JPS5083528A - - Google Patents
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- Publication number
- JPS5083528A JPS5083528A JP13421573A JP13421573A JPS5083528A JP S5083528 A JPS5083528 A JP S5083528A JP 13421573 A JP13421573 A JP 13421573A JP 13421573 A JP13421573 A JP 13421573A JP S5083528 A JPS5083528 A JP S5083528A
- Authority
- JP
- Japan
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Artificial Filaments (AREA)
- Spinning Methods And Devices For Manufacturing Artificial Fibers (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13421573A JPS5638686B2 (ko) | 1973-11-28 | 1973-11-28 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13421573A JPS5638686B2 (ko) | 1973-11-28 | 1973-11-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5083528A true JPS5083528A (ko) | 1975-07-05 |
| JPS5638686B2 JPS5638686B2 (ko) | 1981-09-08 |
Family
ID=15123107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13421573A Expired JPS5638686B2 (ko) | 1973-11-28 | 1973-11-28 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5638686B2 (ko) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160036511A (ko) | 2014-09-25 | 2016-04-04 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 술포늄 염, 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법 |
| KR20160103950A (ko) | 2015-02-25 | 2016-09-02 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 화학 증폭 포지티브형 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법 |
| KR20170017790A (ko) | 2015-08-05 | 2017-02-15 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 고분자 화합물, 포지티브형 레지스트 조성물, 적층체 및 레지스트 패턴 형성 방법 |
| KR20180016276A (ko) | 2016-08-05 | 2018-02-14 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 포지티브형 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법 및 포토마스크 블랭크 |
| KR20180077082A (ko) | 2016-12-28 | 2018-07-06 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 화학 증폭 포지티브형 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0211931U (ko) * | 1988-07-04 | 1990-01-25 |
-
1973
- 1973-11-28 JP JP13421573A patent/JPS5638686B2/ja not_active Expired
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160036511A (ko) | 2014-09-25 | 2016-04-04 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 술포늄 염, 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법 |
| KR20160103950A (ko) | 2015-02-25 | 2016-09-02 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 화학 증폭 포지티브형 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법 |
| KR20170017790A (ko) | 2015-08-05 | 2017-02-15 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 고분자 화합물, 포지티브형 레지스트 조성물, 적층체 및 레지스트 패턴 형성 방법 |
| KR20180016276A (ko) | 2016-08-05 | 2018-02-14 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 포지티브형 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법 및 포토마스크 블랭크 |
| KR20180077082A (ko) | 2016-12-28 | 2018-07-06 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 화학 증폭 포지티브형 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5638686B2 (ko) | 1981-09-08 |