JPS58109105A - 分離用部材 - Google Patents
分離用部材Info
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- JPS58109105A JPS58109105A JP16208882A JP16208882A JPS58109105A JP S58109105 A JPS58109105 A JP S58109105A JP 16208882 A JP16208882 A JP 16208882A JP 16208882 A JP16208882 A JP 16208882A JP S58109105 A JPS58109105 A JP S58109105A
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- JP
- Japan
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- diaphragm
- membrane
- monomer
- irradiation
- ethylene
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F291/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00
- C08F291/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00 on to elastomers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/12—Chemical modification
- C08J7/16—Chemical modification with polymerisable compounds
- C08J7/18—Chemical modification with polymerisable compounds using wave energy or particle radiation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Toxicology (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Filtering Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はより具体的には液相と気相を隔てる際の用途の
弾性体分離用部材に関するものである。
弾性体分離用部材に関するものである。
本発明はまたこの部材の製造方法とその用法に向けられ
ている。
ている。
問題とするタイプの部材はすでに知られている。
それらはポリウレタンの膜または隔膜の形態であって、
自動車用の油圧−空気圧式サスペンジョン系(hylr
opneumatic 5uspension sys
tem ) の分野で使用され、その場合、それらは
液体相なが気相と分離し、従ってガスに対する最低の可
能な透過性をもたねばならない。
自動車用の油圧−空気圧式サスペンジョン系(hylr
opneumatic 5uspension sys
tem ) の分野で使用され、その場合、それらは
液体相なが気相と分離し、従ってガスに対する最低の可
能な透過性をもたねばならない。
既知の分離体はがスに対する低い透過性をもっている。
しかし、特に油圧−空気圧系に於て出会う増大した圧力
と上昇した温度の場合に、この透過性がさらに低いこと
が望まれる。この方向への研究はこれまでは成功してい
なかった。
と上昇した温度の場合に、この透過性がさらに低いこと
が望まれる。この方向への研究はこれまでは成功してい
なかった。
本発明はそれゆえ、がスに対する透過性が現存するもの
よりもさらに低くかつ機械的性質、特にある一定の伸張
に対する応力、が目的とする応用に適した状態にある、
このタイプの分離用部材を提供することを目的としてい
る。
よりもさらに低くかつ機械的性質、特にある一定の伸張
に対する応力、が目的とする応用に適した状態にある、
このタイプの分離用部材を提供することを目的としてい
る。
本発明はそこで、一つの分離用部材に関するものであっ
て;この部材は、材料が/ リフレタン、ポリクロロゾ
レ/、シリコーン、エチレン−メチルアクリレートコポ
リマーのようなエチレン−アクリルポリマー、ポリイソ
ブチレン、ポリノルボーネン、ポリフタジエン−アクリ
ロニトリル、ポリシタジエン、〆リイソデテレンーイソ
デチレン、ぼりイソ/シン、クロロスルホン酸化ポリエ
チレ:/、ポリエチレン−ポリプロピレン、ポリエテレ
ンーゾロビレンージェン、及びエチレンポリサルファイ
ド、を含む群から選ばれる弾性体の膜または隔膜から成
り、この弾性体はアクリル酸、エチレングリコールアク
リレート、アクリロニトリル、ビニルビ四すドン、ヘキ
サンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジ
アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、及びポリエチレングリコールジアクリレート、を含
む群から選ばれるモノ不飽和及び(または)ポリ不飽和
の七ツマ−によってグラフト化される。
て;この部材は、材料が/ リフレタン、ポリクロロゾ
レ/、シリコーン、エチレン−メチルアクリレートコポ
リマーのようなエチレン−アクリルポリマー、ポリイソ
ブチレン、ポリノルボーネン、ポリフタジエン−アクリ
ロニトリル、ポリシタジエン、〆リイソデテレンーイソ
デチレン、ぼりイソ/シン、クロロスルホン酸化ポリエ
チレ:/、ポリエチレン−ポリプロピレン、ポリエテレ
ンーゾロビレンージェン、及びエチレンポリサルファイ
ド、を含む群から選ばれる弾性体の膜または隔膜から成
り、この弾性体はアクリル酸、エチレングリコールアク
リレート、アクリロニトリル、ビニルビ四すドン、ヘキ
サンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジ
アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、及びポリエチレングリコールジアクリレート、を含
む群から選ばれるモノ不飽和及び(または)ポリ不飽和
の七ツマ−によってグラフト化される。
本発明による分離部材の場合に、この隔膜がモノ不飽和
及び(または)ぼり不飽和のモノマーによってグラフト
化された弾性体からつくられるという事実は、許容でき
る機械的性質、特に弾性体的性質を保持しながら、グラ
フト化されていない弾性体隔膜の場合よりも低いガス透
過性を得ることを可能とするものである。
及び(または)ぼり不飽和のモノマーによってグラフト
化された弾性体からつくられるという事実は、許容でき
る機械的性質、特に弾性体的性質を保持しながら、グラ
フト化されていない弾性体隔膜の場合よりも低いガス透
過性を得ることを可能とするものである。
このように、グラフト化上ツマ−がポリ不飽和モノマー
であるときには、透過性の減少はその交差結合の結果と
して弾性体の鎖格子の収縮によつて得られる。グラフト
化モノマーがモノ不飽和上ツマ−であるときには、この
透過性の減少はより具体的にいえばグラフトによる弾性
体隔膜の孔の閉塞からおこる。このように、隔膜の透過
性減少は主として弾性体へグラフト化される七ツマ−の
量に依存する。有利には、この水準は弾性体重量を基準
として重量で2−から30%である。
であるときには、透過性の減少はその交差結合の結果と
して弾性体の鎖格子の収縮によつて得られる。グラフト
化モノマーがモノ不飽和上ツマ−であるときには、この
透過性の減少はより具体的にいえばグラフトによる弾性
体隔膜の孔の閉塞からおこる。このように、隔膜の透過
性減少は主として弾性体へグラフト化される七ツマ−の
量に依存する。有利には、この水準は弾性体重量を基準
として重量で2−から30%である。
その上、本発明に従って前述のモノマーをグラフト化モ
ノマーとして使用するという事実は1弾性体の機械的性
質、特にその弾性的性質を減らすことなくこの透過性減
少を得ることを可能とする。
ノマーとして使用するという事実は1弾性体の機械的性
質、特にその弾性的性質を減らすことなくこの透過性減
少を得ることを可能とする。
モノマーの選択はまた透過性減少忙影響する。
本発明によれば、弾性体がポリウレタンであるときには
、グラフト化モノマーは好ましくはアクリロニトリルで
ある。
、グラフト化モノマーは好ましくはアクリロニトリルで
ある。
本発明はまた前述の特徴をもつ弾性体分離部材の製造方
法に関するものである。
法に関するものである。
本発明の方法によれば、弾;i体隔膜はアクリル酸、エ
チレングリコールアクリレート、アクリロニトリル、♂
ニルピロリドン、ヘキサジオールジアクリレート、ジエ
チレングリコールシアクリレート、テトラエチレングリ
コールジアクリレート、及びポリエチレングリコールジ
アクリレート、を含む群から選ばれるモノ不飽和及びポ
リ不飽和のモノマで以て含浸され、このように含浸した
隔膜を膜の厚み全体にわたって弾性体ヘモツマ−をグラ
フト化させるために電離放射線によって照射する。
チレングリコールアクリレート、アクリロニトリル、♂
ニルピロリドン、ヘキサジオールジアクリレート、ジエ
チレングリコールシアクリレート、テトラエチレングリ
コールジアクリレート、及びポリエチレングリコールジ
アクリレート、を含む群から選ばれるモノ不飽和及びポ
リ不飽和のモノマで以て含浸され、このように含浸した
隔膜を膜の厚み全体にわたって弾性体ヘモツマ−をグラ
フト化させるために電離放射線によって照射する。
この方法の第一の具体例によれば、弾性体隔膜はそれを
液状のモノマー中忙浸すことによって含浸される。好ま
しくは、モノマーは周辺温度から80℃の範囲の温度に
あり、任意的には、七ツマ−を液体状jIII/c維持
するために作用が圧力下でおこる。◆隔膜の厚み全体を
含浸するためには熱い状態で操作するのが有利である。
液状のモノマー中忙浸すことによって含浸される。好ま
しくは、モノマーは周辺温度から80℃の範囲の温度に
あり、任意的には、七ツマ−を液体状jIII/c維持
するために作用が圧力下でおこる。◆隔膜の厚み全体を
含浸するためには熱い状態で操作するのが有利である。
本発明の方法の第二の具体例によれば、弾性体隔膜はそ
れをモノマーの飽和蒸気中に維持するこ1パ1 とによって含浸される。
れをモノマーの飽和蒸気中に維持するこ1パ1 とによって含浸される。
両方の場合に於て、隔膜の中に導入するモノマーの量、
従ってグラフト化されるモノマーの量を所望値へmJ御
するために、含浸時間は温度と使用モノマーの性質の関
数として調節される。
従ってグラフト化されるモノマーの量を所望値へmJ御
するために、含浸時間は温度と使用モノマーの性質の関
数として調節される。
ある場合には、含浸段階に続きかつ照射段階の前に、含
浸された隔膜はモノマーが隔膜の厚み全体にわたって拡
散するのを助けるために加圧下の熱時処理を受ける。
浸された隔膜はモノマーが隔膜の厚み全体にわたって拡
散するのを助けるために加圧下の熱時処理を受ける。
このように、満足すべき機械的特性を得るためには、隔
膜の厚み全体にわたって均質性を維持し従って厚み全体
忙わたってグラフト化を実施するのが重要である。
膜の厚み全体にわたって均質性を維持し従って厚み全体
忙わたってグラフト化を実施するのが重要である。
この熱時の拡散処理は、例えば、モノマー含浸隔膜を圧
力下で約2時間70℃から90℃の温度でi MPaの
圧力を用いて維持することから成る。
力下で約2時間70℃から90℃の温度でi MPaの
圧力を用いて維持することから成る。
含浸段階及び任意的には含浸隔膜の熱時拡散処理に続い
て、隔膜は、弾性体ヘモツマ−をグラフト化させそして
任意的にはポリ不飽和モノマな使用するときには弾性体
を交差結合させるために、電離線による照射を受け、こ
のグラフト化と任意的には交差結合が隔膜の厚さ全体に
わたっておこる。
て、隔膜は、弾性体ヘモツマ−をグラフト化させそして
任意的にはポリ不飽和モノマな使用するときには弾性体
を交差結合させるために、電離線による照射を受け、こ
のグラフト化と任意的には交差結合が隔膜の厚さ全体に
わたっておこる。
この目的に使用することができる電離線はガンマ−線及
び隔膜を横断するのに適切なエネルヤーをもつ加速電子
線である。
び隔膜を横断するのに適切なエネルヤーをもつ加速電子
線である。
約2鵬から4鋤の厚さをもつ隔膜については、1MeV
から4MeV、一般的には2 MeVから3 MeVの
エネルヤーをもつ加速電子線を使用することが有利であ
る。グラフト化及び(または)交差結合を確保するのに
必要な照射線量は一般には3メガラドから6メガラドで
ある。
から4MeV、一般的には2 MeVから3 MeVの
エネルヤーをもつ加速電子線を使用することが有利であ
る。グラフト化及び(または)交差結合を確保するのに
必要な照射線量は一般には3メガラドから6メガラドで
ある。
隔膜が平面状隔膜であるときには、照射はその平坦膜を
電子線下で移動させることによって実施される。隔膜が
より複雑な形状でありそして例えば半球状であるときに
は、線量の最良の均質性を得るために多数の幾何形状に
従って実施される。
電子線下で移動させることによって実施される。隔膜が
より複雑な形状でありそして例えば半球状であるときに
は、線量の最良の均質性を得るために多数の幾何形状に
従って実施される。
すべての場合に於て、照射は不活性雰囲気例えば窒素雰
囲気の下で実施される。
囲気の下で実施される。
照射後に於て得られたグラフト化されそして任意的には
交差結合されたコーリマー隔膜は航空機及び陸上車用の
油圧−空気圧系に於ける分離部材として使用できる。
交差結合されたコーリマー隔膜は航空機及び陸上車用の
油圧−空気圧系に於ける分離部材として使用できる。
このように、現存する隔膜と比べて、本発明の隔膜はが
スに対する低い透過性をもち、この減少は数十チである
ことができ、機械的性質が意図する用途には不適切であ
る程度に悪化することなしに得られる。
スに対する低い透過性をもち、この減少は数十チである
ことができ、機械的性質が意図する用途には不適切であ
る程度に悪化することなしに得られる。
本発明は本発明に従う、・分離部材の製造に関する非制
約的の例示具体例に関して以後詳細に説明される。
約的の例示具体例に関して以後詳細に説明される。
これらの各々に於て、得られる分離部材の透過性は標準
工so 2782 1977 (F)に規定される試験
によって検査される。その本質的特徴は次の通りである
。
工so 2782 1977 (F)に規定される試験
によって検査される。その本質的特徴は次の通りである
。
一つの分離部材から切りとった直径54腸の円板を気密
の試験セル中に保つ。2パールの相対的一定窒素圧を部
材面の一方へ80℃、100℃または120℃の温度に
於て適用する。その部材を貫通して拡散する窒素容積を
J試験セルの低圧側を封じている直径d2.9mlの毛
細管中に置かれた非揮発性液体の一つの滴の偏位測定Δ
−を基準として計算される。測定は一定流速からはじめ
て約60分間行なう。透過率Qは式 %式% に・従ってm”/Pa・8で表現される。ここにΔVは
時間Δtの終りに於てこの毛細管中に捕集された窒素容
積を表わし、eは部材の厚さを示し、Sは試験を行って
いる部材の断面を示し、ΔPは相対的πd2 の窒素圧を表わすつ窒素容積ΔVはΔ# X 、−X2
フ3 一〇−に等しく、θは毛細管の度ケルビンでの温度を表
わしている。
の試験セル中に保つ。2パールの相対的一定窒素圧を部
材面の一方へ80℃、100℃または120℃の温度に
於て適用する。その部材を貫通して拡散する窒素容積を
J試験セルの低圧側を封じている直径d2.9mlの毛
細管中に置かれた非揮発性液体の一つの滴の偏位測定Δ
−を基準として計算される。測定は一定流速からはじめ
て約60分間行なう。透過率Qは式 %式% に・従ってm”/Pa・8で表現される。ここにΔVは
時間Δtの終りに於てこの毛細管中に捕集された窒素容
積を表わし、eは部材の厚さを示し、Sは試験を行って
いる部材の断面を示し、ΔPは相対的πd2 の窒素圧を表わすつ窒素容積ΔVはΔ# X 、−X2
フ3 一〇−に等しく、θは毛細管の度ケルビンでの温度を表
わしている。
第1図から第4図は、毛細管中の液滴の傷で示した偏位
Δkを分で示した時間Δtの函数としてグラフ的に表現
することはよって、諸実施例に於テ婦うれた透過率結果
を描いている。このようK、直線が得られ、その横軸と
の角度αは問題としている部材の透過率を表わし、角度
αの切線の値は透過率とともに減少亨る。本発明に従っ
てグラフト化処理をしなかった同一の弾性体隔膜によっ
て構成されている分離用部材の透過率を、比較すること
によって、その中で見ることもできる。
Δkを分で示した時間Δtの函数としてグラフ的に表現
することはよって、諸実施例に於テ婦うれた透過率結果
を描いている。このようK、直線が得られ、その横軸と
の角度αは問題としている部材の透過率を表わし、角度
αの切線の値は透過率とともに減少亨る。本発明に従っ
てグラフト化処理をしなかった同一の弾性体隔膜によっ
て構成されている分離用部材の透過率を、比較すること
によって、その中で見ることもできる。
第1図に於て、直線D1.D2.D3.D5及びDツ
はグラ7トポリウレタン(デスモパン385)からつく
った分離用部材について実施例1,2.3.5及び7に
於て100℃で得られた透過率を描いており、一方、曲
線りはグラフト化されていないデスモパン385からつ
くった分離用部材に関し、て得られた結果を描いている
。
はグラ7トポリウレタン(デスモパン385)からつく
った分離用部材について実施例1,2.3.5及び7に
於て100℃で得られた透過率を描いており、一方、曲
線りはグラフト化されていないデスモパン385からつ
くった分離用部材に関し、て得られた結果を描いている
。
第2図に於て、D4 + I)s w D6 はグラフ
ト化デスモパン385からつくった分離用部材について
実施例4,5及び6に於て120℃で得られた透過率を
描いており、一方、曲線D′はグラフト化されていない
デスモパンからつくった分離用部材について得られた結
果を描いている。
ト化デスモパン385からつくった分離用部材について
実施例4,5及び6に於て120℃で得られた透過率を
描いており、一方、曲線D′はグラフト化されていない
デスモパンからつくった分離用部材について得られた結
果を描いている。
第3図に於て、曲線D8からDνは本発明によるグラフ
ト化されたポリウレタンからつくった分離用部材につい
て実施例8から12に於て100℃で得られた透過率を
描き、一方、線びはグラフト化すtしていないウレパン
からつくった分離用部材に関するものである。
ト化されたポリウレタンからつくった分離用部材につい
て実施例8から12に於て100℃で得られた透過率を
描き、一方、線びはグラフト化すtしていないウレパン
からつくった分離用部材に関するものである。
第4図に於て、線DwからD16はグラフト化されたポ
リウレタン(ニスティン)からつくった分離用部材に関
して100℃で得られた透過率を描き、一方、線D#は
グラフト化されていないニスティンからつくった分離用
部材に関するものである。
リウレタン(ニスティン)からつくった分離用部材に関
して100℃で得られた透過率を描き、一方、線D#は
グラフト化されていないニスティンからつくった分離用
部材に関するものである。
実施例1
寸法が100X100腸で厚さ2.2腸の平らな隔膜を
使用し、これは商標名デスモパン385として知られて
いるポリクレタ/からつくったものであり、そして次の
単純化した化学式をもつものである: O。
使用し、これは商標名デスモパン385として知られて
いるポリクレタ/からつくったものであり、そして次の
単純化した化学式をもつものである: O。
NCO
この隔膜を30分間アクリル酸中で21℃で浸漬した。
次にそれを80℃のプレス下で2時間、1MPaの圧力
で保った。次にそれをアルきニウムで包んで2MeVの
エレクトロンにより5メガラドの線量で照射した。
で保った。次にそれをアルきニウムで包んで2MeVの
エレクトロンにより5メガラドの線量で照射した。
照射後に於てグラフト化された七ツマ−の度合は初期重
量と比較して重量で9.3 %であり、処理後の膜の厚
さQ工2.38111である。ioo℃での窒素に対す
る透過率は第1図の#Dzで示される。処理前に於て、
その透過率QoDは158.10−18m 2/5−P
aで、処理後はその透過率Q1は143−10−18m
2/5−Paであり、9%小す<eッだ。
量と比較して重量で9.3 %であり、処理後の膜の厚
さQ工2.38111である。ioo℃での窒素に対す
る透過率は第1図の#Dzで示される。処理前に於て、
その透過率QoDは158.10−18m 2/5−P
aで、処理後はその透過率Q1は143−10−18m
2/5−Paであり、9%小す<eッだ。
実施例2
実施例1と同等のデス上パフ385隔膜を処理する。
この隔膜を1時間エチレングリコールアクリレート中に
30℃で浸漬し、次いで1時間50’0で浸漬した。隔
膜を2時間80℃でそして周辺温度48時間l MPa
の圧力下に保った。次に5メガラドの線量で2 MeV
の電子線下で照射を実施した。
30℃で浸漬し、次いで1時間50’0で浸漬した。隔
膜を2時間80℃でそして周辺温度48時間l MPa
の圧力下に保った。次に5メガラドの線量で2 MeV
の電子線下で照射を実施した。
照射によるグラフト化モノマの度合(AEG )は隔膜
の初期重量と比べて重量で11%であり、隔膜1: の厚みは2.34鵬である。
の初期重量と比べて重量で11%であり、隔膜1: の厚みは2.34鵬である。
100”Cでの窒素に対する透過率は第1図の線)で示
される。その透過率Q2は12.9・10−16m1/
8・Paであり、18.416小さくなったことを示す
る 実施例3 実施例1及び2と同じデスモパン385111MI[ヲ
処理する。これをビニルピロリドン飽和蒸気中に24時
間60℃で置き、次K 2 MeVのエロクトロン下で
5メガラドの線量で以て照射する。照射後ツクラフト化
されたモノマーの度合(vP02)ハ隔膜の初期重量と
比べて重量で6.6 %であり、処理された隔膜の厚さ
は2.40−である。
される。その透過率Q2は12.9・10−16m1/
8・Paであり、18.416小さくなったことを示す
る 実施例3 実施例1及び2と同じデスモパン385111MI[ヲ
処理する。これをビニルピロリドン飽和蒸気中に24時
間60℃で置き、次K 2 MeVのエロクトロン下で
5メガラドの線量で以て照射する。照射後ツクラフト化
されたモノマーの度合(vP02)ハ隔膜の初期重量と
比べて重量で6.6 %であり、処理された隔膜の厚さ
は2.40−である。
100℃での窒素に対する透過率は第1図の線D3によ
って示される。その透過率Q3は13110−”m”/
s’Paであり、17チ小さくなったことを示している
。
って示される。その透過率Q3は13110−”m”/
s’Paであり、17チ小さくなったことを示している
。
実施例4
前述各実施例と同じのヂスモパン385t9111を処
理する。この隔膜は飽和の7クリロニトリル蒸気中で4
0℃で3時間保持する。薄いアルεニウムフィルム駕%
崎鴬中に包んで、隔膜な次に2MeVの電子線下で5メ
ガラドの照射線量で照射する。照射後のグラフト化され
たモノマーの度合は隔膜の初期重量と比較して重量で7
−である。そして処理された隔膜の厚さは2.22鵬で
ある。
理する。この隔膜は飽和の7クリロニトリル蒸気中で4
0℃で3時間保持する。薄いアルεニウムフィルム駕%
崎鴬中に包んで、隔膜な次に2MeVの電子線下で5メ
ガラドの照射線量で照射する。照射後のグラフト化され
たモノマーの度合は隔膜の初期重量と比較して重量で7
−である。そして処理された隔膜の厚さは2.22鵬で
ある。
gi素に対する120℃での透過率はfa2図の線D4
によって示される。非処理隔膜の120℃での透過率Q
o(120)は22710−”m”/5−Paであり、
処理した隔膜の透過率Q4(120)は194・10−
″”m2/erPaであり、14.591小さくなった
ことを示す。
によって示される。非処理隔膜の120℃での透過率Q
o(120)は22710−”m”/5−Paであり、
処理した隔膜の透過率Q4(120)は194・10−
″”m2/erPaであり、14.591小さくなった
ことを示す。
実施例5
前記諸実施例と同じデスモパン385の隔膜を処理する
。この隔膜を7クリロニトリル蒸気相中に40℃で5時
間保つ。これを薄いアルミニウムフイ“ムに、包んで、
2.5MeVの電子線下で5メがラドの照射線量で照射
する。照射後のグラフト化されたモノマーの度合(AN
)は隔膜の初期重量と比較して重量で12−であり、
処理された隔膜の厚さ4は2.32農である。
。この隔膜を7クリロニトリル蒸気相中に40℃で5時
間保つ。これを薄いアルミニウムフイ“ムに、包んで、
2.5MeVの電子線下で5メがラドの照射線量で照射
する。照射後のグラフト化されたモノマーの度合(AN
)は隔膜の初期重量と比較して重量で12−であり、
処理された隔膜の厚さ4は2.32農である。
80℃での窒素に対するその透過率は処理前で72・1
0−18m”/a−Pa、処理後で37−10″″”
m”/5−Fhであり、すなわち48−小さくなった。
0−18m”/a−Pa、処理後で37−10″″”
m”/5−Fhであり、すなわち48−小さくなった。
100’0忙於ては、窒素に対する透過率。a(100
)は12210−1@mg/、、paであって、22.
8 %小さくなった。120℃に於ては、窒素に対する
その透過率はl/E2図のII!DBで示される。それ
は処理前で227・10−”m”/a−Pa、処理後テ
177・10−1”m”/5−FBで、22 fL小8
< lk)だ。
)は12210−1@mg/、、paであって、22.
8 %小さくなった。120℃に於ては、窒素に対する
その透過率はl/E2図のII!DBで示される。それ
は処理前で227・10−”m”/a−Pa、処理後テ
177・10−1”m”/5−FBで、22 fL小8
< lk)だ。
処yam後の隔膜の機械的性質は次の#11表に示され
ている。
ている。
ショアーA硬度 (Pts) 82
88D工nc@rz (pta
) 81 8710011伸長時のヤン
グ率 (’kKPa) 5−6 6.
1200−伸長時のヤング率 (MPa) 7.
3 8−9破壊荷重 (MPa)
31.8−56.0 42.2破断伸長率
(* ) 650−690 665冷間挙動、デー
マンTIO(℃) −37−32実施例6 前記諸実施例と同じデスモパン685の隔膜を処理した
。
88D工nc@rz (pta
) 81 8710011伸長時のヤン
グ率 (’kKPa) 5−6 6.
1200−伸長時のヤング率 (MPa) 7.
3 8−9破壊荷重 (MPa)
31.8−56.0 42.2破断伸長率
(* ) 650−690 665冷間挙動、デー
マンTIO(℃) −37−32実施例6 前記諸実施例と同じデスモパン685の隔膜を処理した
。
この隔膜をアクリロニトリル飽和蒸気中で50℃で1時
間半保ち、次に薄いアルミ箔に包んで、2MeVの加速
電子線下で5メがうPの線量で照射する。照射後のグラ
フト化されたモノマーの度合(AN)は隔膜の初期重量
と比較して重量で15.5チであり、処理隔膜の厚さは
2.53膓である。
間半保ち、次に薄いアルミ箔に包んで、2MeVの加速
電子線下で5メがうPの線量で照射する。照射後のグラ
フト化されたモノマーの度合(AN)は隔膜の初期重量
と比較して重量で15.5チであり、処理隔膜の厚さは
2.53膓である。
120℃での窒素に対するその透過率は第2図の線D6
によって示される。その透過率Qll(120)は17
410−18m2/5−Paで、23.3 %小さくな
ったことを示す。
によって示される。その透過率Qll(120)は17
410−18m2/5−Paで、23.3 %小さくな
ったことを示す。
実施例7
前記諸実施例と同じデスモパン385の隔膜を処理する
。
。
この隔膜なヘキサンジオールジアクリレート中に19℃
で6時間浸漬し、羨(・で圧力(I MP& )ドで8
0℃で2時間及び周辺温度で48時間保つ。
で6時間浸漬し、羨(・で圧力(I MP& )ドで8
0℃で2時間及び周辺温度で48時間保つ。
隔膜を次に2Mevの加速電子線下で5メがラドの線量
で照射する。照射後のグラフト化された七ツマ−の度合
は4.5 %であり、処理隔膜の厚さは2.39111
”t’アロ。
で照射する。照射後のグラフト化された七ツマ−の度合
は4.5 %であり、処理隔膜の厚さは2.39111
”t’アロ。
100℃での窒素に対するその透過率は第1図の線りに
よって示される。この透過率Q7(100)は1401
0−”m”/s・Paであり、11.3%小さくなった
ことを示している。
よって示される。この透過率Q7(100)は1401
0−”m”/s・Paであり、11.3%小さくなった
ことを示している。
実施例8
商標名ウレパンHU 721として知られているポリウ
レタンからつくった1 00XI DO鵬で厚さ2.2
腸の平らな隔膜を使用する。この製品の単純化した化学
式は NH−(0−C’0−NH−(CH2) 4−NH)n
−CO−0−である。
レタンからつくった1 00XI DO鵬で厚さ2.2
腸の平らな隔膜を使用する。この製品の単純化した化学
式は NH−(0−C’0−NH−(CH2) 4−NH)n
−CO−0−である。
この隔膜を実施例1と同じ含浸及び照射の条件を用いて
処理する。
処理する。
次の結果が得られるニ
グラフト化されたアクリル酸の水準: 14.3 %処
理後の隔膜の厚さ : 2.21鵬10
0℃での窒素に対する透過率 :第3図の#Da処理前
の透過率 QoU(100) :186・10−”
m”/s・Pa処理後の透過率 Qs(100)
:131・10″″”m”/s・Pa低F度
:29.6%実施例9 実施例8と同じ隔膜をエチレングリコールアクI)V−
)(AUG)中で30℃で1時間浸漬する。
理後の隔膜の厚さ : 2.21鵬10
0℃での窒素に対する透過率 :第3図の#Da処理前
の透過率 QoU(100) :186・10−”
m”/s・Pa処理後の透過率 Qs(100)
:131・10″″”m”/s・Pa低F度
:29.6%実施例9 実施例8と同じ隔膜をエチレングリコールアクI)V−
)(AUG)中で30℃で1時間浸漬する。
隔膜を次に1トンの圧力下で80℃に於て2時間、そし
て周辺温度に於て48時間保つ。照射は、空気の存在し
ない状態で、2 MeVめ電子線下で5メがラドの線量
で実施する。
て周辺温度に於て48時間保つ。照射は、空気の存在し
ない状態で、2 MeVめ電子線下で5メがラドの線量
で実施する。
次の結果が得られるニ
グラフト化されたAEG水準 76.6%処理後
の隔膜の厚さ :2.45111100℃
での窒素に対する透過率 :aI3図の線D9処理後の
透過率 :136・10″″”m”/
5−Pa低ド度 :27−実
施例10 実施例8及び9と同じ隔膜を実施例3の方法に従ってビ
ニルピロリドン(vpo2)で以て処理する。
の隔膜の厚さ :2.45111100℃
での窒素に対する透過率 :aI3図の線D9処理後の
透過率 :136・10″″”m”/
5−Pa低ド度 :27−実
施例10 実施例8及び9と同じ隔膜を実施例3の方法に従ってビ
ニルピロリドン(vpo2)で以て処理する。
次の結果が得られるニ
グラフト化されたvpo、水準 : a、i s処
理後の隔膜の厚さ : 2.2011B1
00℃での窒素に対する透過率 :第3図の線DIO処
理後の透過率 QIG(100) :175・10−
”m”/5−Pa低下度
: 5.91G実施例11 実施例8から10と同じ隔膜を実施例5と同じに処理す
る。次の結果が得られる: 処理後の隔膜の厚さ :2.58鵬80℃
での窒素に対する透過率: 処理前の隔膜 Qo(80) :63・10−1
8m+1/8・Pa処理後の隔膜 Qn(80)
: 30 ・10−”m2/5−Pa低下度
:52優100℃での1素に対
する透過率 :第3図の曲線Dll処理後の隔膜 Q、
、(100) : 142 ・10−18m2/8
−&低下度 :23.7チ
機械的性質(第2表) 第 2 表 ショアーA硬度 (pt、s) 7f3
78DIDC硬度 (Pts)
77 76100チ伸張ヤング率 (MP
a) 6.2 8.0破壊荷重
(MPa) 22.8 24−0破断
伸長率 (*) 380 280
−350冷間挙動、r−−ry’Mo (℃)
−28,5−27実施例12 実施例8と11の場合と同じ隔膜を実施例7と同じに処
理する。得られた結果は次の通りである。
理後の隔膜の厚さ : 2.2011B1
00℃での窒素に対する透過率 :第3図の線DIO処
理後の透過率 QIG(100) :175・10−
”m”/5−Pa低下度
: 5.91G実施例11 実施例8から10と同じ隔膜を実施例5と同じに処理す
る。次の結果が得られる: 処理後の隔膜の厚さ :2.58鵬80℃
での窒素に対する透過率: 処理前の隔膜 Qo(80) :63・10−1
8m+1/8・Pa処理後の隔膜 Qn(80)
: 30 ・10−”m2/5−Pa低下度
:52優100℃での1素に対
する透過率 :第3図の曲線Dll処理後の隔膜 Q、
、(100) : 142 ・10−18m2/8
−&低下度 :23.7チ
機械的性質(第2表) 第 2 表 ショアーA硬度 (pt、s) 7f3
78DIDC硬度 (Pts)
77 76100チ伸張ヤング率 (MP
a) 6.2 8.0破壊荷重
(MPa) 22.8 24−0破断
伸長率 (*) 380 280
−350冷間挙動、r−−ry’Mo (℃)
−28,5−27実施例12 実施例8と11の場合と同じ隔膜を実施例7と同じに処
理する。得られた結果は次の通りである。
処理後の隔膜の厚さ : 2.18腸10
0℃での窒素に対する透過率 :第3図の線Dlft処
理後の透過率 Qlz (100) : 123・1
0−18m”/5−Pa低下度
:33.9496実施例16 商標名ニスティンとして知られるポリウレタンからつく
り10100X100の大きさで厚さ2.2腸の隔膜を
実施例1及び8の条件に従ってアクリル酸で処理する。
0℃での窒素に対する透過率 :第3図の線Dlft処
理後の透過率 Qlz (100) : 123・1
0−18m”/5−Pa低下度
:33.9496実施例16 商標名ニスティンとして知られるポリウレタンからつく
り10100X100の大きさで厚さ2.2腸の隔膜を
実施例1及び8の条件に従ってアクリル酸で処理する。
結果は次の通りである。
グラフト化されたアクリル酸の度合ニア、71処理後の
隔膜の厚さ :2.2鵬100℃での窒素
に対する透過率 :第4図の線D13処理前の透過率、
Qo(100) : 149・10−18m2/5
−Pa処理後の透過率、Q13(100) : 13
8・10−18m”/5−Pa低下度
ニア、4%実施例14 実施例13と14の隔膜と同じ隔膜を実施例5及び11
で用いた方法に従ってアクリロニトリルによって処理す
る。次の結果が得られる。
隔膜の厚さ :2.2鵬100℃での窒素
に対する透過率 :第4図の線D13処理前の透過率、
Qo(100) : 149・10−18m2/5
−Pa処理後の透過率、Q13(100) : 13
8・10−18m”/5−Pa低下度
ニア、4%実施例14 実施例13と14の隔膜と同じ隔膜を実施例5及び11
で用いた方法に従ってアクリロニトリルによって処理す
る。次の結果が得られる。
グラフト化された隔膜の厚さ :2.25鵬80℃
での窒素に対する透過率: 処理前の透過率 Qo(80) :44・10″
−18m”/s ・Pa処理後の透過率 QCg(80
) :2810−”m”/5−Pa低下[:361
! 100℃での−a素に対する透過率 ;第4図の線D1
5処理後の透過率、(h5(100) :125・
10″″”m”/s ・Pa低下度
:16.1チ機械的性質(fJic3表) ショアーA硬度 (Pts) 88
89DIDC硬度 (Pt8) f
39 87100%ヤング率 (ya)
7,4 7.4200%ヤング率
(MPa) 12.5 14.1破
断伸長率 (5G) 520 5
60冷間挙動 (’O) −27,5−
26実施例16 リレートで以て処理する。次の結果が得られる。
での窒素に対する透過率: 処理前の透過率 Qo(80) :44・10″
−18m”/s ・Pa処理後の透過率 QCg(80
) :2810−”m”/5−Pa低下[:361
! 100℃での−a素に対する透過率 ;第4図の線D1
5処理後の透過率、(h5(100) :125・
10″″”m”/s ・Pa低下度
:16.1チ機械的性質(fJic3表) ショアーA硬度 (Pts) 88
89DIDC硬度 (Pt8) f
39 87100%ヤング率 (ya)
7,4 7.4200%ヤング率
(MPa) 12.5 14.1破
断伸長率 (5G) 520 5
60冷間挙動 (’O) −27,5−
26実施例16 リレートで以て処理する。次の結果が得られる。
固定されたヘキサンジオール
シアクレートの水準 :5−処理後の隔膜
の厚さ :2.17鵬100℃での窒素に
対する透過率 :第4図の線D16処理後の透過率、Q
xa(100) :13010−”m”/5−Pa低
下度 : 12.7チ上記諸
実施例に於て得られた結果を添付の第4表で総括する。
の厚さ :2.17鵬100℃での窒素に
対する透過率 :第4図の線D16処理後の透過率、Q
xa(100) :13010−”m”/5−Pa低
下度 : 12.7チ上記諸
実施例に於て得られた結果を添付の第4表で総括する。
この表は最良の結果はグラフト化モノマーとしてアクリ
ロニトリルを用いるときに得られることを示している。
ロニトリルを用いるときに得られることを示している。
第 4 表
膜 ウレパン
モノマー 対窒素透過率
固定度 80 ’0に於て 100″OK於て。
(’j) (m2:5−PaXIQ−18)
[ト処理 63
186(080) (0100) rクリル酸 14.3
151 29.6*Lチレング
リコールアクリレート 6.6
13<5 271!2ニルピロリPン
8.1 175
5.9%rクリロニトリル 1
.0 30 52多 142 25.7%\
キサンジオールジアクリレート7.9
12333.916エステイン (%) (m”:5−PaX1O−18)Q
低f度 Q 低F度 44 149 (0゜80) (0゜100)7・3
138 7.4チア・7
121 1B、8チ15 28’
36チ 125 16.1チ5
130 12.7チ
[ト処理 63
186(080) (0100) rクリル酸 14.3
151 29.6*Lチレング
リコールアクリレート 6.6
13<5 271!2ニルピロリPン
8.1 175
5.9%rクリロニトリル 1
.0 30 52多 142 25.7%\
キサンジオールジアクリレート7.9
12333.916エステイン (%) (m”:5−PaX1O−18)Q
低f度 Q 低F度 44 149 (0゜80) (0゜100)7・3
138 7.4チア・7
121 1B、8チ15 28’
36チ 125 16.1チ5
130 12.7チ
第1図から!44図は各種の隔膜の窒素がスに対する透
過性を示すものであるが、r:、 、 n/ 、 Dl
I 及びD″′はいずれもグラフト化を行なわない隔膜
についてのものであり、DlからDl6は実施例1から
実施例16に記載の本発明によるグラフト処理を施こし
た隔膜についての透過性を示すものである。 代理人 浅 村 皓 手続補正書(1幻 昭和57年/1月ヲ日 特許庁長官殿 1、事件の表示 昭和57 年特許願第162088 号3、補11ミ
をする者 ・Iil’lとの関係 特許出釉人 11所 氏 8 コミツサリア タ レネルイー アト
ミーク(名 ta+1 4、代理人 5、補iE命令の日付 昭111 年 月 日6、補正により
増加する発明の数 明細書の浄書 (内容に変更なし) 手続補正書(方式) 昭和!/年−月な日 特許庁長官殿 1、事件の表示 昭和、≦“?年特許願第7ご一ρ?P 号2、発明の
名称 分戴浦搾村 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 4、代理人 5、補正命令の日付 昭和2年7 月2ζ日 6、補正により増加する発明の数 7、補正の対象 願iu ’)発l/lシXLE所の賛
過性を示すものであるが、r:、 、 n/ 、 Dl
I 及びD″′はいずれもグラフト化を行なわない隔膜
についてのものであり、DlからDl6は実施例1から
実施例16に記載の本発明によるグラフト処理を施こし
た隔膜についての透過性を示すものである。 代理人 浅 村 皓 手続補正書(1幻 昭和57年/1月ヲ日 特許庁長官殿 1、事件の表示 昭和57 年特許願第162088 号3、補11ミ
をする者 ・Iil’lとの関係 特許出釉人 11所 氏 8 コミツサリア タ レネルイー アト
ミーク(名 ta+1 4、代理人 5、補iE命令の日付 昭111 年 月 日6、補正により
増加する発明の数 明細書の浄書 (内容に変更なし) 手続補正書(方式) 昭和!/年−月な日 特許庁長官殿 1、事件の表示 昭和、≦“?年特許願第7ご一ρ?P 号2、発明の
名称 分戴浦搾村 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 4、代理人 5、補正命令の日付 昭和2年7 月2ζ日 6、補正により増加する発明の数 7、補正の対象 願iu ’)発l/lシXLE所の賛
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 tl) 材料が、ポリウレタン、fl?リクロロデレ
ン、シリコーン、エチレン−アクリル& IJマー例、
t &−J’エチレン−メチルアクリレートコーリマー
、ポリインブチレン、ポリノルが一ネン、ぼりブタジェ
ン−アクリロニトリル、ポリブタジェン、−リイソデチ
レンーイソデレン、ポリイソプレン1、クロ1:l ス
ルホニ/WIl化1171チレン、−リエチレンーボリ
テロピレン、ホリエチレンーデcIV!レンージエン、
及びエチレンポリサルファイド、を含む群から選ばれる
弾性体の部材または隔膜から成、す;この弾性体が、ア
クリル酸、エチレングリプールアクリレート、アクリロ
ニトリル、−二ルぜロリWン、ヘキサンジオールジアク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレート、テト
ラエチレングリコールジアクリレート及びポリエチレン
グリー−ルジアクリレートを含む群から選ばれるモノ不
飽和及び(または)ポリ不飽和の七ツマ−によってグラ
フト化されている;分離用部材。 (2) グラフト化モノマーの度合が弾性体と比べて
重量で2から3096である、特許請求の範囲第1項に
記載の部材。 (3) 隔膜がアクリロニトリルによってグラフト化
されたぼりウレタンからつくられる、特許請求の範囲第
1項及び第2項に記載の部材。 (4) 1ジウレタン、ホリクロロデレン、シリコー
ン、エチレン−メタクリレートコポリマーのようなエチ
レン−アクリルポリマー、ぼりインブチレン、プリノル
?−ネン、ぼり!タジエン−7クリロニトリル、ylt
9fタジエン、ポリイソブチレン−(ソゾレン、テリイ
ソプレン、クロロスルホン111化&リエチレン、ポリ
エチレンーf a tレン、ホリエチレンーゾロビレン
ージエン、及ヒエチレンーポリサルファイP、を含む群
から選ばれる弾性体からつくられる隔膜について、アク
リル酸、エチレングリコールアクリレート、アクリロニ
トリル、ビニルピロリドン、ヘキサンジオールジアクリ
レート、ジエチレングリコールジアクリレート、テトラ
エチレングリコールシアクリレート。 及びポリエチレングリコールジアクリレートを含む群か
ら選ばれるモノ不飽和及び(または)ポリ不飽和モノマ
ーによって含浸を行ない、かつ、このように含浸した隔
膜にその厚み全体にわたって弾性体ヘモツマ−をグラフ
トさせるために電離線による照射を行なう、特許請求の
範囲第1項から第3項のいずれかに記載の分離用部材の
製造方法。 (5) 弾性体隔膜を液体状態にある七ツマー中で含
浸することによって含浸を特徴する特許請求の範囲第4
項に記載の方法。 (6) 七ツマ−が周辺温度から80℃の範囲の温度
にある、特許請求の範囲第5項に記載の方法。 Φ (7) 弾性体隔膜をモノマー飽和蒸気の中に保つこ
とによって含浸を特徴する特許請求の範囲第6項に記載
の方法。 (8) 七ツマ−が隔膜の厚みの中゛□に拡散するの
を助けるために熱時かつ圧力下でモノマー含浸弾性体隔
膜の処理を、照射前K、行なう、特許請求の範囲第4項
に記載の方法。 (9) I MeVから4 MeVの間のエネルギー
水準をもつ加速された電子線によって照射を行なう、特
許請求の範囲第4項に記載の方法。 (14照射線量が3メガラドから6メゴツドである、特
許請求の範囲第9項に記載の方法。 α1)特許請求の範囲第1項から第3項のいずれかに記
載の弾性体分離用部材の航空機及び陸上車用油圧−空気
圧式サスペンジョン系への応用。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8117653 | 1981-09-18 | ||
FR8117653A FR2513256A1 (fr) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | Element separateur en elastomere, son procede de preparation et son utilisation dans les systemes de suspension hydropneumatique |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58109105A true JPS58109105A (ja) | 1983-06-29 |
Family
ID=9262271
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16208882A Pending JPS58109105A (ja) | 1981-09-18 | 1982-09-17 | 分離用部材 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0077227A1 (ja) |
JP (1) | JPS58109105A (ja) |
FR (1) | FR2513256A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2610326B1 (fr) * | 1987-02-02 | 1989-05-05 | Saint Gobain Vitrage | Couche transparente en polyurethane resistant a l'embuage, procede de fabrication et vitrage muni de cette couche |
FR2616776B1 (fr) * | 1987-06-16 | 1989-08-18 | Saint Gobain Vitrage | Couche adhesive utilisee dans la fabrication de vitrages feuilletes, procede de fabrication et vitrages feuilletes comprenant une telle couche |
US5190825A (en) * | 1987-06-16 | 1993-03-02 | Saint-Gobain Vitrage | Adhesive layer used in the manufacture of laminated glazings, method of manufacturing and laminated glazings comprising such layer |
EP0306310A1 (en) * | 1987-09-04 | 1989-03-08 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Process for preparing battery separators |
US5180492A (en) * | 1989-07-21 | 1993-01-19 | Terumo Kabushiki Kaisha | Hydrophilic porous material sterilizable with gamma-ray |
JP2798267B2 (ja) * | 1989-07-21 | 1998-09-17 | テルモ株式会社 | γ線滅菌可能な親水化多孔質体 |
IL102810A (en) * | 1991-08-30 | 1996-06-18 | Membrane Products Kiryat Wiezm | Stable membranes in solvents, made of silicone derivatives. |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL247416A (ja) * | 1959-01-16 | |||
US3389098A (en) * | 1963-09-16 | 1968-06-18 | Quantum Inc | Irradiation of elastomeric compounds |
FR2250793B1 (ja) * | 1973-11-09 | 1978-12-29 | Commissariat Energie Atomique |
-
1981
- 1981-09-18 FR FR8117653A patent/FR2513256A1/fr not_active Withdrawn
-
1982
- 1982-09-15 EP EP82401675A patent/EP0077227A1/fr not_active Withdrawn
- 1982-09-17 JP JP16208882A patent/JPS58109105A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0077227A1 (fr) | 1983-04-20 |
FR2513256A1 (fr) | 1983-03-25 |
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