JPS58129345A - 溶存酸素の除去法 - Google Patents
溶存酸素の除去法Info
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- JPS58129345A JPS58129345A JP1154582A JP1154582A JPS58129345A JP S58129345 A JPS58129345 A JP S58129345A JP 1154582 A JP1154582 A JP 1154582A JP 1154582 A JP1154582 A JP 1154582A JP S58129345 A JPS58129345 A JP S58129345A
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- dissolved oxygen
- aqueous solution
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- deoxidizing
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
- G01N27/28—Electrolytic cell components
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は水溶液中の溶存酸素の除去法に係り、特に、流
通式で電気化学分析法に用いる試料、液体クロマトグラ
フ法の溶lIl液、金塊の防食に好適な水溶液中の溶存
酸素の除去法に関する。
通式で電気化学分析法に用いる試料、液体クロマトグラ
フ法の溶lIl液、金塊の防食に好適な水溶液中の溶存
酸素の除去法に関する。
従来、腐食実験や液体クロマトグラフ法では水溶液中の
溶存#*の除去に真空脱気法、加熱法、不活性ガスバブ
リング法等の機械的方法を用いており、又電気化学分析
法では還元性溶液を添加する化学的方法によっている。
溶存#*の除去に真空脱気法、加熱法、不活性ガスバブ
リング法等の機械的方法を用いており、又電気化学分析
法では還元性溶液を添加する化学的方法によっている。
機械的方法は脱気装置が大型になり、化学的方法は溶液
の性状が変化するとともにいずれも間欠的であるという
欠点がめる。又、A、TR0JA’NEK等によって無
酸素の窒素ガス雰囲気におかれたシリコンゴムチューブ
内を供試料溶液を流通しなから溶存酸素を連続的に除去
する方7法が発表されている。(人nal。
の性状が変化するとともにいずれも間欠的であるという
欠点がめる。又、A、TR0JA’NEK等によって無
酸素の窒素ガス雰囲気におかれたシリコンゴムチューブ
内を供試料溶液を流通しなから溶存酸素を連続的に除去
する方7法が発表されている。(人nal。
Chim4cta、 1,21.23−28 (198
0) ) コの方法は不活性ガス甲のrIk素の除去や
ボンベの設置など除去装置が大型になる欠点がある。
0) ) コの方法は不活性ガス甲のrIk素の除去や
ボンベの設置など除去装置が大型になる欠点がある。
このため、溶液の性状をそこなわずに簡便に水溶液中の
溶存酸素全連続的に除去できる方法があれは好都合であ
る。
溶存酸素全連続的に除去できる方法があれは好都合であ
る。
本発明の目的は供試料水溶液の性状をそこなわずに、連
続的かつ簡便に溶存酸素を除去する方法1に提供するこ
とにある。
続的かつ簡便に溶存酸素を除去する方法1に提供するこ
とにある。
ヘンリーの法則によnV!、−足の温度で一定量の成体
に#解する気体の質量はその気体の分圧に比例すること
が知られている。従って、水溶液中に溶解している1i
II素(気体)を除去するためには液体と接触している
気体の分圧(濃度)を小さくすれはよいことになる。即
ち、供試料水溶液と不活性カスで機うことである程度こ
の目的が達成される。一方、烏分子膜のなかで水分子は
移動しないがカス状分子を通過式せる四フッ化エチレン
膜のような多孔性疎水mがある。この疎水膜で供試料を
橿いさら罠疎水膜の周囲を無酸素カス又は溶液で包むこ
とでも供試料中の溶存t&素は除去さnる。この原理に
基っくものとしては無酸素ii!素ガス中yc*かnた
シリコンカムチュー1FF3を試料を流通させて連続的
に溶存酸素を除去する方法や隔膜式溶存酸素分析計かめ
る。本発明は、還元剤で水浴液中の溶存酸素2還元した
浴存酸素撫度が零の水溢赦甲と供Kl+水fIt液を四
フン化エチレンのような多孔性疎水膜を介して接触させ
ることで供試料水溶液中の溶存酸素を還元性溶液中に移
動させながら除去することを可能にするものである。
に#解する気体の質量はその気体の分圧に比例すること
が知られている。従って、水溶液中に溶解している1i
II素(気体)を除去するためには液体と接触している
気体の分圧(濃度)を小さくすれはよいことになる。即
ち、供試料水溶液と不活性カスで機うことである程度こ
の目的が達成される。一方、烏分子膜のなかで水分子は
移動しないがカス状分子を通過式せる四フッ化エチレン
膜のような多孔性疎水mがある。この疎水膜で供試料を
橿いさら罠疎水膜の周囲を無酸素カス又は溶液で包むこ
とでも供試料中の溶存t&素は除去さnる。この原理に
基っくものとしては無酸素ii!素ガス中yc*かnた
シリコンカムチュー1FF3を試料を流通させて連続的
に溶存酸素を除去する方法や隔膜式溶存酸素分析計かめ
る。本発明は、還元剤で水浴液中の溶存酸素2還元した
浴存酸素撫度が零の水溢赦甲と供Kl+水fIt液を四
フン化エチレンのような多孔性疎水膜を介して接触させ
ることで供試料水溶液中の溶存酸素を還元性溶液中に移
動させながら除去することを可能にするものである。
さらに、供試料水溶液中の溶存酸素を連続的に除去する
ためには、亜硫酸塩溶液、亜硫酸水素塩浴液、ヒトラジ
ウム塩溶液、第一バナジウム塩溶液等で溶存酸素を還元
した還元性溶液中に四フッ化エチレン展のような多孔性
疎水膜のチューブ内を供試料を流通させながら供試料中
の溶存酸素を還元性溶液中に移動させることが可能にな
る。
ためには、亜硫酸塩溶液、亜硫酸水素塩浴液、ヒトラジ
ウム塩溶液、第一バナジウム塩溶液等で溶存酸素を還元
した還元性溶液中に四フッ化エチレン展のような多孔性
疎水膜のチューブ内を供試料を流通させながら供試料中
の溶存酸素を還元性溶液中に移動させることが可能にな
る。
以下、本発明の一誕施例t−第1図により説明する。#
!1図°において、1は還元性溶液(0,2%亜vt酸
す) IJウム溶液)、2は還元浴液送液ポンプ、3は
説&素槽、4は多孔性疎水膜チューブ(GOR−TEX
、内径1■、長さ1m)、5は試料水溶液、6は試料供
給ポンプ、7は溶存酸素計、8はステンレスパイプ、9
は説#I!累水溶液である。
!1図°において、1は還元性溶液(0,2%亜vt酸
す) IJウム溶液)、2は還元浴液送液ポンプ、3は
説&素槽、4は多孔性疎水膜チューブ(GOR−TEX
、内径1■、長さ1m)、5は試料水溶液、6は試料供
給ポンプ、7は溶存酸素計、8はステンレスパイプ、9
は説#I!累水溶液である。
還元性溶液lは還元溶液送液ポンプ2で@&素櫓3に連
続的に送る。次に、試料水#!液5t−賦科供給ボンブ
6で脱rR累!113の中におかれた多孔性疎水111
fユ−フ4、浴存酸紮計7、ステンレスバイブ8に送液
すると脱酸素水#Igが連続的に生成される。また、試
料水溶液5中の溶存酸素は、脱酸素槽3で還元性浴液1
と多孔性疎水膜4を介して接触き1ているので、無II
!累の還元性溶液l中に移動するとともに還元されるこ
とから脱酸素水溶a9を連続的に得ることができる。
続的に送る。次に、試料水#!液5t−賦科供給ボンブ
6で脱rR累!113の中におかれた多孔性疎水111
fユ−フ4、浴存酸紮計7、ステンレスバイブ8に送液
すると脱酸素水#Igが連続的に生成される。また、試
料水溶液5中の溶存酸素は、脱酸素槽3で還元性浴液1
と多孔性疎水膜4を介して接触き1ているので、無II
!累の還元性溶液l中に移動するとともに還元されるこ
とから脱酸素水溶a9を連続的に得ることができる。
第2図は一実施例による溶存酸素の除去効果を示す図で
ある。空気の飽和水溶液である供試料水溶液5(溶存酸
素8.4pl)m% 23C)を第1図の一実施例の試
料供給ポンプ6での流量を0.5〜3mtZ分の範囲で
変化させ、溶存徹素計7で流出液の酸素濃ft測定し九
結果である。流量が0.5 m 11分で初期濃度が&
4pm)mでめる溶存酸素がO59pmの脱酸素水9が
得られることが分る。なお、流量を低くする代りに多孔
性疎水膜チューブの長さを長くしても同様に溶存酸素の
除去率を高めることができる。
ある。空気の飽和水溶液である供試料水溶液5(溶存酸
素8.4pl)m% 23C)を第1図の一実施例の試
料供給ポンプ6での流量を0.5〜3mtZ分の範囲で
変化させ、溶存徹素計7で流出液の酸素濃ft測定し九
結果である。流量が0.5 m 11分で初期濃度が&
4pm)mでめる溶存酸素がO59pmの脱酸素水9が
得られることが分る。なお、流量を低くする代りに多孔
性疎水膜チューブの長さを長くしても同様に溶存酸素の
除去率を高めることができる。
第1表は一実施例による別の効果を示す図である。純水
からなる供試料水溶液全第1図実施例により4た脱酸素
水9を分析した結果である。
からなる供試料水溶液全第1図実施例により4た脱酸素
水9を分析した結果である。
111表
分析し九N a” m Boa”−e 80m”−iイ
ずし40.01ppm以下であり、還元性溶液1(0,
2%亜硫酸水溶液)から脱酸素水溶液の混入Fiないこ
とが分る。
ずし40.01ppm以下であり、還元性溶液1(0,
2%亜硫酸水溶液)から脱酸素水溶液の混入Fiないこ
とが分る。
本実施例によれは、供試料水溶液の性状をそこなわずに
連続的に脱酸素水を得ることができる。
連続的に脱酸素水を得ることができる。
本発明によれば、供試料水溶液の性状をそこなわずに脱
酸素溶液を連続的に得ることができるので、電気化学反
応における試料の脱酸素、液体クロマトグラフィーにお
ける溶離液の脱気、腐食実験に用いる水溶液の脱酸素が
容易に行う効果がある。
酸素溶液を連続的に得ることができるので、電気化学反
応における試料の脱酸素、液体クロマトグラフィーにお
ける溶離液の脱気、腐食実験に用いる水溶液の脱酸素が
容易に行う効果がある。
さらに、脱酸素水を任意の長さの多孔性疎水膜を通すこ
とで任意の酸素員度の水溶液を得ることができる効果が
める。
とで任意の酸素員度の水溶液を得ることができる効果が
める。
第1図は本発明の一実施例を示す図、第2図は一実施例
の効果を示す図である。 1・・・還元性溶液、2・・・還元溶液送液ポンプ、3
・・・脱酸素槽、4・・・多孔性疎水膜チューブ、5・
・・試料水溶液、6・・・試料供給ポンプ、7・・・溶
存酸素計、め1の 萬2母 遭 量 (〃糺Jシ99・)
の効果を示す図である。 1・・・還元性溶液、2・・・還元溶液送液ポンプ、3
・・・脱酸素槽、4・・・多孔性疎水膜チューブ、5・
・・試料水溶液、6・・・試料供給ポンプ、7・・・溶
存酸素計、め1の 萬2母 遭 量 (〃糺Jシ99・)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、水ffi液中の溶存酸素の除去法において、供試料
水溶液と低濃度溶存酸素水溶WLt−多孔性疎水膜倉介
して接触させることを%徴とする溶存酸素の除去法。 2、、%許精求の範囲第一項において、低濃度溶存酸素
水浴液中におかnた多孔性疎水膜からなるチューブ中を
供試料水溶液を流通させること1に%黴とする溶存酸素
の除去法。 3、%rf請求の範囲第一項において、低濃度溶存酸素
水溶液として亜硫酸塩溶液、亜硫酸水素塩溶液、ヒトラ
ジウム溶液、第一バナジン酸塩溶液等の還元性溶液を用
いることを%徴とする溶存酸素の除去法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1154582A JPS58129345A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | 溶存酸素の除去法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1154582A JPS58129345A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | 溶存酸素の除去法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58129345A true JPS58129345A (ja) | 1983-08-02 |
Family
ID=11780926
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1154582A Pending JPS58129345A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | 溶存酸素の除去法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58129345A (ja) |
-
1982
- 1982-01-29 JP JP1154582A patent/JPS58129345A/ja active Pending
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