JPH1188784A - Tdi circuit, image signal reading circuit and image pickup device - Google Patents

Tdi circuit, image signal reading circuit and image pickup device

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JPH1188784A
JPH1188784A JP9243613A JP24361397A JPH1188784A JP H1188784 A JPH1188784 A JP H1188784A JP 9243613 A JP9243613 A JP 9243613A JP 24361397 A JP24361397 A JP 24361397A JP H1188784 A JPH1188784 A JP H1188784A
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circuit
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pixel
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electrode
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain high S/N by shielding a pixel signal from a defective pixel in a TDI(time delay and integration) circuit to improve the S/N of a pixel signal obtained from an image pickup sensor. SOLUTION: A TDI function is achieved by supplying the pixel signals G1 to G4 to be outputted from light receiving elements 1-1 to 1-4 formed in a scanning direction of an infrared line sensor to corresponding integration capacity in an integrated circuit with a switching circuit network 5. Also a pixel selection circuit to transmit no pixel signal of the defective pixel to the switching circuit network 5 is provided in an input circuit 4.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、撮像センサから得
られる画素信号のS/N比を向上させる時間遅延積分回
路、いわゆる、TDI(time delay and integration)
回路、画像信号読出回路及び撮像デバイスに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a time delay and integration (TDI) circuit for improving the S / N ratio of a pixel signal obtained from an image sensor.
The present invention relates to a circuit, an image signal reading circuit, and an imaging device.

【0002】例えば、赤外線ラインセンサのように、被
写体に対して相対的に機械走査する撮像センサにおい
て、高いS/N比を得るためには、複数の画素を撮像セ
ンサの被写体に対する相対的走査方向に配列し、TDI
回路を使用して同一の撮像点の画素信号を時間遅延積分
する必要がある。
For example, in an image sensor such as an infrared line sensor that performs a mechanical scan relative to a subject, in order to obtain a high S / N ratio, a plurality of pixels are scanned in a direction relative to the subject by the image sensor. And TDI
It is necessary to perform time delay integration of pixel signals at the same imaging point using a circuit.

【0003】[0003]

【従来の技術】従来、TDI回路として、例えば、撮像
センサから出力される信号電荷をCCD(charge coupl
ed device)からなる電荷転送路を転送させながら積分
していくTDI回路が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a TDI circuit, for example, a signal charge output from an image sensor is converted to a charge coupled device (CCD).
2. Description of the Related Art A TDI circuit that integrates while transferring a charge transfer path composed of an ed device is known.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、CCDを使用
したTDI回路は、撮像センサの欠陥画素を非選択にす
ることが困難であり、全ての走査チャネルで高いS/N
比を実現することが困難であるという問題点を有してい
た。
However, in a TDI circuit using a CCD, it is difficult to make defective pixels of an image sensor non-selective, and a high S / N is required in all scanning channels.
There was a problem that it was difficult to achieve the ratio.

【0005】本発明は、かかる点に鑑み、欠陥画素から
の画素信号を遮断できるようにし、高いS/N比を得る
ことができるようにしたTDI回路、画像信号読出回路
及び撮像デバイスを提供することを目的とする。
In view of the foregoing, the present invention provides a TDI circuit, an image signal readout circuit, and an imaging device capable of cutting off a pixel signal from a defective pixel and obtaining a high S / N ratio. The purpose is to:

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明中、第1の発明
は、光学系の走査方向に配列されたn個(但し、nは2
以上の整数である。)の受光素子から出力される画素信
号を時間遅延積分するTDI回路であって、p個(但
し、pはp=knを満足する整数であり、kは正の整数
である。)の積分容量と、同一撮像点の画素信号は、同
一の積分容量に供給されるように、n個の受光素子から
出力される画素信号をp個の積分容量に供給するスイッ
チング回路網とを備えているというものである。
According to the first aspect of the present invention, there are provided n (n is 2) arranged in the scanning direction of the optical system.
Is an integer greater than or equal to. ) Is a TDI circuit for performing time-delay integration of pixel signals output from the light-receiving elements, and p integration capacitors (where p is an integer satisfying p = kn and k is a positive integer). And a switching network for supplying pixel signals output from the n light receiving elements to the p integration capacitors so that the pixel signals at the same imaging point are supplied to the same integration capacitance. Things.

【0007】本発明中、第1の発明によれば、スイッチ
ング回路網は、同一撮像点の画素信号は同一の積分容量
に供給されるように、n個の受光素子から出力される画
素信号をp個の積分容量に供給するとしているので、p
個の積分容量の蓄積電圧の所定のタイミングによるサン
プリングとリセットを繰り返すことで、TDI機能を実
現することができる。
According to the first aspect of the present invention, the switching circuit is configured to change the pixel signals output from the n light receiving elements so that the pixel signals at the same imaging point are supplied to the same integration capacitor. Since the power is supplied to p integration capacitors, p
The TDI function can be realized by repeating sampling and reset at predetermined timing of the storage voltages of the integral capacitors.

【0008】このように、本発明中、第1の発明によれ
ば、n個の受光素子から出力される画素信号をスイッチ
ング回路網を介してp個の積分容量に供給することによ
り、TDI機能を達成するようにしているので、n個の
受光素子から出力される画素信号を入力するための入力
端子とスイッチング回路網との間に、欠陥画素からの画
素信号を遮断するスイッチング素子を設けてなる簡単な
回路構成の画素選択回路を設けることができる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the pixel signal output from the n light receiving elements is supplied to the p integration capacitors via the switching network, thereby providing the TDI function. Therefore, a switching element for blocking a pixel signal from a defective pixel is provided between an input terminal for inputting a pixel signal output from n light receiving elements and a switching circuit network. A pixel selection circuit having a simple circuit configuration can be provided.

【0009】本発明中、第2の発明は、第1の発明にお
いて、スイッチング回路網は、p個の積分容量のそれぞ
れに対応させて設けられたp個のスイッチング単位回路
網を有し、各スイッチング単位回路網は、n個の受光素
子から同時に出力されるn個の画素信号の中の1個を選
択し、対応する積分容量に供給するように制御されると
いうものである。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the switching network has p switching unit networks provided corresponding to the p integration capacitors, respectively. The switching unit network is controlled so that one of n pixel signals output simultaneously from the n light receiving elements is selected and supplied to the corresponding integration capacitance.

【0010】本発明中、第3の発明は、第1の発明にお
いて、p個の積分容量のそれぞれに対応させて設けら
れ、対応する積分容量の蓄積電圧をサンプリングするp
個のサンプリング回路と、p個の積分容量のそれぞれに
対応させて設けられ、対応する積分容量の蓄積電圧を一
定の電圧値にリセットするp個のリセット回路と、入力
端をp個のサンプリング回路の出力端に共通接続された
出力バッファ回路とを有し、p個のサンプリング回路
は、所定の順番、かつ、周期的に、対応する積分容量の
蓄積電圧をサンプリングするように制御され、p個のリ
セット回路は、蓄積電圧をサンプリングされた対応する
積分容量を一定の電圧値にリセットするように制御され
るというものである。
[0010] In a third aspect of the present invention, in the first aspect, a p is provided corresponding to each of the p integration capacitors, and samples the accumulated voltage of the corresponding integration capacitance.
Sampling circuits, p reset circuits provided corresponding to each of the p integration capacitors, and resetting the accumulated voltage of the corresponding integration capacitors to a fixed voltage value, and p input circuits of the input terminals And an output buffer circuit connected in common to the output terminals of the p. The p number of sampling circuits are controlled so as to sample the accumulated voltage of the corresponding integration capacitance in a predetermined order and periodically, and Is controlled so as to reset the corresponding integrated capacitance sampled from the accumulated voltage to a constant voltage value.

【0011】本発明中、第4の発明は、第1の発明にお
いて、p個の積分容量のそれぞれに対応させて設けら
れ、入力端を対応する積分容量の画素信号が印加される
電極に接続されたp個の出力バッファ回路と、p個の出
力バッファ回路のそれぞれに対応させて設けられ、対応
する出力バッファ回路の出力電圧をサンプリングするp
個のサンプリング回路と、p個の積分容量のそれぞれに
対応させて設けられ、対応する積分容量の蓄積電圧を一
定の電圧値にリセットするp個のリセット回路とを有
し、p個のサンプリング回路は、所定の順番、かつ、周
期的に、対応する出力バッファ回路の出力電圧をサンプ
リングするように制御され、p個のリセット回路は、蓄
積電圧をサンプリングされた対応する積分容量を一定の
電圧値にリセットするように制御されるというものであ
る。
According to a fourth aspect of the present invention, in the first aspect, the input terminal is connected to an electrode to which a pixel signal of the corresponding integration capacitance is applied, the input terminal being provided corresponding to each of the p integration capacitors. P output buffer circuits, and p output samples corresponding to the p output buffer circuits and sampling the output voltage of the corresponding output buffer circuits.
Number of sampling circuits, and p number of reset circuits provided corresponding to each of the p number of integration capacitors and resetting a storage voltage of the corresponding integration capacitance to a constant voltage value. Are controlled so as to sample the output voltage of the corresponding output buffer circuit in a predetermined order and periodically, and the p number of reset circuits set the corresponding integration capacitors sampled from the accumulated voltage to a constant voltage value. It is controlled to reset to.

【0012】本発明中、第4の発明によれば、p個の積
分容量のそれぞれに対応させて出力バッファ回路を設け
ているので、p個の積分容量から出力される画素信号間
のクロストークを低減することができる。
According to the fourth aspect of the present invention, since the output buffer circuits are provided corresponding to each of the p integration capacitors, the crosstalk between pixel signals output from the p integration capacitors is provided. Can be reduced.

【0013】本発明中、第5の発明は、第1の発明にお
いて、n個の受光素子のそれぞれに対応させて設けら
れ、対応する受光素子から出力される画素信号を入力す
るためのn個の入力端子と、n個の入力端子のそれぞれ
に対応させて設けられ、第1の電流入出力電極を対応す
る入力端子に接続され、制御電極に一定電圧が印加され
るn個の入力トランジスタと、n個の入力トランジスタ
のそれぞれに対応させて設けられ、第1の電流入出力電
極を対応する入力トランジスタの第2の電流入出力電極
に接続され、第2の電流入出力電極をスイッチング回路
網に接続されたn個の画素選択トランジスタと、欠陥画
素情報に基づいて、n個の画素選択トランジスタのそれ
ぞれのオン、オフを制御する画素選択制御回路とを備え
ているというものである。
According to a fifth aspect of the present invention, in the first aspect, the n number of light receiving elements provided for each of the n number of light receiving elements for inputting a pixel signal output from the corresponding light receiving element are provided. And n input transistors provided corresponding to each of the n input terminals, a first current input / output electrode is connected to the corresponding input terminal, and a constant voltage is applied to the control electrode. , A first current input / output electrode is connected to a second current input / output electrode of the corresponding input transistor, and the second current input / output electrode is connected to a switching network. And a pixel selection control circuit that controls on / off of each of the n pixel selection transistors based on defective pixel information. That.

【0014】本発明中、第5の発明によれば、n個の画
素選択トランジスタと、画素選択制御回路とで、欠陥画
素からの画素信号を遮断するための画素選択回路が構成
されている。
According to a fifth aspect of the present invention, a pixel selection circuit for cutting off a pixel signal from a defective pixel is composed of n pixel selection transistors and a pixel selection control circuit.

【0015】本発明中、第6の発明は、第5の発明にお
いて、第1の電流入出力電極を対応する入力トランジス
タの第2の電流入出力電極に接続され、第2の電流入出
力電極に所定の電圧が印加されるオフセット電流供給用
トランジスタと、第1の電極をオフセット電流供給用ト
ランジスタの制御電極に接続され、第2の電極をオフセ
ット電流供給用トランジスタの第2の電流入出力電極に
接続され、オフセット電流供給用トランジスタの制御電
極に制御電圧を印加するための制御電圧印加用容量と、
第1の電流入出力電極を対応する入力トランジスタの第
2の電流入出力電極に接続され、第2の電流入出力電極
を制御電圧印加用容量の第2の電極に接続され、制御電
極にサンプルホールド信号が印加され、オフセット電流
供給用トランジスタの制御電極に印加すべき制御電圧を
制御電圧印加用容量にホールドさせるサンプルホールド
トランジスタとを備えているカレントミラー回路をn個
の入力トランジスタのそれぞれに対応させて備えている
というものである。
In a sixth aspect of the present invention based on the fifth aspect, the first current input / output electrode is connected to the second current input / output electrode of the corresponding input transistor, and the second current input / output electrode is connected to the second input / output electrode. And a first electrode connected to a control electrode of the offset current supply transistor, and a second electrode connected to a second current input / output electrode of the offset current supply transistor. A control voltage application capacitor for applying a control voltage to the control electrode of the offset current supply transistor,
A first current input / output electrode is connected to a second current input / output electrode of a corresponding input transistor, and a second current input / output electrode is connected to a second electrode of a control voltage application capacitor. A current mirror circuit comprising a hold signal is applied and a sample and hold transistor for holding the control voltage to be applied to the control electrode of the offset current supply transistor to the control voltage application capacitor corresponding to each of the n input transistors It is to be prepared.

【0016】本発明中、第6の発明によれば、サンプル
ホールドトランジスタをオンとして、暗い被写体を撮像
すると、オフセット電流供給用トランジスタを介して受
光素子にオフセット電流が流れ、この時のオフセット電
流供給用トランジスタの制御電圧を制御電圧供給用容量
に記憶させることができるので、その後、サンプルホー
ルドトランジスタをオフとしても、受光素子にオフセッ
ト電流を供給することができる。
According to the sixth aspect of the present invention, when a dark object is imaged with the sample-and-hold transistor turned on, an offset current flows to the light receiving element via the offset current supply transistor. Since the control voltage of the control transistor can be stored in the control voltage supply capacitor, the offset current can be supplied to the light receiving element even after the sample hold transistor is turned off.

【0017】本発明中、第7の発明は、第2の発明にお
いて、n個の受光素子のそれぞれに対応させて設けら
れ、対応する受光素子が出力する画素信号を入力するた
めのn個の入力端子と、n個の入力端子のそれぞれに対
応させて設けられ、第1の電流入出力電極を対応する入
力端子に接続され、第2の電流入出力電極をスイッチン
グ回路網に接続されたn個の画素選択トランジスタと、
欠陥画素情報に基づいて、n個の画素選択トランジスタ
のそれぞれのオン、オフを制御する画素選択制御回路
と、p個のスイッチング単位回路網のそれぞれに対応さ
せて設けられ、第1の電流入出力電極を対応するスイッ
チング単位回路網の出力端に接続され、第2の電流入出
力電極を対応する積分回路に接続され、制御電極に一定
電圧が印加されるp個のトランジスタとを備えていると
いうものである。
According to a seventh aspect of the present invention, in the second aspect, the n number of light receiving elements provided for each of the n number of light receiving elements for inputting a pixel signal output from the corresponding light receiving element. An input terminal and n input terminals are provided corresponding to each of the n input terminals, a first current input / output electrode is connected to the corresponding input terminal, and a second current input / output electrode is connected to the switching network. Pixel selection transistors,
A pixel selection control circuit that controls on / off of each of the n pixel selection transistors based on the defective pixel information, and a first current input / output that is provided corresponding to each of the p switching unit networks. Electrodes connected to the output end of the corresponding switching unit network, the second current input / output electrode connected to the corresponding integration circuit, and p transistors having a constant voltage applied to the control electrode. Things.

【0018】本発明中、第7の発明によれば、n個の画
素選択トランジスタと、画素選択制御回路とで、欠陥画
素からの画素信号を遮断するための画素選択回路が構成
されている。
According to a seventh aspect of the present invention, a pixel selection circuit for cutting off a pixel signal from a defective pixel is composed of n pixel selection transistors and a pixel selection control circuit.

【0019】本発明中、第8の発明は、第5、第6又は
第7の発明において、画素選択制御回路は、n個の画素
選択トランジスタのそれぞれに対応させて設けられたn
個のRSフリップフロップ回路と、n個のRSフリップ
フロップ回路のそれぞれに対応させて設けられ、欠陥画
素情報を記憶させるレジスタと、n個のRSフリップフ
ロップ回路のそれぞれに対応させて設けられ、一端を対
応するレジスタの出力端に接続され、他端を対応するR
Sフリップフロップ回路のリセット信号入力端子に接続
され、書込み信号によりオン、オフが制御されるn個の
第1のスイッチ素子と、n個のRSフリップフロップ回
路のそれぞれに対応させて設けられ、一端を高電位側の
電源線に接続され、他端を対応するRSフリップフロッ
プ回路のリセット信号入力端子に接続され、リセット信
号によりオン、オフが制御されるn個の第2のスイッチ
素子とを備えているというものである。
According to an eighth aspect of the present invention, in the fifth, sixth or seventh aspect, the pixel selection control circuit comprises n pixel selection transistors provided corresponding to each of the n pixel selection transistors.
Registers provided for each of the RS flip-flop circuits and the n RS flip-flop circuits, for storing defective pixel information, and provided for each of the n RS flip-flop circuits. Is connected to the output terminal of the corresponding register, and the other end is connected to the corresponding R
One end is provided corresponding to each of the n first switch elements connected to the reset signal input terminal of the S flip-flop circuit, the on / off of which is controlled by a write signal, and the n RS flip-flop circuits. Are connected to a high-potential-side power supply line, the other end is connected to a reset signal input terminal of a corresponding RS flip-flop circuit, and n second switch elements whose on / off are controlled by the reset signal are provided. It is that.

【0020】本発明中、第9の発明は、画像信号読出回
路の発明であり、走査方向にn個、走査方向と直交する
方向にm個の受光素子を行列状に配列した撮像センサの
m個の走査チャネル数のそれぞれに対応させて設けられ
たm個の第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7又
は第8の発明のTDI回路と、これらm個の第1、第
2、第3、第4、第5、第6、第7又は第8の発明のT
DI回路により得られるm個の走査チャネルの画素信号
を1次元的に多重化された画像信号とするように、m個
の第1、第2、第3、第4、第5、第6、第7又は第8
の発明のTDI回路からの画素信号の読出しを制御する
読出制御回路とを備えているというものである。
In a ninth aspect of the present invention, there is provided an image signal readout circuit. The image signal readout circuit comprises an m-th image sensor having n light receiving elements arranged in a matrix in a scanning direction and m light receiving elements in a direction orthogonal to the scanning direction. M TDI circuits of the first, second, third, fourth, fifth, sixth, seventh, or eighth inventions provided in correspondence with the respective number of scanning channels, and Of the first, second, third, fourth, fifth, sixth, seventh or eighth aspect of the present invention.
The m first, second, third, fourth, fifth, sixth,..., M pixel signals of the scan channels obtained by the DI circuit are converted into one-dimensionally multiplexed image signals. 7th or 8th
And a readout control circuit for controlling reading out of the pixel signal from the TDI circuit of the invention.

【0021】本発明中、第10の発明は、撮像デバイス
の発明であり、走査方向にn個、走査方向と直交する方
向にm個の受光素子を行列状に配列された撮像センサ
と、第9の発明の画像信号読出回路とを備えているとい
うものである。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided an imaging device, wherein an imaging sensor in which n light receiving elements are arranged in a scanning direction and m light receiving elements are arranged in a matrix in a direction orthogonal to the scanning direction. And an image signal readout circuit according to the ninth aspect.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明のTDI回路の第1
実施形態〜第4実施形態について、本発明の画像信号読
出回路及び撮像デバイスの実施形態を含めて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the first embodiment of the TDI circuit of the present invention will be described.
Embodiments 4 to 4 will be described, including embodiments of the image signal readout circuit and the imaging device of the present invention.

【0023】第1実施形態・・図1〜図9 図1は本発明のTDI回路の第1実施形態を赤外線ライ
ンセンサに形成された受光素子の一部と共に示す回路図
であり、図1中、1−1、1−2、1−3、1−4は赤
外線ラインセンサの走査方向に一列に配列された受光素
子、2は本発明のTDI回路の第1実施形態である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of a TDI circuit of the present invention together with a part of a light receiving element formed in an infrared line sensor. Reference numerals 1-1, 1-2, 1-3, and 1-4 denote light receiving elements arranged in a line in the scanning direction of the infrared line sensor, and reference numeral 2 denotes a first embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【0024】本発明のTDI回路の第1実施形態2にお
いて、3−1、3−2、3−3、3−4は受光素子1−
1、1−2、1−3、1−4から出力される画素信号G
1、G2、G3、G4を入力するための入力端子、4は
入力回路である。
In the first embodiment 2 of the TDI circuit of the present invention, reference numerals 3-1, 3-2, 3-3, and 3-4 denote light receiving elements 1--3.
Pixel signal G output from 1, 1-2, 1-3, 1-4
1, an input terminal for inputting G2, G3, and G4; and 4, an input circuit.

【0025】また、5は入力回路4から出力される画素
信号G1、G2、G3、G4を後述する積分回路に供給
するスイッチング回路網、6−1、6−2、6−3、6
−4はスイッチング回路網5から供給される画素信号を
積分する積分回路である。
Reference numeral 5 denotes a switching network for supplying pixel signals G1, G2, G3, and G4 output from the input circuit 4 to an integration circuit to be described later; 6-1; 6-2; 6-3;
Reference numeral -4 denotes an integration circuit for integrating the pixel signal supplied from the switching network 5.

【0026】また、7−1、7−2、7−3、7−4は
積分回路6−1、6−2、6−3、6−4の蓄積電圧を
サンプリングするサンプリング回路、8−1、8−2、
8−3、8−4は積分回路6−1、6−2、6−3、6
−4のリセットを行うリセット回路である。
Reference numerals 7-1, 7-2, 7-3, and 7-4 denote sampling circuits for sampling the accumulated voltages of the integration circuits 6-1, 6-2, 6-3, and 6-4. , 8-2,
8-3 and 8-4 are integrating circuits 6-1, 6-2, 6-3 and 6
-4 is a reset circuit for resetting.

【0027】また、9はサンプリング回路8−1、8−
2、8−3、8−4によりサンプリングされた蓄積電圧
を画素信号として出力させるための出力バッファ回路で
ある。
Reference numeral 9 denotes a sampling circuit 8-1, 8-
An output buffer circuit for outputting the accumulated voltage sampled by 2, 8, 3 and 8-4 as a pixel signal.

【0028】また、10は他のTDI回路に共通の共通
バス、11は出力制御信号SRによりオン、オフが制御
され、出力バッファ回路9の出力端の共通バス10への
接続を制御するnMOSトランジスタである。
Reference numeral 10 denotes a common bus common to other TDI circuits. Reference numeral 11 denotes an nMOS transistor which is turned on and off by an output control signal SR and controls the connection of the output terminal of the output buffer circuit 9 to the common bus 10. It is.

【0029】図2は入力回路4の構成を示す回路図であ
り、図2中、13−1、13−2、13−3、13−4
は入力トランジスタをなすnMOSトランジスタ、VIG
はnMOSトランジスタ13−1、13−2、13−
3、13−4のゲートに印加するゲートバイアス電圧で
ある。
FIG. 2 is a circuit diagram showing the configuration of the input circuit 4. In FIG. 2, reference numerals 13-1, 13-2, 13-3, 13-4
Is an nMOS transistor serving as an input transistor, V IG
Are nMOS transistors 13-1, 13-2, 13-
3, 13-4 are gate bias voltages applied to the gates.

【0030】また、14−1、14−2、14−3、1
4−4は欠陥画素からの画素信号を遮断するための画素
選択トランジスタをなすnMOSトランジスタ、15は
nMOSトランジスタ14−1、14−2、14−3、
14−4のオン、オフを制御する画素選択制御回路、D
S1、DS2、DS3、DS4は画素選択制御回路15
から出力される画素選択制御信号である。
Further, 14-1, 14-2, 14-3, 1
Reference numeral 4-4 denotes an nMOS transistor serving as a pixel selection transistor for cutting off a pixel signal from a defective pixel. Reference numeral 15 denotes nMOS transistors 14-1, 14-2, and 14-3.
14-4, a pixel selection control circuit for controlling on and off,
S1, DS2, DS3 and DS4 are the pixel selection control circuits 15
Is a pixel selection control signal output from.

【0031】図3は画素選択制御回路15の構成を示す
回路図であり、図3中、16はシフトレジスタ、17−
1、17−2、17−3、17−4はシフトレジスタ1
6を構成する1ビットのレジスタ、18−1、18−
2、18−3、18−4はRSフリップフロップ回路で
ある。
FIG. 3 is a circuit diagram showing the configuration of the pixel selection control circuit 15. In FIG. 3, reference numeral 16 denotes a shift register, and 17-
1, 17-2, 17-3 and 17-4 are shift registers 1
6, 1-bit registers, 18-1 and 18-
2, 18-3 and 18-4 are RS flip-flop circuits.

【0032】また、19−1、19−2、19−3、1
9−4は書込み信号Wによりオン、オフが制御されるp
MOSトランジスタ、20−1、20−2、20−3、
20−4はリセット信号Rによりオン、オフが制御され
るpMOSトランジスタ、21は電源電圧Vddを供給す
る電源線である。
Further, 19-1, 19-2, 19-3, 1
9-4 is p whose on / off is controlled by the write signal W
MOS transistors, 20-1, 20-2, 20-3,
Reference numeral 20-4 denotes a pMOS transistor whose on / off is controlled by the reset signal R, and reference numeral 21 denotes a power supply line for supplying a power supply voltage Vdd.

【0033】図4はスイッチング回路網5、積分回路6
−1〜6−4、サンプリング回路7−1〜7−4、リセ
ット回路8−1〜8−4及び出力バッファ回路9の構成
を示す回路図である。
FIG. 4 shows a switching network 5 and an integrating circuit 6.
FIG. 3 is a circuit diagram illustrating configurations of −1 to 6-4, sampling circuits 7-1 to 7-4, reset circuits 8-1 to 8-4, and an output buffer circuit 9.

【0034】図4中、スイッチング回路網5において、
23−1、23−2、23−3、23−4は画素信号G
1、G2、G3、G4の選択を行うスイッチング単位回
路網である。
In FIG. 4, in the switching network 5,
23-1, 23-2, 23-3, and 23-4 are pixel signals G
1, a switching unit network for selecting G2, G3, and G4.

【0035】スイッチング単位回路網23−1におい
て、24はスイッチング制御信号SW1によりオン、オ
フが制御され、入力回路4から出力される画素信号G1
の選択を行うスイッチング素子をなすnMOSトランジ
スタである。
In the switching unit network 23-1, 24 is controlled to be turned on and off by a switching control signal SW1, and a pixel signal G1 output from the input circuit 4 is output.
Is an nMOS transistor that serves as a switching element for selecting.

【0036】また、25はスイッチング制御信号SW2
によりオン、オフが制御され、入力回路4から出力され
る画素信号G2の選択を行うスイッチング素子をなすn
MOSトランジスタである。
Reference numeral 25 denotes a switching control signal SW2.
ON and OFF are controlled by n, and the switching element n selects the pixel signal G2 output from the input circuit 4.
It is a MOS transistor.

【0037】また、26はスイッチング制御信号SW3
によりオン、オフが制御され、入力回路4から出力され
る画素信号G3の選択を行うスイッチング素子をなすn
MOSトランジスタである。
Reference numeral 26 denotes a switching control signal SW3.
ON and OFF are controlled by n, and the switching element n selects the pixel signal G3 output from the input circuit 4.
It is a MOS transistor.

【0038】また、27はスイッチング制御信号SW4
によりオン、オフが制御され、入力回路4から出力され
る画素信号G4の選択を行うスイッチング素子をなすn
MOSトランジスタである。
Reference numeral 27 denotes a switching control signal SW4.
ON and OFF are controlled by n, and the switching element n selects the pixel signal G4 output from the input circuit 4.
It is a MOS transistor.

【0039】また、スイッチング単位回路網23−2に
おいて、28はスイッチング制御信号SW4によりオ
ン、オフが制御され、入力回路4から出力される画素信
号G1の選択を行うスイッチング素子をなすnMOSト
ランジスタである。
In the switching unit circuit network 23-2, reference numeral 28 denotes an nMOS transistor which is turned on and off by a switching control signal SW4 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G1 output from the input circuit 4. .

【0040】また、29はスイッチング制御信号SW1
によりオン、オフが制御され、入力回路4から出力され
る画素信号G2の選択を行うスイッチング素子をなすn
MOSトランジスタである。
Reference numeral 29 denotes a switching control signal SW1.
ON and OFF are controlled by n, and the switching element n selects the pixel signal G2 output from the input circuit 4.
It is a MOS transistor.

【0041】また、30はスイッチング制御信号SW2
によりオン、オフが制御され、入力回路4から出力され
る画素信号G3の選択を行うスイッチング素子をなすn
MOSトランジスタである。
Reference numeral 30 denotes a switching control signal SW2.
ON and OFF are controlled by n, and the switching element n selects the pixel signal G3 output from the input circuit 4.
It is a MOS transistor.

【0042】また、31はスイッチング制御信号SW3
によりオン、オフが制御され、入力回路4から出力され
る画素信号G4の選択を行うスイッチング素子をなすn
MOSトランジスタである。
Reference numeral 31 denotes a switching control signal SW3.
ON and OFF are controlled by n, and the switching element n selects the pixel signal G4 output from the input circuit 4.
It is a MOS transistor.

【0043】また、スイッチング単位回路網23−3に
おいて、32はスイッチング制御信号SW3によりオ
ン、オフが制御され、入力回路4から出力される画素信
号G1の選択を行うスイッチング素子をなすnMOSト
ランジスタである。
In the switching unit network 23-3, reference numeral 32 denotes an nMOS transistor which is turned on and off by a switching control signal SW3 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G1 output from the input circuit 4. .

【0044】また、33はスイッチングSW4によりオ
ン、オフが制御され、入力回路4から出力される画素信
号G2の選択を行うスイッチング素子をなすnMOSト
ランジスタである。
Reference numeral 33 denotes an nMOS transistor which is turned on and off by a switching SW 4 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G 2 output from the input circuit 4.

【0045】また、34はスイッチング制御信号SW1
によりオン、オフが制御され、入力回路4から出力され
る画素信号G3の選択を行うスイッチング素子をなすn
MOSトランジスタである。
Reference numeral 34 denotes a switching control signal SW1.
ON and OFF are controlled by n, and the switching element n selects the pixel signal G3 output from the input circuit 4.
It is a MOS transistor.

【0046】また、35はスイッチング制御信号SW2
によりオン、オフが制御され、入力回路4から出力され
る画素信号G4の選択を行うスイッチング素子をなすn
MOSトランジスタである。
Reference numeral 35 denotes a switching control signal SW2.
ON and OFF are controlled by n, and the switching element n selects the pixel signal G4 output from the input circuit 4.
It is a MOS transistor.

【0047】また、スイッチング単位回路網23−4に
おいて、36はスイッチング制御信号SW2によりオ
ン、オフが制御され、入力回路4から出力される画素信
号G1の選択を行うスイッチング素子をなすnMOSト
ランジスタである。
In the switching unit circuit network 23-4, reference numeral 36 denotes an nMOS transistor which is turned on and off by a switching control signal SW2 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G1 output from the input circuit 4. .

【0048】また、37はスイッチング制御信号SW3
によりオン、オフが制御され、入力回路4から出力され
る画素信号G2の選択を行うスイッチング素子をなすn
MOSトランジスタである。
Reference numeral 37 denotes a switching control signal SW3.
ON and OFF are controlled by n, and the switching element n selects the pixel signal G2 output from the input circuit 4.
It is a MOS transistor.

【0049】また、38はスイッチング制御信号SW4
によりオン、オフが制御され、入力回路4から出力され
る画素信号G3の選択を行うスイッチング素子をなすn
MOSトランジスタである。
Reference numeral 38 denotes a switching control signal SW4
ON and OFF are controlled by n, and the switching element n selects the pixel signal G3 output from the input circuit 4.
It is a MOS transistor.

【0050】また、39はスイッチング制御信号SW1
によりオン、オフが制御され、入力回路4から出力され
る画素信号G4の選択を行うスイッチング素子をなすn
MOSトランジスタである。
Reference numeral 39 denotes a switching control signal SW1.
ON and OFF are controlled by n, and the switching element n selects the pixel signal G4 output from the input circuit 4.
It is a MOS transistor.

【0051】また、積分回路6−1において、40−1
はスイッチング単位回路網23−1から出力される画素
信号を積分する積分容量であり、一方の電極をスイッチ
ング単位回路網23−1の画素信号出力端に接続され、
他方の電極を接地電圧VSSを供給する接地線41に接
続されている。
In the integrating circuit 6-1, 40-1
Is an integration capacitance for integrating a pixel signal output from the switching unit network 23-1, one of the electrodes is connected to a pixel signal output terminal of the switching unit network 23-1,
The other electrode is connected to a ground line 41 that supplies the ground voltage VSS.

【0052】また、積分回路6−2において、40−2
はスイッチング単位回路網23−2から出力される画素
信号を積分する積分容量であり、一方の電極をスイッチ
ング単位回路網23−2の画素信号出力端に接続され、
他端を接地線41に接続されている。
In the integrating circuit 6-2, 40-2
Is an integration capacitance for integrating a pixel signal output from the switching unit network 23-2, one of the electrodes is connected to a pixel signal output terminal of the switching unit network 23-2,
The other end is connected to a ground line 41.

【0053】また、積分回路6−3において、40−3
はスイッチング単位回路網23−3から出力される画素
信号を積分する積分容量であり、一方の電極をスイッチ
ング単位回路網23−3の画素信号出力端に接続され、
他方の電極を接地線41に接続されている。
Also, in the integrating circuit 6-3, 40-3
Is an integration capacitance for integrating a pixel signal output from the switching unit network 23-3, one of the electrodes is connected to a pixel signal output terminal of the switching unit network 23-3,
The other electrode is connected to a ground line 41.

【0054】また、積分回路6−4において、40−4
はスイッチング単位回路網23−4から出力される画素
信号を積分する積分容量であり、一方の電極をスイッチ
ング単位回路網23−4の画素信号出力端に接続され、
他方の電極を接地線41に接続されている。
In addition, in the integrating circuit 6-4, 40-4
Is an integration capacitance for integrating a pixel signal output from the switching unit network 23-4, one electrode of which is connected to a pixel signal output terminal of the switching unit network 23-4,
The other electrode is connected to a ground line 41.

【0055】また、サンプリング回路7−1において、
42−1はサンプリング信号SP1によりオン、オフが
制御されるnMOSトランジスタであり、ドレインを積
分容量40−1の画素信号が印加される電極に接続さ
れ、ソースを出力バッファ回路9を構成するnMOSト
ランジスタ43のゲートに接続されている。
In the sampling circuit 7-1,
Reference numeral 42-1 denotes an nMOS transistor whose on / off is controlled by the sampling signal SP1, whose drain is connected to the electrode of the integration capacitor 40-1 to which the pixel signal is applied, and whose source is the nMOS transistor constituting the output buffer circuit 9. 43 are connected to the gate.

【0056】また、サンプリング回路7−2において、
42−2はサンプリング信号SP2によりオン、オフが
制御されるnMOSトランジスタであり、ドレインを積
分容量40−2の画素信号が印加される電極に接続さ
れ、ソースを出力バッファ回路9を構成するnMOSト
ランジスタ43のゲートに接続されている。
In the sampling circuit 7-2,
Reference numeral 42-2 denotes an nMOS transistor whose on / off is controlled by the sampling signal SP2, the drain of which is connected to the electrode of the integration capacitor 40-2 to which the pixel signal is applied, and the source of which is the nMOS transistor constituting the output buffer circuit 9. 43 are connected to the gate.

【0057】また、サンプリング回路7−3において、
42−3はサンプリング信号SP3によりオン、オフが
制御されるnMOSトランジスタであり、ドレインを積
分容量40−3の画素信号が印加される電極に接続さ
れ、ソースを出力バッファ回路9を構成するnMOSト
ランジスタ43のゲートに接続されている。
In the sampling circuit 7-3,
Reference numeral 42-3 denotes an nMOS transistor whose on / off is controlled by the sampling signal SP3, the drain of which is connected to the electrode of the integration capacitor 40-3 to which the pixel signal is applied, and the source of which is the nMOS transistor constituting the output buffer circuit 9. 43 are connected to the gate.

【0058】また、サンプリング回路7−4において、
42−4はサンプリング信号SP4によりオン、オフが
制御されるnMOSトランジスタであり、ドレインを積
分容量40−4の画素信号が印加される電極に接続さ
れ、ソースを出力バッファ回路9を構成するnMOSト
ランジスタ43のゲートに接続されている。
In the sampling circuit 7-4,
Reference numeral 42-4 denotes an nMOS transistor whose on / off is controlled by the sampling signal SP4, the drain of which is connected to the electrode of the integration capacitor 40-4 to which the pixel signal is applied, and the source of which is the nMOS transistor constituting the output buffer circuit 9. 43 are connected to the gate.

【0059】また、リセット回路8−1において、44
−1はリセット信号RS1によりオン、オフが制御され
るpMOSトランジスタであり、ソースを電源電圧Vdd
を供給する電源線45に接続され、ドレインを積分容量
40−1の画素信号が印加される電極に接続されてい
る。
In the reset circuit 8-1, 44
-1 is a pMOS transistor whose on / off is controlled by the reset signal RS1, and has a source connected to the power supply voltage Vdd.
And the drain is connected to the electrode of the integration capacitor 40-1 to which the pixel signal is applied.

【0060】また、リセット回路8−2において、44
−2はリセット信号RS2によりオン、オフが制御され
るpMOSトランジスタであり、ソースを電源線45に
接続され、ドレインを積分容量40−2の画素信号が印
加される電極に接続されている。
In the reset circuit 8-2, 44
Reference numeral -2 denotes a pMOS transistor whose on / off is controlled by the reset signal RS2. The source is connected to the power supply line 45, and the drain is connected to the electrode of the integration capacitor 40-2 to which the pixel signal is applied.

【0061】また、リセット回路8−3において、44
−3はリセット信号RS3によりオン、オフが制御され
るpMOSトランジスタであり、ソースを電源線45に
接続され、ドレインを積分容量40−3の画素信号が印
加される電極に接続されている。
In the reset circuit 8-3, 44
Reference numeral -3 denotes a pMOS transistor whose on / off is controlled by the reset signal RS3. The source is connected to the power supply line 45, and the drain is connected to the electrode of the integration capacitor 40-3 to which the pixel signal is applied.

【0062】また、リセット回路8−4において、44
−4はリセット信号RS4によりオン、オフが制御され
るpMOSトランジスタであり、ソースを電源線45に
接続され、ドレインを積分容量40−4の画素信号が印
加される電極に接続されている。
In the reset circuit 8-4, 44
Reference numeral -4 denotes a pMOS transistor whose on / off is controlled by the reset signal RS4. The source is connected to the power supply line 45, and the drain is connected to the electrode of the integration capacitor 40-4 to which the pixel signal is applied.

【0063】また、出力バッファ9を構成するnMOS
トランジスタ43は、ドレインを電源線45に接続さ
れ、ソースをnMOSトランジスタ11のドレインに接
続され、ソースフォロア回路を構成している。
The nMOS constituting the output buffer 9
The transistor 43 has a drain connected to the power supply line 45, a source connected to the drain of the nMOS transistor 11, and forms a source follower circuit.

【0064】図5は本発明のTDI回路の第1実施形態
2の使用態様を示す回路図であり、本発明の撮像デバイ
スの一実施形態を示している。
FIG. 5 is a circuit diagram showing the usage of the first embodiment 2 of the TDI circuit of the present invention, and shows one embodiment of the imaging device of the present invention.

【0065】図5中、47は受光素子を走査方向に4
個、走査方向と直交する方向にm個配列してなる赤外線
ラインセンサであり、48−i1、48−i2、48−
i3、48−i4(但し、i=1、2、・・・mであ
る。)は、第iの走査チャネルの受光素子である。
In FIG. 5, reference numeral 47 denotes a light-receiving element which is moved 4 times in the scanning direction.
And m infrared ray sensors arranged in a direction orthogonal to the scanning direction, and 48-i1, 48-i2, 48-i.
i3, 48-i4 (where i = 1, 2,..., m) are light receiving elements of the i-th scanning channel.

【0066】また、49は本発明の画像信号読出回路の
一実施形態であり、50−iは第iの走査チャネルの受
光素子48−i1、48−i2、48−i3、48−i
4に対応して設けられている本発明のTDI回路の第1
実施形態2と同一構成とされたTDI回路である。
Reference numeral 49 denotes an embodiment of the image signal reading circuit of the present invention, and reference numeral 50-i denotes light receiving elements 48-i1, 48-i2, 48-i3, 48-i of the i-th scanning channel.
4 of the TDI circuit of the present invention provided corresponding to
This is a TDI circuit having the same configuration as the second embodiment.

【0067】また、51は本発明のTDI回路の第1実
施形態2と同一構成とされたTDI回路50−1、50
−2、・・・50−mから画素信号を順に出力させるた
めのシフトレジスタ、SR1、SR2、・・・SRmは
順に、かつ、選択的にHレベルとされる出力制御信号で
あり、図1に示す出力制御信号SRに対応する信号であ
る。
Reference numeral 51 denotes TDI circuits 50-1 and 50 having the same configuration as the first embodiment 2 of the TDI circuit of the present invention.
,..., And SRm are output control signals that are sequentially and selectively set to an H level. Is a signal corresponding to the output control signal SR shown in FIG.

【0068】図6は本発明のTDI回路の第1実施形態
2の駆動タイミングを示すタイミングチャートであり、
本発明のTDI回路の第1実施形態2においては、スイ
ッチング制御信号SW1〜SW4、サンプリング信号S
P1〜SP4及びリセット信号RS1〜RS4は、SW
1→SP4→RS4→SW2→SP3→RS3→SW3
→SP2→RS2→SW4→SP1→RS1の順に、か
つ、選択的に活性レベルとされ、これが繰り返される。
FIG. 6 is a timing chart showing the drive timing of the first embodiment 2 of the TDI circuit of the present invention.
In the first embodiment 2 of the TDI circuit of the present invention, the switching control signals SW1 to SW4 and the sampling signal S
P1 to SP4 and reset signals RS1 to RS4 are SW
1 → SP4 → RS4 → SW2 → SP3 → RS3 → SW3
The active level is selectively set in the order of → SP2 → RS2 → SW4 → SP1 → RS1, and this is repeated.

【0069】ここに、時刻T1になると、スイッチング
制御信号SW1=Hレベルとされ、スイッチング回路網
5においては、nMOSトランジスタ24、29、3
4、39=ONとされ、積分容量40−1、40−2、
40−3、40−4には、それぞれ、図7に示すよう
に、画素信号G1、G2、G3、G4が供給される。
Here, at time T1, the switching control signal SW1 is set to the H level, and in the switching network 5, the nMOS transistors 24, 29, 3
4, 39 = ON, and the integral capacities 40-1, 40-2,
As shown in FIG. 7, pixel signals G1, G2, G3, and G4 are supplied to 40-3 and 40-4, respectively.

【0070】そして、画素信号供給期間ΔT1が終了す
ると、スイッチング制御信号SW1=Lレベルとされ、
nMOSトランジスタ24、29、34、39=OFF
とされると共に、サンプリング信号SP4=Hレベル、
nMOSトランジスタ42−4=ONとされ、積分容量
40−4の蓄積電圧がnMOSトランジスタ43のゲー
トに印加される。
When the pixel signal supply period ΔT1 ends, the switching control signal SW1 is set to L level,
nMOS transistors 24, 29, 34, 39 = OFF
And the sampling signal SP4 = H level,
The nMOS transistor 42-4 is turned ON, and the accumulated voltage of the integration capacitor 40-4 is applied to the gate of the nMOS transistor 43.

【0071】続いて、サンプリング信号SP4=Lレベ
ル、nMOSトランジスタ42−4=OFFとされると
共に、リセット信号RS4=Lレベル、pMOSトラン
ジスタ44−4=ONとされ、積分容量40−4の蓄積
電圧が電源電圧Vddにリセットされる。
Subsequently, the sampling signal SP4 = L level, the nMOS transistor 42-4 = OFF, the reset signal RS4 = L level, the pMOS transistor 44-4 = ON, and the accumulation voltage of the integration capacitor 40-4. Is reset to the power supply voltage Vdd.

【0072】そして、時刻T2になると、リセット信号
RS4=Hレベル、pMOSトランジスタ44−4=O
FFとされると共に、スイッチング制御信号SW2=H
レベルとされ、nMOSトランジスタ25、30、3
5、36=ONとされ、積分容量40−1、40−2、
40−3、40−4には、それぞれ、図7に示すよう
に、画素信号G2、G3、G4、G1が供給される。
At time T2, the reset signal RS4 = H level and the pMOS transistor 44-4 = O
FF and the switching control signal SW2 = H
Level, and the nMOS transistors 25, 30, 3
5, 36 = ON, the integration capacitances 40-1, 40-2,
As shown in FIG. 7, pixel signals G2, G3, G4, and G1 are supplied to 40-3 and 40-4, respectively.

【0073】そして、画素信号供給期間ΔT2が終了す
ると、スイッチング制御信号SW2=Lレベルとされ、
nMOSトランジスタ25、30、35、36=OFF
とされると共に、サンプリング信号SP3=Hレベル、
nMOSトランジスタ42−3=ONとされ、積分容量
40−3の蓄積電圧がnMOSトランジスタ43のゲー
トに印加される。
When the pixel signal supply period ΔT2 ends, the switching control signal SW2 is set to L level,
nMOS transistors 25, 30, 35, 36 = OFF
And the sampling signal SP3 = H level,
The nMOS transistor 42-3 is turned ON, and the accumulated voltage of the integration capacitor 40-3 is applied to the gate of the nMOS transistor 43.

【0074】続いて、サンプリング信号SP3=Lレベ
ル、nMOSトランジスタ42−3=OFFとされると
共に、リセット信号RS3=Lレベル、pMOSトラン
ジスタ44−3=ONとされ、積分容量40−3の蓄積
電圧が電源電圧Vddにリセットされる。
Subsequently, the sampling signal SP3 = L level, the nMOS transistor 42-3 = OFF, the reset signal RS3 = L level, the pMOS transistor 44-3 = ON, and the accumulated voltage of the integration capacitor 40-3. Is reset to the power supply voltage Vdd.

【0075】そして、時刻T3になると、リセット信号
RS3=Hレベル、pMOSトランジスタ44−3=O
FFとされると共に、スイッチング制御信号SW3=H
レベルとされ、nMOSトランジスタ26、31、3
2、37=ONとされ、積分容量40−1、40−2、
40−3、40−4には、それぞれ、図7に示すよう
に、画素信号G3、G4、G1、G2が供給される。
At time T3, the reset signal RS3 = H level and the pMOS transistor 44-3 = O
FF and the switching control signal SW3 = H
Level, and the nMOS transistors 26, 31, 3
2, 37 = ON, and the integral capacities 40-1, 40-2,
As shown in FIG. 7, pixel signals G3, G4, G1, and G2 are supplied to 40-3 and 40-4, respectively.

【0076】そして、画素信号供給期間ΔT3が終了す
ると、スイッチング制御信号SW3=Lレベルとされ、
nMOSトランジスタ26、31、32、37=OFF
とされると共に、サンプリング信号SP2=Hレベル、
nMOSトランジスタ42−2=ONとされ、積分容量
40−2の蓄積電圧がnMOSトランジスタ43のゲー
トに印加される。
When the pixel signal supply period ΔT3 ends, the switching control signal SW3 is set to L level, and
nMOS transistors 26, 31, 32, 37 = OFF
And the sampling signal SP2 = H level,
The nMOS transistor 42-2 is turned ON, and the accumulated voltage of the integration capacitor 40-2 is applied to the gate of the nMOS transistor 43.

【0077】続いて、サンプリング信号SP2=Lレベ
ル、nMOSトランジスタ42−2=OFFとされると
共に、リセット信号RS2=Lレベル、pMOSトラン
ジスタ44−2=ONとされ、積分容量40−2の蓄積
電圧が電源電圧Vddにリセットされる。
Subsequently, the sampling signal SP2 = L level, the nMOS transistor 42-2 = OFF, the reset signal RS2 = L level, the pMOS transistor 44-2 = ON, and the accumulated voltage of the integration capacitor 40-2. Is reset to the power supply voltage Vdd.

【0078】そして、時刻T4になると、リセット信号
RS2=Hレベル、pMOSトランジスタ44−2=O
FFとされると共に、スイッチング制御信号SW2=H
レベルとされ、nMOSトランジスタ27、28、3
3、38=ONとされ、積分容量40−1、40−2、
40−3、40−4には、それぞれ、図7に示すよう
に、画素信号G4、G1、G2、G3が供給される。
At time T4, the reset signal RS2 = H level and the pMOS transistor 44-2 = O
FF and the switching control signal SW2 = H
Level, and the nMOS transistors 27, 28, 3
3, 38 = ON, the integration capacitances 40-1, 40-2,
Pixel signals G4, G1, G2, and G3 are supplied to 40-3 and 40-4, respectively, as shown in FIG.

【0079】そして、画素信号供給期間ΔT4が終了す
ると、スイッチング制御信号SW4=Lレベルとされ、
nMOSトランジスタ27、28、33、38=OFF
とされると共に、サンプリング信号SP1=Hレベル、
nMOSトランジスタ42−1=ONとされ、積分容量
40−1の蓄積電圧がnMOSトランジスタ43のゲー
トに印加される。
When the pixel signal supply period ΔT4 ends, the switching control signal SW4 is set to L level,
nMOS transistors 27, 28, 33, 38 = OFF
And the sampling signal SP1 = H level,
The nMOS transistor 42-1 is turned on, and the storage voltage of the integration capacitor 40-1 is applied to the gate of the nMOS transistor 43.

【0080】続いて、サンプリング信号SP1=Lレベ
ル、nMOSトランジスタ42−1=OFFとされると
共に、リセット信号RS1=Lレベル、nMOSトラン
ジスタ44−1=ONとされ、積分容量40−1の蓄積
電圧が電源電圧Vddにリセットされる。以下、同様の動
作が繰り返される。
Subsequently, the sampling signal SP1 is set at L level, the nMOS transistor 42-1 is turned off, the reset signal RS1 is set at L level, the nMOS transistor 44-1 is turned on, and the accumulated voltage of the integration capacitor 40-1 is set. Is reset to the power supply voltage Vdd. Hereinafter, the same operation is repeated.

【0081】図8は本発明のTDI回路の第1実施形態
2により得られる時間遅延積分結果を説明するための図
であり、図8中、52は撮像対象、a〜jは画素信号を
得るべき撮像対象52の撮像点である。
FIG. 8 is a diagram for explaining the result of the time delay integration obtained by the first embodiment 2 of the TDI circuit of the present invention. In FIG. 8, reference numeral 52 denotes an object to be imaged, and a to j indicate pixel signals. This is the imaging point of the imaging target 52 to be shot.

【0082】この例は、受光素子1−1は撮像点d〜j
を順に走査し、受光素子1−2は撮像点c〜iを順に走
査し、受光素子1−3は撮像点b〜hを順に走査し、受
光素子1−4は撮像点a〜gを順に走査するように、赤
外線ラインセンサを走査方向に移動する場合を示してい
る。なお、A〜Jは、それぞれ、1個の受光素子が各撮
像点a〜jを撮像した場合に得られる画素信号を示して
いる。
In this example, the light receiving element 1-1 has image pickup points d to j.
Are sequentially scanned, the light receiving element 1-2 sequentially scans the imaging points c to i, the light receiving element 1-3 sequentially scans the imaging points b to h, and the light receiving element 1-4 sequentially scans the imaging points a to g. The case where the infrared line sensor is moved in the scanning direction so as to perform scanning is shown. In addition, A to J indicate pixel signals obtained when one light receiving element images each of the imaging points a to j.

【0083】図9は図8に示すように撮像対象52を走
査した場合における画素信号供給期間ΔT1〜ΔT7
と、受光素子1−1〜1−4から出力される画素信号G
1〜G4の内容と、積分容量40−1〜40−4に分配
される画素信号と、サンプリングされる蓄積電圧V0を
形成した画素信号との関係を示す図である。
FIG. 9 shows pixel signal supply periods ΔT1 to ΔT7 when the object 52 is scanned as shown in FIG.
And the pixel signal G output from the light receiving elements 1-1 to 1-4
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between contents of 1 to G4, pixel signals distributed to integration capacitors 40-1 to 40-4, and pixel signals forming a storage voltage V0 to be sampled.

【0084】このように、本発明のTDI回路の第1実
施形態2においては、TDI走査開始後、撮像対象52
の端部の撮像点aから3個目以降の撮像点d、e、f・
・・の画素信号D、E、F・・・については、4回にわ
たり時間遅延積分を行うことによりTDI機能を達成す
ることができる。
As described above, in the first embodiment of the TDI circuit of the present invention, after the start of TDI scanning,
From the imaging point a at the end of the third imaging point d, e, f.
For the pixel signals D, E, F,..., The TDI function can be achieved by performing time delay integration four times.

【0085】また、本発明のTDI回路の第1実施形態
2においては、図3に示す画素選択制御回路15におい
て、セット信号S=Hレベルにすると、画素選択制御信
号DS1〜DS4=Hレベルとなり、画素選択トランジ
スタをなすnMOSトランジスタ14−1〜14−4=
ONとなる。
In the first embodiment 2 of the TDI circuit of the present invention, when the set signal S = H level in the pixel selection control circuit 15 shown in FIG. 3, the pixel selection control signals DS1 to DS4 = H level. , NMOS transistors 14-1 to 14-4 serving as pixel selection transistors =
Becomes ON.

【0086】また、スイッチング制御信号SW1=Hレ
ベル、スイッチング制御信号SW2〜SW4=Lレベル
とすると、スイッチングトランジスタをなすnMOSト
ランジスタ24、29、34、39=ON、スイッチン
グトランジスタをなすnMOSトランジスタ25〜2
7、28、30〜33、35〜38=OFFとなる。
When the switching control signal SW1 is at the H level and the switching control signals SW2 to SW4 are at the L level, the nMOS transistors 24, 29, 34, and 39 as the switching transistors are ON, and the nMOS transistors 25 and 2 as the switching transistors are turned on.
7, 28, 30 to 33, 35 to 38 = OFF.

【0087】このようにすると、受光素子1−1〜1−
4が出力する画素信号G1〜G4を個別に得ることがで
きるので、この状態で、欠陥の画素(欠陥の受光素子)
の判定を行う欠陥画素情報を得て、この欠陥画素情報を
外部メモリ等に記憶させるようにする。
Thus, the light receiving elements 1-1 to 1-1
4 can individually obtain the pixel signals G1 to G4 output from the defective pixel (defective light receiving element) in this state.
Is obtained, and this defective pixel information is stored in an external memory or the like.

【0088】そして、TDI走査を開始する前に、外部
メモリ等に記憶させた欠陥画素情報をシフトレジスタ1
6に記憶させるようにする。この場合、シフトレジスタ
16の欠陥のない画素に対応するレジスタにはLレベ
ル、シフトレジスタ16の欠陥画素に対応するレジスタ
にはHレベルを記憶させるようにする。
Before starting the TDI scanning, the defective pixel information stored in the external memory or the like is stored in the shift register 1.
6 is stored. In this case, an L level is stored in a register of the shift register 16 corresponding to a non-defective pixel, and an H level is stored in a register of the shift register 16 corresponding to a defective pixel.

【0089】次に、セット信号S=Hレベルとし、画素
選択制御信号DS1〜DS4=Hレベルとした後、書込
み信号W=Lレベルとし、レジスタ17−1〜17−4
の記憶レベルをRSフリップフロップ回路18−1〜1
8−4のリセット信号入力端子に印加する。
Next, after the set signal S is set to the H level and the pixel selection control signals DS1 to DS4 are set to the H level, the write signal W is set to the L level, and the registers 17-1 to 17-4 are set.
Is stored in the RS flip-flop circuits 18-1 to 18-1.
8-4 is applied to the reset signal input terminal.

【0090】このようにすると、RSフリップフロップ
回路18−1〜18−4のうち、リセット信号入力端子
にHレベルが印加されたRSフリップフロップ回路から
出力される画素選択制御信号はLレベルとなるので、n
MOSトランジスタ14−1〜14−4のうち、欠陥画
素に対応して設けられているnMOSトランジスタはO
FFとされ、欠陥画素からの画素信号はスイッチング回
路網5には供給されないことになる。
In this way, among the RS flip-flop circuits 18-1 to 18-4, the pixel selection control signal output from the RS flip-flop circuit whose H level is applied to the reset signal input terminal becomes L level. So n
Of the MOS transistors 14-1 to 14-4, the nMOS transistor provided corresponding to the defective pixel is OMOS.
The FF is set, and the pixel signal from the defective pixel is not supplied to the switching network 5.

【0091】このように、本発明のTDI回路の第1実
施形態2によれば、受光素子1−1〜1−4から出力さ
れる画素信号G1〜G4をスイッチング回路網5を介し
て積分容量40−1〜40−4に供給することによって
TDI機能を達成するようにしたことにより、入力回路
4に画素選択トランジスタをなすnMOSトランジスタ
14−1〜14−4を備えてなる回路構成の簡単な画素
選択回路を設け、欠陥画素からの画素信号を遮断するこ
とができるので、S/N比の向上を図ることができ、こ
れを4個の画素を走査方向に配列してなる赤外線ライン
センサに使用する場合には、全ての走査チャネルで高い
S/N比を得ることができる。
As described above, according to the first embodiment of the TDI circuit of the present invention, the pixel signals G1 to G4 output from the light receiving elements 1-1 to 1-4 are integrated by the integration capacitance via the switching network 5. Since the TDI function is achieved by supplying the NMOS transistors 40-1 to 40-4 to the input circuit 4, a simple circuit configuration having nMOS transistors 14-1 to 14-4 serving as pixel selection transistors in the input circuit 4 is provided. Since the pixel signal from the defective pixel can be cut off by providing the pixel selection circuit, the S / N ratio can be improved, and this can be applied to an infrared line sensor having four pixels arranged in the scanning direction. When used, a high S / N ratio can be obtained for all scan channels.

【0092】第2実施形態・・図10〜図12 図10は本発明のTDI回路の第2実施形態を赤外線ラ
インセンサに形成された受光素子の一部と共に示す回路
図であり、図10中、54は本発明のTDI回路の第2
実施形態である。
Second Embodiment FIG. 10 to FIG. 12 FIG. 10 is a circuit diagram showing a second embodiment of the TDI circuit of the present invention together with a part of a light receiving element formed in an infrared line sensor. , 54 are the second components of the TDI circuit of the present invention.
It is an embodiment.

【0093】本発明のTDI回路の第2実施形態54
は、本発明のTDI回路の第1実施形態2が備える入力
回路4と回路構成の異なる入力回路55を設け、その他
については、本発明のTDI回路の第1実施形態2と同
様に構成したものである。
Second Embodiment 54 of TDI Circuit of the Present Invention
Is provided with an input circuit 55 having a different circuit configuration from the input circuit 4 included in the first embodiment 2 of the TDI circuit of the present invention, and the other configuration is the same as that of the first embodiment 2 of the TDI circuit of the present invention. It is.

【0094】図11は入力回路55の構成を示す回路図
であり、入力回路55は、入力トランジスタ13−i
(但し、i=1、2、3、4である。)と画素選択トラ
ンジスタ14−iとの間にカレントミラー回路57−i
を接続し、その他については、本発明のTDI回路の第
1実施形態2が備える入力回路4と同様に構成したもの
である。
FIG. 11 is a circuit diagram showing a configuration of the input circuit 55. The input circuit 55 includes an input transistor 13-i.
(However, i = 1, 2, 3, 4) and the current mirror circuit 57-i between the pixel selection transistor 14-i.
The other components are the same as those of the input circuit 4 of the first embodiment 2 of the TDI circuit of the present invention.

【0095】図12はカレントミラー回路57−iの構
成を示す回路図であり、図12中、59は電源電圧Vdd
を供給する電源線、60は受光素子1−iに流れるオフ
セット電流を受光素子1−iに供給するオフセット電流
供給用トランジスタをなすpMOSトランジスタ、61
はpMOSトランジスタ60のゲートにゲート電圧を印
加するゲート電圧印加用容量である。
FIG. 12 is a circuit diagram showing the configuration of the current mirror circuit 57-i. In FIG. 12, reference numeral 59 denotes a power supply voltage Vdd.
A pMOS transistor serving as an offset current supply transistor for supplying an offset current flowing through the light receiving element 1-i to the light receiving element 1-i;
Is a gate voltage application capacitor for applying a gate voltage to the gate of the pMOS transistor 60.

【0096】また、62は受光素子1−iにオフセット
電流を供給するために必要なpMOSトランジスタ60
のゲート電圧をゲート電圧印加用容量61にホールドさ
せるためのサンプリングトランジスタをなすpMOSト
ランジスタ、SHはpMOSトランジスタ62のON、
OFFを制御するサンプルホールド信号である。
Reference numeral 62 denotes a pMOS transistor 60 necessary for supplying an offset current to the light receiving element 1-i.
Is a pMOS transistor serving as a sampling transistor for holding the gate voltage of the pMOS transistor in the gate voltage application capacitor 61;
This is a sample and hold signal for controlling OFF.

【0097】ここに、例えば、画素選択制御信号DSi
=Lレベル、nMOSトランジスタ14−i=OFFと
すると共に、サンプルホールド信号SH=Lレベル、p
MOSトランジスタ62=ONとし、冷たい被写体を撮
像すると、電源線59からpMOSトランジスタ60、
nMOSトランジスタ13−iを介して受光素子1−i
にオフセット電流が流れ、この時のpMOSトランジス
タ60のゲート電圧をゲート電圧供給用容量61に記憶
させることができ、その後、サンプルホールド信号SH
=Lレベル、pMOSトランジスタ62=OFFとして
も、オフセット電流を受光素子1−iに供給することが
できる。
Here, for example, the pixel selection control signal DSi
= L level, nMOS transistor 14-i = OFF, sample hold signal SH = L level, p
When the MOS transistor 62 is turned on and a cold subject is imaged, the pMOS transistor 60
Light receiving element 1-i via nMOS transistor 13-i
The offset current flows through the gate voltage supply capacitor 61, and the gate voltage of the pMOS transistor 60 at this time can be stored in the gate voltage supply capacitor 61.
= L level and the pMOS transistor 62 = OFF, the offset current can be supplied to the light receiving element 1-i.

【0098】このように構成された本発明のTDI回路
の第2実施形態54によれば、積分容量40−1〜40
−4が積分する電流から受光素子のオフセット電流を除
去することができるので、4個の画素を走査方向に配列
してなる赤外線ラインセンサに使用する場合には、全て
の走査チャネルで、本発明のTDI回路の第1実施形態
2よりも高いS/N比を得ることができる。
According to the second embodiment 54 of the TDI circuit of the present invention thus constructed, the integration capacitors 40-1 to 40-40 are used.
Since the offset current of the light receiving element can be removed from the current integrated by -4, when the present invention is used in an infrared line sensor having four pixels arranged in the scanning direction, the present invention is applied to all scanning channels. A higher S / N ratio than that of the first embodiment 2 of the TDI circuit can be obtained.

【0099】第3実施形態・・図13、図14 図13は本発明のTDI回路の第3実施形態を赤外線ラ
インセンサに形成された受光素子の一部と共に示す回路
図であり、図13中、64は本発明のTDI回路の第3
実施形態である。
FIG. 13 and FIG. 14 FIG. 13 is a circuit diagram showing a third embodiment of the TDI circuit of the present invention together with a part of a light receiving element formed in an infrared line sensor. , 64 are the third of the TDI circuit of the present invention.
It is an embodiment.

【0100】本発明のTDI回路の第3実施形態64
は、本発明のTDI回の第1実施形態2が備える出力バ
ッファ回路9及びサンプリング回路7−1〜7−4と回
路構成の異なる出力バッファ回路65−1〜65−4及
びサンプリング回路66−1〜66−4を備えるように
し、その他については、本発明のTDI回路の第1実施
形態2と同様に構成したものである。
Third Embodiment of TDI Circuit of the Present Invention 64
The output buffer circuits 65-1 to 65-4 and the sampling circuit 66-1 having different circuit configurations from the output buffer circuit 9 and the sampling circuits 7-1 to 7-4 included in the first embodiment 2 of the TDI times of the present invention. To T.66-4, and the others are configured similarly to the first embodiment 2 of the TDI circuit of the present invention.

【0101】図14は出力バッファ回路65−1〜65
−4及びサンプリング回路66−1〜66−4の構成を
示す回路図である。
FIG. 14 shows output buffer circuits 65-1 to 65-1.
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a sampling circuit 66-1 and sampling circuits 66-1 to 66-4.

【0102】出力バッファ回路65−1において、67
−1はnMOSトランジスタであり、ドレインを電源線
45に接続され、ゲートを積分容量40−1の画素信号
が印加される電極に接続され、ソースフォロア回路を構
成している。
In output buffer circuit 65-1, 67
Reference numeral -1 denotes an nMOS transistor. The drain is connected to the power supply line 45, and the gate is connected to the electrode of the integration capacitor 40-1 to which the pixel signal is applied, thereby forming a source follower circuit.

【0103】また、出力バッファ回路65−2におい
て、67−2はnMOSトランジスタであり、ドレイン
を電源線45に接続され、ゲートを積分容量40−2の
画素信号が印加される電極に接続され、ソースフォロア
回路を構成している。
In the output buffer circuit 65-2, reference numeral 67-2 denotes an nMOS transistor, the drain is connected to the power supply line 45, and the gate is connected to the electrode of the integration capacitor 40-2 to which the pixel signal is applied. A source follower circuit is configured.

【0104】また、出力バッファ回路65−3におい
て、67−3はnMOSトランジスタであり、ドレイン
を電源線45に接続され、ゲートを積分容量40−3の
画素信号が印加される電極に接続され、ソースフォロア
回路を構成している。
In the output buffer circuit 65-3, reference numeral 67-3 denotes an nMOS transistor, the drain is connected to the power supply line 45, and the gate is connected to the electrode of the integration capacitor 40-3 to which the pixel signal is applied. A source follower circuit is configured.

【0105】また、出力バッファ回路65−4におい
て、67−4はnMOSトランジスタであり、ドレイン
を電源線45に接続され、ゲートを積分容量40−4の
画素信号が印加される電極に接続され、ソースフォロア
回路を構成している。
In the output buffer circuit 65-4, 67-4 is an nMOS transistor, the drain is connected to the power supply line 45, and the gate is connected to the electrode of the integration capacitor 40-4 to which the pixel signal is applied. A source follower circuit is configured.

【0106】また、サンプリング回路66−1におい
て、68−1はサンプリング信号SP1によりオン、オ
フが制御されるnMOSトランジスタであり、ドレイン
をnMOSトランジスタ67−1のソースに接続され、
ソースをnMOSトランジスタ11のドレインに接続さ
れている。
In the sampling circuit 66-1, reference numeral 68-1 denotes an nMOS transistor whose on / off is controlled by the sampling signal SP1, whose drain is connected to the source of the nMOS transistor 67-1.
The source is connected to the drain of the nMOS transistor 11.

【0107】また、サンプリング回路66−2におい
て、68−2はサンプリング信号SP2によりオン、オ
フが制御されるnMOSトランジスタであり、ドレイン
をnMOSトランジスタ67−2のソースに接続され、
ソースをnMOSトランジスタ11のドレインに接続さ
れている。
In the sampling circuit 66-2, reference numeral 68-2 denotes an nMOS transistor whose on / off is controlled by the sampling signal SP2, and whose drain is connected to the source of the nMOS transistor 67-2.
The source is connected to the drain of the nMOS transistor 11.

【0108】また、サンプリング回路66−3におい
て、68−3はサンプリング信号SP3によりオン、オ
フが制御されるnMOSトランジスタであり、ドレイン
をnMOSトランジスタ67−3のソースに接続され、
ソースをnMOSトランジスタ11のドレインに接続さ
れている。
In the sampling circuit 66-3, reference numeral 68-3 denotes an nMOS transistor whose on / off is controlled by the sampling signal SP3, and whose drain is connected to the source of the nMOS transistor 67-3.
The source is connected to the drain of the nMOS transistor 11.

【0109】また、サンプリング回路66−4におい
て、68−4はサンプリング信号SP4によりオン、オ
フが制御されるnMOSトランジスタであり、ドレイン
をnMOSトランジスタ67−4のソースに接続され、
ソースをnMOSトランジスタ11のドレインに接続さ
れている。
In the sampling circuit 66-4, reference numeral 68-4 denotes an nMOS transistor whose on / off is controlled by the sampling signal SP4, and whose drain is connected to the source of the nMOS transistor 67-4.
The source is connected to the drain of the nMOS transistor 11.

【0110】このように構成された本発明のTDI回路
の第3実施形態64によれば、積分容量40−1〜40
−4から出力される画素信号間のクロストークを低減す
ることができるので、4個の画素を走査方向に配列して
なる赤外線ラインセンサに使用する場合には、全ての走
査チャネルで、本発明のTDI回路の第1実施形態2よ
りも高いS/N比を得ることができる。
According to the third embodiment 64 of the TDI circuit of the present invention thus constructed, the integration capacitors 40-1 to 40-40
-4, it is possible to reduce the crosstalk between the pixel signals output from the pixel signals. Therefore, when the present invention is applied to an infrared line sensor having four pixels arranged in the scanning direction, the present invention is applied to all scanning channels. A higher S / N ratio than that of the first embodiment 2 of the TDI circuit can be obtained.

【0111】第4実施形態・・図15〜図23 図15は本発明のTDI回路の第4実施形態を赤外線ラ
インセンサに形成された受光素子の一部と共に示す回路
図である。
Fourth Embodiment FIGS. 15 to 23 FIG. 15 is a circuit diagram showing a TDI circuit according to a fourth embodiment of the present invention together with a part of a light receiving element formed in an infrared line sensor.

【0112】図15中、70−1、70−2、70−
3、70−4は赤外線ラインセンサの走査方向に配列さ
れた受光素子、71−1、71−2、71−3は1画素
分の標本化点、72は本発明のTDI回路の第4実施形
態である。
In FIG. 15, 70-1, 70-2, 70-
Numerals 3 and 70-4 denote light receiving elements arranged in the scanning direction of the infrared line sensor, 71-1, 71-2 and 71-3 denote sampling points for one pixel, and 72 denotes a fourth embodiment of the TDI circuit of the present invention. It is a form.

【0113】本発明のTDI回路の第4実施形態72に
おいて、73−1、73−2、73−3、73−4は受
光素子70−1、70−2、70−3、70−4から出
力される画素信号G1、G2、G3、G4を入力するた
めの入力端子、74は図2に示す入力回路4と同様に構
成された入力回路である。
In the fourth embodiment 72 of the TDI circuit of the present invention, 73-1, 73-2, 73-3 and 73-4 are connected to light receiving elements 70-1, 70-2, 70-3 and 70-4. An input terminal 74 for inputting the pixel signals G1, G2, G3, G4 to be output, and an input circuit 74 is configured similarly to the input circuit 4 shown in FIG.

【0114】また、75は入力回路74から出力される
画素信号G1、G2、G3、G4を後述する積分回路に
供給するスイッチング回路網、76−1、76−2、7
6−3、76−4、76−5、76−6、76−7、7
6−8はスイッチング回路網75から供給される画素信
号を積分する積分回路である。
Reference numeral 75 denotes a switching network for supplying pixel signals G1, G2, G3, and G4 output from the input circuit 74 to an integration circuit described later.
6-3, 76-4, 76-5, 76-6, 76-7, 7
Reference numeral 6-8 denotes an integration circuit for integrating the pixel signal supplied from the switching network 75.

【0115】また、77−1、77−2、77−3、7
7−4、77−5、77−6、77−7、77−8は積
分回路76−1、76−2、76−3、76−4、76
−5、76−6、76−7、76−8の蓄積電圧をサン
プリングするサンプリング回路である。
Also, 77-1, 77-2, 77-3, 7
7-4, 77-5, 77-6, 77-7, 77-8 are integrating circuits 76-1, 76-2, 76-3, 76-4, 76
This is a sampling circuit for sampling the accumulated voltages of -5, 76-6, 76-7, and 76-8.

【0116】また、78−1、78−2、78−3、7
8−4、78−5、78−6、78−7、78−8は積
分回路76−1、76−2、76−3、76−4、76
−5、76−6、76−7、76−8のリセットを行う
リセット回路である。
Also, 78-1, 78-2, 78-3, 7
8-4, 78-5, 78-6, 78-7, 78-8 are integrating circuits 76-1, 76-2, 76-3, 76-4, 76
-5, 76-6, 76-7, and 76-8 are reset circuits.

【0117】また、79はサンプリング回路78−1、
78−2、78−3、78−4、78−5、78−6、
78−7、78−8によりサンプリングされた蓄積電圧
を画素信号として出力させるための出力バッファ回路で
ある。
Further, 79 is a sampling circuit 78-1,
78-2, 78-3, 78-4, 78-5, 78-6,
This is an output buffer circuit for outputting the accumulated voltage sampled by 78-7 and 78-8 as a pixel signal.

【0118】また、80は他のTDI回路に共通の共通
バス、81は出力制御信号SRによりオン、オフが制御
され、出力バッファ回路79の出力端の共通バス80へ
の接続を制御するnMOSトランジスタである。
Reference numeral 80 denotes a common bus common to other TDI circuits. Reference numeral 81 denotes an nMOS transistor which is turned on and off by an output control signal SR and controls the connection of the output terminal of the output buffer circuit 79 to the common bus 80. It is.

【0119】図16及び図17はスイッチング回路網5
の構成を分図して示す回路図であり、図16又は図17
において、83−1、83−2、83−3、83−4、
83−5、83−6、83−7、83−8は画素信号G
1、G2、G3、G4の選択を行うスイッチング単位回
路網である。
FIGS. 16 and 17 show the switching network 5.
FIG. 17 is a circuit diagram showing the configuration of FIG.
, 83-1, 83-2, 83-3, 83-4,
83-5, 83-6, 83-7 and 83-8 are pixel signals G
1, a switching unit network for selecting G2, G3, and G4.

【0120】スイッチング単位回路網83−1におい
て、84はスイッチング制御信号SW2によりオン、オ
フが制御され、入力回路74から出力される画素信号G
1の選択を行うスイッチング素子をなすnMOSトラン
ジスタである。
In the switching unit circuit 83-1, ON and OFF are controlled by the switching control signal SW2, and the pixel signal G output from the input circuit 74 is output.
1 is an nMOS transistor that serves as a switching element for selecting 1.

【0121】また、85はスイッチング制御信号SW4
によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力さ
れる画素信号G2の選択を行うスイッチング素子をなす
nMOSトランジスタである。
Reference numeral 85 denotes a switching control signal SW4
Is an on-off transistor, and is an nMOS transistor serving as a switching element for selecting a pixel signal G2 output from the input circuit 74.

【0122】また、86はスイッチング制御信号SW6
によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力さ
れる画素信号G3の選択を行うスイッチング素子をなす
nMOSトランジスタである。
Reference numeral 86 denotes a switching control signal SW6.
Is an on-off transistor, and is an nMOS transistor serving as a switching element for selecting a pixel signal G3 output from the input circuit 74.

【0123】また、87はスイッチング制御信号SW8
によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力さ
れる画素信号G4の選択を行うスイッチング素子をなす
nMOSトランジスタである。
Reference numeral 87 denotes a switching control signal SW8.
Is an on-off transistor, and is an nMOS transistor serving as a switching element for selecting a pixel signal G4 output from the input circuit 74.

【0124】また、スイッチング単位回路網83−2に
おいて、88はスイッチング制御信号SW1によりオ
ン、オフが制御され、入力回路74から出力される画素
信号G1の選択を行うスイッチング素子をなすnMOS
トランジスタである。
In the switching unit network 83-2, reference numeral 88 denotes an nMOS which is turned on / off by a switching control signal SW1 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G1 output from the input circuit 74.
It is a transistor.

【0125】また、89はスイッチング制御信号SW3
によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力さ
れる画素信号G2の選択を行うスイッチング素子をなす
nMOSトランジスタである。
Also, 89 is a switching control signal SW3
Is an on-off transistor, and is an nMOS transistor serving as a switching element for selecting a pixel signal G2 output from the input circuit 74.

【0126】また、90はスイッチング制御信号SW5
によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力さ
れる画素信号G3の選択を行うスイッチング素子をなす
nMOSトランジスタである。
90 is a switching control signal SW5.
Is an on-off transistor, and is an nMOS transistor serving as a switching element for selecting a pixel signal G3 output from the input circuit 74.

【0127】また、91はスイッチング制御信号SW7
によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力さ
れる画素信号G4の選択を行うスイッチング素子をなす
nMOSトランジスタである。
Reference numeral 91 denotes a switching control signal SW7.
Is an on-off transistor, and is an nMOS transistor serving as a switching element for selecting a pixel signal G4 output from the input circuit 74.

【0128】また、スイッチング単位回路網83−3に
おいて、92はスイッチング制御信号SW4によりオ
ン、オフが制御され、入力回路74から出力される画素
信号G1の選択を行うスイッチング素子をなすnMOS
トランジスタである。
In the switching unit network 83-3, reference numeral 92 denotes an nMOS which is turned on and off by a switching control signal SW4 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G1 output from the input circuit 74.
It is a transistor.

【0129】また、93はスイッチング制御信号SW6
によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力さ
れる画素信号G2の選択を行うスイッチング素子をなす
nMOSトランジスタである。
Further, 93 is a switching control signal SW6
Is an on-off transistor, and is an nMOS transistor serving as a switching element for selecting a pixel signal G2 output from the input circuit 74.

【0130】また、94はスイッチング制御信号SW8
によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力さ
れる画素信号G3の選択を行うスイッチング素子をなす
nMOSトランジスタである。
A switching control signal SW8 94 is provided.
Is an on-off transistor, and is an nMOS transistor serving as a switching element for selecting a pixel signal G3 output from the input circuit 74.

【0131】また、95はスイッチング制御信号SW2
によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力さ
れる画素信号G4の選択を行うスイッチング素子をなす
nMOSトランジスタである。
The reference numeral 95 denotes a switching control signal SW2
Is an on-off transistor, and is an nMOS transistor serving as a switching element for selecting a pixel signal G4 output from the input circuit 74.

【0132】また、スイッチング単位回路網83−4に
おいて、96はスイッチング制御信号SW3によりオ
ン、オフが制御され、入力回路74から出力される画素
信号G1の選択を行うスイッチング素子をなすnMOS
トランジスタである。
In the switching unit circuit network 83-4, reference numeral 96 denotes an nMOS which is turned on / off by a switching control signal SW3 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G1 output from the input circuit 74.
It is a transistor.

【0133】また、97はスイッチング制御信号SW5
によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力さ
れる画素信号G2の選択を行うスイッチング素子をなす
nMOSトランジスタである。
Reference numeral 97 denotes a switching control signal SW5.
Is an on-off transistor, and is an nMOS transistor serving as a switching element for selecting a pixel signal G2 output from the input circuit 74.

【0134】また、98はスイッチング制御信号SW7
によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力さ
れる画素信号G3の選択を行うスイッチング素子をなす
nMOSトランジスタである。
Reference numeral 98 denotes a switching control signal SW7.
Is an on-off transistor, and is an nMOS transistor serving as a switching element for selecting a pixel signal G3 output from the input circuit 74.

【0135】また、99はスイッチング制御信号SW1
によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力さ
れる画素信号G4の選択を行うスイッチング素子をなす
nMOSトランジスタである。
Further, reference numeral 99 denotes a switching control signal SW1.
Is an on-off transistor, and is an nMOS transistor serving as a switching element for selecting a pixel signal G4 output from the input circuit 74.

【0136】また、スイッチング単位回路網83−5に
おいて、100はスイッチング制御信号SW6によりオ
ン、オフが制御され、入力回路74から出力される画素
信号G1の選択を行うスイッチング素子をなすnMOS
トランジスタである。
In the switching unit network 83-5, reference numeral 100 denotes an nMOS which is turned on / off by a switching control signal SW6 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G1 output from the input circuit 74.
It is a transistor.

【0137】また、101はスイッチング制御信号SW
8によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力
される画素信号G2の選択を行うスイッチング素子をな
すnMOSトランジスタである。
Reference numeral 101 denotes a switching control signal SW
An nMOS transistor which is turned on and off by 8 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G2 output from the input circuit 74.

【0138】また、102はスイッチング制御信号SW
2によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力
される画素信号G3の選択を行うスイッチング素子をな
すnMOSトランジスタである。
Reference numeral 102 denotes a switching control signal SW
2 is an nMOS transistor which is turned on / off by 2 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G3 output from the input circuit 74.

【0139】また、103はスイッチング制御信号SW
4によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力
される画素信号G4の選択を行うスイッチング素子をな
すnMOSトランジスタである。
Reference numeral 103 denotes a switching control signal SW
4 is an nMOS transistor which is turned on and off by an NMOS transistor 4 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G4 output from the input circuit 74.

【0140】スイッチング単位回路網83−6におい
て、104はスイッチング制御信号SW5によりオン、
オフが制御され、入力回路74から出力される画素信号
G1の選択を行うスイッチング素子をなすnMOSトラ
ンジスタである。
In the switching unit network 83-6, 104 is turned on by the switching control signal SW5,
An nMOS transistor that is turned off and serves as a switching element for selecting the pixel signal G1 output from the input circuit 74.

【0141】また、105はスイッチング制御信号SW
7によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力
される画素信号G2の選択を行うスイッチング素子をな
すnMOSトランジスタである。
Reference numeral 105 denotes a switching control signal SW
7 is an nMOS transistor which is turned on and off by 7 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G2 output from the input circuit 74.

【0142】また、106はスイッチング制御信号SW
1によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力
される画素信号G3の選択を行うスイッチング素子をな
すnMOSトランジスタである。
Reference numeral 106 denotes a switching control signal SW
1 is an nMOS transistor which is turned on and off by 1 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G3 output from the input circuit 74.

【0143】また、107はスイッチング制御信号SW
3によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力
される画素信号G4の選択を行うnMOSトランジスタ
である。
Reference numeral 107 denotes a switching control signal SW
3 is an nMOS transistor that is turned on and off by 3 and selects the pixel signal G4 output from the input circuit 74.

【0144】また、スイッチング単位回路網83−7に
おいて、108はスイッチング制御信号SW8によりオ
ン、オフが制御され、入力回路74から出力される画素
信号G1の選択を行うスイッチング素子をなすnMOS
トランジスタである。
In the switching unit network 83-7, reference numeral 108 denotes an nMOS which is turned on / off by a switching control signal SW8 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G1 output from the input circuit 74.
It is a transistor.

【0145】また、109はスイッチング制御信号SW
2によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力
される画素信号G2の選択を行うスイッチング素子をな
すnMOSトランジスタである。
Reference numeral 109 denotes a switching control signal SW
2 is an nMOS transistor that is turned on and off by 2 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G2 output from the input circuit 74.

【0146】また、110はスイッチング制御信号SW
4によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力
される画素信号G3の選択を行うスイッチング素子をな
すnMOSトランジスタである。
Further, 110 is a switching control signal SW
4 is an nMOS transistor which is turned on and off by 4 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G3 output from the input circuit 74.

【0147】また、111はスイッチング制御信号SW
6によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力
される画素信号G4の選択を行うnMOSトランジスタ
である。
Further, 111 is a switching control signal SW
6 is an nMOS transistor whose on / off is controlled and selects the pixel signal G4 output from the input circuit 74.

【0148】また、スイッチング単位回路網83−8に
おいて、112はスイッチング制御信号SW7によりオ
ン、オフが制御され、入力回路74から出力される画素
信号G1の選択を行うスイッチング素子をなすnMOS
トランジスタである。
In the switching unit circuit network 83-8, reference numeral 112 denotes an nMOS which is turned on / off by a switching control signal SW7 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G1 output from the input circuit 74.
It is a transistor.

【0149】また、113はスイッチング制御信号SW
1によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力
される画素信号G2の選択を行うスイッチング素子をな
すnMOSトランジスタである。
Reference numeral 113 denotes a switching control signal SW
1 is an nMOS transistor that is turned on and off by 1 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G2 output from the input circuit 74.

【0150】また、114はスイッチング制御信号SW
3によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力
される画素信号G3の選択を行うスイッチング素子をな
すnMOSトランジスタである。
Reference numeral 114 denotes a switching control signal SW
3 is an nMOS transistor which is turned on and off by 3 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G3 output from the input circuit 74.

【0151】また、115はスイッチング制御信号SW
5によりオン、オフが制御され、入力回路74から出力
される画素信号G4の選択を行うスイッチング素子をな
すnMOSトランジスタである。
The reference numeral 115 denotes a switching control signal SW
5 is an nMOS transistor which is turned on / off by 5 and serves as a switching element for selecting a pixel signal G4 output from the input circuit 74.

【0152】図18は積分回路76−1〜76〜4、サ
ンプリング回路77−1〜77〜4及びリセット回路7
8−1〜78〜4の構成を示す回路図、図19は積分回
路76−5〜76〜8、サンプリング回路77−5〜7
7〜8、リセット回路78−5〜78〜8及び出力バッ
ファ回路79の構成を示す回路図である。
FIG. 18 shows the integration circuits 76-1 to 76-4, the sampling circuits 77-1 to 77-4, and the reset circuit 7.
FIG. 19 is a circuit diagram showing a configuration of each of 8-1 to 78-4, FIG. 19 is an integrating circuit 76-5 to 76-8, and a sampling circuit 77-5 to 7-7.
7 is a circuit diagram illustrating a configuration of 7 to 8, reset circuits 78-5 to 78 to 8, and an output buffer circuit 79. FIG.

【0153】積分回路76−1において、117−1は
スイッチング単位回路網83−1から出力される画素信
号を積分する積分容量であり、一方の電極をスイッチン
グ単位回路網83−1の出力端に接続され、他方の電極
を接地電圧Vssを供給する接地線118に接続されてい
る。
In the integration circuit 76-1, reference numeral 117-1 denotes an integration capacitance for integrating a pixel signal output from the switching unit network 83-1. One electrode is connected to the output terminal of the switching unit network 83-1. The other electrode is connected to a ground line 118 for supplying the ground voltage Vss.

【0154】また、積分回路76−2において、117
−2はスイッチング単位回路網83−2から出力される
画素信号を積分する積分容量であり、一方の電極をスイ
ッチング単位回路網83−2の出力端に接続され、他方
の電極を接地線118に接続されている。
In the integrating circuit 76-2, 117
Reference numeral -2 denotes an integration capacitor for integrating a pixel signal output from the switching unit network 83-2. One electrode is connected to the output terminal of the switching unit network 83-2, and the other electrode is connected to the ground line 118. It is connected.

【0155】また、積分回路76−3において、117
−3はスイッチング単位回路網83−3から出力される
画素信号を積分する積分容量であり、一方の電極をスイ
ッチング単位回路網83−3の出力端に接続され、他方
の電極を接地線118に接続されている。
In the integrating circuit 76-3, 117
Reference numeral -3 denotes an integration capacitance for integrating a pixel signal output from the switching unit network 83-3. One electrode is connected to the output terminal of the switching unit network 83-3, and the other electrode is connected to the ground line 118. It is connected.

【0156】また、積分回路76−4において、117
−4はスイッチング単位回路網83−4から出力される
画素信号を積分する積分容量であり、一方の電極をスイ
ッチング単位回路網83−4の出力端に接続され、他方
の電極を接地線118に接続されている。
In the integrating circuit 76-4, 117
Reference numeral -4 denotes an integration capacitor for integrating a pixel signal output from the switching unit network 83-4. One electrode is connected to the output terminal of the switching unit network 83-4, and the other electrode is connected to the ground line 118. It is connected.

【0157】また、積分回路76−5において、117
−5はスイッチング単位回路網83−5から出力される
画素信号を積分する積分容量であり、一方の電極をスイ
ッチング単位回路網83−5の出力端に接続され、他方
の電極を接地線118に接続されている。
In the integrating circuit 76-5, 117
Reference numeral -5 denotes an integration capacitance for integrating a pixel signal output from the switching unit network 83-5. One electrode is connected to the output terminal of the switching unit network 83-5, and the other electrode is connected to the ground line 118. It is connected.

【0158】また、積分回路76−6において、117
−6はスイッチング単位回路網83−6から出力される
画素信号を積分する積分容量であり、一方の電極をスイ
ッチング単位回路網83−6の出力端に接続され、他方
の電極を接地線118に接続されている。
In the integrating circuit 76-6, 117
Reference numeral -6 denotes an integration capacitor for integrating a pixel signal output from the switching unit network 83-6. One electrode is connected to the output terminal of the switching unit network 83-6, and the other electrode is connected to the ground line 118. It is connected.

【0159】また、積分回路76−7において、117
−7はスイッチング単位回路網83−7から出力される
画素信号を積分する積分容量であり、一方の電極をスイ
ッチング単位回路網83−7の出力端に接続され、他方
の電極を接地線118に接続されている。
In the integrating circuit 76-7, 117
Reference numeral -7 denotes an integration capacitor for integrating a pixel signal output from the switching unit network 83-7. One electrode is connected to the output terminal of the switching unit network 83-7, and the other electrode is connected to the ground line 118. It is connected.

【0160】また、積分回路76−8において、117
−8はスイッチング単位回路網83−8から出力される
画素信号を積分する積分容量であり、一方の電極をスイ
ッチング単位回路網83−8の出力端に接続され、他方
の電極を接地線118に接続されている。
In the integrating circuit 76-8, 117
Reference numeral -8 denotes an integration capacitance for integrating a pixel signal output from the switching unit network 83-8. One electrode is connected to the output terminal of the switching unit network 83-8, and the other electrode is connected to the ground line 118. It is connected.

【0161】また、サンプリング回路77−1におい
て、119−1はサンプリング信号SP1によりオン、
オフが制御されるnMOSトランジスタであり、ドレイ
ンを積分容量117−1の画素信号が印加される電極に
接続され、ソースを出力バッファ回路79を構成するn
MOSトランジスタ120のゲートに接続されている。
In the sampling circuit 77-1, 119-1 is turned on by the sampling signal SP1, and
An nMOS transistor whose OFF is controlled, the drain is connected to the electrode of the integration capacitor 117-1 to which the pixel signal is applied, and the source is an n constituting the output buffer circuit 79.
It is connected to the gate of the MOS transistor 120.

【0162】また、サンプリング回路77−2におい
て、119−2はサンプリング信号SP2によりオン、
オフが制御されるnMOSトランジスタであり、ドレイ
ンを積分容量117−2の画素信号が印加される電極に
接続され、ソースをnMOSトランジスタ120のゲー
トに接続されている。
In the sampling circuit 77-2, 119-2 is turned on by the sampling signal SP2,
The nMOS transistor is turned off. The drain is connected to the electrode of the integration capacitor 117-2 to which the pixel signal is applied, and the source is connected to the gate of the nMOS transistor 120.

【0163】また、サンプリング回路77−3におい
て、119−3はサンプリング信号SP3によりオン、
オフが制御されるnMOSトランジスタであり、ドレイ
ンを積分容量117−3の画素電極が印加される電極に
接続され、ソースをnMOSトランジスタ120のゲー
トに接続されている。
In the sampling circuit 77-3, 119-3 is turned on by the sampling signal SP3,
The nMOS transistor is turned off. The drain is connected to the electrode of the integration capacitor 117-3 to which the pixel electrode is applied, and the source is connected to the gate of the nMOS transistor 120.

【0164】また、サンプリング回路77−4におい
て、119−4はサンプリング信号SP4によりオン、
オフが制御されるnMOSトランジスタであり、ドレイ
ンを積分容量117−4の画素信号が印加される電極に
接続され、ソースをnMOSトランジスタ120のゲー
トに接続されている。
In the sampling circuit 77-4, 119-4 is turned on by the sampling signal SP4.
The nMOS transistor is turned off. The drain is connected to the electrode of the integration capacitor 117-4 to which the pixel signal is applied, and the source is connected to the gate of the nMOS transistor 120.

【0165】また、サンプリング回路77−5におい
て、119−5はサンプリング信号SP5によりオン、
オフが制御されるnMOSトランジスタであり、ドレイ
ンを積分容量117−5の画素信号が印加される電極に
接続され、ソースをnMOSトランジスタ120のゲー
トに接続されている。
In the sampling circuit 77-5, 119-5 is turned on by the sampling signal SP5,
The nMOS transistor is turned off. The drain is connected to the electrode of the integration capacitor 117-5 to which the pixel signal is applied, and the source is connected to the gate of the nMOS transistor 120.

【0166】また、サンプリング回路77−6におい
て、119−6はサンプリング信号SP6によりオン、
オフが制御されるnMOSトランジスタであり、ドレイ
ンを積分容量117−6の画素信号が印加される電極に
接続され、ソースをnMOSトランジスタ120のゲー
トに接続されている。
In the sampling circuit 77-6, 119-6 is turned on by the sampling signal SP6,
The nMOS transistor is controlled to be off. The drain is connected to the electrode of the integration capacitor 117-6 to which the pixel signal is applied, and the source is connected to the gate of the nMOS transistor 120.

【0167】また、サンプリング回路77−7におい
て、119−7はサンプリング信号SP7によりオン、
オフが制御されるnMOSトランジスタであり、ドレイ
ンを積分容量117−7の画素信号が印加される電極に
接続され、ソースをnMOSトランジスタ120のゲー
トに接続されている。
In the sampling circuit 77-7, 119-7 is turned on by the sampling signal SP7,
The nMOS transistor is turned off. The drain is connected to the electrode of the integration capacitor 117-7 to which the pixel signal is applied, and the source is connected to the gate of the nMOS transistor 120.

【0168】また、サンプリング回路77−8におい
て、119−8はサンプリング信号SP8によりオン、
オフが制御されるnMOSトランジスタであり、ドレイ
ンを積分容量117−8の画素信号が印加される電極に
接続され、ソースをnMOSトランジスタ120のゲー
トに接続されている。
In the sampling circuit 77-8, 119-8 is turned on by the sampling signal SP8,
The nMOS transistor is turned off. The drain is connected to the electrode of the integration capacitor 117-8 to which the pixel signal is applied, and the source is connected to the gate of the nMOS transistor 120.

【0169】リセット回路78−1において、121−
1はリセット信号RS1によりオン、オフが制御される
pMOSトランジスタであり、ソースを電源電圧Vddを
供給する電源線122に接続され、ドレインを積分容量
117−1の画素信号が印加される電極に接続されてい
る。
In reset circuit 78-1, 121-
Reference numeral 1 denotes a pMOS transistor whose on / off is controlled by the reset signal RS1, whose source is connected to the power supply line 122 supplying the power supply voltage Vdd, and whose drain is connected to the electrode of the integration capacitor 117-1 to which the pixel signal is applied Have been.

【0170】また、リセット回路78−2において、1
21−2はリセット信号RS2によりオン、オフが制御
されるpMOSトランジスタであり、ソースを電源線1
22に接続され、ドレインを積分容量117−2の画素
信号が印加される電極に接続されている。
In reset circuit 78-2, 1
Reference numeral 21-2 denotes a pMOS transistor which is turned on and off by a reset signal RS2, and has a source connected to the power line 1
The drain is connected to the electrode of the integration capacitor 117-2 to which the pixel signal is applied.

【0171】また、リセット回路78−3において、1
21−3はリセット信号RS3によりオン、オフが制御
されるpMOSトランジスタであり、ソースを電源線1
22に接続され、ドレインを積分容量117−3の画素
信号が印加される電極に接続されている。
In reset circuit 78-3, 1
Reference numeral 21-3 denotes a pMOS transistor whose on / off is controlled by the reset signal RS3.
The drain is connected to the electrode of the integration capacitor 117-3 to which the pixel signal is applied.

【0172】また、リセット回路78−4において、1
21−4はリセット信号RS4によりオン、オフが制御
されるpMOSトランジスタであり、ソースを電源線1
22に接続され、ドレインを積分容量117−4の画素
信号が印加される電極に接続されている。
In reset circuit 78-4, 1
Reference numeral 21-4 denotes a pMOS transistor whose on / off is controlled by the reset signal RS4.
The drain is connected to the electrode of the integration capacitor 117-4 to which the pixel signal is applied.

【0173】また、リセット回路78−5において、1
21−5はリセット信号RS5によりオン、オフが制御
されるpMOSトランジスタであり、ソースを電源線1
22に接続され、ドレインを積分容量117−5の画素
信号が印加される電極に接続されている。
In reset circuit 78-5, 1
Reference numeral 21-5 denotes a pMOS transistor whose on / off is controlled by the reset signal RS5.
The drain is connected to the electrode of the integration capacitor 117-5 to which the pixel signal is applied.

【0174】また、リセット回路78−6において、1
21−6はリセット信号RS6によりオン、オフが制御
されるpMOSトランジスタであり、ソースを電源線1
22に接続され、ドレインを積分容量117−6の画素
信号が印加される電極に接続されている。
In reset circuit 78-6, 1
Reference numeral 21-6 denotes a pMOS transistor whose on / off is controlled by the reset signal RS6.
The drain is connected to the electrode of the integration capacitor 117-6 to which the pixel signal is applied.

【0175】また、リセット回路78−7において、1
21−7はリセット信号RS7によりオン、オフが制御
されるpMOSトランジスタであり、ソースを電源線1
22に接続され、ドレインを積分容量117−7の画素
信号が印加される電極に接続されている。
In the reset circuit 78-7, 1
Reference numeral 21-7 denotes a pMOS transistor whose on / off is controlled by the reset signal RS7.
The drain is connected to the electrode of the integration capacitor 117-7 to which the pixel signal is applied.

【0176】また、リセット回路78−8において、1
21−8はリセット信号RS8によりオン、オフが制御
されるpMOSトランジスタであり、ソースを電源線1
22に接続され、ドレインを積分容量117−8の画素
信号が印加される電極に接続されている。
Also, in the reset circuit 78-8, 1
Reference numeral 21-8 denotes a pMOS transistor whose on / off is controlled by the reset signal RS8.
The drain is connected to an electrode of the integration capacitor 117-8 to which a pixel signal is applied.

【0177】また、出力バッファ79を構成するnMO
Sトランジスタ120は、ドレインを電源線122に接
続され、ソースをnMOSトランジスタ81のドレイン
に接続され、ソースフォロア回路を構成している。
Further, nMO constituting output buffer 79 is
The S transistor 120 has a drain connected to the power supply line 122 and a source connected to the drain of the nMOS transistor 81 to form a source follower circuit.

【0178】図20は本発明のTDI回路の第4実施形
態72の駆動タイミングを示すタイミングチャートであ
り、本発明のTDI回路の第4実施形態72において
は、スイッチング制御信号SW1〜SW8、サンプリン
グ信号SP1〜SP8及びリセット信号RS1〜RS8
は、SW1→SP8→RS8→SW2→SP7→RS7
→SW3→SP6→RS6→SW4→SP5→RS5→
SW5→SP4→RS4→SW6→SP3→RS3→S
W7→SP2→RS2→SW8→SP1→RS1の順
に、かつ、選択的に活性レベルとされ、これが繰り返さ
れる。
FIG. 20 is a timing chart showing the drive timing of the fourth embodiment 72 of the TDI circuit of the present invention. In the fourth embodiment 72 of the TDI circuit of the present invention, the switching control signals SW1 to SW8, the sampling signal SP1 to SP8 and reset signals RS1 to RS8
Means SW1 → SP8 → RS8 → SW2 → SP7 → RS7
→ SW3 → SP6 → RS6 → SW4 → SP5 → RS5 →
SW5 → SP4 → RS4 → SW6 → SP3 → RS3 → S
The active level is selectively set in the order of W7 → SP2 → RS2 → SW8 → SP1 → RS1, and this is repeated.

【0179】ここに、時刻T1になると、スイッチング
制御信号SW1=Hレベルとされ、スイッチング回路網
75においては、nMOSトランジスタ88、99、1
06、113=ONとされ、積分容量117−2、11
7−4、117−6、117−8には、それぞれ、図2
1に示すように、画素信号G1、G4、G3、G2が供
給される。
Here, at time T1, the switching control signal SW1 is set to the H level, and in the switching network 75, the nMOS transistors 88, 99, 1
06, 113 = ON, and the integral capacitors 117-2, 11
7-4, 117-6 and 117-8 respectively correspond to FIG.
As shown in FIG. 1, pixel signals G1, G4, G3, and G2 are supplied.

【0180】そして、画素信号供給期間ΔT1が終了す
ると、スイッチング制御信号SW1=Lレベルとされ、
nMOSトランジスタ88、99、106、113=O
FFとされると共に、サンプリング信号SP8=Hレベ
ル、nMOSトランジスタ119−8=ONとされ、積
分容量117−8の蓄積電圧がnMOSトランジスタ1
20のゲートに印加される。
When the pixel signal supply period ΔT1 ends, the switching control signal SW1 is set to L level,
nMOS transistors 88, 99, 106, 113 = O
At the same time as the FF, the sampling signal SP8 = H level, the nMOS transistor 119-8 = ON, and the accumulated voltage of the integration capacitor 117-8 is changed to the nMOS transistor 1
20 applied to the gate.

【0181】続いて、サンプリング信号SP8=Lレベ
ル、nMOSトランジスタ119−8=OFFとされる
と共に、リセット信号RS8=Lレベル、pMOSトラ
ンジスタ121−8=ONとされ、積分容量117−8
の蓄積電圧が電源電圧Vddにリセットされる。
Subsequently, the sampling signal SP8 = L level, the nMOS transistor 119-8 = OFF, the reset signal RS8 = L level, the pMOS transistor 121-8 = ON, and the integration capacitance 117-8.
Is reset to the power supply voltage Vdd.

【0182】そして、時刻T2になると、リセット信号
RS8=Hレベル、pMOSトランジスタ121−8=
OFFとされると共に、スイッチング制御信号SW2=
Hレベルとされ、スイッチング回路網75においては、
nMOSトランジスタ84、95、102、109=O
Nとされ、積分容量117−1、117−3、117−
5、117−7には、それぞれ、図21に示すように、
画素信号G1、G4、G3、G2が供給される。
At time T2, the reset signal RS8 = H level and the pMOS transistor 121-8 =
OFF and the switching control signal SW2 =
H level, and in the switching network 75,
nMOS transistors 84, 95, 102, 109 = O
N, and the integral capacities 117-1, 117-3, 117-
5, 117-7 respectively, as shown in FIG.
Pixel signals G1, G4, G3, G2 are supplied.

【0183】そして、画素信号供給期間ΔT2が終了す
ると、スイッチング制御信号SW2=Lレベルとされ、
nMOSトランジスタ84、95、102、109=O
FFとされると共に、サンプリング信号SP7=Hレベ
ル、nMOSトランジスタ119−7=ONとされ、積
分容量117−7の蓄積電圧がnMOSトランジスタ1
20のゲートに印加される。
When the pixel signal supply period ΔT2 ends, the switching control signal SW2 is set to L level, and
nMOS transistors 84, 95, 102, 109 = O
FF, the sampling signal SP7 = H level, the nMOS transistor 119-7 = ON, and the accumulated voltage of the integration capacitor 117-7 is changed to the nMOS transistor 1
20 applied to the gate.

【0184】続いて、サンプリング信号SP7=Lレベ
ル、nMOSトランジスタ119−7=OFFとされる
と共に、リセット信号RS7=Lレベル、pMOSトラ
ンジスタ121−7=ONとされ、積分容量117−7
の蓄積電圧が電源電圧Vddにリセットされる。
Subsequently, the sampling signal SP7 = L level, the nMOS transistor 119-7 = OFF, the reset signal RS7 = L level, the pMOS transistor 121-7 = ON, and the integration capacitor 117-7.
Is reset to the power supply voltage Vdd.

【0185】そして、時刻T3になると、リセット信号
RS7=Hレベル、pMOSトランジスタ121−7=
OFFとされると共に、スイッチング制御信号SW3=
Hレベルとされ、スイッチング回路網75においては、
nMOSトランジスタ89、96、107、114=O
Nとされ、積分容量117−2、117−4、117−
6、117−8には、それぞれ、図21に示すように、
画素信号G2、G1、G4、G3が供給される。
At time T3, the reset signal RS7 = H level and the pMOS transistor 121-7 =
OFF and the switching control signal SW3 =
H level, and in the switching network 75,
nMOS transistors 89, 96, 107, 114 = O
N and the integral capacity 117-2, 117-4, 117-
6, 117-8 respectively, as shown in FIG.
The pixel signals G2, G1, G4, G3 are supplied.

【0186】そして、画素信号供給期間ΔT3が終了す
ると、スイッチング制御信号SW3=Lレベルとされ、
nMOSトランジスタ89、96、107、114=O
FFとされると共に、サンプリング信号SP6=Hレベ
ル、nMOSトランジスタ119−6=ONとされ、積
分容量117−6の蓄積電圧がnMOSトランジスタ1
20のゲートに印加される。
When the pixel signal supply period ΔT3 ends, the switching control signal SW3 is set to L level, and
nMOS transistors 89, 96, 107, 114 = O
At the same time as the FF, the sampling signal SP6 = H level, the nMOS transistor 119-6 = ON, and the accumulated voltage of the integration capacitor 117-6 is changed to the nMOS transistor 1
20 applied to the gate.

【0187】続いて、サンプリング信号SP6=Lレベ
ル、nMOSトランジスタ119−6=OFFとされる
と共に、リセット信号RS6=Lレベル、pMOSトラ
ンジスタ121−6=ONとされ、積分容量117−6
の蓄積電圧が電源電圧Vddにリセットされる。
Subsequently, the sampling signal SP6 = L level, the nMOS transistor 119-6 = OFF, the reset signal RS6 = L level, the pMOS transistor 121-6 = ON, and the integration capacitance 117-6.
Is reset to the power supply voltage Vdd.

【0188】そして、時刻T4になると、リセット信号
RS6=Hレベル、pMOSトランジスタ121−6=
OFFとされると共に、スイッチング制御信号SW4=
Hレベルとされ、スイッチング回路網75においては、
nMOSトランジスタ85、92、103、110=O
Nとされ、積分容量117−1、117−3、117−
5、117−7には、それぞれ、図21に示すように、
画素信号G2、G1、G4、G3が供給される。
Then, at time T4, the reset signal RS6 = H level and the pMOS transistor 121-6 =
OFF and the switching control signal SW4 =
H level, and in the switching network 75,
nMOS transistors 85, 92, 103, 110 = O
N, and the integral capacities 117-1, 117-3, 117-
5, 117-7 respectively, as shown in FIG.
The pixel signals G2, G1, G4, G3 are supplied.

【0189】そして、画素信号供給期間ΔT4が終了す
ると、スイッチング制御信号SW4=Lレベルとされ、
nMOSトランジスタ85、92、103、110=O
FFとされると共に、サンプリング信号SP5=Hレベ
ル、nMOSトランジスタ119−5=ONとされ、積
分容量117−5の蓄積電圧がnMOSトランジスタ1
20のゲートに印加される。
When the pixel signal supply period ΔT4 ends, the switching control signal SW4 is set to L level, and
nMOS transistors 85, 92, 103, 110 = O
At the same time as the FF, the sampling signal SP5 = H level, the nMOS transistor 119-5 = ON, and the accumulated voltage of the integration capacitor 117-5 is changed to the nMOS transistor 1
20 applied to the gate.

【0190】続いて、サンプリング信号SP5=Lレベ
ル、nMOSトランジスタ119−5=OFFとされる
と共に、リセット信号RS5=Lレベル、pMOSトラ
ンジスタ121−5=ONとされ、積分容量117−5
の蓄積電圧が電源電圧Vddにリセットされる。
Subsequently, the sampling signal SP5 = L level, the nMOS transistor 119-5 = OFF, the reset signal RS5 = L level, the pMOS transistor 121-5 = ON, and the integration capacitance 117-5.
Is reset to the power supply voltage Vdd.

【0191】そして、時刻T5になると、リセット信号
RS5=Hレベル、pMOSトランジスタ121−5=
OFFとされると共に、スイッチング制御信号SW5=
Hレベルとされ、スイッチング回路網75においては、
nMOSトランジスタ90、97、104、115=O
Nとされ、積分容量117−2、117−4、117−
6、117−8には、それぞれ、図21に示すように、
画素信号G3、G4、G1、G2が供給される。
At time T5, the reset signal RS5 = H level and the pMOS transistor 121-5 =
OFF and the switching control signal SW5 =
H level, and in the switching network 75,
nMOS transistors 90, 97, 104, 115 = O
N and the integral capacity 117-2, 117-4, 117-
6, 117-8 respectively, as shown in FIG.
The pixel signals G3, G4, G1, G2 are supplied.

【0192】そして、画素信号供給期間ΔT5が終了す
ると、スイッチング制御信号SW5=Lレベルとされ、
nMOSトランジスタ90、97、104、115=O
FFとされると共に、サンプリング信号SP4=Hレベ
ル、nMOSトランジスタ119−4=ONとされ、積
分容量117−4の積分値がnMOSトランジスタ12
0のゲートに印加される。
When the pixel signal supply period ΔT5 ends, the switching control signal SW5 is set to L level,
nMOS transistors 90, 97, 104, 115 = O
FF, the sampling signal SP4 = H level, the nMOS transistor 119-4 = ON, and the integration value of the integration capacitor 117-4 is changed to the nMOS transistor 12
0 is applied to the gate.

【0193】続いて、サンプリング信号SP4=Lレベ
ル、nMOSトランジスタ119−4=OFFとされる
と共に、リセット信号RS4=Lレベル、pMOSトラ
ンジスタ121−4=ONとされ、積分容量117−4
の蓄積電圧が電源電圧Vddにリセットされる。
Subsequently, the sampling signal SP4 = L level, the nMOS transistor 119-4 = OFF, the reset signal RS4 = L level, the pMOS transistor 121-4 = ON, and the integration capacitance 117-4.
Is reset to the power supply voltage Vdd.

【0194】そして、時刻T6になると、リセット信号
RS4=Hレベル、pMOSトランジスタ121−4=
OFFとされると共に、スイッチング制御信号SW6=
Hレベルとされ、スイッチング回路網75においては、
nMOSトランジスタ86、93、100、111=O
Nとされ、積分容量117−1、117−3、117−
5、117−7には、それぞれ、図21に示すように、
画素信号G3、G4、G1、G2が供給される。
Then, at time T6, the reset signal RS4 = H level and the pMOS transistor 121-4 =
OFF and the switching control signal SW6 =
H level, and in the switching network 75,
nMOS transistors 86, 93, 100, 111 = O
N, and the integral capacities 117-1, 117-3, 117-
5, 117-7 respectively, as shown in FIG.
The pixel signals G3, G4, G1, G2 are supplied.

【0195】そして、画素信号供給期間ΔT6が終了す
ると、スイッチング制御信号SW6=Lレベルとされ、
nMOSトランジスタ86、93、100、111=O
FFとされると共に、サンプリング信号SP3=Hレベ
ル、nMOSトランジスタ119−3=ONとされ、積
分容量117−3の蓄積電圧がnMOSトランジスタ1
20のゲートに印加される。
When the pixel signal supply period ΔT6 ends, the switching control signal SW6 is set to L level,
nMOS transistors 86, 93, 100, 111 = O
FF, the sampling signal SP3 = H level, the nMOS transistor 119-3 = ON, and the accumulated voltage of the integration capacitor 117-3 is changed to the nMOS transistor 1
20 applied to the gate.

【0196】続いて、サンプリング信号SP3=Lレベ
ル、nMOSトランジスタ119−3=OFFとされる
と共に、リセット信号RS3=Lレベル、pMOSトラ
ンジスタ121−3=ONとされ、積分容量117−3
の蓄積電圧が電源電圧Vddにリセットされる。
Subsequently, the sampling signal SP3 = L level, the nMOS transistor 119-3 = OFF, the reset signal RS3 = L level, the pMOS transistor 121-3 = ON, and the integration capacitance 117-3.
Is reset to the power supply voltage Vdd.

【0197】そして、時刻T7になると、リセット信号
RS3=Hレベル、pMOSトランジスタ121−3=
OFFとされると共に、スイッチング制御信号SW7=
Hレベルとされ、スイッチング回路網75においては、
nMOSトランジスタ91、98、105、112=O
Nとされ、積分容量117−2、117−4、117−
6、117−8には、それぞれ、図21に示すように、
画素信号G4、G1、G2、G3が供給される。
Then, at time T7, the reset signal RS3 = H level, the pMOS transistor 121-3 =
OFF and the switching control signal SW7 =
H level, and in the switching network 75,
nMOS transistors 91, 98, 105, 112 = O
N and the integral capacity 117-2, 117-4, 117-
6, 117-8 respectively, as shown in FIG.
Pixel signals G4, G1, G2, G3 are supplied.

【0198】そして、画素信号供給期間ΔT7が終了す
ると、スイッチング制御信号SW7=Lレベルとされ、
nMOSトランジスタ91、98、105、112=O
FFとされると共に、サンプリング信号SP2=Hレベ
ル、nMOSトランジスタ119−2=ONとされ、積
分容量117−2の蓄積電圧がnMOSトランジスタ1
20のゲートに印加される。
When the pixel signal supply period ΔT7 ends, the switching control signal SW7 is set to L level,
nMOS transistors 91, 98, 105, 112 = O
FF, the sampling signal SP2 = H level, the nMOS transistor 119-2 = ON, and the accumulated voltage of the integration capacitor 117-2 is changed to the nMOS transistor 1
20 applied to the gate.

【0199】続いて、サンプリング信号SP2=Lレベ
ル、nMOSトランジスタ119−2=OFFとされる
と共に、リセット信号RS2=Lレベル、pMOSトラ
ンジスタ121−2=ONとされ、積分容量117−2
の蓄積電圧が電源電圧Vddにリセットされる。
Subsequently, the sampling signal SP2 = L level, the nMOS transistor 119-2 = OFF, the reset signal RS2 = L level, the pMOS transistor 121-2 = ON, and the integration capacitance 117-2.
Is reset to the power supply voltage Vdd.

【0200】その後、時刻T8になると、リセット信号
RS2=Hレベル、pMOSトランジスタ121−2=
OFFとされると共に、スイッチング制御信号SW8=
Hレベルとされ、スイッチング回路網75においては、
nMOSトランジスタ87、94、101、108=O
Nとされ、積分容量117−1、117−3、117−
5、117−7には、それぞれ、図21に示すように、
画素信号G4、G1、G2、G3が供給される。
Thereafter, at time T8, reset signal RS2 = H level, pMOS transistor 121-2 =
OFF and the switching control signal SW8 =
H level, and in the switching network 75,
nMOS transistors 87, 94, 101, 108 = O
N, and the integral capacities 117-1, 117-3, 117-
5, 117-7 respectively, as shown in FIG.
Pixel signals G4, G1, G2, G3 are supplied.

【0201】そして、画素信号供給期間ΔT8が終了す
ると、スイッチング制御信号SW8=Lレベルとされ、
nMOSトランジスタ87、94、101、108=O
FFとされると共に、サンプリング信号SP1=Hレベ
ル、nMOSトランジスタ119−1=ONとされ、積
分容量117−1の蓄積電圧がnMOSトランジスタ1
20のゲートに印加される。
When the pixel signal supply period ΔT8 ends, the switching control signal SW8 is set to L level, and
nMOS transistors 87, 94, 101, 108 = O
At the same time, the sampling signal SP1 is set to the H level, the nMOS transistor 119-1 is set to ON, and the accumulated voltage of the integration capacitor 117-1 is changed to the FF.
20 applied to the gate.

【0202】続いて、サンプリング信号SP1=Lレベ
ル、nMOSトランジスタ119−1=OFFとされる
と共に、リセット信号RS1=Lレベル、pMOSトラ
ンジスタ121−1=ONとされ、積分容量117−1
の蓄積電圧が電源電圧Vddにリセットされる。以下、同
様の動作が繰り返される。
Subsequently, the sampling signal SP1 is set at the L level, the nMOS transistor 119-1 is turned off, the reset signal RS1 is set at the L level, the pMOS transistor 121-1 is turned on, and the integration capacitance 117-1 is set.
Is reset to the power supply voltage Vdd. Hereinafter, the same operation is repeated.

【0203】図22は本発明のTDI回路の第4実施形
態72により得られる時間遅延積分結果を説明するため
の図であり、図22中、124は撮像対象、a〜pは画
像信号を得るべき撮像対象124の撮像点である。
FIG. 22 is a diagram for explaining the time delay integration result obtained by the fourth embodiment 72 of the TDI circuit of the present invention. In FIG. 22, reference numeral 124 denotes an imaging object, and a to p obtain image signals. This is the imaging point of the imaging target 124 to be taken.

【0204】この例は、受光素子70−1は撮像点g〜
pを順に走査し、受光素子70−2は撮像点e〜nを順
に走査し、受光素子70−3は撮像点c〜lを順に走査
し、受光素子70−4は撮像点a〜jを順に走査するよ
うに、赤外線ラインセンサを走査方向に移動する場合を
示している。なお、A〜Pは、それぞれ、1個の受光素
子が各撮像点a〜pを撮像した場合に得られる画素信号
を示している。
In this example, the light receiving element 70-1 has the imaging points g to
p, the light receiving element 70-2 sequentially scans the imaging points e to n, the light receiving element 70-3 sequentially scans the imaging points c to l, and the light receiving element 70-4 scans the imaging points a to j. The case where the infrared line sensor is moved in the scanning direction so as to scan sequentially is shown. A to P indicate pixel signals obtained when one light receiving element captures each of the imaging points a to p.

【0205】図23は図22に示すように撮像対象12
4を走査した場合における画素信号供給期間ΔT1〜Δ
T10と、受光素子70−1〜70−4から出力される
画素信号G1〜G4と、積分容量117−1〜117−
4に供給される画素信号と、サンプリングされた蓄積電
圧V0を形成した画素信号との関係を示す図である。
FIG. 23 is a view showing the state of the imaging object 12 as shown in FIG.
4 when the pixel signal is supplied.
T10, pixel signals G1 to G4 output from the light receiving elements 70-1 to 70-4, and integration capacitors 117-1 to 117-
FIG. 4 is a diagram illustrating a relationship between a pixel signal supplied to a pixel signal No. 4 and a pixel signal forming a sampled accumulated voltage V0.

【0206】即ち、本発明のTDI回路の第4実施形態
72においては、TDI走査開始後、撮像対象124の
端部の撮像点aから7個目以降の撮像点g、h、i・・
・の画素信号G、H、I・・・については、4回にわた
り時間遅延積分を行うことができる。
That is, in the fourth embodiment 72 of the TDI circuit of the present invention, after the start of TDI scanning, the seventh and subsequent imaging points g, h, i,.
The time delay integration can be performed four times for the pixel signals G, H, I,.

【0207】このように、本発明のTDI回路の第4実
施形態72によれば、受光素子70−1〜70−4から
出力される画素信号G1〜G4をスイッチング回路網7
5を介して積分容量117−1〜117−8に供給する
ことによりTDI機能を達成するようにしたことによ
り、入力回路74に画素選択トランジスタを備えてなる
回路構成の簡単な画素選択回路を設け、欠陥画素からの
画素信号を遮断することができるので、S/N比の向上
を図ることができ、これを4個の画素を1画素分の間隔
を開けて走査方向に配列してなる赤外線ラインセンサに
使用する場合には、全ての走査チャネルで高いS/N比
を得ることができる。
As described above, according to the fourth embodiment 72 of the TDI circuit of the present invention, the pixel signals G1 to G4 output from the light receiving elements 70-1 to 70-4 are switched to the switching network 7
The TDI function is achieved by supplying the integration capacitors 117-1 to 117-8 via the input / output circuit 5, thereby providing a simple pixel selection circuit having a circuit configuration including a pixel selection transistor in the input circuit 74. Since the pixel signal from the defective pixel can be cut off, the S / N ratio can be improved, and the infrared signal is formed by arranging four pixels in the scanning direction at intervals of one pixel. When used for a line sensor, a high S / N ratio can be obtained in all scanning channels.

【0208】なお、本発明のTDI回路の第4実施形態
72の入力回路74においては、本発明のTDI回路の
第2実施形態54の入力回路55が備えるカレントミラ
ー回路57−1〜57−4を備えていないが、これらカ
レントミラー回路57−1〜57−4を入力回路74に
設けるようにしても良い。
In the input circuit 74 of the fourth embodiment 72 of the TDI circuit of the present invention, the current mirror circuits 57-1 to 57-4 provided in the input circuit 55 of the second embodiment 54 of the TDI circuit of the present invention. However, the current mirror circuits 57-1 to 57-4 may be provided in the input circuit 74.

【0209】また、本発明のTDI回路の第4実施形態
72においては、サンプリング回路77−1〜77−4
に共通の出力バッファ回路79を備えるようにしている
が、この代わりに、本発明のTDI回路の第3実施形態
64のように、積分容量ごとに出力バッファ回路を設け
るようにしても良い。
Also, in the fourth embodiment 72 of the TDI circuit of the present invention, the sampling circuits 77-1 to 77-4
Is provided with a common output buffer circuit 79, but instead of this, an output buffer circuit may be provided for each integration capacitor as in the third embodiment 64 of the TDI circuit of the present invention.

【0210】また、本発明のTDI回路の第1実施形態
2、第2実施形態54、第3実施形態64及び第4実施
形態72においては、入力端子と画素選択トランジスタ
との間に入力トランジスタを設けるようにしているが、
これら入力トランジスタと同様の機能を有するトランジ
スタをスイッチング回路網と積分容量との間に設けるよ
うにしても良い。
In the first, second, third, and fourth embodiments of the TDI circuit of the present invention, an input transistor is provided between an input terminal and a pixel selection transistor. Although we are trying to provide
A transistor having the same function as these input transistors may be provided between the switching network and the integration capacitor.

【0211】[0211]

【発明の効果】本発明中、第1、第2又は第3の発明
(請求項1、2又は3記載のTDI回路)によれば、n
個の受光素子から出力される画素信号をスイッチング回
路網を介してp個の積分容量に供給することにより、T
DI機能を達成するようにしているので、n個の受光素
子から出力される画素信号を入力するための入力端子と
スイッチング回路網との間に、欠陥画素からの画素信号
を遮断するスイッチング素子を設けてなる簡単な回路構
成の画素選択回路を設けることができ、高いS/N比を
得ることができる。
According to the first, second or third aspect of the present invention (TDI circuit according to claim 1, 2 or 3), n
By supplying pixel signals output from the light receiving elements to p integration capacitors via a switching network, T
Since the DI function is achieved, a switching element for cutting off a pixel signal from a defective pixel is provided between an input terminal for inputting a pixel signal output from the n light receiving elements and the switching network. A pixel selection circuit having a simple circuit configuration can be provided, and a high S / N ratio can be obtained.

【0212】本発明中、第4の発明(請求項4記載のT
DI回路)によれば、積分容量ごとに出力バッファ回路
を設けているので、積分容量から出力される画像信号間
のクロストークを低減することができ、第3の発明より
も高いS/N比を得ることができる。
[0212] In the present invention, the fourth invention (T described in claim 4)
According to the DI circuit, since the output buffer circuit is provided for each integration capacitor, crosstalk between image signals output from the integration capacitor can be reduced, and the S / N ratio is higher than that of the third invention. Can be obtained.

【0213】本発明中、第5の発明(請求項5記載のT
DI回路)によれば、n個の受光素子から出力される画
素信号を入力するための入力端子とスイッチング回路網
との間に、画素選択トランジスタと画素選択制御回路か
らなる画素選択回路を設けているので、高いS/N比を
得ることができる。
[0213] In the present invention, the fifth invention (T described in claim 5)
DI circuit), a pixel selection circuit including a pixel selection transistor and a pixel selection control circuit is provided between an input terminal for inputting pixel signals output from n light receiving elements and a switching network. Therefore, a high S / N ratio can be obtained.

【0214】本発明中、第6の発明(請求項6記載のT
DI回路)によれば、受光素子にオフセット電流を供給
することができるようにしたことにより、積分容量が積
分する電流から受光素子のオフセット電流分を除去する
ことができるので、第5の発明よりも高いS/N比を得
ることができる。
In the present invention, the sixth invention (T as described in claim 6)
According to the DI circuit, since the offset current can be supplied to the light receiving element, the offset current of the light receiving element can be removed from the current integrated by the integration capacitor. High S / N ratio can be obtained.

【0215】本発明中、第7の発明(請求項7記載のT
DI回路)によれば、n個の受光素子から出力される画
素信号を入力するための入力端子とスイッチング回路網
との間に、画素選択トランジスタと画素選択制御回路か
らなる画素選択回路を設けているので、高いS/N比を
得ることができる。
In the present invention, the seventh invention (T described in claim 7)
DI circuit), a pixel selection circuit including a pixel selection transistor and a pixel selection control circuit is provided between an input terminal for inputting pixel signals output from n light receiving elements and a switching network. Therefore, a high S / N ratio can be obtained.

【0216】本発明中、第8の発明(請求項8記載のT
DI回路)によれば、第5、第6、第7の発明と同様の
効果を得ることができると共に、画素選択制御回路を簡
単な回路構成とすることができる。
In the present invention, the eighth invention (T described in claim 8)
According to the DI circuit, the same effects as those of the fifth, sixth, and seventh aspects can be obtained, and the pixel selection control circuit can have a simple circuit configuration.

【0217】本発明中、第9の発明(請求項9記載の画
像信号読出回路)によれば、第1、第2、第3、第4、
第5、第6、第7又は第8の発明を備えるとしているの
で、走査方向にn個、走査方向と直交する方向にm個の
受光素子を行列状に配列してなる撮像センサに使用する
場合には、全ての走査チャネルで高いS/N比を得るこ
とができる。
According to the ninth aspect of the present invention, according to the ninth aspect (the image signal reading circuit of the ninth aspect), the first, second, third, fourth,
Since the fifth, sixth, seventh or eighth invention is provided, the present invention is used for an image sensor in which n light receiving elements are arranged in a scanning direction and m light receiving elements are arranged in a matrix in a direction orthogonal to the scanning direction. In such a case, a high S / N ratio can be obtained in all the scanning channels.

【0218】本発明中、第10の発明(請求項10記載
の撮像デバイス)によれば、第9の発明の画像信号読出
回路を備えているので、全ての走査チャネルで高いS/
N比を得ることができる。
According to the tenth aspect of the present invention (the imaging device of the tenth aspect), since the image signal readout circuit of the ninth aspect is provided, a high S / S ratio is obtained in all the scanning channels.
An N ratio can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のTDI回路の第1実施形態を赤外線ラ
インセンサに形成された受光素子の一部と共に示す回路
図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of a TDI circuit of the present invention together with a part of a light receiving element formed in an infrared line sensor.

【図2】本発明のTDI回路の第1実施形態が備える入
力回路の構成を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of an input circuit provided in the first embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【図3】本発明のTDI回路の第1実施形態が備える入
力回路が備える画素選択制御回路の構成を示す回路図で
ある。
FIG. 3 is a circuit diagram illustrating a configuration of a pixel selection control circuit included in an input circuit included in the first embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【図4】本発明のTDI回路の第1実施形態が備えるス
イッチング回路網、積分回路、サンプリング回路、リセ
ット回路及び出力バッファ回路の構成を示す回路図であ
る。
FIG. 4 is a circuit diagram showing configurations of a switching network, an integration circuit, a sampling circuit, a reset circuit, and an output buffer circuit provided in the first embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【図5】本発明の撮像デバイスの一実施形態を示す回路
図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an embodiment of the imaging device of the present invention.

【図6】本発明のTDI回路の第1実施形態の駆動タイ
ミングを示すタイミングチャートである。
FIG. 6 is a timing chart showing the drive timing of the first embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【図7】本発明のTDI回路の第1実施形態における積
分容量と、積分容量に供給される画素信号との関係を示
す図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a relationship between an integration capacitance and a pixel signal supplied to the integration capacitance in the first embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【図8】本発明のTDI回路の第1実施形態により得ら
れる時間遅延積分結果を説明するための図である。
FIG. 8 is a diagram for explaining a time delay integration result obtained by the first embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【図9】図8に示すように撮像対象を走査した場合にお
ける画素信号供給期間と、受光素子から出力される画素
信号と、積分容量に供給される画素信号と、サンプリン
グされた電圧V0を形成した画素信号との関係を示す図
である。
FIG. 9 shows a pixel signal supply period when an imaging target is scanned as shown in FIG. 8, a pixel signal output from a light receiving element, a pixel signal supplied to an integration capacitor, and a sampled voltage V0. FIG. 6 is a diagram showing a relationship with a pixel signal obtained.

【図10】本発明のTDI回路の第2実施形態を赤外線
ラインセンサに形成された受光素子の一部と共に示す回
路図である。
FIG. 10 is a circuit diagram showing a second embodiment of the TDI circuit of the present invention together with a part of a light receiving element formed in an infrared line sensor.

【図11】本発明のTDI回路の第2実施形態が備える
入力回路の構成を示す回路図である。
FIG. 11 is a circuit diagram showing a configuration of an input circuit provided in a second embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【図12】本発明のTDI回路の第2実施形態が備える
入力回路が備えるカレントミラー回路の構成を示す回路
図である。
FIG. 12 is a circuit diagram illustrating a configuration of a current mirror circuit included in an input circuit included in a second embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【図13】本発明のTDI回路の第3実施形態を赤外線
ラインセンサに形成された受光素子の一部と共に示す回
路図である。
FIG. 13 is a circuit diagram showing a third embodiment of the TDI circuit of the present invention together with a part of a light receiving element formed in an infrared line sensor.

【図14】本発明のTDI回路の第3実施形態が備える
出力バッファ回路及びサンプリング回路の構成を示す回
路図である。
FIG. 14 is a circuit diagram showing configurations of an output buffer circuit and a sampling circuit provided in a third embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【図15】本発明のTDI回路の第4実施形態を赤外線
ラインセンサに形成された受光素子の一部と共に示す回
路図である。
FIG. 15 is a circuit diagram showing a fourth embodiment of the TDI circuit of the present invention together with a part of a light receiving element formed in an infrared line sensor.

【図16】本発明のTDI回路の第4実施形態が備える
スイッチング回路網の構成を分図して示す回路図であ
る。
FIG. 16 is a circuit diagram separately illustrating a configuration of a switching network included in a fourth embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【図17】本発明のTDI回路の第4実施形態が備える
スイッチング回路網の構成を分図して示す回路図であ
る。
FIG. 17 is a circuit diagram separately illustrating a configuration of a switching network included in a fourth embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【図18】本発明のTDI回路の第4実施形態が備える
積分回路の一部、サンプリング回路の一部及びリセット
回路の一部の構成を示す回路図である。
FIG. 18 is a circuit diagram illustrating a configuration of a part of an integration circuit, a part of a sampling circuit, and a part of a reset circuit included in a fourth embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【図19】本発明のTDI回路の第4実施形態が備える
積分回路の一部、サンプリング回路の一部、リセット回
路の一部及び出力バッファ回路の構成を示す回路図であ
る。
FIG. 19 is a circuit diagram showing a configuration of a part of an integration circuit, a part of a sampling circuit, a part of a reset circuit, and an output buffer circuit included in a fourth embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【図20】本発明のTDI回路の第4実施形態の駆動タ
イミングを示すタイミングチャートである。
FIG. 20 is a timing chart showing the drive timing of a fourth embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【図21】本発明のTDI回路の第4実施形態における
積分容量と、積分容量に供給される画素信号との関係を
示す図である。
FIG. 21 is a diagram illustrating a relationship between an integration capacitance and a pixel signal supplied to the integration capacitance in a fourth embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【図22】本発明のTDI回路の第4実施形態により得
られる時間遅延積分結果を説明するための図である。
FIG. 22 is a diagram for explaining a time delay integration result obtained by a fourth embodiment of the TDI circuit of the present invention.

【図23】図22に示すように撮像対象を走査した場合
における画素信号供給期間と、受光素子から出力される
画素信号と、積分容量に供給される画素信号と、サンプ
リングされた蓄積電圧を形成した画素信号との関係を示
す図である。
FIG. 23 is a diagram illustrating a pixel signal supply period when a target to be imaged is scanned as shown in FIG. 22, a pixel signal output from a light receiving element, a pixel signal supplied to an integration capacitor, and a sampled storage voltage; FIG. 6 is a diagram showing a relationship with a pixel signal obtained.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1−1〜1−4 受光素子 G1〜G4 画素信号 6−1〜6−4 積分回路 7−1〜7−4 サンプリング回路 8−1〜8−4 リセット回路 1-1 to 1-4 Light receiving elements G1 to G4 Pixel signal 6-1 to 6-4 Integrating circuit 7-1 to 7-4 Sampling circuit 8-1 to 8-4 Reset circuit

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光学系の走査方向に配列されたn個(但
し、nは2以上の整数である。)の受光素子から出力さ
れる画素信号を時間遅延積分するTDI回路であって、 p個(但し、pはp=knを満足する整数であり、kは
正の整数である。)の積分容量と、 同一撮像点の画素信号は、同一の積分容量に供給される
ように、前記n個の受光素子から出力される画素信号を
前記p個の積分容量に供給するスイッチング回路網とを
備えていることを特徴とするTDI回路。
1. A TDI circuit for time-delay integrating pixel signals output from n light-receiving elements arranged in a scanning direction of an optical system (where n is an integer of 2 or more). (Where p is an integer that satisfies p = kn and k is a positive integer) and the pixel signals at the same imaging point are supplied to the same integration capacitance. a switching network for supplying pixel signals output from the n light receiving elements to the p integration capacitors.
【請求項2】前記スイッチング回路網は、前記p個の積
分容量のそれぞれに対応させて設けられたp個のスイッ
チング単位回路網を有し、 各スイッチング単位回路網は、前記n個の受光素子から
同時に出力されるn個の画素信号の中の1個を選択し、
対応する積分容量に供給するように制御されることを特
徴とする請求項1記載のTDI回路。
2. The switching network has p switching unit networks provided corresponding to each of the p integration capacitors, and each switching unit network includes the n light receiving elements. Select one of the n pixel signals output simultaneously from
2. The TDI circuit according to claim 1, wherein the TDI circuit is controlled so as to supply a corresponding integral capacitance.
【請求項3】前記p個の積分容量のそれぞれに対応させ
て設けられ、対応する積分容量の蓄積電圧をサンプリン
グするp個のサンプリング回路と、 前記p個の積分容量のそれぞれに対応させて設けられ、
対応する積分容量の蓄積電圧を一定の電圧値にリセット
するp個のリセット回路と、 入力端を前記p個のサンプリング回路の出力端に共通接
続された出力バッファ回路とを有し、 前記p個のサンプリング回路は、所定の順番、かつ、周
期的に、対応する積分容量の蓄積電圧をサンプリングす
るように制御され、 前記p個のリセット回路は、蓄積電圧をサンプリングさ
れた対応する積分容量を一定の電圧値にリセットするよ
うに制御されることを特徴とする請求項1記載のTDI
回路。
3. A p-number of sampling circuits which are provided corresponding to each of said p-number of integration capacitors and sample the accumulated voltage of the corresponding integration capacitance, and are provided corresponding to each of said p-number of integration capacitors. And
A plurality of p reset circuits for resetting a storage voltage of a corresponding integration capacitor to a constant voltage value; and an output buffer circuit having an input terminal commonly connected to an output terminal of the p sampling circuits. Are controlled so as to sample the accumulated voltage of the corresponding integration capacitance in a predetermined order and periodically, and the p reset circuits keep the corresponding integration capacitance of which the accumulation voltage is sampled constant. 2. The TDI according to claim 1, wherein the TDI is controlled to be reset to a predetermined voltage value.
circuit.
【請求項4】前記p個の積分容量のそれぞれに対応させ
て設けられ、入力端を対応する積分容量の画素信号が印
加される電極に接続されたp個の出力バッファ回路と、 前記p個の出力バッファ回路のそれぞれに対応させて設
けられ、対応する出力バッファ回路の出力電圧をサンプ
リングするp個のサンプリング回路と、 前記p個の積分容量のそれぞれに対応させて設けられ、
対応する積分容量の蓄積電圧を一定の電圧値にリセット
するp個のリセット回路とを有し、 前記p個のサンプリング回路は、所定の順番、かつ、周
期的に、対応する出力バッファ回路の出力電圧をサンプ
リングするように制御され、 前記p個のリセット回路は、蓄積電圧をサンプリングさ
れた対応する積分容量を一定の電圧値にリセットするよ
うに制御されることを特徴とする請求項1記載のTDI
回路。
4. An output buffer circuit provided in correspondence with each of the p integration capacitors and having an input terminal connected to an electrode to which a pixel signal of the corresponding integration capacitance is applied, And p sampling circuits for sampling the output voltage of the corresponding output buffer circuit are provided in correspondence with each of the output buffer circuits, and provided in correspondence with each of the p integration capacitors.
And p reset circuits for resetting the accumulation voltage of the corresponding integration capacitance to a constant voltage value, wherein the p sampling circuits output the output of the corresponding output buffer circuit in a predetermined order and periodically. 2. The control circuit according to claim 1, wherein the p reset circuits are controlled to sample a voltage, and the p reset circuits are controlled to reset a corresponding integration capacitance sampled from the accumulated voltage to a constant voltage value. TDI
circuit.
【請求項5】前記n個の受光素子のそれぞれに対応させ
て設けられ、対応する受光素子から出力される画素信号
を入力するためのn個の入力端子と、 前記n個の入力端子のそれぞれに対応させて設けられ、
第1の電流入出力電極を対応する入力端子に接続され、
制御電極に一定電圧が印加されるn個の入力トランジス
タと、 前記n個の入力トランジスタのそれぞれに対応させて設
けられ、第1の電流入出力電極を対応する入力トランジ
スタの第2の電流入出力電極に接続され、第2の電流入
出力電極を前記スイッチング回路網に接続されたn個の
画素選択トランジスタと、 欠陥画素情報に基づいて、前記n個の画素選択トランジ
スタのそれぞれのオン、オフを制御する画素選択制御回
路とを備えていることを特徴とする請求項1記載のTD
I回路。
5. An n input terminal provided corresponding to each of said n light receiving elements, for inputting a pixel signal output from the corresponding light receiving element, and each of said n input terminals Is provided corresponding to the
A first current input / output electrode is connected to a corresponding input terminal;
N input transistors to which a constant voltage is applied to the control electrode; and a second current input / output of a corresponding input transistor provided corresponding to each of the n input transistors. A second current input / output electrode connected to the switching circuit network and a second current input / output electrode; and turning on / off each of the n pixel selection transistors based on defective pixel information. 2. The TD according to claim 1, further comprising a pixel selection control circuit for controlling.
I circuit.
【請求項6】第1の電流入出力電極を対応する入力トラ
ンジスタの第2の電流入出力電極に接続され、第2の電
流入出力電極に所定の電圧が印加されるオフセット電流
供給用トランジスタと、 第1の電極を前記オフセット電流供給用トランジスタの
制御電極に接続され、第2の電極を前記オフセット電流
供給用トランジスタの第2の電流入出力電極に接続さ
れ、前記オフセット電流供給用トランジスタの制御電極
に制御電圧を印加するための制御電圧印加用容量と、 第1の電流入出力電極を対応する入力トランジスタの第
2の電流入出力電極に接続され、第2の電流入出力電極
を前記制御電圧印加用容量の第2の電極に接続され、制
御電極にサンプルホールド信号が印加され、前記オフセ
ット電流供給用トランジスタの制御電極に印加すべき制
御電圧を前記制御電圧印加用容量にホールドさせるサン
プルホールドトランジスタとを備えているカレントミラ
ー回路を前記n個の入力トランジスタのそれぞれに対応
させて備えていることを特徴とする請求項5記載のTD
I回路。
6. An offset current supply transistor, wherein a first current input / output electrode is connected to a second current input / output electrode of a corresponding input transistor, and a predetermined voltage is applied to the second current input / output electrode. A first electrode connected to a control electrode of the offset current supply transistor, a second electrode connected to a second current input / output electrode of the offset current supply transistor, and control of the offset current supply transistor A control voltage application capacitor for applying a control voltage to the electrode; a first current input / output electrode connected to a second current input / output electrode of a corresponding input transistor; A sample and hold signal is applied to the control electrode, which is connected to the second electrode of the voltage application capacitor, and should be applied to the control electrode of the offset current supply transistor. TD according to claim 5, characterized in that it comprises in correspondence with each of the n input transistor a current mirror circuit of the control voltage and a sample hold transistor to hold the control voltage applying capacitor
I circuit.
【請求項7】前記n個の受光素子のそれぞれに対応させ
て設けられ、対応する受光素子が出力する画素信号を入
力するためのn個の入力端子と、 前記n個の入力端子のそれぞれに対応させて設けられ、
第1の電流入出力電極を対応する入力端子に接続され、
第2の電流入出力電極を前記スイッチング回路網に接続
されたn個の画素選択トランジスタと、 欠陥画素情報に基づいて、前記n個の画素選択トランジ
スタのそれぞれのオン、オフを制御する画素選択制御回
路と、 前記p個のスイッチング単位回路網のそれぞれに対応さ
せて設けられ、第1の電流入出力電極を対応するスイッ
チング単位回路網の出力端に接続され、第2の電流入出
力電極を対応する積分回路に接続され、制御電極に一定
電圧が印加されるp個のトランジスタとを備えているこ
とを特徴とする請求項2記載のTDI回路。
7. An n number of input terminals provided to correspond to each of said n light receiving elements, for inputting a pixel signal output from the corresponding light receiving element; Provided correspondingly,
A first current input / output electrode is connected to a corresponding input terminal;
A pixel selection transistor having a second current input / output electrode connected to the switching network; and a pixel selection control for controlling on / off of each of the n pixel selection transistors based on defective pixel information. A first current input / output electrode is connected to an output end of the corresponding switching unit network, and a second current input / output electrode is connected to the output terminal of the corresponding switching unit network. 3. The TDI circuit according to claim 2, further comprising: p transistors connected to the integrating circuit for applying a constant voltage to the control electrode.
【請求項8】画素選択制御回路は、前記n個の画素選択
トランジスタのそれぞれに対応させて設けられたn個の
RSフリップフロップ回路と、 前記n個のRSフリップフロップ回路のそれぞれに対応
させて設けられ、欠陥画素情報を記憶させるレジスタ
と、 前記n個のRSフリップフロップ回路のそれぞれに対応
させて設けられ、一端を対応するレジスタの出力端に接
続され、他端を対応するRSフリップフロップ回路のリ
セット信号入力端子に接続され、書込み信号によりオ
ン、オフが制御されるn個の第1のスイッチ素子と、 前記n個のRSフリップフロップ回路のそれぞれに対応
させて設けられ、一端を高電位側の電源線に接続され、
他端を対応するRSフリップフロップ回路のリセット信
号入力端子に接続され、リセット信号によりオン、オフ
が制御されるn個の第2のスイッチ素子とを備えている
ことを特徴とする請求項5、6又は7記載のTDI回
路。
8. A pixel selection control circuit comprising: n RS flip-flop circuits provided corresponding to each of said n pixel selection transistors; and a plurality of RS flip-flop circuits corresponding to each of said n RS flip-flop circuits. A register for storing defective pixel information, and an RS flip-flop circuit provided corresponding to each of the n RS flip-flop circuits, one end of which is connected to the output end of the corresponding register, and the other end of which corresponds to the RS flip-flop circuit. N switch elements, each of which is connected to a reset signal input terminal thereof and whose on / off state is controlled by a write signal, and which is provided in correspondence with each of the n RS flip-flop circuits, and has one end connected to a high potential. Connected to the power line on the
6. The semiconductor device according to claim 5, further comprising: n second switch elements connected to the reset signal input terminal of the corresponding RS flip-flop circuit at the other end, the on / off states of which are controlled by the reset signal. The TDI circuit according to 6 or 7.
【請求項9】走査方向にn個、走査方向と直交する方向
にm個の受光素子を行列状に配列した撮像センサのm個
の走査チャネル数のそれぞれに対応させて設けられたm
個の請求項1、2、3、4、5、6、7又は8記載のT
DI回路と、 前記m個の請求項1、2、3、4、5、6、7又は8記
載のTDI回路により得られる前記m個の走査チャネル
の画素信号を1次元的に多重化された画像信号とするよ
うに、前記m個の請求項1、2、3、4、5、6、7又
は8記載のTDI回路からの画素信号の読出しを制御す
る読出し制御回路とを備えていることを特徴とする画像
信号読出回路。
9. An image sensor in which n light receiving elements are arranged in a matrix in a scanning direction and m light receiving elements in a direction perpendicular to the scanning direction are provided in correspondence with m scanning channels.
T according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 or 8
A DI circuit, and pixel signals of the m scanning channels obtained by the m TDI circuits according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, or 8 are one-dimensionally multiplexed. A read control circuit for controlling reading of pixel signals from the m TDI circuits according to any one of claims 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 and 8 so as to generate an image signal. An image signal reading circuit characterized by the above-mentioned.
【請求項10】走査方向にn個、走査方向と直交する方
向にm個の受光素子を行列状に配列された撮像センサ
と、請求項9記載の画像信号読出回路とを備えているこ
とを特徴とする撮像デバイス。
10. An image sensor in which n light-receiving elements in a scanning direction and m light-receiving elements in a direction orthogonal to the scanning direction are arranged in a matrix, and the image signal reading circuit according to claim 9 is provided. Characteristic imaging device.
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