JPS58122047A - 触媒および炭化水素接触反応方法 - Google Patents
触媒および炭化水素接触反応方法Info
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Landscapes
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は触媒に関し、また炭化水素または炭化水:J誘
導体と、スチームおよび/または二酸化炭素とを反応さ
せるための接触スチームリホーミング法に関する。
導体と、スチームおよび/または二酸化炭素とを反応さ
せるための接触スチームリホーミング法に関する。
このような反応は、炭化水素類、%に天然ガスを、水素
、アンモニア合成ガスまたは炭素酸化物/水素合成ガス
類に変える第1工程として1920年代後半から次第に
工業的規模で実施されてきている。通常、スチームリホ
ーミング反応は非常に吸熱的であるので、その反応のた
めの触媒は炉内で外部加熱された管中に配置されるので
あるが、反応剤を触媒の不存在下に加熱し、次いで触媒
上で断熱状態で反応させる別法を用いることが提案され
てきている(この反応操作は少なくとも一回繰り返えさ
れうる)。
、アンモニア合成ガスまたは炭素酸化物/水素合成ガス
類に変える第1工程として1920年代後半から次第に
工業的規模で実施されてきている。通常、スチームリホ
ーミング反応は非常に吸熱的であるので、その反応のた
めの触媒は炉内で外部加熱された管中に配置されるので
あるが、反応剤を触媒の不存在下に加熱し、次いで触媒
上で断熱状態で反応させる別法を用いることが提案され
てきている(この反応操作は少なくとも一回繰り返えさ
れうる)。
上記の加熱管法のための慣用触媒は、高さおよび直径が
約17藺、壁厚が典型的には5酊のセラミック製「ラー
シツヒ」リングの形態であった。
約17藺、壁厚が典型的には5酊のセラミック製「ラー
シツヒ」リングの形態であった。
最近、一層大きな幾何学的表面を有する触媒を用いて反
応転化率を向上させることが提案されており、例えば内
部仕切壁を有する環状のもの(米国特許第408994
1号、同第4233187号)、小型ハニカム状力もの
(我々の欧州公開特許田願第21736号、または英国
特許第2077136号;1981年12月16日発行
)または触媒と反応器壁との間に流体の流れを交番に与
える構造(我々の公開欧州特許出願第25308号)が
ある。しかし上記欧州特許第21736号の形状は、製
造するのが容易ではなく、また欧州特許第25308号
の形状は、在来のセラミック担持触媒ト直に互換性では
ない。欧州特許第21736号には、触媒は、例えば高
さ5■、直径5闘および線径0.5mmの、小さな金属
線らせん体の形状であってもよいことが記載されている
。英国特許第1319191号には、触媒はゆるく充填
された成形物、例えば25.4X25.4x 12.7
t!l(厚)の杭状であってよくまた直径0.058簡
のステンレス鋼綿材から作りうることが記載されている
。
応転化率を向上させることが提案されており、例えば内
部仕切壁を有する環状のもの(米国特許第408994
1号、同第4233187号)、小型ハニカム状力もの
(我々の欧州公開特許田願第21736号、または英国
特許第2077136号;1981年12月16日発行
)または触媒と反応器壁との間に流体の流れを交番に与
える構造(我々の公開欧州特許出願第25308号)が
ある。しかし上記欧州特許第21736号の形状は、製
造するのが容易ではなく、また欧州特許第25308号
の形状は、在来のセラミック担持触媒ト直に互換性では
ない。欧州特許第21736号には、触媒は、例えば高
さ5■、直径5闘および線径0.5mmの、小さな金属
線らせん体の形状であってもよいことが記載されている
。英国特許第1319191号には、触媒はゆるく充填
された成形物、例えば25.4X25.4x 12.7
t!l(厚)の杭状であってよくまた直径0.058簡
のステンレス鋼綿材から作りうることが記載されている
。
これらの形状の各々は、非常に増大した幾何学的表面を
得る方式を表わすものであるが、それらは機械的に不満
足であり、日常的な工業的操業に用いられることはなか
った。
得る方式を表わすものであるが、それらは機械的に不満
足であり、日常的な工業的操業に用いられることはなか
った。
我々は、中度に増大した幾何学的表面を一層便宜に得ら
れるが、従来望ましいと考えられていたものよりもはる
かく小さい幾何学的表面で非常に□効率的な操作を可能
とする形状の触媒を用いるスチームリホーミング法を案
出した。
れるが、従来望ましいと考えられていたものよりもはる
かく小さい幾何学的表面で非常に□効率的な操作を可能
とする形状の触媒を用いるスチームリホーミング法を案
出した。
本発明によれば、炭化水素原料と、スチームおよび/ま
たは二酸化炭素とを触媒上で反応させる方法であって、
触媒がその墳界(輪郭)内圧おける少なくとも二つの相
互に横切る方向の気体の貫通流動を許容する少なくとも
一つの不変形性中空ユニットの形態であることを特徴と
する上記反応方法が提供される。
たは二酸化炭素とを触媒上で反応させる方法であって、
触媒がその墳界(輪郭)内圧おける少なくとも二つの相
互に横切る方向の気体の貫通流動を許容する少なくとも
一つの不変形性中空ユニットの形態であることを特徴と
する上記反応方法が提供される。
また本発明は上記定義形態にあるある種の触媒。
ならびに以下に説明するようなその触媒に変えうる担体
および前駆体自体をも提供する。
および前駆体自体をも提供する。
「不変形性」とは、触媒の製造および使用中に遭遇しう
る状態を示すものであり、各触媒ユニットがその最も弱
い方向において1個のユニット当り少なくとも2ゆの破
壊抵抗を有することを意味するものとする。
る状態を示すものであり、各触媒ユニットがその最も弱
い方向において1個のユニット当り少なくとも2ゆの破
壊抵抗を有することを意味するものとする。
「相互に横切る」とは、相互に直角な流れの方向を包含
するがそれに限定されない。触媒ユニットの境界内のい
ずれの方向においても、ガスは反射表面または触媒活性
表面に遭遇し、また別の方向に流れているガスとの混合
を受け5る。好ましくは、各ユニットがガスをそれぞれ
の方向においてその内部へ流入させそして反対側から流
出せしめる。各方向におけるガス流動のための開放面積
は、10倍以上の差がないのが姓ましい。
するがそれに限定されない。触媒ユニットの境界内のい
ずれの方向においても、ガスは反射表面または触媒活性
表面に遭遇し、また別の方向に流れているガスとの混合
を受け5る。好ましくは、各ユニットがガスをそれぞれ
の方向においてその内部へ流入させそして反対側から流
出せしめる。各方向におけるガス流動のための開放面積
は、10倍以上の差がないのが姓ましい。
触媒が、妨害付き接触表面を有する管体の一般形状であ
るのが非常に適当であり、その結果として、ある一つの
方向の表面に沿って進行しているガスは、少なくとも一
度その表面から別れて進行するととKなり、それでもな
お骸ユニットの全体的な境界内に存在する。好ましくは
、そのようなガスは少なくとも一度その表面の別の部分
へ戻る。
るのが非常に適当であり、その結果として、ある一つの
方向の表面に沿って進行しているガスは、少なくとも一
度その表面から別れて進行するととKなり、それでもな
お骸ユニットの全体的な境界内に存在する。好ましくは
、そのようなガスは少なくとも一度その表面の別の部分
へ戻る。
管体の一般形状は、多くの横断面形状を包含し、例えば
多角形(M則的または不規則的多角形)、円形または隋
円形である。直径は一定であっても、あるいは円錐台に
おけるように変ってもよい、それは真円Km供する横断
面形状を包含するものであるが、横断面形状はユニット
同志間の広い咬み合いを許容するような形状でないこと
が好ましい拳管体の壁は平坦であっても、あるいは長軸
方向。
多角形(M則的または不規則的多角形)、円形または隋
円形である。直径は一定であっても、あるいは円錐台に
おけるように変ってもよい、それは真円Km供する横断
面形状を包含するものであるが、横断面形状はユニット
同志間の広い咬み合いを許容するような形状でないこと
が好ましい拳管体の壁は平坦であっても、あるいは長軸
方向。
横方向または斜方向に波形が付いていても、あるいはエ
ンボス(模様)付きでもよい。管体にはその全長にわた
る内部ウェブ(隔壁)が形成されていてもよく(好まし
くは4個以下の貫通路を限定するようK)、あるいは外
部または内部突出部(多(の場合そσ)全長にわたって
延在しない)が形成され【いてもよい。外壁突出部が存
在する場合、管の横断面は直円よりも可成りφさく(例
えば、それらの突出部がユニット同志の咬み合いを防ぐ
ようなものであるならばはぼ半円)でよい。′好ましい
ユニツ)においては、内部突出部が存在し、それらの内
部突出部は、横方向流動および液触表rjjiKおける
妨害を与える管壁透孔に形状において対応するのが好適
である。好ましい触#L特性を有する形状を与えるばか
りでなく、そのようなユニットは帯状金属を折曲げおよ
び穿孔加工することにより容易に製造できる。付与され
うる内部ウェブや内向き突出部を別にすれば、ユニット
は実質的に邪魔されない貫通流を与える。開口横断面積
は好ましくは40%以上、特に80%以上、例えば85
〜95%である。
ンボス(模様)付きでもよい。管体にはその全長にわた
る内部ウェブ(隔壁)が形成されていてもよく(好まし
くは4個以下の貫通路を限定するようK)、あるいは外
部または内部突出部(多(の場合そσ)全長にわたって
延在しない)が形成され【いてもよい。外壁突出部が存
在する場合、管の横断面は直円よりも可成りφさく(例
えば、それらの突出部がユニット同志の咬み合いを防ぐ
ようなものであるならばはぼ半円)でよい。′好ましい
ユニツ)においては、内部突出部が存在し、それらの内
部突出部は、横方向流動および液触表rjjiKおける
妨害を与える管壁透孔に形状において対応するのが好適
である。好ましい触#L特性を有する形状を与えるばか
りでなく、そのようなユニットは帯状金属を折曲げおよ
び穿孔加工することにより容易に製造できる。付与され
うる内部ウェブや内向き突出部を別にすれば、ユニット
は実質的に邪魔されない貫通流を与える。開口横断面積
は好ましくは40%以上、特に80%以上、例えば85
〜95%である。
透孔は、本発明の触媒が使用される反応方法の冥施中に
存在する層流底層の厚さの少なくとも10倍、例えば2
0〜50倍の大きさであるのが好ましい。そのような寸
法の透孔により、ガスが自由に通過し、混合しうる。従
って、30絶対バールの圧力で使用される(きスチーム
リホーミング触媒については、透孔はその最も小さい方
向寸法が少なくとも1鰭、好ましくは2〜5關の広さと
なろう。当然、透孔はユニットを過度に弱化する秤大き
くてはならず、典型的には透孔は像面積の20〜60%
である。
存在する層流底層の厚さの少なくとも10倍、例えば2
0〜50倍の大きさであるのが好ましい。そのような寸
法の透孔により、ガスが自由に通過し、混合しうる。従
って、30絶対バールの圧力で使用される(きスチーム
リホーミング触媒については、透孔はその最も小さい方
向寸法が少なくとも1鰭、好ましくは2〜5關の広さと
なろう。当然、透孔はユニットを過度に弱化する秤大き
くてはならず、典型的には透孔は像面積の20〜60%
である。
ユニットの外形は円筒体であるのが好ましい。
ユニットは全体として、その直径の40%よりも大きく
、しかし直径の2倍未満の高さを有するのが好ましい。
、しかし直径の2倍未満の高さを有するのが好ましい。
ユニットの壁に透孔があることの結果として、セラミッ
ク製スチームリホーミング触媒について提案されたよう
に円筒体の高さを制限する必要はない。
ク製スチームリホーミング触媒について提案されたよう
に円筒体の高さを制限する必要はない。
本発明に係る触媒形状は蒸気/液体の接触のための充填
材として既に提案されたユニットを包含するが、そのよ
うな形状物を触媒担体として、特Kll化水素スチーム
リホーミング用触媒担体として提案されたことはない。
材として既に提案されたユニットを包含するが、そのよ
うな形状物を触媒担体として、特Kll化水素スチーム
リホーミング用触媒担体として提案されたことはない。
そのような形状物は、同一の全体寸法の中空円筒体(表
面に行形されていないもの)と比較して極かに大ぎい幾
何学的表面を有するKすぎないから、強触として種々の
利演をもたらすことは予想外のことであると信じられる
。
面に行形されていないもの)と比較して極かに大ぎい幾
何学的表面を有するKすぎないから、強触として種々の
利演をもたらすことは予想外のことであると信じられる
。
好ましいユニット形状の例は下Pのものである。
(a) rPALL4 リング: これは中空円筒
体であり、好ましくはシート状金属または合金から成形
されたものである1円筒壁には少なくとも一組の矩形の
同一平面透孔が形成されているが、各鋤形は二つの横お
よび一つの軸方向においてノセンチされて、−葉の翼状
片を残しており、この翼状片はその残っている軸方向辺
から内向きに曲げられる。通常、各中空円筒体は、ある
長さのパンチ済の帯状金属を巻くことKよって作るが各
月の端部は一緒に結合させない。
体であり、好ましくはシート状金属または合金から成形
されたものである1円筒壁には少なくとも一組の矩形の
同一平面透孔が形成されているが、各鋤形は二つの横お
よび一つの軸方向においてノセンチされて、−葉の翼状
片を残しており、この翼状片はその残っている軸方向辺
から内向きに曲げられる。通常、各中空円筒体は、ある
長さのパンチ済の帯状金属を巻くことKよって作るが各
月の端部は一緒に結合させない。
(b) rHY−PAKJ リング(商標):これ
はrP A LLJリングと類似であるが各矩形透孔は
二枚の細い翼状片を、矩形の各端部に一枚の片が付(よ
うにパンチして作られている。次いで各翼状片は内向き
に曲げられる。
はrP A LLJリングと類似であるが各矩形透孔は
二枚の細い翼状片を、矩形の各端部に一枚の片が付(よ
うにパンチして作られている。次いで各翼状片は内向き
に曲げられる。
各翼状片自体がそれに)々ンチされてそれから突出して
いる舌状片を有してもよい(米国再発行特許ff127
2171参1’l)、 rHY−PAKJ 17ン
タ)trPALLIJUン〆よりも軸方向において翼状
片上に短い接触面を与えるので、熱の影響が非常に大き
(従って反応剤が短時間だけ触媒と接触してから他の反
応剤と混合し、そして熱を吸収または放出しなければな
らないような反応のために有利でありうる、1 (c) rINTLOXJ リング(商標): 上
記のrPALLJ オ!ヒrHY−F’AKj IJ
y/トMlPK、 %ユニットは透孔付壁および内部
翼状片をもつ中空円筒体から構成されている。しかし、
管の断面がU字形(上辺が閉じた)である。[INTA
LOXJは、rPALL」ヤ田Y−PAKJ ! リ4
、ソレヲ充填シタ容器中により多くの自由空間を与える
ので、熱の影響が一層大きい反応に有利でありうる。
いる舌状片を有してもよい(米国再発行特許ff127
2171参1’l)、 rHY−PAKJ 17ン
タ)trPALLIJUン〆よりも軸方向において翼状
片上に短い接触面を与えるので、熱の影響が非常に大き
(従って反応剤が短時間だけ触媒と接触してから他の反
応剤と混合し、そして熱を吸収または放出しなければな
らないような反応のために有利でありうる、1 (c) rINTLOXJ リング(商標): 上
記のrPALLJ オ!ヒrHY−F’AKj IJ
y/トMlPK、 %ユニットは透孔付壁および内部
翼状片をもつ中空円筒体から構成されている。しかし、
管の断面がU字形(上辺が閉じた)である。[INTA
LOXJは、rPALL」ヤ田Y−PAKJ ! リ4
、ソレヲ充填シタ容器中により多くの自由空間を与える
ので、熱の影響が一層大きい反応に有利でありうる。
(d)「サドル」ユニット、特に放射状指状部材を有す
る半円を基礎とするもの。
る半円を基礎とするもの。
(e) b)〜((1)をそれらが設計された蒸気/
液体接触用ではなく、触媒反応の要件に適合した変形体
。
液体接触用ではなく、触媒反応の要件に適合した変形体
。
そのような変形としては下記(1)、+1)が特記すイ
きものである。
きものである。
(1)全体の寸法を小さくする: 17X17io+
のrPALLJ リングは市販のスチームリホーミン
グ触媒の圧力降下のわずか25〜60%に当る圧力降下
(それでも余り低活性ではない)しか有しないので、さ
らに小寸法のリングを用いることKより、触媒の活性、
従って触媒の生成物収量を増大させうろことは明がであ
る。5〜151IIの範囲の高さまたは直径を有するユ
ニットは、叶に入手しうる15〜5011mのユニット
と共に有用であろう。
のrPALLJ リングは市販のスチームリホーミン
グ触媒の圧力降下のわずか25〜60%に当る圧力降下
(それでも余り低活性ではない)しか有しないので、さ
らに小寸法のリングを用いることKより、触媒の活性、
従って触媒の生成物収量を増大させうろことは明がであ
る。5〜151IIの範囲の高さまたは直径を有するユ
ニットは、叶に入手しうる15〜5011mのユニット
と共に有用であろう。
(11隋円横断面のユニット、例えば平らKしたrPA
LLJ ’!りn rHY−PAKJ 13 ンy
。
LLJ ’!りn rHY−PAKJ 13 ンy
。
(f) 内部突出部を有しない穿孔管状ユニット:そ
の幾何学的表面を増大させるために各ユニットは、好ま
しくは半円断面の二本の頁通路を与える内部ウェブ(隔
壁)を有する。例えばrLEssINGJリンダである
。
の幾何学的表面を増大させるために各ユニットは、好ま
しくは半円断面の二本の頁通路を与える内部ウェブ(隔
壁)を有する。例えばrLEssINGJリンダである
。
(gl 本発明の改変例として、無穿孔のウェブ付き
管状ユニットを用いる反応工程を以下で説明する。
管状ユニットを用いる反応工程を以下で説明する。
個々の触媒床においては、二またはそれ以上の形状また
は寸法のユニットを使用して触媒床のいろいろな部分に
おける異なった条件に適合するようKできる。
は寸法のユニットを使用して触媒床のいろいろな部分に
おける異なった条件に適合するようKできる。
ユニット内での二方向または三方向のガス流動は、下記
の有用な効果の1またはそれ以上をもたらす。
の有用な効果の1またはそれ以上をもたらす。
+a) 慣用リングおよび最近提案されている多孔リ
ングと比較して、触媒床の入口から出口までの触媒内の
ガス流動に対する抵抗が小さい。そのような触媒の床の
空隙率は典型的には70%以上、特に85%以上であり
、そして一つのユニツ)Kおけるガスの滞留時間は比例
的に増大し、その線速度は低下する。
ングと比較して、触媒床の入口から出口までの触媒内の
ガス流動に対する抵抗が小さい。そのような触媒の床の
空隙率は典型的には70%以上、特に85%以上であり
、そして一つのユニツ)Kおけるガスの滞留時間は比例
的に増大し、その線速度は低下する。
(b) 触媒床の縦流動抵抗がl」\さいばかりでな
く触媒床の横方向流動に対する抵抗が小さくなり、反応
剤は加熱された触媒床壁へまたその壁から一層自由に流
動できるので、反応剤が触媒表向で吸熱反応を受けた後
に一層迅速に再加熱されうる。
く触媒床の横方向流動に対する抵抗が小さくなり、反応
剤は加熱された触媒床壁へまたその壁から一層自由に流
動できるので、反応剤が触媒表向で吸熱反応を受けた後
に一層迅速に再加熱されうる。
(C1各ユニツ14おいて少な(とも二方向において透
孔があるので、反応剤は短時間だけ触媒表面に沿って進
行してその表面を去り、そのユニットの境界内で高温ガ
スと混合されて再加熱されるようKなる。従って、触媒
表面に沿う局部的ガス流動速度が高く維持されうる。
孔があるので、反応剤は短時間だけ触媒表面に沿って進
行してその表面を去り、そのユニットの境界内で高温ガ
スと混合されて再加熱されるようKなる。従って、触媒
表面に沿う局部的ガス流動速度が高く維持されうる。
(at ガスは二またはそれ以上の相互に横切る方向
に流動および放散できるので、一方向だけのガス流動お
よび放散入口を与えるユニットにおける限定された高さ
:内径比の必要はもはや存在しない2この効果はユニッ
トを「窓付きユニット」とする定義に対応するものであ
る。
に流動および放散できるので、一方向だけのガス流動お
よび放散入口を与えるユニットにおける限定された高さ
:内径比の必要はもはや存在しない2この効果はユニッ
トを「窓付きユニット」とする定義に対応するものであ
る。
総体的な結果は熱移動速度と局所的触媒活性との間での
新たなバランスである。非効率的に加熱された低活性触
媒の大きな幾何学的表面を用いる代りK、本発明によれ
ば効率的に加熱された高活性触媒の比較的小さな幾何学
的表面を用いることが可能である。
新たなバランスである。非効率的に加熱された低活性触
媒の大きな幾何学的表面を用いる代りK、本発明によれ
ば効率的に加熱された高活性触媒の比較的小さな幾何学
的表面を用いることが可能である。
ユニットは、触媒が使用される埋填条件に耐えるいずれ
の材料からもその構造を作ることができる。そのような
構造材料は、酸化物、窒化物または炭化物4火材料であ
ってよいが、特KWI壁のものを製造することの容易性
のために1金属または合金が好ましい、そのような金属
または合金の厚さは、本発明による一般のユニツ)Kつ
いては、a1〜05mの範囲が典型的であるが、邪魔付
きの接触表面を有するユニツHCついては2 wx !
であるいは5fIまでのように、さらに大きな厚であっ
てもよい。
の材料からもその構造を作ることができる。そのような
構造材料は、酸化物、窒化物または炭化物4火材料であ
ってよいが、特KWI壁のものを製造することの容易性
のために1金属または合金が好ましい、そのような金属
または合金の厚さは、本発明による一般のユニツ)Kつ
いては、a1〜05mの範囲が典型的であるが、邪魔付
きの接触表面を有するユニツHCついては2 wx !
であるいは5fIまでのように、さらに大きな厚であっ
てもよい。
ユニットを金属または合金から作る場合、それは、例え
ばチタン、ジルコニウムおよび11%までの他の金属を
含むそれらの合金であってよい。
ばチタン、ジルコニウムおよび11%までの他の金属を
含むそれらの合金であってよい。
好ましくは、触媒構造材料は、鉄と鉄の腐食を防止する
のに有用な酸化層を形成しうる少なくとも111の他の
金属とからなる。750cまでの温度における反応のた
めKは、少なくとも12%のクロムを含むステンレス鋼
(含:フェライト鋼)が一般に適当である(例: AS
TM規格43o)。
のに有用な酸化層を形成しうる少なくとも111の他の
金属とからなる。750cまでの温度における反応のた
めKは、少なくとも12%のクロムを含むステンレス鋼
(含:フェライト鋼)が一般に適当である(例: AS
TM規格43o)。
850Cまでの温度における反応のためKは、16〜2
0%のニッケルおよび、−タンまたはモリブデンのよう
な微量成分を含むオーステナイト系ステンレス#(例え
ばASTM規格304.316および621)を用いる
のが好ましい、一般的な反応、例えば殊に1000rま
での温度でのスチーム/炭化水素反応については、18
%以上←特に20〜30%)のクロム、15〜40%の
ニッケル、残部の微量成分および鉄を含む耐熱合金が好
ましい材料である。かかる耐熱合金はオーステナイト組
織を一般に有する。−例はASTM規格8407−77
の[合金800 HJであり、このものはrINcOL
OY (商1り800HJおよびrUNs N−088
1OJ とも称されている。その組成は下記の通りで
ある(%)。
0%のニッケルおよび、−タンまたはモリブデンのよう
な微量成分を含むオーステナイト系ステンレス#(例え
ばASTM規格304.316および621)を用いる
のが好ましい、一般的な反応、例えば殊に1000rま
での温度でのスチーム/炭化水素反応については、18
%以上←特に20〜30%)のクロム、15〜40%の
ニッケル、残部の微量成分および鉄を含む耐熱合金が好
ましい材料である。かかる耐熱合金はオーステナイト組
織を一般に有する。−例はASTM規格8407−77
の[合金800 HJであり、このものはrINcOL
OY (商1り800HJおよびrUNs N−088
1OJ とも称されている。その組成は下記の通りで
ある(%)。
N1 30〜35
Or 19〜23
.8 。 少なくとも39.5(残部)Mn
1.5以下 0、 0.05〜0.1 cu 075以下 Sl 1・O B O,015以下 A、 0.15〜0.60Ti
0.15〜0.60 別の一例は、同一の規格に規矩されているか一層少ナイ
炭Xヲ含A 5 ル合金800 (UNS N−088
10)である。さらに別の例は、rItJcOLOY
DSJ (商標)であり、このものの組成(%)は、G
rQl、Nipη、S i (1,5〜2.5)、C
(0,15以下)である。
1.5以下 0、 0.05〜0.1 cu 075以下 Sl 1・O B O,015以下 A、 0.15〜0.60Ti
0.15〜0.60 別の一例は、同一の規格に規矩されているか一層少ナイ
炭Xヲ含A 5 ル合金800 (UNS N−088
10)である。さらに別の例は、rItJcOLOY
DSJ (商標)であり、このものの組成(%)は、G
rQl、Nipη、S i (1,5〜2.5)、C
(0,15以下)である。
所望ならば、さらに高ニツケル含量の合金、例えばrN
IcHROMK4 *り)! rINOONlcL」
(イずれも商標)のような、70%以上の81、および
残部の微量成分およびクロムを含む合金も使用できるが
、はとんどの目的のためにはその価格が高すぎると考え
られる。
IcHROMK4 *り)! rINOONlcL」
(イずれも商標)のような、70%以上の81、および
残部の微量成分およびクロムを含む合金も使用できるが
、はとんどの目的のためにはその価格が高すぎると考え
られる。
本発明方法において使用し5るが、そこで遭遇する最も
背酷な条件下では多少劣った機械的強度を示すその他の
合金は、Q、5〜12%のアルミニウム、0゜01〜3
%のイツトリウムおよび多くの場合25%までのクロム
を含む合金である。これらの合金の例としては、原子力
産業において遭遇する高温度での酸化条件のために開発
された合金がある。
背酷な条件下では多少劣った機械的強度を示すその他の
合金は、Q、5〜12%のアルミニウム、0゜01〜3
%のイツトリウムおよび多くの場合25%までのクロム
を含む合金である。これらの合金の例としては、原子力
産業において遭遇する高温度での酸化条件のために開発
された合金がある。
有用な合金の例を下記表1に示す。
担体用合金は、残部の鉄の一部分に代えて。
5.0%まで例えば3.0%までのニッケルおよび/ま
たはコバルトを含んでよい、そのようなニッケルおよび
/またはコノζシトはいく分かの触媒効果を出すことが
あるが、触媒の定義において規定されているニッケルお
よび/またはコノZルトには、それらの担体中のものは
含まれていない。
たはコバルトを含んでよい、そのようなニッケルおよび
/またはコノζシトはいく分かの触媒効果を出すことが
あるが、触媒の定義において規定されているニッケルお
よび/またはコノZルトには、それらの担体中のものは
含まれていない。
有用な合金のうちで特配すイきものは、商標rFKcR
ALLOYJ td ヨヒrKANTHALJ −(−
入手テキル合金鋼である。
ALLOYJ td ヨヒrKANTHALJ −(−
入手テキル合金鋼である。
クロム、アルミニウムまたはケイ素あるいはそれらのエ
リ上のものの存在によって、金属衣WMにおいて酸化物
層が形成されることになる。このことは、それらの表面
における酸化物触媒担体物質(*にアルミナ)を接合す
るそれらの性質の原因としての説明となるものと信じら
れ、従って好ましくは金属ユニツ)Kそのような酸化物
担体物質を付着する前にその金属担体を例えば400〜
900Cの空気中で加熱することKより、さらに酸化さ
せる。さらKは、それらのユニットは高いクリープ強度
および酸化、炭化に対する高抵抗性によって特徴付けら
れ、このような性質は、スチーム/炭化水素反応におけ
る支配的な条件に耐えるように意図された材料において
非常に望ましい。
リ上のものの存在によって、金属衣WMにおいて酸化物
層が形成されることになる。このことは、それらの表面
における酸化物触媒担体物質(*にアルミナ)を接合す
るそれらの性質の原因としての説明となるものと信じら
れ、従って好ましくは金属ユニツ)Kそのような酸化物
担体物質を付着する前にその金属担体を例えば400〜
900Cの空気中で加熱することKより、さらに酸化さ
せる。さらKは、それらのユニットは高いクリープ強度
および酸化、炭化に対する高抵抗性によって特徴付けら
れ、このような性質は、スチーム/炭化水素反応におけ
る支配的な条件に耐えるように意図された材料において
非常に望ましい。
触媒担体は薄いゲージの金属または合金から加工される
ので、使用されるべき材料は圧延された形で入手される
上記範囲の合金であることは了解されよう。
ので、使用されるべき材料は圧延された形で入手される
上記範囲の合金であることは了解されよう。
それ自体では反応条件には耐えられないけれども被覆1
例えばセリアのような酸化物の被覆によって抵抗性を与
えられた金属または合金を使用することも可能である。
例えばセリアのような酸化物の被覆によって抵抗性を与
えられた金属または合金を使用することも可能である。
適当な合金は、低クロム鋼(11%以下のCr)であり
、多(の場合にそりプデンを(0,5〜15%v/w)
を含んでいる。
、多(の場合にそりプデンを(0,5〜15%v/w)
を含んでいる。
金属または合金製の触媒ユニットは、そのようなユニッ
トを含んでいる反応容器をその運転温度から室温Kまで
冷却すると?!に破壊しないという点で、セラミック製
ユニットよりも有利である。
トを含んでいる反応容器をその運転温度から室温Kまで
冷却すると?!に破壊しないという点で、セラミック製
ユニットよりも有利である。
この理由としては、金属または合金がもろくないとかそ
の一部であり、また容器と同じような熱膨張係数を有し
ていることがその一部である。ユニットが前記(ml、
(b)、(・)の+11、(e)の(鳳)、(r)また
は(−のように、スプリット円筒体であるときには、そ
れは典型的には、軸方向において50〜150ゆ/傷2
、そして赤道方向において1傷当94〜6時の破砕強度
を有し、後者の強度はスプリットを閉じる方向において
わずかに大きい。これらの赤道方向破砕強度は、それ以
上の破砕をするのには、はるかに大きな圧力が必要とさ
れるような小さい直径(典型的には20%小さい)まで
ユニットな押し縮める試験によって得られるものである
。
の一部であり、また容器と同じような熱膨張係数を有し
ていることがその一部である。ユニットが前記(ml、
(b)、(・)の+11、(e)の(鳳)、(r)また
は(−のように、スプリット円筒体であるときには、そ
れは典型的には、軸方向において50〜150ゆ/傷2
、そして赤道方向において1傷当94〜6時の破砕強度
を有し、後者の強度はスプリットを閉じる方向において
わずかに大きい。これらの赤道方向破砕強度は、それ以
上の破砕をするのには、はるかに大きな圧力が必要とさ
れるような小さい直径(典型的には20%小さい)まで
ユニットな押し縮める試験によって得られるものである
。
触媒ユニットの嵩密度は典型的にはα2〜0.7y/α
3の範囲である。
3の範囲である。
触媒ユニット自体が触媒であるようKすることができ、
それは、構成材質の選定、あるいはその表面の化学的ま
たは物理的改質により(例えばニッケル含有ユニットの
冷間ロール加工により)可能である。一層一般的には、
ユニットは、活性物質、例えば周期律表第■族の1また
はそれ以上の金属のための担体である。%K、担体が非
常に低い吸着性表面を有する場合5例えばそれが高度に
焼成した耐火物であるかまたは金属合金である場合、そ
れ(すなわち第1担体)は吸着性物質の微積(第2担体
)を有し、活性物質はその1161層と組合せられてい
る。好ましくは第■族金属含量は、もし卑金属であるな
らば、全被覆に基いてNiO当量として計算して60〜
60%W/Wの範囲である。そのような吸着性物質は0
.2cmシタ以上の気孔容積および少なくとも1m
lfl好ましくは15m 19 以上、特に50〜
200m /F r>範囲の表面積を有する。第2担
体は、好ましくは0.01〜Q、 3 u+、%KO,
02〜0.1mの厚さであり、そして第1担体の1〜2
%、特[2〜10%(v/v)の量である。好ましくは
、それは中空ユニットの外側および内側表面に存在する
。
それは、構成材質の選定、あるいはその表面の化学的ま
たは物理的改質により(例えばニッケル含有ユニットの
冷間ロール加工により)可能である。一層一般的には、
ユニットは、活性物質、例えば周期律表第■族の1また
はそれ以上の金属のための担体である。%K、担体が非
常に低い吸着性表面を有する場合5例えばそれが高度に
焼成した耐火物であるかまたは金属合金である場合、そ
れ(すなわち第1担体)は吸着性物質の微積(第2担体
)を有し、活性物質はその1161層と組合せられてい
る。好ましくは第■族金属含量は、もし卑金属であるな
らば、全被覆に基いてNiO当量として計算して60〜
60%W/Wの範囲である。そのような吸着性物質は0
.2cmシタ以上の気孔容積および少なくとも1m
lfl好ましくは15m 19 以上、特に50〜
200m /F r>範囲の表面積を有する。第2担
体は、好ましくは0.01〜Q、 3 u+、%KO,
02〜0.1mの厚さであり、そして第1担体の1〜2
%、特[2〜10%(v/v)の量である。好ましくは
、それは中空ユニットの外側および内側表面に存在する
。
そのような吸着性層を担持するユニットは、触媒担体と
して一般的な利用性を用する。そのような担体、または
吸着性層を有しないユニットを触媒に変える一方法は、
それに、それ自体は触媒ではないが活性の触媒となるた
めにはさらに化学処理、例えば還元して、さらに低級な
酸化物または金属とすることが必要な化合物、例えば金
属酸化物を付着させることである。そのような化合物を
担持した担体は本発明による触媒前駆体である。
して一般的な利用性を用する。そのような担体、または
吸着性層を有しないユニットを触媒に変える一方法は、
それに、それ自体は触媒ではないが活性の触媒となるた
めにはさらに化学処理、例えば還元して、さらに低級な
酸化物または金属とすることが必要な化合物、例えば金
属酸化物を付着させることである。そのような化合物を
担持した担体は本発明による触媒前駆体である。
第2担体は、実施されるイき反応のための担体として公
知のいずれの酸化物材料からなってもよい、典型的には
、それは、アルミナ、%にガンマまたはイータ・アルミ
ナからなる。その他のセスキ酸化物、例えばクロミアお
よび稀土類酸化物は、第2担体の少なくとも一部として
含まれていてよい。その他の有用な第2担体用酸化物は
、チタニア、:)ハフニア、ハフニア、トリア、バナジ
ア、ウレアニア、マンガン酸化物、モリブデン酸化物、
タングステン酸化物および混合酸化物である。
知のいずれの酸化物材料からなってもよい、典型的には
、それは、アルミナ、%にガンマまたはイータ・アルミ
ナからなる。その他のセスキ酸化物、例えばクロミアお
よび稀土類酸化物は、第2担体の少なくとも一部として
含まれていてよい。その他の有用な第2担体用酸化物は
、チタニア、:)ハフニア、ハフニア、トリア、バナジ
ア、ウレアニア、マンガン酸化物、モリブデン酸化物、
タングステン酸化物および混合酸化物である。
好ましくは、#!2担体は結晶粒成長抑制剤、例えば少
なくとも105%、%K[101〜5.0%(w% )
のイツトリウム、または1種またはそれ以上の稀土類酸
化物、特にセリウムまたはプラセオジム、を含む。
なくとも105%、%K[101〜5.0%(w% )
のイツトリウム、または1種またはそれ以上の稀土類酸
化物、特にセリウムまたはプラセオジム、を含む。
触媒中にニッケルおよび/またはコバルトが存在する場
合、第2担体は(もしセスキ酸化物を含むならば)、少
な(とも反応操作をある期間実施した後には、ニッケル
および/またはコバルトのスピネルを含むことが予想さ
れる。第2担体物質が少な(とも一部においてスピネル
の状態にあることは本発明の範囲内であり、そのスピネ
ルは、ニッケルおよび/またはコノ2ルトのスピネル、
2価金属のスピネルのいずれかであり、難還元性酸化物
(特にマグネシウムまたはマンガン、または余り好まし
くないが亜鉛、の酸化物)を有する・スピネルとして存
在するニッケルおよび/またはコバルトは、抗還元性の
酸化物形態にあるので、触媒の活性向上には著しくは寄
与しない。従って活性のニッケルおよび/またはコバル
トはそれら以外のもので、別に加えられるものであると
することができる。
合、第2担体は(もしセスキ酸化物を含むならば)、少
な(とも反応操作をある期間実施した後には、ニッケル
および/またはコバルトのスピネルを含むことが予想さ
れる。第2担体物質が少な(とも一部においてスピネル
の状態にあることは本発明の範囲内であり、そのスピネ
ルは、ニッケルおよび/またはコノ2ルトのスピネル、
2価金属のスピネルのいずれかであり、難還元性酸化物
(特にマグネシウムまたはマンガン、または余り好まし
くないが亜鉛、の酸化物)を有する・スピネルとして存
在するニッケルおよび/またはコバルトは、抗還元性の
酸化物形態にあるので、触媒の活性向上には著しくは寄
与しない。従って活性のニッケルおよび/またはコバル
トはそれら以外のもので、別に加えられるものであると
することができる。
ニッケルおよび/またはコバルトからなる触媒において
は、ニッケルおよび/またはコノζシトの活性を増大す
ることができ、またメタンよりも高級な炭化水率と水蒸
気を反応させるときの炭素沈着性向を低減することがで
きる1111またはそれ以上の白金族金属が存在しても
よい、そのような白金族金属の濃度は典型的には、触媒
ユニット全体として計算して0.005〜0.1%(金
属態)の範囲である。さらに触媒は、(好ましい態様に
おいて%K)白金族金属を含みうるが、卑金属触媒成分
を含なくできる。そのような触媒は、慣用担体上に白金
族金属を含む触媒よりも、炭化水素スチームリホーミン
グ法のために一層適当である。その理由は、活性金属の
一層多くの割合が反応ガスに接触しうる状111.にあ
るからである。白金族金属が単独で用いられる場合にそ
の典型的な含量は、触媒ユニット全体を基準にして計算
してo、ooos〜α5%(v/w)(金属態)である
。
は、ニッケルおよび/またはコノζシトの活性を増大す
ることができ、またメタンよりも高級な炭化水率と水蒸
気を反応させるときの炭素沈着性向を低減することがで
きる1111またはそれ以上の白金族金属が存在しても
よい、そのような白金族金属の濃度は典型的には、触媒
ユニット全体として計算して0.005〜0.1%(金
属態)の範囲である。さらに触媒は、(好ましい態様に
おいて%K)白金族金属を含みうるが、卑金属触媒成分
を含なくできる。そのような触媒は、慣用担体上に白金
族金属を含む触媒よりも、炭化水素スチームリホーミン
グ法のために一層適当である。その理由は、活性金属の
一層多くの割合が反応ガスに接触しうる状111.にあ
るからである。白金族金属が単独で用いられる場合にそ
の典型的な含量は、触媒ユニット全体を基準にして計算
してo、ooos〜α5%(v/w)(金属態)である
。
炭化水素スチームリホーミング反応のためKは、触媒は
、典型的には(−酸化物として計算して)a、2〜35
%、特に1〜25%(v/vr)の=ツケル、および/
またはコバルトを含む、この範囲において15〜12%
、特に1〜6%、さらKは1〜4%(W/V)が好まし
い。触媒ユニットは低い嵩密度の床を与えうるので、所
与の床中における活性物質の量は、慣用触媒のそれより
も少ない。
、典型的には(−酸化物として計算して)a、2〜35
%、特に1〜25%(v/vr)の=ツケル、および/
またはコバルトを含む、この範囲において15〜12%
、特に1〜6%、さらKは1〜4%(W/V)が好まし
い。触媒ユニットは低い嵩密度の床を与えうるので、所
与の床中における活性物質の量は、慣用触媒のそれより
も少ない。
触媒物質の比表面積は触媒12当りα1〜50m=であ
るのが適当である。この範囲内で大きい方の比表面積は
600C以下の反応のために好ましい。
るのが適当である。この範囲内で大きい方の比表面積は
600C以下の反応のために好ましい。
卑金属および貴金属の両方が存在する場合、有用なレイ
ルの触−活性は、g2担体およびそれら金属の合計に基
いて計算して著しく低い濃度、すなわち2%(v/v
)以下の金属(両方の合計)を用いて得られる。第2担
体は触媒全体のα5〜25%、特に1〜10%(v/v
) を占めるのが典型的であるので、触媒床に入れら
れるイき活性金属の量は、非常に小さく、特に第2担体
において、それらの金属の合計がQ、01〜0.5%(
Wハ0の好ましい濃度では触媒床装入量が小さくなる。
ルの触−活性は、g2担体およびそれら金属の合計に基
いて計算して著しく低い濃度、すなわち2%(v/v
)以下の金属(両方の合計)を用いて得られる。第2担
体は触媒全体のα5〜25%、特に1〜10%(v/v
) を占めるのが典型的であるので、触媒床に入れら
れるイき活性金属の量は、非常に小さく、特に第2担体
において、それらの金属の合計がQ、01〜0.5%(
Wハ0の好ましい濃度では触媒床装入量が小さくなる。
好ましい貴金属はロジウムである。
触媒は第1担体に活性金属の化合物と第2担体とを一緒
に付着させるととkより作ることができる。好ましい一
方法においては、第2担体をWJ1担体に付着し、好ま
しくはその組合せ体を焼成し、次いで活性金属の熱分解
性化合物を含む液を付着する。活性金属の充分に大きな
含量を得るKは、そのような液を数回付着させ、各回の
付着毎に乾燥および熱分解処理を行うことができる。酸
化物は第2担体においてその場で生成させることができ
る。それは粉末金属の酸化に′より、または硝酸塩のよ
5なオキシ塩の熱分解により行うことができる。蒸気相
からの析出のようなその他の方法も使用できる。
に付着させるととkより作ることができる。好ましい一
方法においては、第2担体をWJ1担体に付着し、好ま
しくはその組合せ体を焼成し、次いで活性金属の熱分解
性化合物を含む液を付着する。活性金属の充分に大きな
含量を得るKは、そのような液を数回付着させ、各回の
付着毎に乾燥および熱分解処理を行うことができる。酸
化物は第2担体においてその場で生成させることができ
る。それは粉末金属の酸化に′より、または硝酸塩のよ
5なオキシ塩の熱分解により行うことができる。蒸気相
からの析出のようなその他の方法も使用できる。
触媒を製造するための好ましい一方法は、1s2担体物
賞のコロイド分散液を作り(例えば酸・ベプチゼーショ
ンおよび好ましくは脱イオン化も行うことにより)、そ
の分散液にさらに第2担体物質を懸濁させ、その懸濁液
を第1担体に付着し、そしてそれを焼成して密着させる
と共KIIK2担体の表面積を調節する。好ましくは、
いずれかの結晶粒成長抑制剤をその分散液または1II
lI液により添加する。懸濁液は焼成前にゲル化させて
もよい。
賞のコロイド分散液を作り(例えば酸・ベプチゼーショ
ンおよび好ましくは脱イオン化も行うことにより)、そ
の分散液にさらに第2担体物質を懸濁させ、その懸濁液
を第1担体に付着し、そしてそれを焼成して密着させる
と共KIIK2担体の表面積を調節する。好ましくは、
いずれかの結晶粒成長抑制剤をその分散液または1II
lI液により添加する。懸濁液は焼成前にゲル化させて
もよい。
それは、所望ならば可溶性界面活性剤またはポリマーを
含みうる。
含みうる。
いずれかのオキシ塩の熱分解工程を含む製法はすぐれた
結果を与え、また結晶粒成長抑制用酸化物を用いる場合
に特に好ましい、この理由は、明かKII2担体酸化物
と抑制用酸化物とが一緒に析出されるからである。
結果を与え、また結晶粒成長抑制用酸化物を用いる場合
に特に好ましい、この理由は、明かKII2担体酸化物
と抑制用酸化物とが一緒に析出されるからである。
第1担体への第2担体の密着を改善するには、第1担体
の表面を酸化または機械的研摩またはエツチングにより
吸着性面積を増大するように改質できる。
の表面を酸化または機械的研摩またはエツチングにより
吸着性面積を増大するように改質できる。
通常、これらの付着および焼成は、第1担体が成形され
た後に行われる。しかし、第1担体が金属または合金か
ら作られる場合には、成形におけるーまたはそれ以上の
工程の前に付着および焼成の一部または全部を行うこと
も可能である。
た後に行われる。しかし、第1担体が金属または合金か
ら作られる場合には、成形におけるーまたはそれ以上の
工程の前に付着および焼成の一部または全部を行うこと
も可能である。
本発明の方法において、炭化水素は例えば220Cまで
の沸点を有し、好ましくは通常ガス状である。[スチー
ム+CC’lJ:炭素のモル比は、合成ガスまたは水素
の製造のためKは典型的には2.0〜8.0の範囲であ
り、そして還元用ガスの製造のためKは上記範囲からt
oまでである。触媒出口における温度は、600〜10
50r、特に700〜1000rが典型的である。圧力
は、典型的には1〜50絶対)ζ−ルである。
の沸点を有し、好ましくは通常ガス状である。[スチー
ム+CC’lJ:炭素のモル比は、合成ガスまたは水素
の製造のためKは典型的には2.0〜8.0の範囲であ
り、そして還元用ガスの製造のためKは上記範囲からt
oまでである。触媒出口における温度は、600〜10
50r、特に700〜1000rが典型的である。圧力
は、典型的には1〜50絶対)ζ−ルである。
上記の範囲の高い方の温度が用いられる場合に、生成ガ
スは、乾燥基準で、少なくとも30%(≠)の水素、お
よび好ましくは30%以下、特[10%(V/V)以下
のメタンを含む0反応は正味として(全体的に見て)吸
熱性であり、従って、外部加熱管(好ましくは以下で述
イるような外部加熱管)中で、または反応剤を予熱し、
断熱宋中の触媒床上にその反応剤を通すととKより実施
される。
スは、乾燥基準で、少なくとも30%(≠)の水素、お
よび好ましくは30%以下、特[10%(V/V)以下
のメタンを含む0反応は正味として(全体的に見て)吸
熱性であり、従って、外部加熱管(好ましくは以下で述
イるような外部加熱管)中で、または反応剤を予熱し、
断熱宋中の触媒床上にその反応剤を通すととKより実施
される。
後者の場合に、数段階を用いることができ、好ましい水
素およびメタン含量はその最後の出口のものに関してい
る。
素およびメタン含量はその最後の出口のものに関してい
る。
下装置−11’)態様のスチーム・リホーミング法が好
ましい。
ましい。
1、触媒はランダム充填された状態にあり、ユニットは
、床内の圧力降下が前述の慣用セラミック製リングによ
る圧力降下の60%以下、特に10〜40%の範囲とな
るような寸法および形態である。これは触媒が外部加熱
管中に配置される反応方法に%に適している。
、床内の圧力降下が前述の慣用セラミック製リングによ
る圧力降下の60%以下、特に10〜40%の範囲とな
るような寸法および形態である。これは触媒が外部加熱
管中に配置される反応方法に%に適している。
この態様における触媒の幾何学的表面積は100〜10
00m”/m! である(触媒が充填された反応器部
分の容積を基準)。この値は、慣用セラミック製リング
につい千の約600m!/!o3 と比肩されるもので
ある0本発明による触媒の幾何学的表面積が200〜4
00m2/+aS の好都合な範囲内であるときKは
、その反応方法は、慣用触媒を用いたときの実用的な最
高値よりも少なくとも10%、好ましくは少なくとも2
0%高い物質処理量で実施するのが好ましい。上限値は
明か罠なっていないが、慣用触媒での最高値よりも約1
00%高い値であると信じられる。そのように高い物質
処理量は、その他の条件、すなわち温度、スチーム:炭
素モル比および出口メタン含量を一定に維持した場合で
ある。もし反応が平衡まで進行させられない場合には、
温度またはスチーム比または出口メタン含量あるいはそ
れらの2以上を低減させると共に炭化水素原料の処理量
をわずかに増加、または全く増加させずに、触媒の一層
高い有効活性を利用することも、同様に可能である。
00m”/m! である(触媒が充填された反応器部
分の容積を基準)。この値は、慣用セラミック製リング
につい千の約600m!/!o3 と比肩されるもので
ある0本発明による触媒の幾何学的表面積が200〜4
00m2/+aS の好都合な範囲内であるときKは
、その反応方法は、慣用触媒を用いたときの実用的な最
高値よりも少なくとも10%、好ましくは少なくとも2
0%高い物質処理量で実施するのが好ましい。上限値は
明か罠なっていないが、慣用触媒での最高値よりも約1
00%高い値であると信じられる。そのように高い物質
処理量は、その他の条件、すなわち温度、スチーム:炭
素モル比および出口メタン含量を一定に維持した場合で
ある。もし反応が平衡まで進行させられない場合には、
温度またはスチーム比または出口メタン含量あるいはそ
れらの2以上を低減させると共に炭化水素原料の処理量
をわずかに増加、または全く増加させずに、触媒の一層
高い有効活性を利用することも、同様に可能である。
もし、工場設備をそのように改変することが可能であれ
ば、出口メタン含量を増大させずに圧力を増加すること
ができる。
ば、出口メタン含量を増大させずに圧力を増加すること
ができる。
本発明は、この態様Iの好ましい例として、セラミック
製中空円筒体の形態の触媒の代りK、ここに定義された
触媒をリホーミング管に充填することkより炭化水素の
スチームリホーミング反応の生産量を増大する方法を提
供する0%に本発明は、アンモニアまたはメタノール用
合成ガスti造するための下記条件下でσ)スチームリ
ホーミング方法を提供する。
製中空円筒体の形態の触媒の代りK、ここに定義された
触媒をリホーミング管に充填することkより炭化水素の
スチームリホーミング反応の生産量を増大する方法を提
供する0%に本発明は、アンモニアまたはメタノール用
合成ガスti造するための下記条件下でσ)スチームリ
ホーミング方法を提供する。
アンモニア メタノール
出口温度t” 700〜850 780〜9
00出ロ圧力(絶対)Lル) 25〜40 10〜3
0平衡への接近 C20以下 10以下アンモニア
合成ガスを得るには、次いで生成ガスを空気と、メタン
含量を乾燥基準で2%(η〜)以下、特に1%(v/v
)以下Kまで低減させ、また、2.5:!L1の当量
水素:窒素比となるように制御した反応速度で反応させ
る。メタノール合成ガスを得るには、生成ガスを冷却し
て、過剰スチームを凝縮除去する。
00出ロ圧力(絶対)Lル) 25〜40 10〜3
0平衡への接近 C20以下 10以下アンモニア
合成ガスを得るには、次いで生成ガスを空気と、メタン
含量を乾燥基準で2%(η〜)以下、特に1%(v/v
)以下Kまで低減させ、また、2.5:!L1の当量
水素:窒素比となるように制御した反応速度で反応させ
る。メタノール合成ガスを得るには、生成ガスを冷却し
て、過剰スチームを凝縮除去する。
1、触媒はランダム充填された形態にあり、ユニットは
慣用セラミック製リングよりも少な(とも1方向の寸法
が小さく、圧力降゛下はそのような慣用リングのそれの
66〜150%、好ましくは60〜90%である。この
ような触媒は前記態様よりもはるかに大きな(輿型的に
は2倍の)幾何学的表向を与え、反応が比較的低い出口
温度、例えば500〜700Cで起こり、そのため熱の
吸収が比較的少な(また触媒活性が比較的低い場合に、
望ましい、従つ【それは、慣用管状リホーミン!装置の
上R@で用いられるいわゆる「ケミカル・プレヒーター
」で41に有用である。また、それは、反応剤が触媒の
不存在下に予熱され、次いで断熱触媒床に通されるリホ
ーミング装置においても有用であり、その理由は、部分
反応したガスを未だ反応してない高温ガスと混合させる
ととKより局部的に再加熱すると共に、過度の圧力降下
なく大きな幾何学的表向を与えるからである。
慣用セラミック製リングよりも少な(とも1方向の寸法
が小さく、圧力降゛下はそのような慣用リングのそれの
66〜150%、好ましくは60〜90%である。この
ような触媒は前記態様よりもはるかに大きな(輿型的に
は2倍の)幾何学的表向を与え、反応が比較的低い出口
温度、例えば500〜700Cで起こり、そのため熱の
吸収が比較的少な(また触媒活性が比較的低い場合に、
望ましい、従つ【それは、慣用管状リホーミン!装置の
上R@で用いられるいわゆる「ケミカル・プレヒーター
」で41に有用である。また、それは、反応剤が触媒の
不存在下に予熱され、次いで断熱触媒床に通されるリホ
ーミング装置においても有用であり、その理由は、部分
反応したガスを未だ反応してない高温ガスと混合させる
ととKより局部的に再加熱すると共に、過度の圧力降下
なく大きな幾何学的表向を与えるからである。
1、整列触媒が、少なくとも1個の窓付き管状ユニット
が加熱反応管の軸にその軸をはば平行とした状聰で配置
されて存在する。康埋的には、単一の管状ユニットが存
在し5るがそのようは二二ツトの複数を端同志を合せ【
縦に積み重ねるのが一層好適である。そのような管状ユ
ニットは好ましくは触媒表面をそれ自体の内壁以外にそ
の中に有する。そのような追加の触媒表向は、それと同
じ一般形状ではあるが小さいユニットを同軸状に挿入し
てその内側の小さいユニットの表IiK設けることがで
きる。そのような触媒表面は弧状または直径方向lI)
ウェブであり【いてよい。非常に好適にはそのような追
加触媒表面は、1!(透孔)(対応する)2ツブを内側
へ折げ込んだものである。
が加熱反応管の軸にその軸をはば平行とした状聰で配置
されて存在する。康埋的には、単一の管状ユニットが存
在し5るがそのようは二二ツトの複数を端同志を合せ【
縦に積み重ねるのが一層好適である。そのような管状ユ
ニットは好ましくは触媒表面をそれ自体の内壁以外にそ
の中に有する。そのような追加の触媒表向は、それと同
じ一般形状ではあるが小さいユニットを同軸状に挿入し
てその内側の小さいユニットの表IiK設けることがで
きる。そのような触媒表面は弧状または直径方向lI)
ウェブであり【いてよい。非常に好適にはそのような追
加触媒表面は、1!(透孔)(対応する)2ツブを内側
へ折げ込んだものである。
所望ならば、二本の同軸管の間の空隙中の触媒に反応剤
を下向きに通すいわゆる「フィールド0・チューブ法」
または「ノ電イ1ネット・チューブ法」(外側管はその
底を閉じられ【いるので反応剤は次いで内側管内を上向
きに戻りその際に内側管の壁を介して、触媒中を流れて
いる反応剤に向けて熱を失う)KおけるようK、同軸の
内側管を設け【それを別の熱源とすることもできる。ま
た同軸1 の内側ロッドを設けることもでき
る。
を下向きに通すいわゆる「フィールド0・チューブ法」
または「ノ電イ1ネット・チューブ法」(外側管はその
底を閉じられ【いるので反応剤は次いで内側管内を上向
きに戻りその際に内側管の壁を介して、触媒中を流れて
いる反応剤に向けて熱を失う)KおけるようK、同軸の
内側管を設け【それを別の熱源とすることもできる。ま
た同軸1 の内側ロッドを設けることもでき
る。
本発明のこの態様の触媒の幾何学的表面は、典型的に&
140〜16叶1/m3の範囲である。
140〜16叶1/m3の範囲である。
この第6の態様の圧力降下は極めて低(、特に触媒表面
が一般的な反応剤流動方向に対し実質的に平行である極
端な場合にはそれが著しい。典型的な圧力降下は、慣用
リングのそれの0.1〜2.0%に当る値となる。
が一般的な反応剤流動方向に対し実質的に平行である極
端な場合にはそれが著しい。典型的な圧力降下は、慣用
リングのそれの0.1〜2.0%に当る値となる。
触媒ユニットの形状による熱および物質移動特性・と)
2ランスした触媒活性を与えるには、触媒担体材料は、
典型的には、触媒充填反応器空間の11EIs当り5〜
200x10sm2 の内部表面積を与える。これは
100〜200m”1510内S表面積を有する酸化物
の層(1〜20%を構成する)によって与えられる0反
応器の触媒充填空間1m3当りのニッケルおよび/また
はコバルトの適当な含量は、−酸化物として計算して1
〜100に#、特に2〜20ゆである。白金族金属の含
量は、ニッケルまたはコバルトと共に用いられないとき
Kは、典型的には上記の百分の一程度であり、ロジウム
が好ましい金属である。触媒が(!L)ニッケルおよび
/またはコノ2ルトおよび(b) 白金族金属の両方
を、上記の低い濃度で含む場合には、これは、典型的に
は反応器の触媒充填空間IBm当り各タイプの金属のそ
れぞれα1〜10時に相当する・本発明方法は任意のリ
ホーミング器、例えば頂部燃焼式、側部燃焼式または底
部燃焼式の炉、または第2次リホーマ−ガスもしくは核
反応器冷媒ガスのような非輻射高温ガスにより加熱され
たリホーミング器で実施できる。定義の如き触媒は床全
体をなしても、あるいは他のタイプの触媒(例えば、温
度および熱が急上昇するような場合があればその領域K
Nいてセラミック担持触媒)と組合せて使用でき、特に
もし炭ig副生物の形成が予期されるならば床入口にお
いて高または低度のアルカリ化セラミック担持触媒と組
合せて用いることができる。本発明方法は管壁温度を低
減させることにより、リホーミング管の寿命を永くする
ことが当然予期される。500〜650Cの範囲の温度
における触媒の活性は、慣用のセラミック担持触媒のそ
れよりも高くまた一定となりうるので、[ホット・パン
ディン〆(高温局所帯状化)」の発生率を低く操作する
ことが可能となる。
2ランスした触媒活性を与えるには、触媒担体材料は、
典型的には、触媒充填反応器空間の11EIs当り5〜
200x10sm2 の内部表面積を与える。これは
100〜200m”1510内S表面積を有する酸化物
の層(1〜20%を構成する)によって与えられる0反
応器の触媒充填空間1m3当りのニッケルおよび/また
はコバルトの適当な含量は、−酸化物として計算して1
〜100に#、特に2〜20ゆである。白金族金属の含
量は、ニッケルまたはコバルトと共に用いられないとき
Kは、典型的には上記の百分の一程度であり、ロジウム
が好ましい金属である。触媒が(!L)ニッケルおよび
/またはコノ2ルトおよび(b) 白金族金属の両方
を、上記の低い濃度で含む場合には、これは、典型的に
は反応器の触媒充填空間IBm当り各タイプの金属のそ
れぞれα1〜10時に相当する・本発明方法は任意のリ
ホーミング器、例えば頂部燃焼式、側部燃焼式または底
部燃焼式の炉、または第2次リホーマ−ガスもしくは核
反応器冷媒ガスのような非輻射高温ガスにより加熱され
たリホーミング器で実施できる。定義の如き触媒は床全
体をなしても、あるいは他のタイプの触媒(例えば、温
度および熱が急上昇するような場合があればその領域K
Nいてセラミック担持触媒)と組合せて使用でき、特に
もし炭ig副生物の形成が予期されるならば床入口にお
いて高または低度のアルカリ化セラミック担持触媒と組
合せて用いることができる。本発明方法は管壁温度を低
減させることにより、リホーミング管の寿命を永くする
ことが当然予期される。500〜650Cの範囲の温度
における触媒の活性は、慣用のセラミック担持触媒のそ
れよりも高くまた一定となりうるので、[ホット・パン
ディン〆(高温局所帯状化)」の発生率を低く操作する
ことが可能となる。
本発明のさらに別の態様としては下記のものがある。
ta) その境界内で少なくとも二つの相互に横切る
方向の気体流通を許容し、また触媒担体物質のウォッシ
ュコートを担持している不変形状ユニットの形態の触媒
担体。
方向の気体流通を許容し、また触媒担体物質のウォッシ
ュコートを担持している不変形状ユニットの形態の触媒
担体。
(b) iiK透孔およびその透孔に形において対応
する内部突出部を有する一般に管状の触媒担体であって
、それらの壁および突出部に触媒担体t#B質の層を担
持しy:触媒担体。
する内部突出部を有する一般に管状の触媒担体であって
、それらの壁および突出部に触媒担体t#B質の層を担
持しy:触媒担体。
(c) そのようないずれかの触媒担体と、少なくと
も1積の第■族金属化合物とからなり、還元により活性
触媒になりうる触媒前駆体。
も1積の第■族金属化合物とからなり、還元により活性
触媒になりうる触媒前駆体。
(dl 上記(&)または(b)の担体と、属期律表
第■族の少T、c (とも11にの活性金属とからなる
触媒eこれらの態様のそれぞれKおける好ましいものは
、スチーム・リホーミング法との関係で前述した通りで
ある。さらに本発明の触媒は表面酸化により安定化され
た活性金属を含むことができ、あるいは再生を必要とす
る状態または再生中の状態を採りうる。
第■族の少T、c (とも11にの活性金属とからなる
触媒eこれらの態様のそれぞれKおける好ましいものは
、スチーム・リホーミング法との関係で前述した通りで
ある。さらに本発明の触媒は表面酸化により安定化され
た活性金属を含むことができ、あるいは再生を必要とす
る状態または再生中の状態を採りうる。
本発明の一改変によれば、触媒はランダム充填された合
金管状ユニットの形態であり、各ユニットは少なくとも
40チの開口横断面積を有するがその流動軸方向に対し
て横向きの、その壁を通過する気体流動を実質的に許容
しないことを特徴とする触媒上での炭化水素原料とスチ
ームおよび/または二酸化炭素との反応方法が提供され
る。
金管状ユニットの形態であり、各ユニットは少なくとも
40チの開口横断面積を有するがその流動軸方向に対し
て横向きの、その壁を通過する気体流動を実質的に許容
しないことを特徴とする触媒上での炭化水素原料とスチ
ームおよび/または二酸化炭素との反応方法が提供され
る。
そのような管状ユニットには、その内側の全長にわたっ
て延在するウェブ(隔壁)を形成されていてよく、その
ようなりニブによって4本、殊に2本の流通路を与える
のが好ましい(例えば「LKssING Jリングのよ
うに)。そのようなユニットの開口面積は、特に7(1
以上、例えば85%までである。スチームリホーミング
反応において反応剤の効率的な接触のためには、このよ
うなユニットの高さはその外径よりも太き(ないことが
好ましい。
て延在するウェブ(隔壁)を形成されていてよく、その
ようなりニブによって4本、殊に2本の流通路を与える
のが好ましい(例えば「LKssING Jリングのよ
うに)。そのようなユニットの開口面積は、特に7(1
以上、例えば85%までである。スチームリホーミング
反応において反応剤の効率的な接触のためには、このよ
うなユニットの高さはその外径よりも太き(ないことが
好ましい。
第1担体および第2担体物質の組成や活性触媒物質の種
類のようなその他の特性は、相互に横切る方向のガス流
動を許容する触媒ユニットについて以下で説明する。
類のようなその他の特性は、相互に横切る方向のガス流
動を許容する触媒ユニットについて以下で説明する。
本発明は類似的に改変した触媒および触媒前駆体、触媒
担体をも提供する。
担体をも提供する。
以下の実施例1〜7は下記の性質を有するj−PALL
J IJソング試験に基き本発明を例示するものである
。
J IJソング試験に基き本発明を例示するものである
。
材質二タイプ604ステンレス鋼、厚さ番手288WG
(0,3m厚) 円筒体(スプリット付):高さ及び直径;16m重量(
1個);2.81? 幾何学的表面積;1個につき 16rx2.326屡2/m3 透孔;5個×2列、各々 6×4m 内部突出部;透孔に対応 嵩密度: Q、 51/cx3 空隙率=96% 実施例8は下記性質を有するrLEssINGJ 9
ングを用いての本発明の改変方法を例示するものである
。
(0,3m厚) 円筒体(スプリット付):高さ及び直径;16m重量(
1個);2.81? 幾何学的表面積;1個につき 16rx2.326屡2/m3 透孔;5個×2列、各々 6×4m 内部突出部;透孔に対応 嵩密度: Q、 51/cx3 空隙率=96% 実施例8は下記性質を有するrLEssINGJ 9
ングを用いての本発明の改変方法を例示するものである
。
材 質二タイプ304ステンレス鋼、厚さ14m高さ1
2.9m 外径1五3m 幾何学的表面; 7.1(1!ML2/II、 494
m”7m”1個の全長にわたる直径方向のウェブ付き。
2.9m 外径1五3m 幾何学的表面; 7.1(1!ML2/II、 494
m”7m”1個の全長にわたる直径方向のウェブ付き。
嵩密度: 2.061/ax” (実施例8の注を参照
)。
)。
実施例 1
三種の試料を試験した。試料を直径921、深さ27.
5mm(容積1.837)の容器に入れ、その容器に2
0713/時で空気を送り、入口および出口における圧
力差を渕定した。これらの試料は下記の通りであった。
5mm(容積1.837)の容器に入れ、その容器に2
0713/時で空気を送り、入口および出口における圧
力差を渕定した。これらの試料は下記の通りであった。
ム:前記の「PALLJリング、
B:同様なリングであるが、その内部突出部を元に折り
戻して透孔な閉じた状態としたもの、C:市販のスチー
ムリホーミング触媒、リング(17X17■)状で壁厚
が5mのもの。
戻して透孔な閉じた状態としたもの、C:市販のスチー
ムリホーミング触媒、リング(17X17■)状で壁厚
が5mのもの。
結果の圧力降下(水柱一単位)は下記の通りであった。
A:4,5〜5.0
B : 7.5〜aO
C:15〜16
従って透孔の効果は圧力降下をはとんと50%低減させ
ること、すなわち市販触媒のそれの/4の値にまで低減
させることである。
ること、すなわち市販触媒のそれの/4の値にまで低減
させることである。
(b)触媒活性に対する影響
リングAおよびBから次のようにして触媒AおよびBを
作った。
作った。
前処理:アセトンで洗浄し、乾燥して脱脂;空気中55
0Cで4時間加熱して表面酸化。
0Cで4時間加熱して表面酸化。
被 覆:下記の物質からなるウォッシュコート組成物を
用いた。
用いた。
ベーマイト(BACOCerasoG商標) 2
25j’硝酸セリウム6水和物 t
659[NATRASOLJ (商標→ヒドロキシエチ
ルセルロース 151 水 1500
JF注:上記イーマイトは下記の性質であった。
25j’硝酸セリウム6水和物 t
659[NATRASOLJ (商標→ヒドロキシエチ
ルセルロース 151 水 1500
JF注:上記イーマイトは下記の性質であった。
組成(%);ム1,0. 83
H,016
N a 20 α2
Sin、 0.01
Fe、0. α02
結晶寸法 約80オングストローム
結晶構造 ベーマイト
ヘリウム法密度 2.78JF/M
Hjl法密度 t 561/ld細孔容積
0.28111/1 組成物は、半量の水にヒト90キシエチルセルロースを
溶解し、残りの半分の水にイーマイトを高剪断ミキサー
により分散させ、得られた二つの液を混合し、次いでア
ルファ・アルミナ3水和物と硝酸セリフ五淡厚溶液とを
攪拌混入するととにより作った。
0.28111/1 組成物は、半量の水にヒト90キシエチルセルロースを
溶解し、残りの半分の水にイーマイトを高剪断ミキサー
により分散させ、得られた二つの液を混合し、次いでア
ルファ・アルミナ3水和物と硝酸セリフ五淡厚溶液とを
攪拌混入するととにより作った。
予備処理済のリングを上記組成物中に20分間浸漬し、
50分間にわたって液を流下除去(ドレイン)させ、5
0Cで乾燥し、そして700Cで1時間焼成した。これ
らの諸操作を二回繰返えした0重量増加率は、Aが4.
1%、Bが6.0%であった(Bの増加率が大きいのは
、折り戻した突出部とリング壁との間の狭い空隙にアル
ミナが保持されたことによるものであるが、そのような
アルミナは弱く保持されているので、そのうちの多くの
もの(酸化ニッケルを含む一下記参照)は、リングを試
験用反応器へ仕込む前に機械的に除去されてしまった。
50分間にわたって液を流下除去(ドレイン)させ、5
0Cで乾燥し、そして700Cで1時間焼成した。これ
らの諸操作を二回繰返えした0重量増加率は、Aが4.
1%、Bが6.0%であった(Bの増加率が大きいのは
、折り戻した突出部とリング壁との間の狭い空隙にアル
ミナが保持されたことによるものであるが、そのような
アルミナは弱く保持されているので、そのうちの多くの
もの(酸化ニッケルを含む一下記参照)は、リングを試
験用反応器へ仕込む前に機械的に除去されてしまった。
リングAおよびBは、本発明による触媒担体ななすもの
である。
である。
含浸:アルミナ被覆付きリングを硝酸ニッケル溶11(
20FNi/100m)中に20分間浸漬し、次いで2
0分間にわたって溶液を流下除去(ドレイン)し、80
tl’で乾燥し、次いで475Cで6時間焼成した。こ
れらの緒操作を5回繰返えした。 Ni0ICよる重量
増加率は、ムが2.7%、Bが&O%であ一’)た、リ
ングムおよびBは本発明による触媒プレカーサー(前駆
体)をなすものである。
20FNi/100m)中に20分間浸漬し、次いで2
0分間にわたって溶液を流下除去(ドレイン)し、80
tl’で乾燥し、次いで475Cで6時間焼成した。こ
れらの緒操作を5回繰返えした。 Ni0ICよる重量
増加率は、ムが2.7%、Bが&O%であ一’)た、リ
ングムおよびBは本発明による触媒プレカーサー(前駆
体)をなすものである。
上記の触媒前駆体を下記のように試験した。
スチーム・メタンリホーンンダ
長さ250m1、内径50■の寸法の管に外部電熱装置
を付けた反応器に各触媒前駆体を500Wj仕込んだ。
を付けた反応器に各触媒前駆体を500Wj仕込んだ。
脱硫績の天然ガス(91won ql) OH4゜五5
vol % C2H4r 2 vol ’it N2
)とスチームとの1=3の予11kc400c)混合物
を大気圧で2000/時の容積空開速度で通した。触媒
温度は605Cと760Cとの間で継続的に増加したい
くつかのレベルに調節した。触媒はそれにメタンおよび
スチームを供給する前に還元されなかったが、その活性
は迅速に発現し、原料用水素流(炭素酸化物および窒素
をも含み、また表2に示す未反応のメタン含量を有する
)を生じた。
vol % C2H4r 2 vol ’it N2
)とスチームとの1=3の予11kc400c)混合物
を大気圧で2000/時の容積空開速度で通した。触媒
温度は605Cと760Cとの間で継続的に増加したい
くつかのレベルに調節した。触媒はそれにメタンおよび
スチームを供給する前に還元されなかったが、その活性
は迅速に発現し、原料用水素流(炭素酸化物および窒素
をも含み、また表2に示す未反応のメタン含量を有する
)を生じた。
表2
従って二つの触媒は活性において等しい。この点に関し
て二つの触媒は市販触媒とほとんど異ならないが、この
結果は市販触媒よりもはるかに低い圧力降下で達成され
たことに注意すべきである。
て二つの触媒は市販触媒とほとんど異ならないが、この
結果は市販触媒よりもはるかに低い圧力降下で達成され
たことに注意すべきである。
ろデー人中におけ不−壷嫉的安定負
上記試験後の触媒を760Cで16時間スチーム処理し
、次いで冷却し検査した。合金表面からの被覆の可視損
失は実質上なかった。
、次いで冷却し検査した。合金表面からの被覆の可視損
失は実質上なかった。
実施例 2
0ジウム・ニッケル触 0
触媒前駆体ムの上記lll1Mを大規模(アルミナ6水
和物使用量120kf)で繰返し、5.39k v/v
のAl、O,および5.5 % v/vのNiOの重量
増加とし、次いで1%v/vの硝酸ロジウム含量で會浸
し、乾燥した。
和物使用量120kf)で繰返し、5.39k v/v
のAl、O,および5.5 % v/vのNiOの重量
増加とし、次いで1%v/vの硝酸ロジウム含量で會浸
し、乾燥した。
実施例1の如き研究実験におけるメタン転化率は表6の
通りであった。
通りであった。
触媒前駆体を、メタノール合成ガス製造用輻射加熱リホ
ーミング器の一つの雪中で下記の条件の下に試験した。
ーミング器の一つの雪中で下記の条件の下に試験した。
圧力(M対バール) 11.9スチーム比(モ
ル比)4.5 出口温度CC> 790 16日間の運転後、上記触媒を仕込んだ管からの流量お
よび出口ガスの組成を、前記市販触媒Cを仕込んだ他の
管についての平均と、比較した。
ル比)4.5 出口温度CC> 790 16日間の運転後、上記触媒を仕込んだ管からの流量お
よび出口ガスの組成を、前記市販触媒Cを仕込んだ他の
管についての平均と、比較した。
結果を表4に示す。
表4
※流動制限によりこの水準に制御した。
むしろ高い流量にもかかわらず、不発F!4による触媒
0が出口ガス中に低いメタン含量を与え、もしリホーミ
ング器のすべての管において使用されたならば全処理量
をはるかに増大し5ることは明かであった。管表面温度
はセラミック触媒0を含む管のそれよりも10C低かっ
た。
0が出口ガス中に低いメタン含量を与え、もしリホーミ
ング器のすべての管において使用されたならば全処理量
をはるかに増大し5ることは明かであった。管表面温度
はセラミック触媒0を含む管のそれよりも10C低かっ
た。
実施例 6
貴金属含量が非常に低い触媒
アルミナ被覆を有するが酸化ニッケルを含んでいない実
施例2からの触媒担体の数試料を、硫酸ロジウム溶液で
含浸して、[13係v/vRh (触媒瓦)およびαQ
Q 6 % v/vRh (触媒F)の含量とし、2
00Cで2時間焼成した。これらを実施例1のようにし
て試験した。メタン含量(出口)% v/vで表わした
結果を表5に示す。
施例2からの触媒担体の数試料を、硫酸ロジウム溶液で
含浸して、[13係v/vRh (触媒瓦)およびαQ
Q 6 % v/vRh (触媒F)の含量とし、2
00Cで2時間焼成した。これらを実施例1のようにし
て試験した。メタン含量(出口)% v/vで表わした
結果を表5に示す。
秦温度は実liIには545C
+760Cで16時間、12のスチーム処理は第1のス
チーム処理後の活性試験の後に行った。
チーム処理後の活性試験の後に行った。
Nム=分析せず。
非常に低い含量の活性金属の存在にかかわらず、これら
の触媒は著しい活性を有し、触媒についての活性は好ま
しくはスチーム地理によって発現される。
の触媒は著しい活性を有し、触媒についての活性は好ま
しくはスチーム地理によって発現される。
別の実験では、これらの触媒は400Cで活性であるこ
と、また(100(16*v/v(6ppm)のRhを
含む別の触媒(G)が有用な活性を有することが判明し
た。
と、また(100(16*v/v(6ppm)のRhを
含む別の触媒(G)が有用な活性を有することが判明し
た。
示した百分率は触媒全体に関するものであり、アルミナ
層の部分としてのロジウム含量4v/vは、はぼ、Xが
60、Fがα12、そしてGがa012%であった。従
って含金担体は触媒が潜在的に経済的な割合のロジウム
を含み、かつそれを有効な水準の活性を発揮し5るとこ
ろに配置することを可能にした。
層の部分としてのロジウム含量4v/vは、はぼ、Xが
60、Fがα12、そしてGがa012%であった。従
って含金担体は触媒が潜在的に経済的な割合のロジウム
を含み、かつそれを有効な水準の活性を発揮し5るとこ
ろに配置することを可能にした。
!11−」
(a) 実施例1のようにしてアルミナ被覆したrP
ALLJ+7ングを作った。被覆および焼成は2度繰返
えし、5.3 %の重量増加を与えた(リングおよび被
覆の合計に基き5%Aj!03)。
ALLJ+7ングを作った。被覆および焼成は2度繰返
えし、5.3 %の重量増加を与えた(リングおよび被
覆の合計に基き5%Aj!03)。
被覆済のリングの四試料(H,I、 J、 K)を、硝
酸ロジウムの稀薄溶液(α08IiRh/1QQ111
)単独、またはさらに銅、ニッケルもしくはコノ之ルト
の硝酸塩(6〜4Iの水和硝酸塩/J)で會浸し、そし
て第5番目の試料(L)を硝酸ニッケル溶液単独で含浸
した。含浸されたリングを50Cで一晩乾燥し、450
Cで1時間焼成した。被覆中の金属のppm (v/v
)で計算した金属含量は試験結果を示す表6の冒頭に
示されている。これらのリングは本発明による触媒前駆
体をなすものである。
酸ロジウムの稀薄溶液(α08IiRh/1QQ111
)単独、またはさらに銅、ニッケルもしくはコノ之ルト
の硝酸塩(6〜4Iの水和硝酸塩/J)で會浸し、そし
て第5番目の試料(L)を硝酸ニッケル溶液単独で含浸
した。含浸されたリングを50Cで一晩乾燥し、450
Cで1時間焼成した。被覆中の金属のppm (v/v
)で計算した金属含量は試験結果を示す表6の冒頭に
示されている。これらのリングは本発明による触媒前駆
体をなすものである。
これらを実施例1の操作により、550Cと760Cの
間で次第に増加する種々の温度(触媒)で試験した。こ
の試験の後に触媒を760Cで16時間スチーム処理し
、再び同様に試験した。第61Rに示した結果から、銅
、またはそれより多くのニッケルもしくはコバルトの添
加は、ロジウムの初期活性を向させるけれども、ニッケ
ル自体の活性は無視し5るはとである。しかし、スチー
ム処理後、ロジウム/ニッケル触媒およびロジウム/コ
バルト触媒の活性は、そのスチーム地理前よりも著しく
高くまた試験したいずれの他の触媒の活性よりも着しく
高い。
間で次第に増加する種々の温度(触媒)で試験した。こ
の試験の後に触媒を760Cで16時間スチーム処理し
、再び同様に試験した。第61Rに示した結果から、銅
、またはそれより多くのニッケルもしくはコバルトの添
加は、ロジウムの初期活性を向させるけれども、ニッケ
ル自体の活性は無視し5るはとである。しかし、スチー
ム処理後、ロジウム/ニッケル触媒およびロジウム/コ
バルト触媒の活性は、そのスチーム地理前よりも著しく
高くまた試験したいずれの他の触媒の活性よりも着しく
高い。
試験したいずれの触媒も、試験条件中で通常許容される
平衡への接近をなす程に充分に活性ではないが、結果は
、非貴金属(特にN1またはCo)がロジウムの活性を
、鋏貴金属触媒を経済的に実用的にするに足るように、
充分に増大しえたことを示している。金属含量を100
倍に増加しても、触媒充填反応器空間11当り0.3j
’のロジウムにすぎない。
平衡への接近をなす程に充分に活性ではないが、結果は
、非貴金属(特にN1またはCo)がロジウムの活性を
、鋏貴金属触媒を経済的に実用的にするに足るように、
充分に増大しえたことを示している。金属含量を100
倍に増加しても、触媒充填反応器空間11当り0.3j
’のロジウムにすぎない。
(b) 一層高い金属含量の効果を調査するために、
さらに二つの触媒(M、N)を同じ操作で作った。
さらに二つの触媒(M、N)を同じ操作で作った。
担体のアルミナ含量は7.5憾であり、触媒yIl駆体
は200 ppmのNtO1200ppm(v/vr)
のCo。
は200 ppmのNtO1200ppm(v/vr)
のCo。
および15ppm(w/w)の0)ラムを含んでいた(
いずれも、第1担体を含めた合計で計算)。試験操作は
、活性試験の前に7600においてスチーム/ガス混合
物で一晩旭理した点が、前記と異なる。従って表6は「
スチーム処理」した場合のデータのみを示している。平
衡への良好な接近(65DC,700Cおよび760C
において、それぞれ22優、0.7%および[129G
のメタン含量)が達成されたことが明かである。
いずれも、第1担体を含めた合計で計算)。試験操作は
、活性試験の前に7600においてスチーム/ガス混合
物で一晩旭理した点が、前記と異なる。従って表6は「
スチーム処理」した場合のデータのみを示している。平
衡への良好な接近(65DC,700Cおよび760C
において、それぞれ22優、0.7%および[129G
のメタン含量)が達成されたことが明かである。
実施例 5
2ンダム充填「PALLJリング(触媒O)使用したリ
ングは幾何学的表面が319 m”/1ml”であるこ
と以外は実施例1と同様であった。これらを実施例1の
ように予備処理し、下記の組成物でウォッシュコートを
掛けた。
ングは幾何学的表面が319 m”/1ml”であるこ
と以外は実施例1と同様であった。これらを実施例1の
ように予備処理し、下記の組成物でウォッシュコートを
掛けた。
(−マイト(BACOCerasol ;商標)115
に&硝酸セリウム6水和物 2時
水で全量 660!上
記ベーマイトは下記の性質であった。
に&硝酸セリウム6水和物 2時
水で全量 660!上
記ベーマイトは下記の性質であった。
組成(%)=A120. 82
H2017
N a 20 Q、12
SiO□ αO1
F e20 a (102
結晶寸法:約500オングストローム
結晶構造:ベーマイト
ヘリウム法密度: 2.921/MI
H1法密度 :17519/IEJ
細孔容積:o、23mし′I
組成物は実施例1のようKして作り、また施した。重量
増加率は8.7%であった。
増加率は8.7%であった。
含浸:アルミナ被覆付きリングを硝酸ニッケル溶液(2
0,81Ni/100m)中に20分間浸漬し、液を2
0分間流去(ドレイン)させ、80Cで乾燥し、次いで
475Cで4時間焼成した。これらの操作を6回繰返え
した。
0,81Ni/100m)中に20分間浸漬し、液を2
0分間流去(ドレイン)させ、80Cで乾燥し、次いで
475Cで4時間焼成した。これらの操作を6回繰返え
した。
NiOによる重量増加は5.4憾であった(リング、被
覆およびN100合計に基に計算)、この含浸リングを
次いで硝酸ロジウム溶液(125jlRbzJ液100
JI)で含浸し、200Cで焼成した。金属として計算
したロジウムの含量は、触媒全体に基き0.01優w/
vであった。
覆およびN100合計に基に計算)、この含浸リングを
次いで硝酸ロジウム溶液(125jlRbzJ液100
JI)で含浸し、200Cで焼成した。金属として計算
したロジウムの含量は、触媒全体に基き0.01優w/
vであった。
スチーム・メタン・リホーミング
上記のニッケル・ロジウム・アルミナ担持リングを原料
用アンモニア合成ガス生産用の第1次すホーミング器の
一本の輻射加熱管へ仕込んだ。その操作条件は下記の通
りであった。
用アンモニア合成ガス生産用の第1次すホーミング器の
一本の輻射加熱管へ仕込んだ。その操作条件は下記の通
りであった。
圧力(絶対バール)62
スチーム比(モル比)4.O
21175
C02cL45
7日間の運転後、この触媒の仕込んだ管からの流量およ
び出口ガス組成を、リホーミング器の他の管についての
それらの平均と比較した。他の管は、壁厚5m、17X
17mのセラミックリングの形であり、I Q、 5
% W/Wのニッケル(NaOとして)を担持していた
。結果を表7に示す。
び出口ガス組成を、リホーミング器の他の管についての
それらの平均と比較した。他の管は、壁厚5m、17X
17mのセラミックリングの形であり、I Q、 5
% W/Wのニッケル(NaOとして)を担持していた
。結果を表7に示す。
表 7
※流量制限によりこの水準Ki1制御した。
160日間の運転後、出口流量920 m”/hおよび
出口温度745Cにおいて、メタン含量は112%であ
った。300日目では、出口流量98073137時(
温度705r)でメタン含量は14%v/vであった。
出口温度745Cにおいて、メタン含量は112%であ
った。300日目では、出口流量98073137時(
温度705r)でメタン含量は14%v/vであった。
328日目では、出口流量880 、l”7時(温度7
59C)で、メタン含量は8.4 qbv/vであった
。このような期間にわたって、触媒がその活性を維持し
たことが明かである。
59C)で、メタン含量は8.4 qbv/vであった
。このような期間にわたって、触媒がその活性を維持し
たことが明かである。
平衡への接近は10r以下である。
実施例 6
直径および高さが50簡の5個のrlPALLJリン〆
を用いた。その性質は下記の通りであった。
を用いた。その性質は下記の通りであった。
材質:タイプ604ステンレス鋼、厚0.5m、重量:
平均45.1j 幾何学的表面:0.008/屡21 その外面が反応剤と接触しないよう に密嵌合殻内Km直に積み重ねた場 合には1057m /凰 詳しい形状 :透孔:2列、各透孔は巾21、高さt2
aIL。
平均45.1j 幾何学的表面:0.008/屡21 その外面が反応剤と接触しないよう に密嵌合殻内Km直に積み重ねた場 合には1057m /凰 詳しい形状 :透孔:2列、各透孔は巾21、高さt2
aIL。
内部突出舌状片は透孔に相当する形状、嵩 密 度 :
密嵌合殻中K11l直に積み合せた場合にはα501/
cx” これらを実施例1のように予備処理し、ウォッシュコー
トを掛け、次いで硝酸ニッケルで含浸したが、硝酸ロジ
ウムでは含浸しなかった。得られた触媒前駆体は6.8
q4 v/wのAら03および4.6w/vのNiO
を含んでいた。
密嵌合殻中K11l直に積み合せた場合にはα501/
cx” これらを実施例1のように予備処理し、ウォッシュコー
トを掛け、次いで硝酸ニッケルで含浸したが、硝酸ロジ
ウムでは含浸しなかった。得られた触媒前駆体は6.8
q4 v/wのAら03および4.6w/vのNiO
を含んでいた。
これらの前駆体リングを、実験室用1次すホーオング装
置の50■内径外部加熱式管の中に縦に順次重ねた。リ
ングの壁は管の内壁に嵌合したので、反応剤はリングの
外壁上にある触媒と接触できないようになっていた。試
験条件は実施例1の通りであり、触媒温度は600Cと
760Cとの間で次第に増加する値とした。生成ガス中
の未反応メタン含量を表8に示す。
置の50■内径外部加熱式管の中に縦に順次重ねた。リ
ングの壁は管の内壁に嵌合したので、反応剤はリングの
外壁上にある触媒と接触できないようになっていた。試
験条件は実施例1の通りであり、触媒温度は600Cと
760Cとの間で次第に増加する値とした。生成ガス中
の未反応メタン含量を表8に示す。
触媒の小さな幾何学的表面、および反応器の単位容積当
りの極めて少ない活性金属の量に鑑み、反応の程度は著
しく高い。もし反応ガスが管壁、およびリングの外″表
面に接したとすれば、メタンの転化率はさらに高くなっ
たことは明かである。
りの極めて少ない活性金属の量に鑑み、反応の程度は著
しく高い。もし反応ガスが管壁、およびリングの外″表
面に接したとすれば、メタンの転化率はさらに高くなっ
たことは明かである。
実施例 7
小型ハニカムおよび「PALL リングに担持された
触媒の活性の比較 実施例2に記載のメタノール合成ガス発生操作を、二つ
のタイプの小部ハニカム触媒、および二つのわずかに異
なる充填「PALLJ リング触媒を用いて実施した。
触媒の活性の比較 実施例2に記載のメタノール合成ガス発生操作を、二つ
のタイプの小部ハニカム触媒、および二つのわずかに異
なる充填「PALLJ リング触媒を用いて実施した。
触媒についての説明、および一定期間にわたり所期の等
しい生産量において得られた出口メタン含量を表9に示
す。
しい生産量において得られた出口メタン含量を表9に示
す。
幾何学的表面積およびN’i0含量(1個当りで低くそ
して反応器空間単位容積当りではさらに低い)の両者が
低いにもかかわらず、l’−PALI、J 9ンダに担
持された触媒は、二つのハニカム触媒よりもメタン含量
の低いガスを生成した。
して反応器空間単位容積当りではさらに低い)の両者が
低いにもかかわらず、l’−PALI、J 9ンダに担
持された触媒は、二つのハニカム触媒よりもメタン含量
の低いガスを生成した。
実施例 8
「Loseing Jリングに担持された触媒実施例1
に記載の「Lesaing Jリンダ(150II)を
アセトンで脱脂し、600Cの空気中で4時間加熱し、
次いで冷却し、下記の組成のウオツシュコー)IL金物
中に浸漬した。
に記載の「Lesaing Jリンダ(150II)を
アセトンで脱脂し、600Cの空気中で4時間加熱し、
次いで冷却し、下記の組成のウオツシュコー)IL金物
中に浸漬した。
d−マイト(BACOGerasoG商標’)
2249硝酸セリウム6水和物
4.27[NATFLA80L J
9.4N水で
1600111120分後、液を流去させ、次い
で60Cで乾燥し、700Cで2時間−成した。この浸
漬、乾燥および焼成の操作を二回繰返した。被覆付きり
ングを、実施例1の操作によりNiO含浸した。リング
の重量取得は2.67%Aj20.および16%NiO
であった。従って「LesaingJ リングの厚い金
属の故に、「PALLJ リングを用いた場合と大体同
じ反応器単位空間容積当りの酸化ニッケル量を示してい
る。
2249硝酸セリウム6水和物
4.27[NATFLA80L J
9.4N水で
1600111120分後、液を流去させ、次い
で60Cで乾燥し、700Cで2時間−成した。この浸
漬、乾燥および焼成の操作を二回繰返した。被覆付きり
ングを、実施例1の操作によりNiO含浸した。リング
の重量取得は2.67%Aj20.および16%NiO
であった。従って「LesaingJ リングの厚い金
属の故に、「PALLJ リングを用いた場合と大体同
じ反応器単位空間容積当りの酸化ニッケル量を示してい
る。
実施例1のようにして被覆り/グを試験した(注:使用
リングの金属は必ずしも厚くなかった。
リングの金属は必ずしも厚くなかった。
工業的に実用される場合には、金属厚はl’PALLJ
リングについてとほぼ同じであり、従って重量取得なら
びに嵩書度および開口面積についてはそれ和尚の結果が
もたらされることは明かである)。
リングについてとほぼ同じであり、従って重量取得なら
びに嵩書度および開口面積についてはそれ和尚の結果が
もたらされることは明かである)。
Claims (8)
- (1) 炭化水素原料と、スチームおよび/または二
酸化炭素とを触媒上で反応させる方法であって、触媒が
その墳界内における少なくとも二つの相互に横切る方向
の気体の貫通流動を許容する少なくとも一つの不変形性
中空ユニットの形曹であることを特徴とする上記反応方
法。 - (2) 触媒ユニットの各々は、壁に透孔な有する管
の一般形状であり、かつその管は管壁透孔に形において
対応する内部突出を有することを特徴とする特許請求の
範囲第1項に記載の方法。 - (3) 各ユニットは、触媒第1担体ななす金属また
は合金に、触媒第2担体をなす吸着剤材料の被覆を付け
たものから構造的に作られている特許請求の範囲第1ま
たは2項に記載の方法0 - (4)触媒の活性物質はニッケルまたはコノルトであり
、i8合計に基き一酸化物として計算して30〜60%
(重量/重量)の量で存在する特許請求の範囲第1〜3
項のいずれかに記載の方法。 - (5)触媒の活性物質は少な(とも1種の貴金属と少な
くとも1種の卑金属とからなり、存在するそれら各々の
タイプの金属の含量は0.01〜0.05%(重量/重
量)である特許請求の範囲第1〜6項のいずれかに記載
の方法。 - (6)触媒を外部から加熱された管内に配置し、ランダ
ムに充填し、触媒は慣用のセラミック環状触媒によって
起こされる圧力降下の60%以下に相当する圧力降下を
起こさせ、また200〜400m−1の範囲の幾何学的
比表面を与えるものであることを特徴とする特許請求の
範囲第1〜5項のいずれかに記載の方法。 - (7) 出口温度 700〜850
C出ロ圧力 25〜40絶対パール
スチーム:炭素モル比 3.5〜4.5出ロメ
タ/含鵞(乾燥基準) 8〜16%(容積)平衡への
接近 θ〜20U物質処理量
加熱触媒1m当り毎時5.0トン以上 の条件で実施されるアンモニア合成ガス生産のための特
許請求の範囲第6項に記載の方法。 - (8) 出口温度 780〜90
0C田ロ圧力 10〜30絶対ノ;
−ルせる) 出口メタン含量 (5%(重量/重量)以
下平衡への接近 ior以下物質処理量
加熱触媒1m”当り毎時1.5トン
以上 の条件で実施されるメタノール合成ガス生産のための特
許請求の範囲第6項に記載の方法。 +91 触媒はランダム充填されたユニットの形態で
あり、慣用セラミック環状触媒の圧力降下の60〜15
0%に相当する圧力降下を生じさせ、触媒出口温度は5
50〜700Cである特許請求の範囲第1〜5項のいず
れかに記載の方法。 Ql 触媒は、外部から加熱された管中に配置され、
かつ少なべとも一つの管状ユニットがその軸な外部加熱
管の軸と平行に配置された形態である特許請求の範囲第
1〜5項のいずれかに記載の方法。 0υ その境界内で少な(とも二つの相互に横切る方向
の気体流通を許容し、また触媒担体物質のウォッシュコ
ートを担持している不変形性ユニットの形態の触媒担体
。 a4 特許請求の範囲第11項に記載の担体と第1族
の少なくとも1種の金属の化合物とからなり、還元によ
って活性触媒に変え5る触媒前駆体。 0階 触媒はランダム充填された合金管状ユニットの形
態であり、各々のユニットは少なくとも40%の開口横
断面積を有するが、その流動軸方向に対して横向きの、
その壁を通過する気体流動を実質的に許容しないことを
特徴とする特許請求の範囲第1〜9項に記載のものの改
変方法。 α夷 少なくとも40%の開口横断面積ニッケル酸化物
および/またはコバルト酸化物よりなる被傍、および触
媒担体物質を有するランダム充填可能な合金管状ユニッ
トの形態にあり、そのニッケル酸化物およびコバルト酸
化物の量は被覆の30〜60%(重量/重量)であり、
かつ各管状ユニットはその流動軸方向に対し横方向のそ
の壁を通過するガス流動を実質的に許容しないことを特
徴とする触媒前駆体。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8138389 | 1981-12-21 | ||
GB8138389 | 1981-12-21 | ||
GB8204893 | 1982-02-19 | ||
GB8229121 | 1982-10-12 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58122047A true JPS58122047A (ja) | 1983-07-20 |
Family
ID=10526743
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57224764A Pending JPS58122047A (ja) | 1981-12-21 | 1982-12-21 | 触媒および炭化水素接触反応方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58122047A (ja) |
-
1982
- 1982-12-21 JP JP57224764A patent/JPS58122047A/ja active Pending
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