JPS4022050B1 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS4022050B1 JPS4022050B1 JP2620862A JP2620862A JPS4022050B1 JP S4022050 B1 JPS4022050 B1 JP S4022050B1 JP 2620862 A JP2620862 A JP 2620862A JP 2620862 A JP2620862 A JP 2620862A JP S4022050 B1 JPS4022050 B1 JP S4022050B1
- Authority
- JP
- Japan
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2620862A JPS4022050B1 (ja) | 1962-06-22 | 1962-06-22 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2620862A JPS4022050B1 (ja) | 1962-06-22 | 1962-06-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS4022050B1 true JPS4022050B1 (ja) | 1965-09-30 |
Family
ID=12187020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2620862A Pending JPS4022050B1 (ja) | 1962-06-22 | 1962-06-22 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS4022050B1 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003025246A1 (fr) * | 2001-09-17 | 2003-03-27 | Sumitomo Titanium Corporation | Materiau de monoxyde de silicium pour depot par evaporation sous vide et procede de preparation de celui-ci |
| JP2005298273A (ja) * | 2004-04-12 | 2005-10-27 | Nippon Steel Corp | 高純度ＳｉＯ固体の製造方法及び製造装置 |
| JP2008507471A (ja) * | 2004-07-26 | 2008-03-13 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 反応性シリコン亜酸化物フレーク |
| US7431899B2 (en) | 2000-02-04 | 2008-10-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Apparatus for the continuous production of silicon oxide powder |
| WO2014157154A1 (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | 信越化学工業株式会社 | 酸化珪素の製造装置及び製造方法 |
-
1962
- 1962-06-22 JP JP2620862A patent/JPS4022050B1/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7431899B2 (en) | 2000-02-04 | 2008-10-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Apparatus for the continuous production of silicon oxide powder |
| WO2003025246A1 (fr) * | 2001-09-17 | 2003-03-27 | Sumitomo Titanium Corporation | Materiau de monoxyde de silicium pour depot par evaporation sous vide et procede de preparation de celui-ci |
| JP2005298273A (ja) * | 2004-04-12 | 2005-10-27 | Nippon Steel Corp | 高純度ＳｉＯ固体の製造方法及び製造装置 |
| JP2008507471A (ja) * | 2004-07-26 | 2008-03-13 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 反応性シリコン亜酸化物フレーク |
| WO2014157154A1 (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | 信越化学工業株式会社 | 酸化珪素の製造装置及び製造方法 |
| JP5954492B2 (ja) * | 2013-03-29 | 2016-07-20 | 信越化学工業株式会社 | 酸化珪素の製造装置及び製造方法 |