JPS58106733A - Ion gun - Google Patents

Ion gun

Info

Publication number
JPS58106733A
JPS58106733A JP20372481A JP20372481A JPS58106733A JP S58106733 A JPS58106733 A JP S58106733A JP 20372481 A JP20372481 A JP 20372481A JP 20372481 A JP20372481 A JP 20372481A JP S58106733 A JPS58106733 A JP S58106733A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ion gun
groove
insulator block
electrode
ion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20372481A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Futamoto
二本 正昭
Ushio Kawabe
川辺 潮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP20372481A priority Critical patent/JPS58106733A/en
Publication of JPS58106733A publication Critical patent/JPS58106733A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/06Sources
    • H01J2237/08Ion sources
    • H01J2237/0802Field ionization sources
    • H01J2237/0807Gas field ion sources [GFIS]

Abstract

PURPOSE:To increase the dielectric strength between a pin-like chip and an opposed electrode, and make an ion gun compact by providing an insulator block, which supports the electrode and electrically insulates the electrodes from the outside of the ion gun, with grooves of specified dimensions so that the electrodes are surrounded by the grooves. CONSTITUTION:An electrode 3 is provided with a pin-like chip 1 used for ion generation. Grooves 8 are provided on, for example, the upper and the lower surfaces of an insulator block 4 which supports the electrode 3 and electrically insulates the electrode 3 from the outside of an ion gun. When the outer diameter and the thickness of the insulator block 4 are supporsed to be D and T respectively, the width (W) and the depth (l) of the grooves 8 are restricted within the range D/50<=W<=D/3 and T/50<=l<=T/2. By thus providing at least one groove 8, which has dimensions within the above ranges, around the electrodes 3, the voltage resistance of the ion gun can be widely increased.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、イオンマイクロアナライザーなどのイオンビ
ーム応用機器に有用なイオン銃に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an ion gun useful for ion beam application equipment such as ion microanalyzers.

高輝度の細いイオンビームを放射するイオン銃として、
高電界中でガスや液体金属をイオン化する方式のイオン
銃が知られている。これは、第1図に示すように対向電
極2に対して正の高電圧を印加した針状チップ1にガス
や液体金属を供給し、針状チップ表面付近の高電界の作
用でこれをイオン化するものである。針状チップ1と対
向電極20間には数kV以上の高電圧が印加されるので
針状チップの保持電極3は電気的絶縁性を持つ絶縁体ブ
ロック4に固定されている。この絶縁体ブロックは電気
絶縁性の良い石英、アルミナ、ステアダイト、ガラスな
どの材料が使用されている。近年この型のイオン銃の高
性能化のために針状チップ1と対向電極20間に印加す
る電圧が上昇する傾向にある。さらにガスをイオン化す
る場合には針状チップ付近に有効にガスを供給する必要
があり簡便なガス供給方法が望まれている。
As an ion gun that emits a narrow, high-intensity ion beam,
Ion guns that ionize gas or liquid metal in a high electric field are known. As shown in Figure 1, gas or liquid metal is supplied to a needle tip 1 to which a high positive voltage is applied to a counter electrode 2, and the gas or liquid metal is ionized by the action of a high electric field near the surface of the needle tip. It is something to do. Since a high voltage of several kV or more is applied between the needle tip 1 and the counter electrode 20, the holding electrode 3 of the needle tip is fixed to an insulator block 4 having electrical insulation properties. This insulator block is made of materials with good electrical insulation properties, such as quartz, alumina, stairdite, and glass. In recent years, in order to improve the performance of this type of ion gun, the voltage applied between the needle tip 1 and the counter electrode 20 has tended to increase. Furthermore, when gas is ionized, it is necessary to effectively supply the gas to the vicinity of the needle tip, and a simple gas supply method is desired.

本発明はこれらの点に鑑みてなされたものであり、針状
チップと対向電極間の絶縁耐圧が大巻くしかもコンパク
トな形状のイオン銃を提供することにある。さらにはガ
スをイオン化する方式のイオン銃ではガス供給の簡便化
を計るものである。
The present invention has been made in view of these points, and it is an object of the present invention to provide an ion gun that has a large dielectric strength between a needle tip and a counter electrode, and has a compact shape. Furthermore, an ion gun that ionizes gas is designed to simplify gas supply.

以下1本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

針状チップと対向電極、もしくは針状チップとその周囲
の部品との耐1圧は、針状チップと対向電極あるいは周
囲部品との空間距離、針状チップを備えた電極から周囲
部品へ至る絶縁体ブロック上の縁面距離のいずれか低い
方によって決まる。
The voltage resistance between the needle tip and the counter electrode, or between the needle tip and surrounding parts, is determined by the spatial distance between the needle tip and the counter electrode or surrounding parts, and the insulation from the electrode with the needle tip to the surrounding parts. Determined by the lower of the edge distances on the body block.

不発#14らの実験によると、通常のイオン銃において
は後者によって耐電圧が決定されるのが大部分であるこ
とがわかった。これは、イオン銃の動作にともなって針
状チップから蒸発した金属、あるいはイオン衝撃によっ
て発生した不純物が絶縁体ブロック表面に付着して縁面
方向の絶縁耐圧が低下するのが王な原因である。これを
防ぐには絶縁体ブロックの外径を十分大きくすることが
可動であるが、この場合イオン銃の寸法が大きくなり過
ぎるという問題が生ずる。実用上はイオン銃は小さい程
望ましい。
According to the experiments of Misfire #14 et al., it was found that in a normal ion gun, the withstand voltage is determined mostly by the latter. The main cause of this is that metal evaporated from the needle tip during the operation of the ion gun or impurities generated by ion bombardment adhere to the surface of the insulator block, reducing the dielectric strength voltage in the direction of the edge. . In order to prevent this, it is possible to sufficiently increase the outer diameter of the insulator block, but in this case a problem arises in that the dimensions of the ion gun become too large. Practically speaking, it is desirable that the ion gun be as small as possible.

本発明のイオン銃は、絶縁体ブロックに電極を囲んで少
なくとも1つの溝を設けたことを特徴とする。後に図面
を用いて行なう説明から明らかなように、2つの電極を
同時に1の溝で囲むときは、少なくとも1つの溝があれ
ばよい。しかし、2つの電極のそれぞれ1つの溝で囲む
ときは、合せて2つの溝が必要である。
The ion gun of the present invention is characterized in that the insulator block is provided with at least one groove surrounding the electrode. As will be clear from the explanation given later with reference to the drawings, when two electrodes are surrounded by one groove at the same time, it is sufficient to have at least one groove. However, when surrounding each of the two electrodes with one groove, a total of two grooves are required.

溝の幅W及び深さtは、絶縁体ブロックの外径t−D、
厚さをTとするとき、 D150くWくD/3 T150くtくT/2 の範囲であることが好ましく、ΦとくにT/20<、t
くT/2 の範囲であることがより好ましい。
The width W and depth t of the groove are the outer diameter t-D of the insulator block,
When the thickness is T, it is preferably in the range of D150 x W x D/3 T150 x T/2, especially when T/20<, t
More preferably, the range is T/2.

第2図囚に本発明のイオン銃の一実施例の断面図t5ま
た第2図囚のA−A断面を第2図の)に示す。第2図に
おいては、絶縁ブロックの上、下の両面に溝8を設けた
例を示したが上部の溝は必らずしも設ける必要はない、
下部の電極3を囲む溝があれば十分であるが、上部にも
設けた方がより効果が大きい。上記のように上部にも溝
を設けるときは、下部の溝と上部の溝の深さが、共にT
/2であれば絶縁ブロックが切断されてしまう。
FIG. 2 is a sectional view t5 of an embodiment of the ion gun of the present invention, and FIG. Although Fig. 2 shows an example in which grooves 8 are provided on both the upper and lower surfaces of the insulating block, it is not necessary to provide the grooves on the upper part.
Although it is sufficient to have a groove surrounding the lower electrode 3, it is more effective to provide it also in the upper part. When providing a groove on the upper part as above, the depth of both the lower groove and the upper groove is T.
/2, the insulation block will be cut.

それ故、絶縁ブロックの厚さTの約1/1oは、残す必
要がある。すなわち下部の溝の深さt、上部の溝の深さ
をt/とすれば、/、+t’く9/IOTであることが
必要である。
Therefore, approximately 1/1o of the thickness T of the insulating block needs to be left. That is, if the depth of the lower groove is t and the depth of the upper groove is t/, it is necessary that /, +t' + 9/IOT.

上記W及びtの長さがW)D/4若しくはt>T/2で
は溝が大きくなりすぎて絶縁体ブロックの強度が低下し
応力が集申すム角部にクラックが発生したりする。W<
D150では一般的に工作上の困難が生じる。z<’r
/2oでは耐電圧を有効に向上できなくなる。上記範囲
の溝8を電極3′ft囲む形で1ヶ以上設けることによ
り耐電圧は大1娼に向上する。溝を設けたことによる耐
電圧の向上は、電極3から溝を通った絶縁体ブロックの
対向電極までの縁面距離に比例して増大した。
If the lengths of W and t are W)D/4 or t>T/2, the groove becomes too large and the strength of the insulator block decreases, causing cracks to occur at the corners where stress is concentrated. W<
D150 generally presents machining difficulties. z<'r
/2o, the withstand voltage cannot be effectively improved. By providing one or more grooves 8 in the above range so as to surround the electrode 3', the withstand voltage can be improved by a large degree. The improvement in withstand voltage due to the provision of the groove increased in proportion to the distance from the edge surface of the insulator block passing through the groove from the electrode 3 to the opposing electrode.

したがって、印加電圧の大小に応じて溝の深さや溝の数
を1当に選ぶことによって、目的の耐電圧を維持するこ
とがで粘る。
Therefore, by appropriately selecting the depth of the grooves and the number of grooves depending on the magnitude of the applied voltage, it is possible to maintain the desired withstand voltage.

第3図は溝を設けた絶縁体ブロックの他の実施例を示し
たものであり、イオン銃の側片目的、加工費用等に応じ
て任意に選ぶことができる。第3図(A)、(Q及び[
F]は、それぞれその断面図を、また■、0及び[F]
は、囚、0及び■のA−A断面図をそれぞれ示す。
FIG. 3 shows another embodiment of the insulator block provided with grooves, which can be arbitrarily selected depending on the purpose of the side piece of the ion gun, processing cost, etc. Figure 3 (A), (Q and [
F] is the cross-sectional view, and ■, 0 and [F]
2 shows the A-A cross-sectional views of 0, 0, and 2, respectively.

第3図■は、溝ラミ極軸に垂直に設けたものであり、こ
の場合も、耐電圧の向上には、囚、 (C1同様に有効
である。この場合、当然溝の深さtは、電極が露出しな
い範囲に止める必要が69、また溝の暢Wは、絶縁体ブ
ロックの外径りと厚さTとを読みかえた前述と同じ範囲
、すなわちT150くWくT/3 の範囲に定めることが必要である。
In Fig. 3 (■), the groove is provided perpendicularly to the pole axis of the laminate. In this case as well, the groove depth t is as effective as C1 in improving the withstand voltage. , it is necessary to keep the width within a range where the electrodes are not exposed69, and the width of the groove W is the same range as above with the outside diameter and thickness T of the insulator block changed, that is, the range of T150 x W x T/3. It is necessary to define

しかし、溝を電極軸に対して喬直に堀るため絶縁体ブロ
ックの外径が第3図(2)、0に比べて大きくなるとい
う間趙点もある。コンパクトな外径の小さいイオン銃を
製造する点では第3図(5)、0のように#Iを電極軸
と実質的に平行に掘る方が望ましい。
However, since the groove is dug perpendicularly to the electrode axis, the outer diameter of the insulator block becomes larger than that shown in FIG. 3 (2). From the point of view of manufacturing a compact ion gun with a small outer diameter, it is preferable to dig #I substantially parallel to the electrode axis as shown in FIG. 3 (5), 0.

第4図は、ガスをイオン化する方式のイオン銃の主要部
を示したもので、ここでは耐電圧向上のための溝8に加
えてガス供給用の孔9が絶縁体ブロックに設けられてい
る。ガスをイオン化する方式のイオン銃においてイオン
化効率を上げるためには針状チップ1と供給ガスをほぼ
同じ温度に冷却することが必要である。′第4図に示す
イオン銃は、この目的の丸めに望ましい構成であり、ガ
スは絶縁体ブロックを貞いて設けられた孔9t−通過す
る過程で絶縁体ブロックとほぼ同じ温度になる。
Figure 4 shows the main parts of an ion gun that ionizes gas, and here, in addition to grooves 8 to improve withstand voltage, holes 9 for gas supply are provided in the insulator block. . In order to increase the ionization efficiency in an ion gun that ionizes gas, it is necessary to cool the needle tip 1 and the supply gas to approximately the same temperature. 'The ion gun shown in FIG. 4 is of a preferred configuration for rounding for this purpose, and the gas reaches approximately the same temperature as the insulator block in the process of passing through the hole 9t provided in the insulator block.

針状チップは絶縁体ブロックに固定されているため、は
ぼCれと同温度にあり、第4図に示すイオン銃の場合ガ
スのイオン化が効率的に行なわれる。
Since the needle tip is fixed to an insulator block, the tip is at the same temperature as the cylinder, and in the case of the ion gun shown in FIG. 4, gas is efficiently ionized.

さらに絶縁体ブロックを通してガスを供給する方式を採
用することによってイオン銃の形が単純化できる4−の
で、イオン銃製造のコストが低減化することも可能とな
る。図において11は、冷却器のヘッドである。
Furthermore, by adopting a method of supplying gas through an insulator block, the shape of the ion gun can be simplified, so that the cost of manufacturing the ion gun can be reduced. In the figure, 11 is the head of the cooler.

なお、本発明は、第4図の形状に限定されるものではな
く、ガス供給は、第1図の従来のような方法をとっても
さしつかえない。
It should be noted that the present invention is not limited to the shape shown in FIG. 4, and the conventional method shown in FIG. 1 may be used for gas supply.

以下、実施例について述べる。Examples will be described below.

実施例1 絶縁体ブロック材料に焼結体アルZすを用いて、第2図
に示した構造のイオン銃を作製した。Wから成る針状チ
ップを液体Gaでぬらし、Gaイオン銃として用いた。
Example 1 An ion gun having the structure shown in FIG. 2 was manufactured using sintered AlZ as the insulator block material. A needle tip made of W was wetted with liquid Ga and used as a Ga ion gun.

絶縁体ブロックの外径D1厚さT1溝のd w 、溝の
深さ11、D==12aa。
Outer diameter D1 of insulator block, thickness T1, d w of groove, depth of groove 11, D==12aa.

T=20闘、W=2m% t=S―とした。T=20 fights, W=2m%, t=S-.

10−”Tollの真空中で、針状チップと対向電極間
の耐電圧を測定したところ15kV以上おることがわか
った。さらに、イオン銃t−100時間以上動作させて
も15kV以上の耐電圧特性が保たれた。これに対し、
溝を設けない同じ寸法の絶縁体ブロックを設けないイオ
ン銃では50〜90時間で耐電圧特性が劣化し、10〜
15kVでリーク電流が流れ始めた。#上膜けた絶縁体
ブロックを使用することにより、耐電圧特性が向上する
ことがわかった。
When the withstand voltage between the needle tip and the counter electrode was measured in a 10-"Toll vacuum, it was found to be over 15 kV.Furthermore, even when the ion gun was operated for more than 100 hours, the withstand voltage was over 15 kV. was maintained.In contrast,
With an ion gun that does not have grooves or an insulator block of the same size, the withstand voltage characteristics deteriorate in 50 to 90 hours;
Leakage current started flowing at 15kV. #It was found that the withstand voltage characteristics were improved by using an insulator block with a top layer.

実施例2 ステアダイ)ヲ用いて第3図(A)VC示した構造の絶
縁体ブロックを作製しこれを用いてイオン銃を作製した
。絶縁体ブロックの外径D5厚さT1溝の幅W% ml
の深さ11、D= 20wn、 T= 30txx。
Example 2 An insulator block having the structure shown in FIG. 3(A) VC was produced using a steer die, and an ion gun was produced using this. Insulator block outer diameter D5 thickness T1 groove width W% ml
depth 11, D=20wn, T=30txx.

W= 1.5101t L= 10wnとした。この場
合も実施例1とほぼ同様の効果が認められた。
W=1.5101t L=10wn. In this case as well, substantially the same effects as in Example 1 were observed.

実施例3 ガラスを用いて第3図(Qに示した構造の絶縁体ブロッ
クを作製−これを用いたイオン銃ヲ製造した。絶縁体ブ
ロックの外径り、厚さTをD=10mm、T=20sg
Iとした。溝の寸法は幅W=11g。
Example 3 An insulator block having the structure shown in FIG. 3 (Q) was prepared using glass. An ion gun was manufactured using this. The outer diameter and thickness T of the insulator block were set to D=10 mm, T =20sg
It was set as I. The dimensions of the groove are width W = 11g.

深さは針状チップの電極側で1 = 5 mm、反対側
でt=13wmとした。イオン耽を100時間以上動作
させても、10kV以上の耐電圧を保つことができた。
The depth was 1 = 5 mm on the electrode side of the needle tip, and t = 13 wm on the opposite side. Even after operating the ion sink for over 100 hours, it was able to maintain a withstand voltage of over 10 kV.

実施例4 絶縁体ブロック材料にサファイアを用いて、第4図に示
した構造のイオン銃を作製した。絶縁体ブロック4の外
径D:30111%厚さT=40m。
Example 4 An ion gun having the structure shown in FIG. 4 was manufactured using sapphire as the insulator block material. Outer diameter D of insulator block 4: 30111% Thickness T = 40 m.

とし−針状チップを取付けた側に設けた溝の寸法を内側
の溝の幅w=2■、深さt=10wms外側の溝の幅W
=4sag、深さt= 18 Ell、これらと反対側
に設けた溝の幅W=2rxx、深さ19mとした。
- Dimensions of the groove provided on the side where the needle-like tip is attached are as follows: Inner groove width w = 2■, depth t = 10wms, outer groove width W
= 4sag, depth t = 18Ell, width W of the groove provided on the opposite side to these = 2rxx, and depth 19m.

さらにガス供給用の直径1簡の孔9を絶縁体ブロックを
貫いて設けた。針状チップ1として<111>方位を持
つ工rチップ會用いて、ガス供給管10を通して、H*
 * He @ N e @ A r + X e I
 K r gN、などのガスを針状チップ先端部へ導入
し、上記ガスのイオンを発生させた。、イオン化効率を
上げるためにイオン銃全体は冷却器のヘッド11に取9
つけられており、4〜200にの範囲の最適温度に設定
できるように構成した。針状チップlと対向電極26関
の耐電圧は30kV以上であった。上記のいずれのガス
を用いてもいずれも100時間以上にわたって30kV
以上の耐電圧特性を得ることができ、イオン銃として安
定に動作した。
Furthermore, a hole 9 with a diameter of 1 inch for gas supply was provided through the insulator block. Using a needle tip 1 with <111> orientation, H* is passed through the gas supply pipe 10.
* He @ N e @ A r + X e I
A gas such as K r gN was introduced into the tip of the needle tip to generate ions of the gas. In order to increase the ionization efficiency, the entire ion gun is mounted on the head 11 of the cooler.
It is configured so that the optimum temperature can be set in the range of 4 to 200 degrees Celsius. The withstand voltage between the needle tip 1 and the counter electrode 26 was 30 kV or more. 30kV for over 100 hours using any of the above gases
We were able to obtain the above-mentioned withstand voltage characteristics and operate stably as an ion gun.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は高電界中でガスをイオン化する方式のイオン銃
を示す断面図、第2図囚及び■は本発明のイオン銃の一
例を示す断面図、第3図囚、■。 (Q、([)、[F]及び[F]は本発明によるイオン
銃の絶縁体ブロックの形状の他の実施例を示す断面図、
第4図は、本発明によるガスイオン発生用のイオン銃の
構成を示す図である。 ■・・・針状チップ、2・・・対向電極、3・・・針状
チップの保持電極、4・・・絶縁体ブロック、5・・・
リークパルプ、6・・・ガスボンベ、7川イオンビーム
用レンズ、8・・・溝、9・・・ガス供給用の孔、10
・・・ガス併重 1 図
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an ion gun that ionizes gas in a high electric field, FIG. (Q, ([), [F] and [F] are cross-sectional views showing other embodiments of the shape of the insulator block of the ion gun according to the present invention,
FIG. 4 is a diagram showing the configuration of an ion gun for gas ion generation according to the present invention. ■...Acicular tip, 2...Counter electrode, 3...Holding electrode of needle-like tip, 4...Insulator block, 5...
Leak pulp, 6... Gas cylinder, 7 River ion beam lens, 8... Groove, 9... Gas supply hole, 10
...Gas combined weight 1 Figure

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、 イオン発生用の針状チップを備えた電極と、該電
極を保持しかつ外部に対して電気的絶縁性を持つ絶縁体
ブロックを具備するイオン銃において、上記絶縁体ブロ
ックに上記電極を囲む少なくとも1つ以上の溝を設けて
なることt−特徴とするイオン銃。 2 上記溝は、上記絶縁体ブロック中の電極軸と!1l
j−的に平行に設けられ、上記絶縁体ブロックの外径t
−D、厚さ’kTとするとき、上記溝の幅W及び深さt
がそれぞれ D150くWくD/3 T150<、t<、T/2 の範囲の値である特許請求の範囲第1項記載のイオン銃
。 λ 上記溝の深さtが T / 20 <t<T/ 2 の範囲の値である特許請求の範囲第2項記載のイオン銃
。 4、上記溝は、上記絶縁体ブロック中の電極軸に画直に
設けられている特許請求の範囲第1項記載のイオン銃。 5、上記溝の深さは、上記電極軸が露出しない範Hの深
さであシ、上記溝の幅Wは、上記絶縁体ブロックの厚さ
’t−Tとするとき T150くW<T/3 の範囲であるwW!IFn求の範囲第1項記載のイオン
銃。 6、上記溝は、上記絶縁体ブロックの上部及び下部にそ
れぞれ少なくとも1つ以上設けられている特許請求の範
囲第1項記載のイオン銃。 7、上記溝は、上記絶縁体ブロック中の電極軸と実質的
に平行に設けられ、上記絶縁体ブロックの外径tD、厚
さ′tTとするとき、上記上部の溝の幅W′及び深さt
′並びに下部の溝の幅W及び深さtがそれぞれ D150<W’ <D/3 T150<、t’ <T/2 D150くWくD/3 T150く/、くT/2 の範囲の唾であり、かつt+t’の値がL+1’ り9
/ 10 T の範囲の値である特許請求の範囲第6項記載のイオン銃
。 8、 上記溝の深さt′及びtが T/20りt’ <、T/2 T/20くt<、T/2 の範囲の値である特許請求の範囲第7項記載のイオン銃
。 9、上記溝に、上記絶縁体ブロック中の電極軸に垂直に
、かつ上記絶縁体ブロックの上部及び下部にそれぞれ少
なくと41つ以上設けられている特許請求の範囲第1項
記載のイオン銃。 10、上記溝は、上記電極の1つにつき少なくとも1つ
設けられてiる特fFtp+求の範囲第1項記載のイオ
ン銃。
[Claims] 1. An ion gun comprising an electrode with a needle-like tip for ion generation, and an insulator block that holds the electrode and has electrical insulation from the outside, wherein the insulator is An ion gun characterized in that the block is provided with at least one groove surrounding the electrode. 2 The groove is connected to the electrode shaft in the insulator block! 1l
The outer diameter t of the insulator block is
-D, thickness 'kT, width W and depth t of the above groove
The ion gun according to claim 1, wherein D150, W, D/3, T150<, t<, T/2, respectively. λ The ion gun according to claim 2, wherein the depth t of the groove is in the range of T/20<t<T/2. 4. The ion gun according to claim 1, wherein the groove is provided perpendicularly to the electrode axis in the insulator block. 5. The depth of the groove is such that the electrode axis is not exposed, and the width W of the groove is T150, W<T, where the thickness of the insulator block is 't-T. /3 range lol! The ion gun according to item 1, the range of IFn requirements. 6. The ion gun according to claim 1, wherein at least one groove is provided in each of the upper and lower parts of the insulator block. 7. The groove is provided substantially parallel to the electrode axis in the insulator block, and when the outer diameter tD and the thickness tT of the insulator block, the width W' and depth of the upper groove are Sat
' and the width W and depth t of the lower groove are in the range of D150<W'<D/3 T150<,t'<T/2 D150×D/3 T150×/,×T/2, respectively. and the value of t+t' is L+1'9
7. The ion gun according to claim 6, wherein the ion gun has a value in the range of /10T. 8. The ion gun according to claim 7, wherein the depths t' and t of the grooves are in the range of T/20t'<, T/2 T/20t<, T/2. . 9. The ion gun according to claim 1, wherein at least 41 or more ion guns are provided in the groove, perpendicular to the electrode axis in the insulator block, and at the top and bottom of the insulator block, respectively. 10. The ion gun according to item 1, wherein at least one groove is provided for each of the electrodes.
JP20372481A 1981-12-18 1981-12-18 Ion gun Pending JPS58106733A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20372481A JPS58106733A (en) 1981-12-18 1981-12-18 Ion gun

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20372481A JPS58106733A (en) 1981-12-18 1981-12-18 Ion gun

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS58106733A true JPS58106733A (en) 1983-06-25

Family

ID=16478794

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20372481A Pending JPS58106733A (en) 1981-12-18 1981-12-18 Ion gun

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58106733A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62140663U (en) * 1986-02-28 1987-09-04
JP2017204342A (en) * 2016-05-09 2017-11-16 松定プレシジョン株式会社 Insulation structure, charged particle gun, and charged particle beam application device

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4937700B1 (en) * 1970-12-21 1974-10-11

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4937700B1 (en) * 1970-12-21 1974-10-11

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62140663U (en) * 1986-02-28 1987-09-04
JP2017204342A (en) * 2016-05-09 2017-11-16 松定プレシジョン株式会社 Insulation structure, charged particle gun, and charged particle beam application device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2749679B2 (en) Method and apparatus for coating a substrate
SU682150A3 (en) Ionic motor
JPS6039159A (en) Magnetron cathode for cathode sputtering device
US3670257A (en) Method of gas ion laser action
US2447377A (en) Device for regulating electrical discharge
JPS58106733A (en) Ion gun
JP2005519198A (en) Production method of titanium nitride film
US6894589B2 (en) Radio frequency resonator and method for producing the same
US3329849A (en) Electron gun apparatus with heat sink means for supporting filament and grid
US3476971A (en) Apparatus for plasma processing
US4930137A (en) Inorganic triple point screen
JPS60149214A (en) Electrode of surface acoustic wave element
JP2647866B2 (en) Electron tube sealing structure
JPH0696680A (en) Metal ion source
JPS61135041A (en) Low pressure arc discharge lamp with increased voltage
JPS5848421A (en) Dry etching device
JPS5797633A (en) Hybrid integrated circuit
JPS55154790A (en) Silent discharge type gas laser
US4906890A (en) Hollow anode optical radiation source
RU2209483C2 (en) Electron-and-ion source
Miljević Some characteristics of the hollow‐anode ion source
JPH02174041A (en) Hollow cathode for plasma electron-ion radiation source
RU2233505C2 (en) Gas-discharge ion source
JPS637423B2 (en)
JPS57119436A (en) Impregnated type cathode