JPS58127370A - 固体撮像装置 - Google Patents

固体撮像装置

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JPS58127370A
JPS58127370A JP57009666A JP966682A JPS58127370A JP S58127370 A JPS58127370 A JP S58127370A JP 57009666 A JP57009666 A JP 57009666A JP 966682 A JP966682 A JP 966682A JP S58127370 A JPS58127370 A JP S58127370A
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JP
Japan
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electrode
voltage
potential
signal
semiconductor region
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Application number
JP57009666A
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English (en)
Inventor
Hiroshige Goto
浩成 後藤
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/148Charge coupled imagers
    • H01L27/14825Linear CCD imagers

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は園体撮fI1懐置に係シ、特に高精度および高
速度が要求される機器に好適な固体撮像装置に関する。
一般κ、固体撮像装置(デバイス)をカメラ等に搭載し
、被写体光度の大きく異なるものを撮倫する・場合、デ
バイスからの信号出力を適正に保つ丸めに種々の方策が
とられる。例えば、光度の大きい被写体に対してはその
前段に光量フィルタを入れたり、また被写体により光電
流の積分時間(以下単κ横分時間と称する)を変えて発
生する信号電荷七一定量に制限する等がなされている.
しかし、被写体によって積分時間を変えて適正な信号電
荷を得る場合KFi、高精度かつ迅速な動作がデバイス
に要求される場合、必ずしも妥当な方法がとられてきた
とは言えな込。
このような場合、従来は@1図に示すような方法がとら
れてきた.すなわち、JII1図0》に示すように一連
の感光画素列1とは別に、例えば光ダイオード2等の第
2の感光部を設け、この感光部の光電流を検出回路1に
て常時監視し、その検出電流の大小に応じて積分時間設
定回路4にて積分時間を決定するようκしている.この
方法は、感光画素の被写体光度と光ダイオード2の被写
体光度とが一致せず、必ずしも両者が同じ被写体を見て
いるとは限らず、高精度化に難点がある。
また、第11伽)においては、感光画素列1からの出力
を読み出し回路5にて読み出し、その出力が適正か否か
を判定回路6Vcて判断し、出力が過剰の場合は積分時
間設定回路4の積分時間を短かくシ、逆に出力が過少の
場合は積分時間を長くなるようκフィードパノクループ
を構成している.この方法では、一度信号を読み出し、
その出力によって積分時間を決定するために動作上破壊
的で69、時間遅れができ、被写体光度が刻=刻と変化
する様な場合には必ずしも追随できず、高速性に難点が
ある。
本発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、感光画素
によって発生した信号電荷の量の最大値を非破壊的に検
出して、この検出電圧が設定最大電圧に到達すゐ迄を積
分時間と決定するように構成することによって、高精度
かつ高速度の処理が実施できる固体撮像装置を提供する
ことを目的とする。
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する.第
2図に示す固体撮像装置において、)ハ〜11.は一導
電型の半導体基板上に設けられ、咳基板と逆導電型の不
純物を高濃度に含み光電変換を行なう複数個の感光II
ii索である.この感光111〜11sは、適宜その上
にスリット等が設けられ、外部の光ノ9ターンに感応す
るようになされており、また図ては3個の感光画素で示
しているがこれは任意の数に拡張可能である* 125
〜17!.は上記半導体基板上に絶縁膜を介して設けら
れ、上記感光画素1ハ〜1ハからの信号電荷を蓄積する
蓄積電極、ISはこれら蓄積電極12.〜123からの
信号竃′IfIを転送するための移送電極、14はこの
移動電極IJによる信号電荷の転送路を形成するCCD
レジスタ、15はζのCODレジスタ14から転送され
てきた信号電荷を信号電圧に変換する電荷電圧変換部、
161〜16.は上記各蓄積電極121〜12、とそれ
ぞれ共通結線され、互いに分離して設けられた例えばポ
リシリコンを用いたr−}電極、171〜17.はこれ
ら各r−}電極161〜163にそれぞれ接続され、こ
れらのf−}電極161〜1g.を直流電圧Ebに電位
設定するMOB 、’uイ7+、I Jl e J 5
1は上記r一ト電極161〜16mの配列両端に設けら
れ、前記半導体基板と逆導電型の不純物を高談度に含む
w41。
第2半導体領域、20はとのag2半導体領斌19に@
接して設けられ、前記半導体基板と逆導電型の不純物を
低濃度に含み、抵抗層を形成する半導体領域、21はこ
の半導体領域20に隣接して設けられ、前記半導体基板
と逆導電型の不純物を高濃度に含む第3半導体領域であ
る。
この第3半導体領域21には直流電圧Ecが印加され、
第1半導体領域19には直流電圧E1が印加されるよう
になっている。さらに、22はf−)が上記第2半導体
領域19に、ドレインが電源eに、ソースが抵抗Rを介
して接地にそれぞれ接続されるソースフォロワ回路、2
3はこのソースフォロワ回路22からの出力によって前
記移送電極13t−開状mまたは閉状態に設定するため
の開閉パルスを発生する同期開閉信号発生部である。
上記第2図の装置においては、前記一連のゲート電@1
6I〜limの各々の電位を予しめ設定された外部電圧
1bK設定してダート電極161〜J1stフローテ4
7グ状111KI、、全てoy−ト電極161〜163
について同期して電位制御すると共に前記半導体領域1
tteis間のコンダクタンスを検知し、検知したコン
ダクタンスの値に応じて半導体領域19の電位変動を検
出し、この電位変動を高入力インピーダンス増幅器であ
るソースフォロワ回路22によって検出し、この検出レ
ベルに応じて前記同期開閉信号を発生せんとするもので
ある。なお、各蓄積電極121〜123間には互に電荷
の流入t−阻止するためのバリア領域、たとえばp中不
純物領域が形成されているが、各r−ト電極161〜1
61間には第4図に示すように基板とは逆導電型の真領
域24もしくは第4図中点線で示すような電極26(直
流電圧のが印加される)が設けられてチャネをの導通に
支障が生じないようになっている。
次に、上記構成の動作を説明する。上記各yosスイッ
チJ 71 %173の各r−トは第3図に示すよりな
ノ4ルスP1が印加され、このパルスP1が印加されて
いる時間だけMOSスイッチ11゜〜17.がオン動作
して各f−)電極161〜16sの電位を直流電圧Eb
に設定する。また、信号発生部2Sからの開閉パルスP
1は第3図に示すようなハイレベルH,ローレベルLの
2値パルスであり、これらのパルスPg、P、はいずれ
もハイレベルの期間において移送電極13を開き、MO
SスイッチJ 71 %1 ysを導通させるものであ
る1時刻t・においては、移送電極1sは開閉パルスp
lによって開き、各MO8スイッチ171〜J7sはノ
タルスP1によって導通し、これによって各ゲート電l
1Ill〜16m及び蓄積電極12凰〜121が直流電
圧EbtlC設定される。この電圧設定後の時刻t1で
はMOBスイッチ171〜77、がオフ状態になり、e
−)電極161〜161および蓄積電極121〜IIm
が電気的70−ティング状態となる。この時点1.にお
いては、それ以前に感光画素111〜11sKよって発
生して蓄積電極121〜123に蓄積されていた信号電
荷はCCDレジスタJ4に移送され、さらに電荷電圧変
換部15に順次転送され、電荷量に対応した信号電圧に
変換されている。また、上記時刻t1では、感光画素1
1.〜11.にあ九る光により発生した信号電荷は蓄積
電極121〜121下の空乏層に流入し始める(つt9
積分の開始が始まる)、このとき、蓄積電極121〜1
21およびf−)電極161〜16sは電気的フローテ
ィング状態となっているので、この電荷の流入によって
その電位を変化する。今、半導体基板としてp型を用い
、流入する信号電荷を電子と仮定すれは、蓄積電極72
1の電位は設定電位である直流電圧値Ebより小さくな
り、かつその電位変化量は電極121下の空乏層に流入
した信号電荷の総量に比例する。一方、r−)電極16
1はこの蓄積電極12.と共通結線されているために、
該r−)電極161の電位も同様に蓄積電極121下の
空乏層に流入した信号電荷の総量に比例した電圧の下降
を引き起す、同様のことは蓄積電極12.とf−)電極
16mおよび蓄積電極123とf−)電極16mとの組
についてもいえる。
つまり、積分を開始した時点t1よF)’r’−)電極
161〜16sの電位は直流電圧値Ebよシ下降し始め
、その下降量はおのおの蓄積電極121〜12.  下
に蓄積された信号電荷の総量に比例する。この状態は第
3図に示すように時刻t!においても継続している。
以上の説明を次に数式を用い、第4図の断面図とそのI
テンシャル図を参照して説明する。
今、r−ト電極161〜Igsのそれぞれの電位1kV
B * Vs # Vlとし、蓄積電極121〜12.
下にある信号電荷量をそれぞれQs 、Qm−Qsとす
る。さらK、直流電圧の関係をE、)E、としておく、
第3図の時刻tlにおいては、ダート電極1 gm 〜
1 i=の電位v1 p v雪* v、は全テEbニな
っている0次に、信号電荷が蓄積されるにつれf−)電
極161〜limの電位は %J =Eb−(IQl(1=1.2.3 )−−−−
−−(t)と費わされる。但しαは共通の比例定数とす
る。
これらダート電極1#1〜161下には上記(1)式の
電位v1 ? Vs e Vz K応じたポテンシャル
井戸が生じる。今、このIテンシャル井戸の深さをそれ
ぞれφ凰、φ!、φ3とすると、ポテンシャル井戸の深
さφiはA、Bを共通の定数としてφl=A+BV1 
(1=1.2.3)−(2)と光わされる。従って、上
記(2)式に(1)式を代入すると、 φ1=A十B(Eb−αQl) =A+BEb−BαQi (i=1.2.3)・・・(
3)となる。すなわち、ポテンシャル井戸の深さφiは
流入する信号電荷量Qiに応じて減少する。この場合、
第4図に実線で示すように直流電圧E。
が各ダート電極161〜16.下の井戸の深さφl、φ
露、φ3の最小値より小さいとき、即ちE、(Min(
φl、φ3.φS)のとき、半導体領域18.19間の
チャンネルは開き、半導体領域18.19間は低抵抗と
なる。従って、電荷はこのチャンネルを通って半導体領
域1gの方向に流入する。逆にE、 )Mlm (φ1
.φ3.φ&)のとき、たとえば第4図に示すようにf
f−)電極16m下の井戸の深さφ寓が図示点線位置の
とき、半導体領域111.19間のチャンネルは閉じ、
半導体領域III、19間は高抵抗となる。従って、電
荷はf−)電極16.のチャンネルによってストップさ
れ、半導体領域19方向には流入されない。これらの事
と前記(3)式とを組合せると次の事が舊える。つマシ
、各電荷Ql −Qm 、Qsの中の最大のものに対す
るポテンシャル井戸の深さφが直流電圧E、よシ大きい
とき半導体領域18.19間は低抵抗、逆に直流電圧E
1より小さいとき半導体領域ta、io間は高抵抗とな
る。換舊すれば、蓄積されている電荷の最大量が直流電
圧E、によりて決まる闇値を越えると、半導体領域11
4.19間は高抵抗、逆に闇値以下だと半導体領域18
.19間は低抵抗となる。この半導体領域19の電位は
、電圧Ea、Eg間電圧を低電圧層2oと半導体領域1
8.19間のチャンネルコンダクタンスで分圧したもの
で与えられる。従って、ソースフォロワ回路22の出力
は信号電荷量Q10中の最大値が直流電圧E、によって
きまる闇値以下だとロウレベル、その閾値を越えて半導
体領域18.1f1間のチャンネルが遮断されるとハイ
レベルとなる0例えば時刻tsは、信号電荷量Qiの中
の最大値が電圧E、によりて決まる闇値を越えてチャン
ネルが遮断され、ハイレベルとなった時点を示している
。この半導体領域19の電位変動はソースフォロワ回路
22によって検出され、同期開閉信号発生部23に伝え
られる。この同期開閉信号発生部2sは大刀がハイレベ
ルとなると開閉ノfルスP1を発生し、この・fルスP
3を移送電極13に供給してそのダートを開くので、蓄
積電極12凰〜12m下の信号電荷がレジスタ14へ移
送される。従って、信号電荷Qの最大値が電圧E、によ
って決まる閾値を越えると、信号電荷はレジスタ14に
読み出されることになる。つまり、信号電荷Qの最大値
を一定の閾値によって規定し、光の強弱によって自動的
に積分時間(t・〜ts )を調節する機能が実現され
ることになる。
上記実施例によれば、感光画素111〜11mによって
発生した信号電荷量の最大値を非破壊的に検出し、これ
が設定され九最大値に到達した場合に直ちに積分を終了
し、蓄積信号電荷をCCDCDレジスタ1移送して出力
するようKしているので、関与する被写体光度で信号処
理ができ、デバイスからの出力電圧を過少あるいは過大
とすることなく高精度に動作させることができる。さら
に、積分時間の設定は時間遅れがなく、迅速な動作が可
能となる。
なお、本発明は上記実施例に限定されることなく、種々
変形して実施できる0例えばr−)電l11g1〜16
.は空間的に間隙を設けて示しているが、これらは適宜
オーバーラツプさせる構成とする方が好ましい。さらに
、r−)電極J61〜163下は表面チャンネルで本埋
込みチャンネル構造でも良い。また、低抵抗層20、半
導体領域21、ソースフォロワ回路22は外付けでも喪
く、特にソースフォロワ回路22は高入力インピーダン
スで電位を検出するものならば何でも良い。さらに1蓄
積電極121〜12゜を透明電極としたMOg型の感光
部を持つ構造でも良い。
以上説明したように本発明によれば、感光画素によって
発生した信号電荷の量の最大値を非破壊、的に検出して
、この検出電圧が設定最大電圧に到達する迄を積分時間
と決定するように構成しているので、高精度かつ高速度
の処理が実施できる固体撮像装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図(、) (b)は従来の固体撮像装置の回路構成
図、第2図は本発明の一実施例に係る固体撮像装置の回
路構成図、第3図は第2図の動作を説明するだめのタイ
ムチャート、第4図は第2図のA−A線に沿う断面図と
そのポテンシャル図である。 11・・・感光画素、12・・・蓄積電極、13・・・
移送電極、14・・・CCDレジスタ、15・・・電荷
電圧変換部、16・・・ダート電極、1r・・・MOS
スイッチ、1g、19.21・・・半導体領域、20・
・・抵抗層半導体領域、22・・・ンース7オロワ回路
、2S・・・同期開閉信号発生部。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)−導電型半導体基板上に配設され光電変換を行な
    う複数の感光画素と、これら感光画素からの信号電荷を
    一時蓄積する蓄積電極と、この蓄積電極からの信号電荷
    を転送するための電荷転送レジスタと、前記蓄積電極か
    らの信号電荷を上記電荷転送レジスタに移送する移送手
    段と、前記電荷転送レジスタからの信号電荷を信号電圧
    に変換する手段と、前記蓄積電極に対応して接続される
    r−)電極と、このr−)電極の両端に設けられ前記半
    導体基板と逆導電型の不純物を多量に含む第1.第2半
    導体領域と、前記f−)電極の電位を所定の外部電圧に
    設定すると共に咳f−ト電憔を電気的70−テイ/ダ状
    態とする電位制御手段と、前記第1及び第2半導体領域
    間チャンネルのコンダクタンスを検知するコンダクタン
    ス検知手段と、この検知手段によシ検知された上記チャ
    ンネルのオン。 オフ状態に応じて前記移送手段に供給する同期開閉ノf
    ルスのオン、オフ状態を制御する信号発生手段とを具備
    し、前記感光−素によって発生した信号電向の量を非破
    壊的に検出し、この検出電圧に応じて前記蓄積電極によ
    る電荷の蓄積時間を制御して適正出力を得るようにした
    ことを特徴とする固体撮像装置。
  2. (2)  前記コンダクタンス検知手段は、前記第1半
    導体領域に第1直流電圧を印加し、前記第2半導体領域
    に隣接して抵抗層領域を設け、この抵抗層領域に隣接し
    て前記半導体基板と逆導電型の不純物を高濃度に含む第
    3半導体領域を設け、この第3半導体領域に第2直流電
    圧を印加し、前記第2半導体領域の電位変動を^入力イ
    ンピーダンス増幅器によシ検出して前記信号発生手段に
    伝達するようにしてなることを特徴とする特許請求の範
    1i!+1第1項記載の固体悸倫装。 置0
  3. (3)  前記高入カイ/ピーメンス増輪姦はンースフ
    ォロワ回路で構成されることを特徴とする請求
  4. (4)前記電位側御手段は、ドレインが外部電圧に接続
    され、ソースがr−}電極に接続され、r−}に印加さ
    れる駆動パルスによって導通するMO8スイッチ手IR
    t−具備することを特徴とする4llIFF鯖求の範囲
    第1項記載の固体撮像装置。
JP57009666A 1982-01-25 1982-01-25 固体撮像装置 Pending JPS58127370A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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