JPS58102111U - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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JPS58102111U
JPS58102111U JP19507481U JP19507481U JPS58102111U JP S58102111 U JPS58102111 U JP S58102111U JP 19507481 U JP19507481 U JP 19507481U JP 19507481 U JP19507481 U JP 19507481U JP S58102111 U JPS58102111 U JP S58102111U
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JP
Japan
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high frequency
frequency heating
heating device
top plate
heating chamber
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JP19507481U
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JPH0116970Y2 (ja
Inventor
中川　秀志
Original Assignee
シャープ株式会社
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Publication date
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  • Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は、本考案の実施例を示す高周波加熱装置の加熱
室の正面概略図、第２図は、第１図の要部拡大斜視図、
第３図は、本考案実施例の要部電気回路図である。 １・・・・・・加熱室、２・・・・・・天板、３Ａ、　
　３Ｂ、　　３Ｃ。 ３Ｄ・・・・・・発光素子、４Ａ、　　４Ｂ、　　４Ｃ
，４Ｄ・・・・・・受光素子、８・・・・・・食品、９
・・・・・・発振器、１０・・・・・・マルチプレクサ
、１２・・・・・・カウンタ回路、１３・・・・・・Ｃ
ＰＵ、１５・・・・・・高周波発振器。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 加熱室の天板に発光素子と受光素子とからなる複数個の
    フォトカプラーを配設して被加熱物の大きさを検知する
    とともに、この検知信号により高周波の照射時間を制御
    したことを特徴とする高周波加熱装置。
JP19507481U 1981-12-29 1981-12-29 高周波加熱装置 Granted JPS58102111U (ja)

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JP19507481U JPS58102111U (ja) 1981-12-29 1981-12-29 高周波加熱装置

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JPS58102111U true JPS58102111U (ja) 1983-07-12
JPH0116970Y2 JPH0116970Y2 (ja) 1989-05-18

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61260588A (ja) * 1985-05-15 1986-11-18 シャープ株式会社 加熱器
JPS61262526A (ja) * 1985-05-15 1986-11-20 Sharp Corp 加熱器

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4728910U (ja) * 1971-04-30 1972-12-02

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4728910U (ja) * 1971-04-30 1972-12-02

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JPS61260588A (ja) * 1985-05-15 1986-11-18 シャープ株式会社 加熱器
JPS61262526A (ja) * 1985-05-15 1986-11-20 Sharp Corp 加熱器

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JPH0116970Y2 (ja) 1989-05-18

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