件により１４性
体混合物類の形で４に製造でき、それらは希望により一
般的分離方法（再結晶化、クロマトグラフィ）によシ分
離できる。
体混合物類の形で４に製造でき、それらは希望により一
般的分離方法（再結晶化、クロマトグラフィ）によシ分
離できる。
しかしながら、以下でさらに述べられている工業的目的
用にはそのような分離は処決ない。
用にはそのような分離は処決ない。
式（ロ）の化合物類の一部だけが公知である。それの化
合物ｉｌｌを２−シアノベンズアルデヒドと反応させる
ことによｐ％得られる〔ドイツ会開明細書第２．４ｇ！
：ｌ！！５号、Ｆイッ公告明細書第１，０１１＆４０８
号、日本公開明細瞥第４９／８５３７８号参照〕。
合物ｉｌｌを２−シアノベンズアルデヒドと反応させる
ことによｐ％得られる〔ドイツ会開明細書第２．４ｇ！
：ｌ！！５号、Ｆイッ公告明細書第１，０１１＆４０８
号、日本公開明細瞥第４９／８５３７８号参照〕。
テトラゾール島導体ｗＡ胃と化合物類Ｒ，Ｘとの反応Ｆ
ｉｏ〜１２０Ｃの温度朝日で、好適に１ｆｉ２ｓ〜９０
Ｃにおいて、実施でき、そして胃とｐ、ｃｏｒとの反応
祉５ｏ−１６０Ｃ，の１茜で、好適には７Ｇ−１２Ｏｒ
において、実施できる。
ｉｏ〜１２０Ｃの温度朝日で、好適に１ｆｉ２ｓ〜９０
Ｃにおいて、実施でき、そして胃とｐ、ｃｏｒとの反応
祉５ｏ−１６０Ｃ，の１茜で、好適には７Ｇ−１２Ｏｒ
において、実施できる。
両反応とも不活性溶媒類、例えばエーテル類、例エバジ
オキサン、テトラヒドロンラン、ジイソグロビルエーテ
ル、中で、また炭化水素類、例えばトルエン、キシレン
、クロ勘ベンゼン及び１゜２−ジク幻簡ベンゼン中でま
九妹ホルムア建ド釧、例えばゾメチルホルムア々ド、Ｖ
メチルア゛セトアンドまた紘ジメチルスルホキシド、中
で、好適には酸受体類、特に第三級有機塩基類、例えｄ
）９エチルアミン、ジメチルアニリン、・ピリジン、ジ
メチルアニリン、またはへキサヒト訪−ジメチルアニリ
ン、の存在下で実施される。
オキサン、テトラヒドロンラン、ジイソグロビルエーテ
ル、中で、また炭化水素類、例えばトルエン、キシレン
、クロ勘ベンゼン及び１゜２−ジク幻簡ベンゼン中でま
九妹ホルムア建ド釧、例えばゾメチルホルムア々ド、Ｖ
メチルア゛セトアンドまた紘ジメチルスルホキシド、中
で、好適には酸受体類、特に第三級有機塩基類、例えｄ
）９エチルアミン、ジメチルアニリン、・ピリジン、ジ
メチルアニリン、またはへキサヒト訪−ジメチルアニリ
ン、の存在下で実施される。
Ｂが式
ｒ。
の基を表わす式（！）の化合物を製造する丸めの特別な
方法祉、Ｂが式 の基を表わす式Ｉの化合物を極性溶媒中で、例えば酸類
もしくは塩基鎖の如き助剤類の存在下でまたは助剤類を
用いずに、ｌＯＯ〜２ＳＯＣの間の温度で転位させるこ
とによ〕特徴づけられている。
方法祉、Ｂが式 の基を表わす式Ｉの化合物を極性溶媒中で、例えば酸類
もしくは塩基鎖の如き助剤類の存在下でまたは助剤類を
用いずに、ｌＯＯ〜２ＳＯＣの間の温度で転位させるこ
とによ〕特徴づけられている。
式Ｉの化合物ｗｉｔ良好な収率でそして高純度で得ノ
られる０、。
ｊｓｍ７１ｑ素である式ＩＯ化化合麺類製造は最終的に
は、’４ ”’１〜Ｃ４−アルキルである式Ｉの化合物
＠を有機溶媒中で鉱酸類と反応させることによっても実
施できる。
は、’４ ”’１〜Ｃ４−アルキルである式Ｉの化合物
＠を有機溶媒中で鉱酸類と反応させることによっても実
施できる。
不発明に従う方法で使用できる塩基類は、反応生成物類
に充分可溶性である無機及び有機の両方の化合物類であ
る。好適な塩基類は、有機塩基類、例えばトリエチルア
きン、Ｎ−メチルもしくＦｉＮ−エチル−ピペリジン、
ピペリジン、ピロリジン、１．４−ジアザビシクロ（２
，ｇ、ｇ）オクタン（ＤＡＢＣＯ） 、モルホリン、Ｎ
−メチルもしくはＮ−エチルモルホリン及（ｉＮ−エチ
ルピ′ロリジンなどである。
に充分可溶性である無機及び有機の両方の化合物類であ
る。好適な塩基類は、有機塩基類、例えばトリエチルア
きン、Ｎ−メチルもしくＦｉＮ−エチル−ピペリジン、
ピペリジン、ピロリジン、１．４−ジアザビシクロ（２
，ｇ、ｇ）オクタン（ＤＡＢＣＯ） 、モルホリン、Ｎ
−メチルもしくはＮ−エチルモルホリン及（ｉＮ−エチ
ルピ′ロリジンなどである。
適当な極性溶媒類は、高沸点アルコール類、例えば３−
ブタノール、ターシャリー−１タノール、ダリ・−ル及
び−゛エチレンダリコール、グリコールエーテル類、−
エばトメトキシエタノール、２−エトキシエタノール、
ニトリル類、側型ばベンゾニトリル、ホルムアきド類、
Ｎ−メチル♂ロリドン、ジメチルスルホキシド及び夛ん
酸アζド類でおる。ジメチルホルムアミド、ジメチルア
七ドアミド、及びアルキルが特にｃ ｒ” ｃ ｒアル
キルである〕ん酸トリスージアルキルア建ド類が好適で
ある。
ブタノール、ターシャリー−１タノール、ダリ・−ル及
び−゛エチレンダリコール、グリコールエーテル類、−
エばトメトキシエタノール、２−エトキシエタノール、
ニトリル類、側型ばベンゾニトリル、ホルムアきド類、
Ｎ−メチル♂ロリドン、ジメチルスルホキシド及び夛ん
酸アζド類でおる。ジメチルホルムアミド、ジメチルア
七ドアミド、及びアルキルが特にｃ ｒ” ｃ ｒアル
キルである〕ん酸トリスージアルキルア建ド類が好適で
ある。
本発明に従う反応用の反応温度は約ｌ・・〜ｇ５０ｐの
間、好適には１２０ Ｎ！ＯＯＣの閣、である。
間、好適には１２０ Ｎ！ＯＯＣの閣、である。
水性ｔｉは可能なら有機性の明色化剤１ｌｔ−用いる繊
維物質の明色化は、画数繊維の皺に対して典型的な染色
方法によシ行なわれる。
維物質の明色化は、画数繊維の皺に対して典型的な染色
方法によシ行なわれる。
上記の方法の反応生成物類は例えばへｏｒン化、カルが
キシル基の官能性改変、クロロメチル基の導入またはシ
アノ基によるハロダン原子の置換の如き他の公知の変換
法にかけるとともできる。
キシル基の官能性改変、クロロメチル基の導入またはシ
アノ基によるハロダン原子の置換の如き他の公知の変換
法にかけるとともできる。
式１の化合物ｌｌは溶解された状態または微細分割状°
態で非常に強い青色の螢光を示す、それらは多種の有機
物質の白色化用に、それら自身でまたは混合物の形で適
している。
態で非常に強い青色の螢光を示す、それらは多種の有機
物質の白色化用に、それら自身でまたは混合物の形で適
している。
下記の物質類を明色化される基質類の例として挙けるこ
とができるニラツカ−類、天然もしくは合成線維類、例
えば天然もしくは再生セルロース、アセチルセルロース
、天然及び合成４リア建ド類、ぼりエステル類、ぼりオ
レフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、４
リスチレンまたはＩリアクリロニトリルのもの、並びに
＃物質類の箔、フィルム、テープを九は成形品。
とができるニラツカ−類、天然もしくは合成線維類、例
えば天然もしくは再生セルロース、アセチルセルロース
、天然及び合成４リア建ド類、ぼりエステル類、ぼりオ
レフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、４
リスチレンまたはＩリアクリロニトリルのもの、並びに
＃物質類の箔、フィルム、テープを九は成形品。
本発明に従う水不溶性化合４１Ｉ！ｌｆｇは有機溶媒中
まえは水性分散液中に、有利には分散媒体を用いて、溶
解させて使用できる。
まえは水性分散液中に、有利には分散媒体を用いて、溶
解させて使用できる。
光学的に明色化しようとする物質を基にした、本発明に
従って使用される一般式！の化合物類の量は、適用分野
及び希望する効果によシ、広い範囲内で変えられる。そ
れは試験により容易に決める仁とができ、そして一般に
約へ６１〜約ｓ＋膚の間である。
従って使用される一般式！の化合物類の量は、適用分野
及び希望する効果によシ、広い範囲内で変えられる。そ
れは試験により容易に決める仁とができ、そして一般に
約へ６１〜約ｓ＋膚の間である。
式（１）の化合物類、特にオキシジアゾリル基を有する
式Ｉのもの、は高い量的収率及び高い光胆牢性値を有し
、そしてさらに４００〜４８０％ｍの實色スペクトル範
囲で整調可能な染料液（ｔｓｓａｋｌａｄｅｎ ｌａａ
ｗｐａｒａ）用にも使用できる。この目的用には、それ
らはドイツ公開明細書簡１．９１へ７８４号またはイギ
リス特許明細書簡Ｌ２５翫３９９号中に記されている指
示に従って使用される。
式Ｉのもの、は高い量的収率及び高い光胆牢性値を有し
、そしてさらに４００〜４８０％ｍの實色スペクトル範
囲で整調可能な染料液（ｔｓｓａｋｌａｄｅｎ ｌａａ
ｗｐａｒａ）用にも使用できる。この目的用には、それ
らはドイツ公開明細書簡１．９１へ７８４号またはイギ
リス特許明細書簡Ｌ２５翫３９９号中に記されている指
示に従って使用される。
実施例１
ＳＬＳ？（α１６モル）の４−シアノ−４′−（ベンゾ
キサゾール−２１−イル） −スチルベン、ＩＬ４Ｆ（
α１７５モル）のナトリウムアジ「及ヒｒ、ａ ｔ （
（Ｌｌ ７５モル） ７塩化リチウムｏｓｓｅ−のジメ
チルホルムア建ド中懸濁液を１３１０Ｃで！６時間攪拌
し九。混合物を濃塩酸でｐＨ８−４に調節し、そして−
過した。 ＰｔＫを水及びエタノールで洗浄すると、生
成物を真空下で５０ｃにおいて乾燥した後に、６α６ｆ
（理論値の９４８チ）の化合物を生成し、それはツメチ
ルアセトアミドから再結晶化できた（融点：３２１ｃ、
分解を伴なう、−１３６１１％愼） 。
キサゾール−２１−イル） −スチルベン、ＩＬ４Ｆ（
α１７５モル）のナトリウムアジ「及ヒｒ、ａ ｔ （
（Ｌｌ ７５モル） ７塩化リチウムｏｓｓｅ−のジメ
チルホルムア建ド中懸濁液を１３１０Ｃで！６時間攪拌
し九。混合物を濃塩酸でｐＨ８−４に調節し、そして−
過した。 ＰｔＫを水及びエタノールで洗浄すると、生
成物を真空下で５０ｃにおいて乾燥した後に、６α６ｆ
（理論値の９４８チ）の化合物を生成し、それはツメチ
ルアセトアミドから再結晶化できた（融点：３２１ｃ、
分解を伴なう、−１３６１１％愼） 。
実施例２
五８ｔ（α０３モル）の臭化ペンゾルをｓｏｃにおいて
１５分以内□に、１１ｔ（１０３モル）の実施例１から
の化合物（ｌ）及び１３ｆ（（ＬＯ：１ｍモル）のトリ
エテルテ）ンの１２０ｍのジメチ〜ホルムア２ド中溶液
に卿え、そして次に混合物を９０Ｃで３時間攪拌した０
反応混合物ｔ２Ｓ’ｃに冷却し九後に、３００−の水を
加え、そして結晶性沈殿をｐ別した。＆５ｔ（理論値の
４１１）の（２） の１．２、−異性体混合物が得られ、それはジメチルホ
ルムアオドから再結晶化できた（融点：ハ９−５ＩＣ，
λ ＰＥＳ （ポリエステル）上で高温吸尽法（１３０Ｃ）
で優れた明色化効果を生じ九。
１５分以内□に、１１ｔ（１０３モル）の実施例１から
の化合物（ｌ）及び１３ｆ（（ＬＯ：１ｍモル）のトリ
エテルテ）ンの１２０ｍのジメチ〜ホルムア２ド中溶液
に卿え、そして次に混合物を９０Ｃで３時間攪拌した０
反応混合物ｔ２Ｓ’ｃに冷却し九後に、３００−の水を
加え、そして結晶性沈殿をｐ別した。＆５ｔ（理論値の
４１１）の（２） の１．２、−異性体混合物が得られ、それはジメチルホ
ルムアオドから再結晶化できた（融点：ハ９−５ＩＣ，
λ ＰＥＳ （ポリエステル）上で高温吸尽法（１３０Ｃ）
で優れた明色化効果を生じ九。
下表に挙けられている化合物類も上記の実施例実施例１
４ １１Ｆ（０，０：１モル）の実施例１からの化合物（！
）及び７．１ｆ（αＧ？−＋”ル）のトリエチルアｉン
を１００ｍｇのジメチルホルムアミド中で８０Ｃにおい
て１時間攪拌した。、次に＆３ｆ（αｏｓＪＩ＆ル）の
クロロ蟻酸エチルエロ、：チルを溶液の表面下に滴・・
：：： 滴添加した。混合物をＳＯＣで２時間攪拌し、そして再
び＆３ｆ（１０３モル）のりｐ口蟻酸エチルエステルで
処理した。約９０Ｃにおける［時間後に、混合物を１０
Ｃに冷却しそして濾過して未転化出発生成物を分離した
。Ｆ液を真空中で濃縮し、残渣を５０−の水で処理し、
そしてν別した。
４ １１Ｆ（０，０：１モル）の実施例１からの化合物（！
）及び７．１ｆ（αＧ？−＋”ル）のトリエチルアｉン
を１００ｍｇのジメチルホルムアミド中で８０Ｃにおい
て１時間攪拌した。、次に＆３ｆ（αｏｓＪＩ＆ル）の
クロロ蟻酸エチルエロ、：チルを溶液の表面下に滴・・
：：： 滴添加した。混合物をＳＯＣで２時間攪拌し、そして再
び＆３ｆ（１０３モル）のりｐ口蟻酸エチルエステルで
処理した。約９０Ｃにおける［時間後に、混合物を１０
Ｃに冷却しそして濾過して未転化出発生成物を分離した
。Ｆ液を真空中で濃縮し、残渣を５０−の水で処理し、
そしてν別した。
Ｖ液を真空中で５０Ｃにおいて乾燥すると、ａＳｔ（！
論値の６９Ｌ１チ）の式 の化合物の淡黄色の結晶が生成し、それはクロロベンゼ
ンから再結晶化できた。融点ｇｏｓ〜２１１Ｃ１吸収：
λ ：Ｂ６４ｎｍ０それはＰＥＳ上ｍｕ’ｓ で高温吸尽及びサーモゾル方法において明るい明色化効
果を生じた。
論値の６９Ｌ１チ）の式 の化合物の淡黄色の結晶が生成し、それはクロロベンゼ
ンから再結晶化できた。融点ｇｏｓ〜２１１Ｃ１吸収：
λ ：Ｂ６４ｎｍ０それはＰＥＳ上ｍｕ’ｓ で高温吸尽及びサーモゾル方法において明るい明色化効
果を生じた。
実施例１５
実施例１４中１：□と、、同じ工程に従い、化合物（８
）をクロロ蟻酸メチルエステルと反応させると、ｔａｒ
（理論値の６＆ｌｌ）の式 （１１） の化合物を黄色の結晶形で生成し、それはｌ、２−ジク
ロ薗ベンゼンから再結晶化できたく融点２２ｍ−８２Ｃ
；ＤＭＦ中の螢光：λｗｔａｇ ’ ”冨％惰）。
）をクロロ蟻酸メチルエステルと反応させると、ｔａｒ
（理論値の６＆ｌｌ）の式 （１１） の化合物を黄色の結晶形で生成し、それはｌ、２−ジク
ロ薗ベンゼンから再結晶化できたく融点２２ｍ−８２Ｃ
；ＤＭＦ中の螢光：λｗｔａｇ ’ ”冨％惰）。
実施例１６
１ａ６Ｆの亜りん酸トリエチルを１００Ｃにおいて窒素
下で２Ｌ７ｆ（０，０８モル）の５−二トキシ−２−（
４’−ブロモメチルフェニル）−１゜３．４−オキサジ
アゾールの８０Ｗｌｔのトルエン中溶液に、生成したプ
セモエタンが直ちに蒸留されるような方法で滴々添加し
た。混合物を約１１００で４時間攪拌し、そしてトルエ
ン及び過剰の皿りん酸トリエチルを真空中で除去した。
下で２Ｌ７ｆ（０，０８モル）の５−二トキシ−２−（
４’−ブロモメチルフェニル）−１゜３．４−オキサジ
アゾールの８０Ｗｌｔのトルエン中溶液に、生成したプ
セモエタンが直ちに蒸留されるような方法で滴々添加し
た。混合物を約１１００で４時間攪拌し、そしてトルエ
ン及び過剰の皿りん酸トリエチルを真空中で除去した。
Ｚｏｏｍのジメチルホルムアミド及び１１１１（αｏ８
％ル）０２−（４’−ｙｋルミルフェニル）−５−／？
シル−ンゾキサゾールを残渣に加えた。１００ｄ（α１
モル）のナトリウムメチレート１モル溶液を５００にお
いて混合物に滴々添加し、それを次にＳＯＣで４時間攪
拌した。混合物を室温に冷却し、［６ｔ（０，１１モル
）の氷酢酸で中和し、そして１００ｇＩｔのエタノール
を加えた。混合物を炉別し、ｐ液をエタノールで洗浄し
、そして生成物を真空中で５０Ｃにおいて乾燥すると、
２０．１Ｆ（理論値の５ａｓｈ）の式 （１６） の非常にきれいな粗生成物を与え、それはキシレンから
再結晶化されたく融点：２１ＳＣ，λ、。＝３”＠ ＠
１％ ９７１）。この化合物はｐＥＳ上で非常に良好
な堅牢性値を有する優れ九明色化効果を生じた。
％ル）０２−（４’−ｙｋルミルフェニル）−５−／？
シル−ンゾキサゾールを残渣に加えた。１００ｄ（α１
モル）のナトリウムメチレート１モル溶液を５００にお
いて混合物に滴々添加し、それを次にＳＯＣで４時間攪
拌した。混合物を室温に冷却し、［６ｔ（０，１１モル
）の氷酢酸で中和し、そして１００ｇＩｔのエタノール
を加えた。混合物を炉別し、ｐ液をエタノールで洗浄し
、そして生成物を真空中で５０Ｃにおいて乾燥すると、
２０．１Ｆ（理論値の５ａｓｈ）の式 （１６） の非常にきれいな粗生成物を与え、それはキシレンから
再結晶化されたく融点：２１ＳＣ，λ、。＝３”＠ ＠
１％ ９７１）。この化合物はｐＥＳ上で非常に良好
な堅牢性値を有する優れ九明色化効果を生じた。
２−（４’−プロモーメチルフェニル）−５−エトキシ
−１，３，４−オキサジアゾールは公知の方法で対応す
るトリル化合物から四塩化縦索中でのＮ−プａ毫−こは
く酸イミドを用いる臭素化によシ製造された。
−１，３，４−オキサジアゾールは公知の方法で対応す
るトリル化合物から四塩化縦索中でのＮ−プａ毫−こは
く酸イミドを用いる臭素化によシ製造された。
実施例１４〜１６に記されている方法と同様な方法で下
記の化合物類も製造された： Ｉ 実施例３０ ２０ｆ （α１−１モル）の３０チ強度ナトリク＾−メ
チレート溶液を５０Ｃにおいて３０分以内に、１１丁２
（αＯＳセル）の２−（４−ホルミル−フェニル）
−す７）（ｔ、ｇ−ｄ）−ｘ、意、３−トリアゾール及
び１１・ｔ（１０５モル）の３−（４−ジェトキシホス
ホノメチル−フェニル）−１−２６４−オキＩ？ジアゾ
ールー５−オンの１５０−の無水ジメチルーホルムア建
ド中Ｓ濁液に加えた。混合物をＳＯ〜６０Ｃにおいて３
時間攪拌し、そして次に２０１の濃酢酸を加えた。混合
−を冷却した彼に１．それｔＦ別し、そしてｖ液をそれ
ぞれ５０−の５％強ｌＬ塩酸、水及びメタノールで連続
して洗浄した。生成物を真空中で５０Ｃで乾燥すると、
１＆６ｆ（ｍｌ論値の６３チ）のの化合物の淡黄色の結
晶性粉末を与え、それはジメチルホルムアミドから再結
晶化できた。融点：）３０ＱＣＳＩＲ（ＫＢｒ）： ３
４３０ｃｘａ＝”、１？４１０ａ１−” 、１５１１１
ｍ＋−” 、紫外線吸収（ＤＭり：２ −８７４％
集。
記の化合物類も製造された： Ｉ 実施例３０ ２０ｆ （α１−１モル）の３０チ強度ナトリク＾−メ
チレート溶液を５０Ｃにおいて３０分以内に、１１丁２
（αＯＳセル）の２−（４−ホルミル−フェニル）
−す７）（ｔ、ｇ−ｄ）−ｘ、意、３−トリアゾール及
び１１・ｔ（１０５モル）の３−（４−ジェトキシホス
ホノメチル−フェニル）−１−２６４−オキＩ？ジアゾ
ールー５−オンの１５０−の無水ジメチルーホルムア建
ド中Ｓ濁液に加えた。混合物をＳＯ〜６０Ｃにおいて３
時間攪拌し、そして次に２０１の濃酢酸を加えた。混合
−を冷却した彼に１．それｔＦ別し、そしてｖ液をそれ
ぞれ５０−の５％強ｌＬ塩酸、水及びメタノールで連続
して洗浄した。生成物を真空中で５０Ｃで乾燥すると、
１＆６ｆ（ｍｌ論値の６３チ）のの化合物の淡黄色の結
晶性粉末を与え、それはジメチルホルムアミドから再結
晶化できた。融点：）３０ＱＣＳＩＲ（ＫＢｒ）： ３
４３０ｃｘａ＝”、１？４１０ａ１−” 、１５１１１
ｍ＋−” 、紫外線吸収（ＤＭり：２ −８７４％
集。
惧ａＩＥ
使用され九式
す
のりエトキシ−ホスホノ−メチル化合物は下記の方法で
製造された：２ｇＦ（（Ｌ４毫ル）のヒト胃キジルア建
ン塩酸塩及び！Ｏｆ（（Ｌｍｍシルの炭酸ナトリウムｔ
−ａｏｏ−の蒸留水中に溶解させ九。
製造された：２ｇＦ（（Ｌ４毫ル）のヒト胃キジルア建
ン塩酸塩及び！Ｏｆ（（Ｌｍｍシルの炭酸ナトリウムｔ
−ａｏｏ−の蒸留水中に溶解させ九。
ｚｒ、ｓｔ＜αｌ１モル）の４−（ジェトキシ−ホスホ
ノメチル） −ベンゾニトリルを漆原に満々添加し、そ
して混合物を８０Ｃで８時間攪拌した。
ノメチル） −ベンゾニトリルを漆原に満々添加し、そ
して混合物を８０Ｃで８時間攪拌した。
混合物を室温に冷却し友後に、それをそれぞれ１０・−
のり°°１“−で３回抽出し・そして−緒にされたクロ
濃ホル士相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶媒を
真空中で除き、そして得ら、れ九粗製油を１００−の無
水キシレン中に溶解遇せた。１７１Ｆ（α１１モル）の
−一炭酸エチルエステルを加え、そして内部温度をゆつ
くｐ高め、エタノールを一番最初にそしてその後キシレ
ンを蒸留した（約２〜３時間）０反応が終了した後に、
溶媒の半分を蒸留によｐ除去し、そして冷却した。
のり°°１“−で３回抽出し・そして−緒にされたクロ
濃ホル士相を無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶媒を
真空中で除き、そして得ら、れ九粗製油を１００−の無
水キシレン中に溶解遇せた。１７１Ｆ（α１１モル）の
−一炭酸エチルエステルを加え、そして内部温度をゆつ
くｐ高め、エタノールを一番最初にそしてその後キシレ
ンを蒸留した（約２〜３時間）０反応が終了した後に、
溶媒の半分を蒸留によｐ除去し、そして冷却した。
生成物を炉別しそしてｐ液を真空中でｓｏＣにおいて乾
燥すると、２１２ｆ （理論値の７＆３−）の融点１１
１１〜２０１ｔ：’を有する無色の結晶を生成し、それ
はエタノールから再結晶化でき九。
燥すると、２１２ｆ （理論値の７＆３−）の融点１１
１１〜２０１ｔ：’を有する無色の結晶を生成し、それ
はエタノールから再結晶化でき九。
ＣＩＨ，？Ｎ鵞Ｏ藝？（３Ｌ２Ｌ８）
Ｃ％ Ｈ％ Ｎ％
計算値：５（ＬＯ＆４１ １９丁
実測値：４１Ｌ１１ Ｌ４ ＆＠実施例３１
ＩＬｌｆｌ（α０５モル）の８−（４−ホルミル−フェ
ニル） −−ンゾキサゾール及びｌ＆６ｔ：：１： （αＯｓモル）の＊、−（４−シェドキシ−ホスホノメ
チルフェニル）−１１！、４−オキサジアゾリン−５−
オンをｌＯ〇−の無水ジメチルホをムアミド中に懸濁さ
せ、そして反応及び単一は実施例３０中に記されている
のと同じ方法で実施した。
ニル） −−ンゾキサゾール及びｌ＆６ｔ：：１： （αＯｓモル）の＊、−（４−シェドキシ−ホスホノメ
チルフェニル）−１１！、４−オキサジアゾリン−５−
オンをｌＯ〇−の無水ジメチルホをムアミド中に懸濁さ
せ、そして反応及び単一は実施例３０中に記されている
のと同じ方法で実施した。
ｌ翫２ｆ（１！論値の７甑７−）の式
の化合物の淡黄色結晶が得られ、それＨｔｚメチルホル
ムア電ドから再結晶化できた。融点：）１０’０ＣＨＩ
Ｒ（ＫＢｒ）： ８４１５ｍ−” 、１７ＩＯａｍ−”
、１６０５５１″ｌ ；紫外線吸゛収ｉＤＭＦ中）、λ
ａｘ 軍３６２ｎ惰。
ムア電ドから再結晶化できた。融点：）１０’０ＣＨＩ
Ｒ（ＫＢｒ）： ８４１５ｍ−” 、１７ＩＯａｍ−”
、１６０５５１″ｌ ；紫外線吸゛収ｉＤＭＦ中）、λ
ａｘ 軍３６２ｎ惰。
実施例３８
実施例３Ｇ中と同じ方法に従い、１４ＬＩＦ（α０５モ
ル）の２−（４−ホルミル−フェニル）−５−ｆＪｋ−
ａｌｌ ）’？クシ−ンゾキサゾール及び１５４Ｆ（（
１０８モル）の３−（４−ジェトキシ−ホスホノメチル
−フェニル） −ｘ、２．４−オキサジアゾリン−５−
オンから、１ｔｉＦ（１１論値の７＆［１の式 （３） の化合物の淡黄色結晶が得られ、それはジメチルアセト
アンドから再結晶化できた。融点〉３００Ｃ：ＩＲ（Ｋ
Ｂｒ）３４！Ｏａ＊−’ 、４７６ｓａｗ′’、１７３
Ｈａｍ−” 、１６００ｅｘｇ−” Ｈ紫外線吸収
（ＤＭＦ、中） λｗａｓ■３６４％漢。
ル）の２−（４−ホルミル−フェニル）−５−ｆＪｋ−
ａｌｌ ）’？クシ−ンゾキサゾール及び１５４Ｆ（（
１０８モル）の３−（４−ジェトキシ−ホスホノメチル
−フェニル） −ｘ、２．４−オキサジアゾリン−５−
オンから、１ｔｉＦ（１１論値の７＆［１の式 （３） の化合物の淡黄色結晶が得られ、それはジメチルアセト
アンドから再結晶化できた。融点〉３００Ｃ：ＩＲ（Ｋ
Ｂｒ）３４！Ｏａ＊−’ 、４７６ｓａｗ′’、１７３
Ｈａｍ−” 、１６００ｅｘｇ−” Ｈ紫外線吸収
（ＤＭＦ、中） λｗａｓ■３６４％漢。
１
実施例３３
＆６３ｔ （α０２モル）の化合物（３０）を１００−
の無水ジメチルホルムアミド中に懸濁させ、そして４Ｆ
（α０２１モル）の３’Ｏ−強度ナトリウムメチレート
溶諌を加え友、ＳＯＣで１時ｒ、Ｊｍ拌Ｌ＊ｆｆ１Ｋ、
！？ ４ ｔ （（ＬＯ２１モル）の２−アイオドデロ
ノ々ンを満々添加し、そして反応混合物を８０Ｃで４時
間攪拌した０反応混合物をｓｏＣでＦ別し、Ｆ液を濃縮
乾固し、そして５゜−の水及び１０ｔの濃酢酸で処理し
た。生成物を炉別し、ｖ液を真空中でｓｏＨにおいて乾
燥すると、ａｉＦ（理論値のトーチ）の式 ％式％ の化合物の黄色の結晶粉末が生成し、それをジメチルア
セトアミドから再結晶化させることができ九（紫外線吸
収（ＤＭＦ）：λ −３７２１１ｇｘ ＩＲＣＫＢｒ）： ３４３Ｇａｍ−” 、１ ？７ｊＳ
ａｗ−’、１６０５３−’）。
の無水ジメチルホルムアミド中に懸濁させ、そして４Ｆ
（α０２１モル）の３’Ｏ−強度ナトリウムメチレート
溶諌を加え友、ＳＯＣで１時ｒ、Ｊｍ拌Ｌ＊ｆｆ１Ｋ、
！？ ４ ｔ （（ＬＯ２１モル）の２−アイオドデロ
ノ々ンを満々添加し、そして反応混合物を８０Ｃで４時
間攪拌した０反応混合物をｓｏＣでＦ別し、Ｆ液を濃縮
乾固し、そして５゜−の水及び１０ｔの濃酢酸で処理し
た。生成物を炉別し、ｖ液を真空中でｓｏＨにおいて乾
燥すると、ａｉＦ（理論値のトーチ）の式 ％式％ の化合物の黄色の結晶粉末が生成し、それをジメチルア
セトアミドから再結晶化させることができ九（紫外線吸
収（ＤＭＦ）：λ −３７２１１ｇｘ ＩＲＣＫＢｒ）： ３４３Ｇａｍ−” 、１ ？７ｊＳ
ａｗ−’、１６０５３−’）。
実施例３４
２０１ （α１１モル）の３０・チ強度ナトリウムメチ
レート溶液を！ｌ０ｃＫシいてｓｏ分以内（，１・Ｌ９
ｆ（αｏｓモル）の２−（４−ホル建ルーフェニル）
−５−メチル−碩ンゾキナゾール及び−ホスホノメチル
ーフェニル）１．２．４−オキサジアゾリン−５−オン
の１００−の無水ジメチルホルムアミド中懸濁液に満々
添加した。反応が完了する箋で混合物をＳＯ〜ｓｏＣで
約３時間攪拌した０次に＆４Ｆ （ｔＬＯ５５モル）の
α−プ勘モモ−酢酸メチルエステル加え、そして混合物
をｓｏＣで３時間攪拌し九、混合物を室温に冷却した後
に、２０ｆの濃酢酸を加え、黄色沈殿をＦ別し、Ｐ液を
水及びメタノールで洗浄し、そして真空中でｓｏＣに訃
いて乾燥し喪。収量：１に３ｆ（ＩＩ理論値６＆４％）
、の式 ％式％ の化合物、これはメチルグリコールから再結晶化できた
（紫外線吸収（ＤＭＦ：λ −３６４惰ａｚ ５惟）。実施例３０〜３４に記されているのと同じ方法
で、下記の化合物類力ｉ製造された。
レート溶液を！ｌ０ｃＫシいてｓｏ分以内（，１・Ｌ９
ｆ（αｏｓモル）の２−（４−ホル建ルーフェニル）
−５−メチル−碩ンゾキナゾール及び−ホスホノメチル
ーフェニル）１．２．４−オキサジアゾリン−５−オン
の１００−の無水ジメチルホルムアミド中懸濁液に満々
添加した。反応が完了する箋で混合物をＳＯ〜ｓｏＣで
約３時間攪拌した０次に＆４Ｆ （ｔＬＯ５５モル）の
α−プ勘モモ−酢酸メチルエステル加え、そして混合物
をｓｏＣで３時間攪拌し九、混合物を室温に冷却した後
に、２０ｆの濃酢酸を加え、黄色沈殿をＦ別し、Ｐ液を
水及びメタノールで洗浄し、そして真空中でｓｏＣに訃
いて乾燥し喪。収量：１に３ｆ（ＩＩ理論値６＆４％）
、の式 ％式％ の化合物、これはメチルグリコールから再結晶化できた
（紫外線吸収（ＤＭＦ：λ −３６４惰ａｚ ５惟）。実施例３０〜３４に記されているのと同じ方法
で、下記の化合物類力ｉ製造された。
た青色
Ｈｓ
４３ −＃−Ｈ
穴′ｗ８
実施例４９
２０２の亜りん酸トリエチルを１００ｃにおいて窒素下
で２１７２（α０８モル）の５−エトキシ−３−（４−
ツセモエチルーフェニル） −１゜２．４−オキサジア
ゾールの８０−の無水トルエン中溶液に、生成した７Ｐ
ｏモエタンが直ちに蒸留′。
で２１７２（α０８モル）の５−エトキシ−３−（４−
ツセモエチルーフェニル） −１゜２．４−オキサジア
ゾールの８０−の無水トルエン中溶液に、生成した７Ｐ
ｏモエタンが直ちに蒸留′。
除去されるような方法で、満々添加しえ、混合物を約１
００ＣにおいてＳ時間攪拌し、そしてトルエン及び過刺
の亜りん酸ニトリエチルを真空中で除″１： 去し喪。１０Ｇ−のジメチルホルムアミド及び２ Ｌ９
ｆ （ａｏ ８モｈ＞ （７）２− （４−ｙｈルｉ
ルーフェニル） −ナフト（１１！−ｄ）−１，１，３
−トリアゾールを残渣に加え九、５０Ｃにおいて１００
ｄ （０，，１モル）のナトリウムメチレート１モル溶
液を混合物に満々添加し、それを次に５０〜ＳＯＣで４
時間攪拌した。混合物を室温に冷却し、ｔＳｔ＜α１１
モル）の氷酢酸で中和し、そして戸別した。ｐｉｌｌを
エタノールで洗浄しそして真空中でＳＯＣにおいて乾燥
すると、２λ０ｆ（ｌ！理論値６Ｌ５慢）の式 （４９） の化合物の黄色結晶が生成し、それはクロロベンゼンか
ら再結晶化できた（紫外線吸収（ＤＭＦ中）λ ｍ
３７ Ｑ）”、Ｈ”、＠ ｍ） 、 ５−エトキシ−３
−（４雷１αｚ１；゛ −ブロモメチ袢フェニル）−１，Ｚ、ｔ−オキサジアゾ
ールは、８−（４−メチルーフエツル）ｔ、２．４−オ
キサジアゾール（Ｆ、 モｐイ（Ｘｊ＊ｙ）、Ａ、テ
リツケｋ （Ｄｅｒｙａｋａｒｅ）、Ａ。
００ＣにおいてＳ時間攪拌し、そしてトルエン及び過刺
の亜りん酸ニトリエチルを真空中で除″１： 去し喪。１０Ｇ−のジメチルホルムアミド及び２ Ｌ９
ｆ （ａｏ ８モｈ＞ （７）２− （４−ｙｈルｉ
ルーフェニル） −ナフト（１１！−ｄ）−１，１，３
−トリアゾールを残渣に加え九、５０Ｃにおいて１００
ｄ （０，，１モル）のナトリウムメチレート１モル溶
液を混合物に満々添加し、それを次に５０〜ＳＯＣで４
時間攪拌した。混合物を室温に冷却し、ｔＳｔ＜α１１
モル）の氷酢酸で中和し、そして戸別した。ｐｉｌｌを
エタノールで洗浄しそして真空中でＳＯＣにおいて乾燥
すると、２λ０ｆ（ｌ！理論値６Ｌ５慢）の式 （４９） の化合物の黄色結晶が生成し、それはクロロベンゼンか
ら再結晶化できた（紫外線吸収（ＤＭＦ中）λ ｍ
３７ Ｑ）”、Ｈ”、＠ ｍ） 、 ５−エトキシ−３
−（４雷１αｚ１；゛ −ブロモメチ袢フェニル）−１，Ｚ、ｔ−オキサジアゾ
ールは、８−（４−メチルーフエツル）ｔ、２．４−オ
キサジアゾール（Ｆ、 モｐイ（Ｘｊ＊ｙ）、Ａ、テ
リツケｋ （Ｄｅｒｙａｋａｒｅ）、Ａ。
Ｖａｎ Ｏｖｅｒｓｔｒａｇｔａ＊ Ｂｓ１ｌ、Ｓｕ
ｅ、Ｃｋｔｑ Ｂａ１１ｍ５７Ｂ （１９１９）４７
−５４参蝋〕から、公知の方法で四塩化炭素中でＮ−ツ
ー峰こはく駿イ建ｒを用いて臭素化することにより得ら
れた。
ｅ、Ｃｋｔｑ Ｂａ１１ｍ５７Ｂ （１９１９）４７
−５４参蝋〕から、公知の方法で四塩化炭素中でＮ−ツ
ー峰こはく駿イ建ｒを用いて臭素化することにより得ら
れた。
実施例５０
ＩＬ怠ｆ（α０５モル）の２−（４−ホルミル−フェニ
ル） −ベンゾキサソール及び１４ｚｔ（α０５４ル）
の５−エトキシ−３−（４−ｆＯモメチルフェニル）−
１，１４−オキナシアゾールから、ｌｓ、ｓｔ＜理論値
の７５１１１）０式の化合物が得られ、それはクロロベ
ンゼンから再結晶化できた（紫外線吸収＜ＤＭＩ’中）
λ −ｓ＠ｇ ３−０３渦。
ル） −ベンゾキサソール及び１４ｚｔ（α０５４ル）
の５−エトキシ−３−（４−ｆＯモメチルフェニル）−
１，１４−オキナシアゾールから、ｌｓ、ｓｔ＜理論値
の７５１１１）０式の化合物が得られ、それはクロロベ
ンゼンから再結晶化できた（紫外線吸収＜ＤＭＩ’中）
λ −ｓ＠ｇ ３−０３渦。
同様な方法で下記の化合物ｍも製造され九二実施例５Ｓ
１４１ｆ（ａ０８％＃）Ｏ化合物４・を１（１・−のジ
メチルホルムア建ド中で還流しながら８時開加熱した。
メチルホルムア建ド中で還流しながら８時開加熱した。
ｉｉｔ温に冷却し九＊に、５０ｓ［）メタノールを加え
、沈殿した生成物をＰ別し、メタノールで洗浄し、そし
て真空中で５ｏＣＫをいて乾燥した。
、沈殿した生成物をＰ別し、メタノールで洗浄し、そし
て真空中で５ｏＣＫをいて乾燥した。
１１１（ｍ論値のγ＆９−）の式
（）
Ｏ化合物が得られ、それはジメチルアセトアンドから再
結晶化された（紫外線獣収（ＤＭＦ）中：λ −３
７３＠ｍ）。
結晶化された（紫外線獣収（ＤＭＦ）中：λ −３
７３＠ｍ）。
惧＠雰
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １式 、゛ 〔式中、Ａｄ準芳香族性の複′１ｇ環式基を表わめ基會
表わし、 ％は０、ｌ、２ｔｆｃは３、好適には０−１１゜ｔ−表
わし、 − Ｒ８は水素、ＣＮ、Ｒ，−ＣＯＲ，５０，Ｒ。 Ｃ０ＯＲ，Ｃ０ＮＨＲ１たはＣＯＮ （ＪＲ’）、を表
わし、 Ｒ，Ｆｉ水素、八ｃ１４７’ ン、−ＯＲ，−ＮＨＲ。 −Ｎ（Ｒ’）＊ま九は１７ＨＣＯＲを表わし、Ｒ′はデ
ルキルを表わし、そして ＲはＲ′、アルケニル、アラルキル、シクロアルキルを
九は了り−ルを表わし、 ことでＡ、Ｂ、Ｒ’及びＲは光学的明色化剤化学で一般
的な他の非発色性置換基類を有することができ秦〕 の化合物。 ２ Ａが１−２ ＃ ４−オキサジアゾール、ｌ。 ３．４−オキサジアゾール、１．２．３−）リアゾール
基、或いは□任意に１もしくは２個の′Ｃ３〜Ｃ４−ア
ルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、ｌもしくは２個の塩
素、ベンジル、フェニル、フクロヘキシル、Ｃ１〜Ｃ４
−アルキルスルホニルまたはＣ１〜Ｃ４−アルコキシカ
ルがニルにより置換されていてもよいベンゾキサゾール
、ペンツ（ｂ）７ラン、ベンゾ−８−トリアゾール、ナ
フト−８−、トリアゾール、５−フェニル−１，３，４
−オキサジアゾール、５−フェニル−１，！、４−オキ
サジアゾールマタハ３−フェニル−１，２，４−オキサ
ジアゾール基を表わし、そして の基（またはこれらの２８１１の混合物）を表わし、′
＋１．′ ここでＲ１が水素、アリ＋ＳＣ宜〜Ｃ４−７ルｗ キ、
ｙ・１１ カル−ニル、任意にヒドロキシル、アセトキシ、Ｃ１〜
Ｃ４−アルコキシ、フェノキシ、塩素、シアノ、スルホ
もしくはＣＦ、によシ置換されていてもよい〜（１’４
−フルコキシ、ＣｌＮＣ４−アルコキシカルがニル、シ
アノもしくは塩素によシ置換されていてもよいベンジル
もしくはベンゾイル基を表わす、ことを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の化合物。 ＬＡが特許請求の範囲第２項記載の意味を有の基を表わ
し、 ここでＲ′茸が水素、塩素、アミノ、０１〜（：、−７
ルヤ、アオ７、六゛１．ア、□□銚 、：、″ −（ＯＣＲ，Ｃ馬−−Ｑ− の基を示し、 Ｗが水素、任意に塩素もしくはシアノによシ置換されて
いても、よいＣ３〜Ｃ０−アルキル、ベンジル、シクロ
ヘキシルまたはフェニルを示し、そして 気がＯ〜７の整数を示す、 ことを特徴とする特許り求の範囲第１又は２項記載の化
合物。 瓜 Ａが特許請求の範囲第２項記載の意味を有し、 ここでＲ８が水素、任意にヒドロキシル１．Ｃ３〜ら一
アルコキシ、塩素、シアノ、’１〜ら−アルコキシカル
ボニルもしくはフェニルにより置換されていテモよい０
１〜Ｃ４アルキルを示す、ことを特徴とする特許請求の
範囲第ｌ又は２項記載の化合物。 ＆ Ａが式 ％式％ ここでｎ、はｌであシ、 ｒｌは水素、Ｃ，Ｃ，−アルキル、シクロヘキシル、Ｃ
ｌＮＣ４−アル；キシ、塩素、ベンノル、フェニル、０
１１％−Ｔｅ３−アルコキシカルがニルｔ７ｔｔ！’ｓ
〜Ｃ４−フルキルスルホニルを示し、 ｒｌは水素、Ｃ１〜Ｃ１−アルキ、ル、塩素またはＣ８
〜Ｃ４−アルコキシを示し、 Ｖｓｒｉ水素、’ｌ〜Ｃ４−アルキルまた。は塩素を示
し、そして Ｃ４は任意にＣ１〜Ｃ４−フルーキシ、ヒドロキシル、
塩素もしくはシアノによりＩｉ換されていてもよいＣ，
、Ｃ・−アルキル；ベンジル、シクロヘキシルま喪はフ
ェニルを示す、 ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ａ７が任意に前記の特許請求の範囲中で示されている如
くして置換されていてもよいベンゾキサゾール−２−イ
ルまたはベンゾ−８−トリアゾール−２−イルを表わす
、 ことを特徴とする特許請求の範囲第１−８項のいずれか
に記載の化合物。 ７、式 〔式中、ｒｌは水素、メチルまたは塩素を表わし、そし
て ｒ４はメチル、エチル、ｙｓ−７’ａビル、イの、特許
請求の範囲第１項記載の化合物。 ａ式 の、特許請求の範囲第１項記載の化合物。 叡 特許請求の範囲１１１項記載の化合物の、光学的明
色化剤またはレーデ−染料としての使用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE32030584 | 1982-01-30 | ||
| DE3203058 | 1982-01-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58134151A true JPS58134151A (ja) | 1983-08-10 |
Family
ID=6154329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58010001A Pending JPS58134151A (ja) | 1982-01-30 | 1983-01-26 | アゾリルスチリル化合物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4510311A (ja) |
| EP (1) | EP0086946B1 (ja) |
| JP (1) | JPS58134151A (ja) |
| DE (1) | DE3362221D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5365801A (en) * | 1992-03-05 | 1994-11-22 | Nikon Corporation | Coarse/fine adjustment of a rotary body |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2002364036A1 (en) | 2001-12-24 | 2003-07-15 | Digimarc Id Systems, Llc | Laser etched security features for identification documents and methods of making same |
| CA2469938C (en) * | 2001-12-24 | 2009-09-15 | Digimarc Id Systems, Llc | Laser engraving methods and compositions, and articles having laser engraving thereon |
| ATE555911T1 (de) | 2001-12-24 | 2012-05-15 | L 1 Secure Credentialing Inc | Verfahren zur vollfarb-markierung von id- dokumenten |
| US7694887B2 (en) | 2001-12-24 | 2010-04-13 | L-1 Secure Credentialing, Inc. | Optically variable personalized indicia for identification documents |
| US7728048B2 (en) | 2002-12-20 | 2010-06-01 | L-1 Secure Credentialing, Inc. | Increasing thermal conductivity of host polymer used with laser engraving methods and compositions |
| AU2002364255A1 (en) | 2001-12-24 | 2003-07-15 | Digimarc Id Systems, Llc | Covert variable information on id documents and methods of making same |
| WO2003088144A2 (en) | 2002-04-09 | 2003-10-23 | Digimarc Id Systems, Llc | Image processing techniques for printing identification cards and documents |
| US7824029B2 (en) | 2002-05-10 | 2010-11-02 | L-1 Secure Credentialing, Inc. | Identification card printer-assembler for over the counter card issuing |
| US7804982B2 (en) | 2002-11-26 | 2010-09-28 | L-1 Secure Credentialing, Inc. | Systems and methods for managing and detecting fraud in image databases used with identification documents |
| US7763179B2 (en) * | 2003-03-21 | 2010-07-27 | Digimarc Corporation | Color laser engraving and digital watermarking |
| EP1614064B1 (en) | 2003-04-16 | 2010-12-08 | L-1 Secure Credentialing, Inc. | Three dimensional data storage |
| JP2007532658A (ja) * | 2004-04-16 | 2007-11-15 | スミスクライン ビーチャム コーポレーション | がんの治療方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH362084A (de) * | 1956-10-04 | 1962-05-31 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Stilbentetrazolen |
| CH420046A (de) * | 1964-09-14 | 1967-03-15 | Ciba Geigy | Verwendung von neuen 4-Azolyl-4'-oxdiazolyl-stilbenen als optische Aufhellmittel für textile organische Materialien |
| BE758359A (fr) * | 1969-11-03 | 1971-04-16 | Bayer Ag | Eclaicissants de la serie des oxadiazolylstyrylbenzotriazols |
| CH550817A (de) * | 1970-10-01 | 1974-06-28 | Ciba Geigy Ag | Verfahren zur herstellung von stilben-derivaten. |
| CH620323B (de) * | 1976-03-26 | 1900-01-01 | Ciba Geigy Ag | Verwendung von neuen 4-(v-triazolyl)-styrylverbindungen zum optischen aufhellen von organischen materialien. |
| LU77016A1 (ja) * | 1977-03-25 | 1978-11-03 | ||
| LU77024A1 (ja) * | 1977-03-25 | 1978-11-03 | ||
| DE2860264D1 (en) * | 1977-11-16 | 1981-01-29 | Hoechst Ag | Diamino-1,3,5-triazinylstilbene compounds, a process for their preparation and their use as optical brighteners |
| EP0006171B1 (de) * | 1978-06-09 | 1982-07-28 | Hoechst Aktiengesellschaft | Neue Stilbenverbindungen, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung als optische Aufheller |
| DE2833470A1 (de) * | 1978-07-29 | 1980-02-07 | Hoechst Ag | 1,3,4-oxadiazolon(2)-verbindungen und verfahren zu deren herstellung |
| US4297234A (en) * | 1979-05-17 | 1981-10-27 | Ciba-Geigy Corporation | Benzoxazolyl-stilbenes |
| DE2926234A1 (de) * | 1979-06-29 | 1981-01-15 | Hoechst Ag | Neue stilbenverbindungen, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung als optische aufheller |
-
1983
- 1983-01-14 US US06/458,085 patent/US4510311A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-01-15 DE DE8383100330T patent/DE3362221D1/de not_active Expired
- 1983-01-15 EP EP83100330A patent/EP0086946B1/de not_active Expired
- 1983-01-26 JP JP58010001A patent/JPS58134151A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5365801A (en) * | 1992-03-05 | 1994-11-22 | Nikon Corporation | Coarse/fine adjustment of a rotary body |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0086946B1 (de) | 1986-02-26 |
| US4510311A (en) | 1985-04-09 |
| DE3362221D1 (en) | 1986-04-03 |
| EP0086946A1 (de) | 1983-08-31 |
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