JPH1186221A - Thin film magnetic head - Google Patents
Thin film magnetic headInfo
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- JPH1186221A JPH1186221A JP24320197A JP24320197A JPH1186221A JP H1186221 A JPH1186221 A JP H1186221A JP 24320197 A JP24320197 A JP 24320197A JP 24320197 A JP24320197 A JP 24320197A JP H1186221 A JPH1186221 A JP H1186221A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、磁気ディスク装
置等に用いられる薄膜磁気ヘッドに係わり、特に、書込
（記録）ヘッドと再生（読取）ヘッドとを分離して形成
した薄膜磁気ヘッドの書込（記録）ヘッドに関するもの
である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin-film magnetic head used for a magnetic disk drive or the like, and more particularly to a thin-film magnetic head having a write (recording) head and a reproducing (read) head formed separately. It relates to a print (recording) head.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、磁気ヘッドはフェライトコアなど
に巻線を巻いたバルクヘッドが主であったが、磁性薄膜
と平面コイルを組み合わせた薄膜磁気ヘッドが提案さ
れ、大型、大容量の磁気ディスク装置に搭載されるよう
になった。薄膜磁気ヘッドはバルクヘッドに比べて磁気
回路が小さく、高周波特性に優れた磁性薄膜を用いるこ
とから、記録・再生能力に優れ高速データ転送が可能で
あり、また、リソグラフィ技術を用いて基板上に一括形
成されることから、寸法精度が高く特性の安定したヘッ
ドが大量生産が可能であることから広く普及するように
なった。2. Description of the Related Art Conventionally, a magnetic head has been mainly a bulk head in which a winding is wound around a ferrite core or the like. However, a thin film magnetic head combining a magnetic thin film and a planar coil has been proposed, and a large, large-capacity magnetic disk has been proposed. It is now mounted on the device. Thin-film magnetic heads have smaller magnetic circuits than bulkheads and use magnetic thin films with excellent high-frequency characteristics, so they have excellent recording / reproducing capabilities and are capable of high-speed data transfer. Since they are formed in a lump, heads having high dimensional accuracy and stable characteristics can be mass-produced, and thus have become widely used.
【０００３】この種の薄膜磁気磁気ヘッドとしては、ま
ず、書込（記録）と再生（読取）の両機能を１つのヘッ
ドで兼用したインダクティブヘッドが開発された。この
インダクティブヘッドは書込（記録）と再生（読取）の
両機能を備えているため、それぞれの機能がバランスす
るように設計されている。ところで、近年、磁気抵抗
（ＭＲ）効果素子を用いた再生ヘッド（読取ヘッド）と
書込ヘッド（インダクティブヘッド）とを分離して形成
したＭＲヘッドあるいはＧＭＲヘッドが開発されるよう
になった。この種のＭＲヘッドあるいはＧＭＲヘッドは
書込（記録）と再生（読取）の機能が別々であるため、
書込性能および再生性能をそれぞれ最適化する必要があ
る。[0003] As a thin film magnetic head of this type, an inductive head has been developed in which a single head has both functions of writing (recording) and reproducing (reading). Since the inductive head has both writing (recording) and reproduction (reading) functions, the inductive head is designed so that the respective functions are balanced. By the way, in recent years, an MR head or a GMR head formed by separating a reproducing head (read head) and a write head (inductive head) using a magnetoresistive (MR) effect element has been developed. Since this type of MR head or GMR head has different functions of writing (recording) and reproducing (reading),
It is necessary to optimize the writing performance and the reproducing performance, respectively.
【０００４】通常、書込ヘッドは高い抗磁力の磁気記録
媒体（磁気ディスク）に対して鋭い磁界を印加すること
により高密度記録が可能となる。高密度記録を行えるよ
うにするためには、ポール間のギャップでの磁界強度を
大きくすればよい。このため、ギャップ先端部の磁性材
料として、磁気飽和が生じにくい高飽和磁束密度（Ｈｉ
−Ｂｓ）を有する磁性材料が使用される。Usually, a write head can perform high-density recording by applying a sharp magnetic field to a magnetic recording medium (magnetic disk) having a high coercive force. To enable high-density recording, the magnetic field strength in the gap between the poles may be increased. Therefore, as a magnetic material at the tip of the gap, a high saturation magnetic flux density (Hi
-Bs) is used.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、高飽和磁束
密度（Ｈｉ−Ｂｓ）を有する磁性材料を用いる場合、高
い起磁力で平面コイルを励磁する必要があるが、高い起
磁力で平面コイルを励磁するためには同一のコイルター
ン数では、平面コイルの励磁電流（書込電流）を大きく
する必要が生じる。しかしながら、平面コイルへの励磁
電流（書込電流）を大きくすると、平面コイルの発熱量
が大きくなってヘッド自体が発熱するため、磁気記録媒
体（磁気ディスク）に対する正確な書込が難しくなって
ヘッドの信頼性を損なうという問題を生じた。When a magnetic material having a high saturation magnetic flux density (Hi-Bs) is used, it is necessary to excite the planar coil with a high magnetomotive force. In order to achieve this, it is necessary to increase the exciting current (writing current) of the planar coil with the same number of coil turns. However, when the exciting current (writing current) to the planar coil is increased, the heating value of the planar coil is increased and the head itself generates heat, so that it is difficult to accurately write on the magnetic recording medium (magnetic disk). A problem that the reliability of the device is lost.
【０００６】一方、平面コイルへの励磁電流（書込電
流）を小さくする場合、平面コイルのコイルターン数を
増大させれば高い起磁力が得られるようになるが、コイ
ルターン数を増大させると、平面コイルのインダクタン
スが大きくなる。インダクタンスが大きくなると、高周
波でのインピーダンスの増大を伴うため、高周波での書
込能力が低下する。そのため、高記録密度を高速アクセ
ススピードで実現することが難しくなるという問題も生
じた。そこで、この発明は上記問題点に鑑みてなされた
ものであって、コイルのターン数を増やすことなく強く
て鋭い書込磁界をギャップに発生させて磁気記録媒体に
高記録密度で記録することができる薄膜磁気ヘッドを得
ることにある。On the other hand, when the exciting current (writing current) to the planar coil is reduced, a higher magnetomotive force can be obtained by increasing the number of coil turns of the planar coil. In addition, the inductance of the planar coil increases. When the inductance is increased, the impedance at high frequencies is increased, so that the writing performance at high frequencies is reduced. Therefore, there has been a problem that it is difficult to realize a high recording density at a high access speed. Therefore, the present invention has been made in view of the above problem, and it is possible to generate a strong and sharp write magnetic field in a gap without increasing the number of turns of a coil and to perform recording at a high recording density on a magnetic recording medium. It is an object of the present invention to obtain a thin film magnetic head that can be used.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段およびその作用・効果】こ
の発明は、上部磁性膜（上部コア）と下部磁性膜（下部
コア）との間に平面コイルを備え、前記上部磁性膜と下
部磁性膜との後端部に後方結合部を有するとともに同上
部磁性膜と下部磁性膜との先端部のポール間にギャップ
を備えた薄膜磁気ヘッドであって、上記課題を解決する
ために、本発明の第１の特徴は、ポールに近い方の平面
コイルの単位面積当たりのコイルターン数を後方結合部
に近い方の平面コイルの単位面積当たりのコイルターン
数より大きく形成してギャップでの漏洩磁束密度を大き
くするようにしたことにある。According to the present invention, a planar coil is provided between an upper magnetic film (upper core) and a lower magnetic film (lower core), and the upper magnetic film and the lower magnetic film are provided. A thin film magnetic head having a rear coupling portion at the rear end thereof and a gap between the poles at the front end of the upper magnetic film and the lower magnetic film. The first characteristic is that the number of coil turns per unit area of the planar coil closer to the pole is formed to be larger than the number of coil turns per unit area of the planar coil closer to the rear coupling portion, and the leakage magnetic flux density in the gap is increased. Is to be made larger.
【０００８】一般に、ギャップより上部で発生した磁束
はギャップより遠方になればなるほど途中で漏れを生じ
る。このため、コア全体のコイルターン数を等しくした
場合、ギャップより遠方のコイルターン数を大きくする
よりギャップ近傍のコイルターン数を大きくした方がギ
ャップでの漏洩磁束密度は大きくなる。したがって、本
発明のように、ポールに近い方の平面コイルの単位面積
当たりのコイルターン数を後方結合部に近い方の平面コ
イルの単位面積当たりのコイルターン数より大きく形成
すると、ギャップでの漏洩磁束密度が大きくなるため、
高記録密度で書込が可能となる。In general, the magnetic flux generated above the gap leaks on the way as the distance from the gap increases. For this reason, when the number of coil turns in the entire core is made equal, the leakage magnetic flux density in the gap becomes larger when the number of coil turns near the gap is made larger than when the number of coil turns farther from the gap is made larger. Therefore, when the number of coil turns per unit area of the planar coil closer to the pole is formed larger than the number of coil turns per unit area of the planar coil closer to the rear coupling portion as in the present invention, the leakage at the gap Because the magnetic flux density increases,
Writing can be performed at a high recording density.
【０００９】本発明の第２の特徴は、平面コイルのコイ
ル間隔を等しくするとともに、ポールに近い方の平面コ
イルのコイル幅を後方結合部に近い方の平面コイルのコ
イル幅より狭く形成したことにある。平面コイルのコイ
ル間隔を等しくした場合、平面コイルのコイル幅を狭く
すればするほど、単位面積当たりのコイルターン数が増
大するため、ポールに近い方の平面コイルのコイル幅を
後方結合部に近い方の平面コイルのコイル幅より狭く形
成すると、ポールに近い方の平面コイルの単位面積当た
りのコイルターン数は後方結合部に近い方の平面コイル
の単位面積当たりのコイルターン数より大きくなり、ギ
ャップでの漏洩磁束密度が大きくなって高記録密度で書
込が可能となる。A second feature of the present invention is that the coil spacing of the planar coil is made equal and the coil width of the planar coil closer to the pole is made smaller than the coil width of the planar coil closer to the rear coupling portion. It is in. If the coil interval of the planar coil is equal, the narrower the coil width of the planar coil, the greater the number of coil turns per unit area, so the coil width of the planar coil closer to the pole is closer to the rear coupling part. If it is formed narrower than the coil width of the other planar coil, the number of coil turns per unit area of the planar coil closer to the pole will be larger than the number of coil turns per unit area of the planar coil closer to the rear coupling, and the gap In this case, the magnetic flux density increases, and writing can be performed at a high recording density.
【００１０】[0010]
【発明の実施の形態】以下、この発明の薄膜磁気ヘッド
の実施形態を図を参照しながら説明する。なお、図１は
本発明の薄膜磁気ヘッドの一実施形態の要部を模式的に
示しており、図１（ａ）は断面図であり、図１（ｂ）は
その上面図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a thin-film magnetic head according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 schematically shows a main part of an embodiment of the thin-film magnetic head of the present invention. FIG. 1A is a sectional view, and FIG. 1B is a top view thereof.
【００１１】本実施形態の薄膜磁気ヘッド１０の書込用
薄膜磁気ヘッド素子１０ａは、図１に示すように、パー
マロイ（ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝８１：１９重量％））
等からなる下部磁性膜（下部コア）１２と、同様にパー
マロイ（ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝８１：１９重量％））
等からなる上部磁性膜（上部コア）１３との間に銅（Ｃ
ｕ）等からなる平面コイル１５を備え、上部コア１３と
下部コア１２との後端部に形成された後方結合部１４を
有するとともに下部コア１２と上部コア１３との先端部
のポール１２ａ，１３ａ間にギャップｇを備えている。As shown in FIG. 1, the thin-film magnetic head element 10a for writing of the thin-film magnetic head 10 of this embodiment is made of permalloy (NiFe (Ni: Fe = 81: 19% by weight)).
And a lower magnetic film (lower core) 12 made of, for example, permalloy (NiFe (Ni: Fe = 81: 19% by weight))
Copper (C) between the upper magnetic film (upper core) 13 made of
u) and the like, a rear coupling portion 14 formed at the rear end of the upper core 13 and the lower core 12, and poles 12a, 13a at the tip of the lower core 12 and the upper core 13. A gap g is provided between them.
【００１２】ここで、平面コイル１５はポール１２ａ，
１３ａから後方結合部１４に向けて１５ａ，１５ｂ，１
５ｃ，１５ｄ，１５ｅ，１５ｆ，１５ｇの７ターンが形
成されており、各平面コイル１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，
１５ｄ，１５ｅ，１５ｆ，１５ｇのコイル間隔を等しく
するとともに、各平面コイル１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，
１５ｄ，１５ｅ，１５ｆ，１５ｇのコイル幅はポール１
２ａ，１３ａから後方結合部１４に向けて順次幅が広く
なるように、即ち、１５ａのコイル幅＜１５ｂのコイル
幅＜１５ｃのコイル幅＜１５ｄのコイル幅＜１５ｅのコ
イル幅＜１５ｆのコイル幅＜１５ｇの関係になるように
形成されている。したがって、上部コア１３の単位面積
当たりのコイルターン数は後方結合部１４よりポール１
２ａ，１３ａに近づくほど大きくなる。Here, the plane coil 15 includes poles 12a,
15a, 15b, 1 from 13a toward the rear joint 14
7 turns of 5c, 15d, 15e, 15f, and 15g are formed, and each planar coil 15a, 15b, 15c,
The coil intervals of 15d, 15e, 15f, and 15g are made equal, and each of the planar coils 15a, 15b, 15c,
The coil width of 15d, 15e, 15f, 15g is pole 1.
2a, 13a, the width is sequentially increased from the rear coupling portion 14, that is, the coil width of 15a <the coil width of 15b <the coil width of 15c <the coil width of 15d <the coil width of 15e, the coil width of 15f. <15 g. Therefore, the number of coil turns per unit area of the upper core 13 is smaller than that of the pole 1
It becomes larger as it approaches 2a and 13a.
【００１３】平面コイル１５の上部に存在する上部コア
１３および平面コイル１５の下部に存在する下部コア１
２の先端部は、ポール幅に急激に絞られて磁気記録媒体
のトラック幅とほぼ同じ幅になるように形成されてい
る。なお、書込用下コアと磁気抵抗ヘッド素子の上シー
ルド層を兼用するシールド型磁気抵抗ヘッドに使用する
場合は、上部コア１３のコア幅は下部コア１２のコア幅
より挟幅となる。The upper core 13 located above the planar coil 15 and the lower core 1 located below the planar coil 15
The leading end of the magnetic recording medium 2 is sharply narrowed to a pole width and is formed to have a width substantially equal to the track width of the magnetic recording medium. When used in a shielded magnetoresistive head that also serves as the lower write core and the upper shield layer of the magnetoresistive head element, the core width of the upper core 13 is smaller than the core width of the lower core 12.
【００１４】このような薄膜磁気ヘッド１０は次のよう
にして製造される。まず、アルチック（Ａｌ2Ｏ3−Ｔｉ
Ｃ）などからなるセラミック基板上にウェハープロセス
により再生用の薄膜磁気ヘッド素子（ＭＲヘッド）（図
示せず）を形成する。このように再生用の薄膜磁気ヘッ
ド素子（ＭＲヘッド）を形成した基板１１の上面にパー
マロイ（ＮｉＦｅ）等からなる磁性膜を下部磁性層（下
部コア）１２として形成（なお、シールド型磁気抵抗ヘ
ッドに使用する場合は、上シールド層と下部コア１２と
は兼用される）した後、ギャップ長ｇに相当する厚さ１
μｍ程度のアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）膜（図示せず）をスパ
ッタ法で成膜する。このとき後で形成する上部磁性層
（上部コア）１３と直接接する部分（後方結合部）１４
にはアルミナ膜をつけないようにする。Such a thin-film magnetic head 10 is manufactured as follows. First, Altic (Al 2 O 3 —Ti
A thin-film magnetic head element (MR head) (not shown) for reproduction is formed on a ceramic substrate made of C) or the like by a wafer process. A magnetic film made of permalloy (NiFe) or the like is formed as a lower magnetic layer (lower core) 12 on the upper surface of the substrate 11 on which the reproducing thin film magnetic head element (MR head) is formed (note that a shield type magnetoresistive head is used). In this case, the upper shield layer also serves as the lower core 12), and then has a thickness 1 corresponding to the gap length g.
An alumina (Al 2 O 3 ) film (not shown) of about μm is formed by a sputtering method. At this time, a portion (rear coupling portion) 14 directly in contact with an upper magnetic layer (upper core) 13 formed later.
Do not have an alumina film.
【００１５】次に、コイル形成領域にフォトレジスト
（図示せず）を塗布した後、加熱硬化させる。この硬化
したフォトレジストはそれ自体絶縁層として用いると同
時に、下部磁性層１２と基板１１との段差を平坦化する
役目をもっている。このフォトレジスト上に銅（Ｃｕ）
等からなる平面コイル１５を１５ａのコイル幅＜１５ｂ
のコイル幅＜１５ｃのコイル幅＜１５ｄのコイル幅＜１
５ｅのコイル幅＜１５ｆのコイル幅＜１５ｇの関係とな
るように形成するとともに、各平面コイル１５ａ，１５
ｂ，１５ｃ，１５ｄ，１５ｅ，１５ｆ，１５ｇのコイル
間隔（例えば１．５μｍ）を等しく形成する。この後、
フォトレジストを再び塗布した後、加熱硬化させて絶縁
層１６を形成するとともに平面コイル１５による表面の
段差を平坦化し、その上にパーマロイ（ＮｉＦｅ）等か
らなる上部コア１３を形成し、薄膜磁気ヘッド素子１０
ａとなる。この後、薄膜磁気ヘッド素子１０ａを保護す
るために薄膜磁気ヘッド素子１０ａ上にアルミナ膜（図
示せず）を形成する。Next, a photoresist (not shown) is applied to the coil forming area, and is cured by heating. The cured photoresist itself is used as an insulating layer, and has a function of flattening a step between the lower magnetic layer 12 and the substrate 11. Copper (Cu) on this photoresist
The coil width of 15a <15b
Coil width <15c coil width <15d coil width <1
5e, the coil width is smaller than 15f, and the coil width is smaller than 15g.
The coil intervals (for example, 1.5 μm) of b, 15c, 15d, 15e, 15f, and 15g are made equal. After this,
After the photoresist is applied again, it is heated and hardened to form the insulating layer 16, flatten the surface step due to the planar coil 15, and form the upper core 13 made of permalloy (NiFe) or the like thereon, Element 10
a. Thereafter, an alumina film (not shown) is formed on the thin-film magnetic head element 10a to protect the thin-film magnetic head element 10a.
【００１６】このようにして形成された薄膜磁気ヘッド
素子１０ａは、各平面コイル１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，
１５ｄ，１５ｅ，１５ｆ，１５ｇのコイル幅は、１５ａ
のコイル幅＜１５ｂのコイル幅＜１５ｃのコイル幅＜１
５ｄのコイル幅＜１５ｅのコイル幅＜１５ｆのコイル幅
＜１５ｇの関係となるように形成されているので、各コ
ア１２，１３の単位面積に対するコイルターン数は後方
結合部１４よりポール１２ａ，１３ａに近づくほど大き
くなって、同コイル幅とした薄膜磁気ヘッド素子よりギ
ャップｇでの漏洩磁束密度が大きくなり、高密度記録が
可能となる。The thin-film magnetic head element 10a formed as described above has planar coils 15a, 15b, 15c,
The coil width of 15d, 15e, 15f, 15g is 15a
Coil width <15b coil width <15c coil width <1
Since the coil width of 5d is smaller than the coil width of 15d, the coil width of 15e is smaller than the coil width of 15f, and the coil width is smaller than 15g, the number of coil turns per unit area of each core 12, 13 is determined by the rear coupling portion 14 from the poles 12a, 13a. , The leakage magnetic flux density at the gap g becomes larger than that of the thin film magnetic head element having the same coil width, and high density recording becomes possible.
【００１７】第１変形例 図２は本実施形態の第１変形例を模式的に示しており、
図２（ａ）は断面図であり、図２（ｂ）はその上面図で
ある。First Modification FIG. 2 schematically shows a first modification of the present embodiment.
FIG. 2A is a cross-sectional view, and FIG. 2B is a top view thereof.
【００１８】本第１変形例の薄膜磁気ヘッド２０の書込
用薄膜磁気ヘッド素子２０ａは、図２に示すように、パ
ーマロイ（ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝８１：１９重量
％））等からなる下部磁性膜（下部コア）２２と、同様
にパーマロイ（ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝８１：１９重量
％））等からなる上部磁性膜（上部コア）２３との間に
銅（Ｃｕ）等からなる平面コイル２５を備え、上部コア
２３と下部コア２２との後端部に形成された後方結合部
２４を有するとともに下部コア２２と上部コア２３との
先端部のポール２２ａ，２３ａ間にギャップｇを備えて
いる。As shown in FIG. 2, the thin-film magnetic head element 20a of the thin-film magnetic head 20 according to the first modification has a lower portion made of permalloy (NiFe (Ni: Fe = 81: 19% by weight)). A planar coil made of copper (Cu) or the like is provided between a magnetic film (lower core) 22 and an upper magnetic film (upper core) 23 also made of permalloy (NiFe (Ni: Fe = 81: 19% by weight)) or the like. 25, a rear connecting portion 24 formed at the rear end of the upper core 23 and the lower core 22, and a gap g between the poles 22a, 23a at the front end of the lower core 22 and the upper core 23. I have.
【００１９】また、下部コア２２の上面にはＣｏＦｅ
（Ｃｏ：Ｆｅ＝９４：６），ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝４
５：５５），ＦｅＣｏＮｉ（Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ＝３０：
２５：４５）等の高飽和磁束密度材（高Ｂｓ材）よりな
る高飽和磁束密度磁性膜２６を備え、上部コア２３の下
面には、高飽和磁束密度磁性膜２６と同様な高飽和磁束
密度材（高Ｂｓ材）よりなる高飽和磁束密度磁性膜２７
を備えている。On the upper surface of the lower core 22, CoFe
(Co: Fe = 94: 6), NiFe (Ni: Fe = 4)
5:55), FeCoNi (Fe: Co: Ni = 30:
25:45) and a high saturation magnetic flux density magnetic film 26 made of a high saturation magnetic flux density material (high Bs material), and a high saturation magnetic flux density similar to the high saturation magnetic flux density magnetic film 26 is provided on the lower surface of the upper core 23. Saturation magnetic flux density magnetic film 27 made of a material (high Bs material)
It has.
【００２０】ここで、平面コイル２５は、上述の実施形
態と同様に、ポール２２ａ，２３ａから後方結合部２４
に向けて２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄ，２５ｅ，２
５ｆ，２５ｇの７ターンが形成されており、各平面コイ
ル２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄ，２５ｅ，２５ｆ，
２５ｇのコイル間隔を等しくするとともに、各平面コイ
ル２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄ，２５ｅ，２５ｆ，
２５ｇのコイル幅はポール２２ａ，２３ａから後方結合
部２４に向けて順次幅が広くなるように、即ち、２５ａ
のコイル幅＜２５ｂのコイル幅＜２５ｃのコイル幅＜２
５ｄのコイル幅＜２５ｅのコイル幅＜２５ｆのコイル幅
＜２５ｇの関係になるように形成されている。したがっ
て、上部コア２３の単位面積当たりのコイルターン数は
後方結合部２４よりポール２２ａ，２３ａに近づくほど
大きくなる。Here, the plane coil 25 is connected to the rear coupling portion 24 from the poles 22a and 23a in the same manner as in the above-described embodiment.
25a, 25b, 25c, 25d, 25e, 2
Seven turns of 5f and 25g are formed, and each of the planar coils 25a, 25b, 25c, 25d, 25e, 25f,
In addition to equalizing the coil spacing of 25g, each of the planar coils 25a, 25b, 25c, 25d, 25e, 25f,
The coil width of 25 g is set so that the width gradually increases from the poles 22 a and 23 a toward the rear joint 24, that is, 25 a.
Coil width <25b coil width <25c coil width <2
The coil width is formed so as to satisfy the relationship of 5d coil width <25e coil width <25f coil width <25g. Accordingly, the number of coil turns per unit area of the upper core 23 increases as the distance from the rear coupling portion 24 to the poles 22a, 23a increases.
【００２１】平面コイル２５の上部に形成される高飽和
磁束密度磁性膜２７および上部コア２３ならびに平面コ
イル２５の下部に存在する高飽和磁束密度磁性膜２６お
よび下部コア２２の先端部は、ポール幅に急激に絞られ
て磁気記録媒体のトラック幅とほぼ同じ幅になるように
形成されている。なお、書込用下コアと磁気抵抗ヘッド
素子の上シールド層を兼用するシールド型磁気抵抗ヘッ
ドに使用する場合は、上部コア２３のコア幅は下部コア
２２のコア幅より挟幅となる。The tip of the high saturation magnetic flux density magnetic film 27 and the upper core 23 formed above the planar coil 25 and the tip of the high saturation magnetic flux density magnetic film 26 and the lower core 22 existing below the planar coil 25 have a pole width. And is formed to have a width substantially equal to the track width of the magnetic recording medium. When used in a shielded magnetoresistive head that also serves as the lower write core and the upper shield layer of the magnetoresistive head element, the core width of the upper core 23 is smaller than the core width of the lower core 22.
【００２２】なお、本第１変形例の薄膜磁気ヘッド素子
２０ａも上述した実施形態とほぼ同様にして製造される
が、下部コア２２の上面にＣｏＦｅ（Ｃｏ：Ｆｅ＝９
４：６重量％），ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝４５：５５重
量％），ＦｅＣｏＮｉ（Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ＝３０：２
５：４５重量％）等の高飽和磁束密度材（高Ｂｓ材）よ
りなる高飽和磁束密度磁性膜２６を形成し、上部コア２
３の下面に高飽和磁束密度磁性膜２６と同様な高飽和磁
束密度材（高Ｂｓ材）よりなる高飽和磁束密度磁性膜２
７を形成する点で相違する。The thin-film magnetic head element 20a of the first modified example is manufactured in substantially the same manner as in the above-described embodiment, except that CoFe (Co: Fe = 9) is formed on the upper surface of the lower core 22.
4: 6% by weight), NiFe (Ni: Fe = 45: 55% by weight), FeCoNi (Fe: Co: Ni = 30: 2)
5: 45% by weight) and a high saturation magnetic flux density magnetic film 26 made of a high saturation magnetic flux density material (high Bs material).
3, a high saturation magnetic flux density magnetic film 2 made of the same high saturation magnetic flux density material (high Bs material) as the high saturation magnetic flux density magnetic film 26.
7 is formed.
【００２３】このようにして形成された薄膜磁気ヘッド
素子２０ａは、下部コア２２の上面と上部コア２３の下
面にそれぞれ高飽和磁束密度材（高Ｂｓ材）よりなる高
飽和磁束密度磁性膜２６，２７を形成するとともに、各
平面コイル２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄ，２５ｅ，
２５ｆ，２５ｇのコイル幅は、２５ａのコイル幅＜２５
ｂのコイル幅＜２５ｃのコイル幅＜２５ｄのコイル幅＜
２５ｅのコイル幅＜２５ｆのコイル幅＜２５ｇの関係と
なるように形成されているので、高飽和磁束密度磁性膜
２６および下部コア２２ならびに高飽和磁束密度磁性膜
２７および上部コア２３の単位面積に対するコイルター
ン数は後方結合部２４よりポール２２ａ，２３ａに近づ
くほど上述した実施形態よりさらに大きくなって、ギャ
ップｇでの漏洩磁束密度がより大きくなり、より高密度
記録が可能となる。The thin-film magnetic head element 20a formed in this manner has a high saturation magnetic flux density magnetic film 26 made of a high saturation magnetic flux density material (high Bs material) on the upper surface of the lower core 22 and the lower surface of the upper core 23, respectively. 27, and each of the planar coils 25a, 25b, 25c, 25d, 25e,
The coil width of 25f and 25g is the coil width of 25a <25.
b coil width <25c coil width <25d coil width <
Since the coil width of 25e and the coil width of 25f and the coil width of 25g are smaller than 25g, the high saturation magnetic flux density magnetic film 26 and the lower core 22, and the high saturation magnetic flux density magnetic film 27 and the upper core 23 have a unit area. The number of coil turns becomes larger as compared with the above-described embodiment as it approaches the poles 22a and 23a from the rear coupling portion 24, so that the leakage magnetic flux density in the gap g becomes larger and higher density recording becomes possible.
【００２４】第２変形例 図３は本実施形態の第２変形例を模式的に示しており、
図３（ａ）は断面図であり、図３（ｂ）はその上面図で
ある。Second Modification FIG. 3 schematically shows a second modification of the present embodiment.
FIG. 3A is a cross-sectional view, and FIG. 3B is a top view thereof.
【００２５】本第２変形例の薄膜磁気ヘッド３０の書込
用薄膜磁気ヘッド素子３０ａは、図３に示すように、パ
ーマロイ（ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝８１：１９重量
％））等からなる下部磁性膜（下部コア）３２と、同様
にパーマロイ（ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝８１：１９重量
％））等からなる上部磁性膜（上部コア）３３との間に
銅（Ｃｕ）等からなる平面コイル３５を備え、上部コア
３３と下部コア３２との後端部に形成された後方結合部
３４を有するとともに下部コア３２と上部コア３３との
先端部のポール３２ａ，３３ａ間にギャップｇを備えて
いる。As shown in FIG. 3, the thin-film magnetic head element 30a of the thin-film magnetic head 30 according to the second modification has a lower portion made of permalloy (NiFe (Ni: Fe = 81: 19% by weight)). A planar coil made of copper (Cu) or the like is provided between a magnetic film (lower core) 32 and an upper magnetic film (upper core) 33 made of permalloy (NiFe (Ni: Fe = 81: 19% by weight)). 35, a rear joint 34 formed at the rear end of the upper core 33 and the lower core 32, and a gap g between the poles 32a, 33a at the front end of the lower core 32 and the upper core 33. I have.
【００２６】また、下部コア３２の先端部のポール３２
ａの上面にはＣｏＦｅ（Ｃｏ：Ｆｅ＝９４：６重量
％），ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝４５：５５重量％），Ｆ
ｅＣｏＮｉ（Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ＝３０：２５：４５重量
％）等の高飽和磁束密度材（高Ｂｓ材）よりなる高飽和
磁束密度磁性膜３６を備え、上部コア３３の先端部のポ
ール３３ａの下面には、高飽和磁束密度磁性膜３６と同
様な高飽和磁束密度材（高Ｂｓ材）よりなる高飽和磁束
密度磁性膜３７を備えている。The pole 32 at the tip of the lower core 32
a, CoFe (Co: Fe = 94: 6% by weight), NiFe (Ni: Fe = 45: 55% by weight), F
A high saturation magnetic flux density magnetic film 36 made of a high saturation magnetic flux density material (high Bs material) such as eCoNi (Fe: Co: Ni = 30: 25: 45% by weight) is provided. On the lower surface, a high saturation magnetic flux density magnetic film 37 made of the same high saturation magnetic flux density material (high Bs material) as the high saturation magnetic flux density magnetic film 36 is provided.
【００２７】ここで、平面コイル３５は、上述の実施形
態と同様に、ポール３２ａ，３３ａから後方結合部３４
に向けて３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄ，３５ｅ，３
５ｆ，３５ｇの７ターンが形成されており、各平面コイ
ル３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄ，３５ｅ，３５ｆ，
３５ｇのコイル間隔を等しくするとともに、各平面コイ
ル３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，３５ｄ，３５ｅ，３５ｆ，
３５ｇのコイル幅はポール３２ａ，３３ａから後方結合
部３４に向けて順次幅が広くなるように、即ち、３５ａ
のコイル幅＜３５ｂのコイル幅＜３５ｃのコイル幅＜３
５ｄのコイル幅＜３５ｅのコイル幅＜３５ｆのコイル幅
＜３５ｇの関係になるように形成されている。したがっ
て、各コア３２，３３の単位面積当たりのコイルターン
数は後方結合部３４よりポール３２ａ，３３ａに近づく
ほど大きくなるとともに、ポール３２ａ，３３ａ近傍の
磁界強度も大きくなる。Here, the plane coil 35 is connected to the rear coupling portion 34 from the poles 32a, 33a in the same manner as in the above-described embodiment.
35a, 35b, 35c, 35d, 35e, 3
Seven turns of 5f and 35g are formed, and each of the planar coils 35a, 35b, 35c, 35d, 35e, 35f,
In addition to making the coil intervals of 35g equal, each of the planar coils 35a, 35b, 35c, 35d, 35e, 35f,
The coil width of 35 g is gradually increased from the poles 32 a and 33 a toward the rear coupling portion 34, that is, 35 a.
Coil width <35b coil width <35c coil width <3
The coil width is formed so as to satisfy the relationship of 5d coil width <35e coil width <35f coil width <35g. Therefore, the number of coil turns per unit area of each of the cores 32, 33 increases as the distance from the rear coupling portion 34 to the poles 32a, 33a increases, and the magnetic field intensity near the poles 32a, 33a also increases.
【００２８】平面コイル３５の上部に形成された上部コ
ア３３ならびに平面コイル３５の下部に形成された下部
コア３２の先端部は、ポール幅に急激に絞られて磁気記
録媒体のトラック幅とほぼ同じ幅になるように形成され
ている。なお、書込用下コアと磁気抵抗ヘッド素子の上
シールド層を兼用するシールド型磁気抵抗ヘッドに使用
する場合は、上部コア２３のコア幅は下部コア２２のコ
ア幅より挟幅となる。The tip of the upper core 33 formed above the planar coil 35 and the tip of the lower core 32 formed below the planar coil 35 are sharply reduced to the pole width, and are substantially the same as the track width of the magnetic recording medium. It is formed to have a width. When used in a shielded magnetoresistive head that also serves as the lower write core and the upper shield layer of the magnetoresistive head element, the core width of the upper core 23 is smaller than the core width of the lower core 22.
【００２９】なお、本第２変形例の薄膜磁気ヘッド素子
３０ａも上述した実施形態とほぼ同様にして製造される
が、下部コア３２の先端部のポール３２ａの上面にＣｏ
Ｆｅ（Ｃｏ：Ｆｅ＝９４：６重量％），ＮｉＦｅ（Ｎ
ｉ：Ｆｅ＝４５：５５重量％），ＦｅＣｏＮｉ（Ｆｅ：
Ｃｏ：Ｎｉ＝３０：２５：４５重量％）等の高飽和磁束
密度材（高Ｂｓ材）よりなる高飽和磁束密度磁性膜３６
を形成し、上部コア３３の先端部のポール３３ａの下面
に高飽和磁束密度磁性膜３６と同様な高飽和磁束密度材
（高Ｂｓ材）よりなる高飽和磁束密度磁性膜３７を形成
する点で相違する。The thin-film magnetic head element 30a according to the second modification is manufactured in substantially the same manner as in the above-described embodiment, except that the upper surface of the pole 32a at the tip of the lower core 32 is coated with Co.
Fe (Co: Fe = 94: 6% by weight), NiFe (N
i: Fe = 45: 55% by weight), FeCoNi (Fe:
High saturation magnetic flux density magnetic film 36 made of a high saturation magnetic flux density material (high Bs material) such as Co: Ni = 30: 25: 45% by weight.
To form a high saturation magnetic flux density magnetic film 37 made of a high saturation magnetic flux density material (high Bs material) similar to the high saturation magnetic flux density magnetic film 36 on the lower surface of the pole 33a at the tip of the upper core 33. Different.
【００３０】このようにして形成された薄膜磁気ヘッド
素子３０ａは、各平面コイル３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，
３５ｄ，３５ｅ，３５ｆ，３５ｇのコイル幅は、３５ａ
のコイル幅＜３５ｂのコイル幅＜３５ｃのコイル幅＜３
５ｄのコイル幅＜３５ｅのコイル幅＜３５ｆのコイル幅
＜３５ｇの関係となるように形成されているので、下部
コア３２および上部コア３３の単位面積に対するコイル
ターン数は後方結合部３４よりポール３２ａ，３３ａに
近づくほど大きくなるとともに、各ポール３２ａ，３３
ａの対向面には高飽和磁束密度磁性膜３６，３７が形成
されているので、ポール３２ａ，３３ａ近傍の磁界強度
も大きくなって、ギャップｇでの漏洩磁束密度が上述し
た実施形態よりさらにより大きくなり、さらに高密度記
録が可能となる。The thin-film magnetic head element 30a formed as described above has planar coils 35a, 35b, 35c,
The coil width of 35d, 35e, 35f, 35g is 35a
Coil width <35b coil width <35c coil width <3
Since the coil width of 5d is smaller than the coil width of 35d, the coil width of 35e is smaller than the coil width of 35f, and the coil width is smaller than 35g, the number of coil turns per unit area of the lower core 32 and the upper core 33 is smaller than that of the pole 32a. , 33a, the poles 32a, 33
Since the high saturation magnetic flux density magnetic films 36 and 37 are formed on the opposing surfaces of a, the magnetic field strength near the poles 32a and 33a is also increased, and the leakage magnetic flux density at the gap g is even more than in the above-described embodiment. As a result, it becomes possible to perform high-density recording.
【００３１】第３変形例 図４は本実施形態の第３変形例を模式的に示しており、
図４（ａ）は断面図であり、図４（ｂ）はその上面図で
ある。Third Modification FIG. 4 schematically shows a third modification of the present embodiment.
FIG. 4A is a cross-sectional view, and FIG. 4B is a top view thereof.
【００３２】本第３変形例の薄膜磁気ヘッド４０の書込
用薄膜磁気ヘッド素子４０ａは、図４に示すように、パ
ーマロイ（ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝８１：１９重量
％））等からなる下部磁性膜（下部コア）４２と、同様
にパーマロイ（ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝８１：１９重量
％））等からなる上部磁性膜（上部コア）４３との間に
銅（Ｃｕ）等からなる平面コイル４５を備え、上部コア
４３と下部コア４２との後端部に形成された後方結合部
４４を有するとともに下部コア４２と上部コア４３との
先端部のポール４２ａ，４３ａ間にギャップｇを備えて
いる。As shown in FIG. 4, the thin-film magnetic head element 40a of the thin-film magnetic head 40 of the third modification has a lower portion made of permalloy (NiFe (Ni: Fe = 81: 19% by weight)). A planar coil made of copper (Cu) or the like is provided between the magnetic film (lower core) 42 and an upper magnetic film (upper core) 43 also made of permalloy (NiFe (Ni: Fe = 81: 19% by weight)) or the like. 45, a rear coupling portion 44 formed at the rear end of the upper core 43 and the lower core 42, and a gap g between the poles 42a, 43a at the front end of the lower core 42 and the upper core 43. I have.
【００３３】また、下部コア４２の先端部のポール４２
ａの上面にはＣｏＦｅ（Ｃｏ：Ｆｅ＝９４：６重量
％），ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝４５：５５重量％），Ｆ
ｅＣｏＮｉ（Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ＝３０：２５：４５重量
％）等の高飽和磁束密度材（高Ｂｓ材）よりなる高飽和
磁束密度磁性膜４６が形成され、上部コア４３の先端部
のポール４３ａの下面には、高飽和磁束密度磁性膜４６
と同様な高飽和磁束密度材（高Ｂｓ材）よりなる高飽和
磁束密度磁性膜４７が形成されている。The pole 42 at the tip of the lower core 42
a, CoFe (Co: Fe = 94: 6% by weight), NiFe (Ni: Fe = 45: 55% by weight), F
A high saturation magnetic flux density magnetic film 46 made of a high saturation magnetic flux density material (high Bs material) such as eCoNi (Fe: Co: Ni = 30: 25: 45 wt%) is formed, and a pole 43a at the tip of the upper core 43 is formed. A high saturation magnetic flux density magnetic film 46
A high saturation magnetic flux density magnetic film 47 made of the same high saturation magnetic flux density material (high Bs material) is formed.
【００３４】ここで、平面コイル４５は、上述の実施形
態と同様に、ポール４２ａ，４３ａから後方結合部４４
に向けて４５ａ，４５ｂ，４５ｃ，４５ｄ，４５ｅ，４
５ｆ，４５ｇの７ターンが形成されており、各平面コイ
ル４５ａ，４５ｂ，４５ｃ，４５ｄ，４５ｅ，４５ｆ，
４５ｇのコイル間隔を等しくするとともに、各平面コイ
ル４５ａ，４５ｂ，４５ｃ，４５ｄ，４５ｅ，４５ｆ，
４５ｇのコイル幅はポール４２ａ，４３ａから後方結合
部４４に向けて順次幅が広くなるように、即ち、４５ａ
のコイル幅＜４５ｂのコイル幅＜４５ｃのコイル幅＜４
５ｄのコイル幅＜４５ｅのコイル幅＜４５ｆのコイル幅
＜４５ｇの関係になるように形成されている。したがっ
て、各コア４２，４３の単位面積当たりのコイルターン
数は後方結合部４４よりポール４２ａ，４３ａに近づく
ほど大きくなるとともに、ポール４３ａ近傍の磁界強度
も大きくなる。Here, the plane coil 45 is connected to the rear coupling portion 44 from the poles 42a and 43a in the same manner as in the above-described embodiment.
45a, 45b, 45c, 45d, 45e, 4
Seven turns of 5f and 45g are formed, and each of the planar coils 45a, 45b, 45c, 45d, 45e, 45f,
In addition to making the coil intervals of 45g equal, each of the planar coils 45a, 45b, 45c, 45d, 45e, 45f,
The coil width of 45 g is set so that the width gradually increases from the poles 42 a and 43 a toward the rear coupling portion 44, that is, 45 a.
Coil width <45b coil width <45c coil width <4
The coil width is formed so as to satisfy the relationship of 5d coil width <45e coil width <45f coil width <45g. Therefore, the number of coil turns per unit area of each of the cores 42 and 43 increases as the distance from the rear coupling portion 44 to the poles 42a and 43a increases, and the magnetic field intensity near the pole 43a also increases.
【００３５】平面コイル４５の上部に存在する上部コア
４３ならびに平面コイル４５の下部に存在する下部コア
４２の先端部は、ポール幅に急激に絞られて磁気記録媒
体のトラック幅とほぼ同じ幅になるように形成されてい
る。また、上部コア４３の平面コイル４５に対向する部
位の形状は略台形状に形成されていて、ポール４３ａの
近傍のコア幅は後方結合部４４のコア幅より幅広に形成
している。なお、書込用下コアと磁気抵抗ヘッド素子の
上シールド層を兼用するシールド型磁気抵抗ヘッドに使
用する場合は、上部コア４３のコア幅は下部コア４２の
コア幅より挟幅となる。The tip of the upper core 43 located above the planar coil 45 and the tip of the lower core 42 located below the planar coil 45 are sharply narrowed to the pole width to have the same width as the track width of the magnetic recording medium. It is formed so that it becomes. The shape of the portion of the upper core 43 facing the planar coil 45 is substantially trapezoidal, and the core width in the vicinity of the pole 43a is wider than the core width of the rear coupling portion 44. When used in a shielded magnetoresistive head that also serves as the lower write core and the upper shield layer of the magnetoresistive head element, the core width of the upper core 43 is smaller than the core width of the lower core 42.
【００３６】なお、本第３変形例の薄膜磁気ヘッド素子
４０ａも上述した実施形態とほぼ同様にして製造される
が、下部コア４２の先端部のポール４２ａの上面にＣｏ
Ｆｅ（Ｃｏ：Ｆｅ＝９４：６重量％），ＮｉＦｅ（Ｎ
ｉ：Ｆｅ＝４５：５５重量％），ＦｅＣｏＮｉ（Ｆｅ：
Ｃｏ：Ｎｉ＝３０：２５：４５重量％）等の高飽和磁束
密度材（高Ｂｓ材）よりなる高飽和磁束密度磁性膜４６
を形成し、上部コア４３の先端部のポール４３ａの下面
に高飽和磁束密度磁性膜４６と同様な高飽和磁束密度材
（高Ｂｓ材）よりなる高飽和磁束密度磁性膜４７を形成
する点と、上部コア４３の平面コイル４５に対向する部
位の形状は略台形状に形成されていて、ポール４３ａの
近傍のコア幅は後方結合部４４のコア幅より幅広に形成
している点で相違する。The thin-film magnetic head element 40a of the third modification is manufactured in substantially the same manner as in the above-described embodiment, except that the upper surface of the pole 42a at the tip of the lower core 42 is coated with Co.
Fe (Co: Fe = 94: 6% by weight), NiFe (N
i: Fe = 45: 55% by weight), FeCoNi (Fe:
High saturation magnetic flux density magnetic film 46 made of a high saturation magnetic flux density material (high Bs material) such as Co: Ni = 30: 25: 45% by weight.
And forming a high saturation magnetic flux density magnetic film 47 made of a high saturation magnetic flux density material (high Bs material) similar to the high saturation magnetic flux density magnetic film 46 on the lower surface of the pole 43a at the tip of the upper core 43. The shape of the portion of the upper core 43 facing the plane coil 45 is substantially trapezoidal, and the core width near the pole 43a is wider than the core width of the rear coupling portion 44. .
【００３７】このようにして形成された薄膜磁気ヘッド
素子４０ａは、各平面コイル４５ａ，４５ｂ，４５ｃ，
４５ｄ，４５ｅ，４５ｆ，４５ｇのコイル幅は、４５ａ
のコイル幅＜４５ｂのコイル幅＜４５ｃのコイル幅＜４
５ｄのコイル幅＜４５ｅのコイル幅＜４５ｆのコイル幅
＜４５ｇの関係となるように形成されるとともに、ポー
ル４３ａの近傍のコア幅は後方結合部４４のコア幅より
幅広に形成されているので、下部コア４２および上部コ
ア４３の単位面積に対するコイルターン数は後方結合部
４４よりポール４２ａ，４３ａに近づくほど上述した実
施形態よりさらに大きくなるとともに、各ポール４２
ａ，４３ａの対向面には高飽和磁束密度磁性膜４６，４
７が形成されているので、ポール４３ａ近傍の磁界強度
も大きくなって、さらにギャップｇでの漏洩磁束密度が
より大きくなり、さらに高密度記録が可能となる。The thin-film magnetic head element 40a formed as described above has planar coils 45a, 45b, 45c,
The coil width of 45d, 45e, 45f, 45g is 45a
Coil width <45b coil width <45c coil width <4
Since the coil width of 5d is smaller than the coil width of 45e and the coil width of 45f is smaller than the coil width of 45f and the coil width is less than 45g, the core width near the pole 43a is wider than the core width of the rear coupling portion 44. , The number of coil turns per unit area of the lower core 42 and the upper core 43 becomes larger as compared with the above-described embodiment as it approaches the poles 42 a and 43 a from the rear coupling portion 44.
a, 43a are provided on opposite surfaces of high saturation magnetic flux density magnetic films 46, 4;
7, the magnetic field strength near the pole 43a is also increased, the leakage magnetic flux density in the gap g is further increased, and higher density recording is possible.
【００３８】第４変形例 図５は本実施形態の第４変形例を模式的に示しており、
図５（ａ）は断面図であり、図５（ｂ）はその上面図で
ある。Fourth Modification FIG. 5 schematically shows a fourth modification of the present embodiment.
FIG. 5A is a cross-sectional view, and FIG. 5B is a top view thereof.
【００３９】本実施形態の第４変形例の薄膜磁気ヘッド
５０の書込用薄膜磁気ヘッド素子５０ａは、図５に示す
ように、パーマロイ（ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝８１：１
９重量％））等からなる下部磁性膜（下部コア）５２
と、同様にパーマロイ（ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝８１：
１９重量％））等からなる上部磁性膜（上部コア）５３
との間に銅（Ｃｕ）等からなる平面コイル５５を備え、
上部コア５３と下部コア５２との後端部に形成された後
方結合部５４を有するとともに下部コア５２と上部コア
５３との先端部のポール５２ａ，５３ａ間にギャップｇ
を備えている。As shown in FIG. 5, the thin-film magnetic head element 50a of the thin-film magnetic head 50 according to the fourth modification of the present embodiment is a permalloy (NiFe (Ni: Fe = 81: 1).
Lower magnetic film (lower core) 52 made of
And permalloy (NiFe (Ni: Fe = 81:
Upper magnetic film (upper core) 53 composed of 19% by weight))
And a plane coil 55 made of copper (Cu) or the like,
It has a rear connecting portion 54 formed at the rear end of the upper core 53 and the lower core 52, and has a gap g between the poles 52a, 53a at the front end of the lower core 52 and the upper core 53.
It has.
【００４０】ここで、平面コイル５５はポール５２ａ，
５３ａから後方結合部５４に向けて５５ａ，５５ｂ，５
５ｃ，５５ｄ，５５ｅ，５５ｆ，５５ｇの７ターンが形
成されており、各平面コイル５５ａ，５５ｂ，５５ｃ，
５５ｄ，５５ｅ，５５ｆ，５５ｇのコイル間隔を等しく
するとともに、各平面コイル５５ａ，５５ｂ，５５ｃ，
５５ｄ，５５ｅ，５５ｆ，５５ｇのポール５２ａ，５３
ａ近傍のコイル幅は後方結合部５４のコイル幅より広く
なるように、即ち、５５ａのコイル幅＝５５ｂのコイル
幅＝５５ｃのコイル幅＝５５ｄのコイル幅＜５５ｅのコ
イル幅＝５５ｆのコイル幅＝５５ｇの関係になるように
形成されている。したがって、各コア５２，５３の単位
面積当たりのコイルターン数は後方結合部５４よりポー
ル５２ａ，５３ａに近づくほど大きくなる。Here, the plane coil 55 includes poles 52a,
55a, 55b, 5 from 53a toward the rear connecting portion 54
7 turns of 5c, 55d, 55e, 55f, and 55g are formed, and each planar coil 55a, 55b, 55c,
The coil intervals of 55d, 55e, 55f, and 55g are equalized, and the planar coils 55a, 55b, 55c,
55d, 55e, 55f, 55g poles 52a, 53
The coil width in the vicinity of a is wider than the coil width of the rear coupling portion 54, that is, the coil width of 55a = the coil width of 55b = the coil width of 55c = the coil width of 55d <the coil width of 55e = the coil width of 55f. = 55 g. Therefore, the number of coil turns per unit area of each of the cores 52 and 53 increases as the distance from the rear coupling portion 54 to the poles 52a and 53a increases.
【００４１】平面コイル５５の上部に存在する上部コア
５３および平面コイル５５の下部に存在する下部コア５
２の先端部は、ポール幅に急激に絞られて磁気記録媒体
のトラック幅とほぼ同じ幅になるように形成されてい
る。なお、書込用下コアと磁気抵抗ヘッド素子の上シー
ルド層を兼用するシールド型磁気抵抗ヘッドに使用する
場合は、上部コア５３のコア幅は下部コア５２のコア幅
より挟幅となる。The upper core 53 existing above the planar coil 55 and the lower core 5 existing below the planar coil 55
The leading end of the magnetic recording medium 2 is sharply narrowed to a pole width and is formed to have a width substantially equal to the track width of the magnetic recording medium. When used in a shielded magnetoresistive head that also serves as the lower write core and the upper shield layer of the magnetoresistive head element, the core width of the upper core 53 is smaller than the core width of the lower core 52.
【００４２】なお、本第４変形例の薄膜磁気ヘッド素子
５０ａも上述した実施形態とほぼ同様にして製造される
が、５５ａのコイル幅＝５５ｂのコイル幅＝５５ｃのコ
イル幅＝５５ｄのコイル幅＜５５ｅのコイル幅＝５５ｆ
のコイル幅＝５５ｇの関係になるように形成する点で相
違する。The thin-film magnetic head element 50a of the fourth modification is manufactured in substantially the same manner as the above-described embodiment, except that the coil width of 55a = 55b, the coil width of 55c, and the coil width of 55d = 55d. <55e coil width = 55f
In that the coil width is 55 g.
【００４３】このように、５５ａのコイル幅＝５５ｂの
コイル幅＝５５ｃのコイル幅＝５５ｄのコイル幅＜５５
ｅのコイル幅＝５５ｆのコイル幅＝５５ｇの関係となる
ように形成しても、上部コア２３の単位面積に対するコ
イルターン数は後方結合部５４よりポール５２ａ，５３
ａに近づくほど大きくなって、上述した実施形態とほぼ
同様にギャップｇでの漏洩磁束密度が大きくなり、高密
度記録が可能となる。Thus, the coil width of 55a = 55b, the coil width of 55c, the coil width of 55d = the coil width of 55d <55
e, the number of coil turns per unit area of the upper core 23 is determined by the poles 52a, 53 from the rear coupling portion 54, even if the coil width of e is 55f and the coil width is 55g.
As the distance approaches a, the leakage magnetic flux density in the gap g increases substantially in the same manner as in the above-described embodiment, and high-density recording becomes possible.
【００４４】ついで、本発明の実施例について説明す
る。 実施例１ 図６は本発明の第１実施例の薄膜磁気ヘッドを模式的に
示す図であり、図６（ａ）は上面図であり、図６（ｂ）
はその断面図であり、図６（ｃ）は平面コイルを拡大し
て示す図である。Next, an embodiment of the present invention will be described. Embodiment 1 FIG. 6 is a view schematically showing a thin-film magnetic head according to a first embodiment of the present invention, FIG. 6 (a) is a top view, and FIG.
FIG. 6C is a cross-sectional view, and FIG. 6C is an enlarged view of the planar coil.
【００４５】本第１実施例の薄膜磁気ヘッド６０の書込
用薄膜磁気ヘッド素子６０ａは、図６に示すように、パ
ーマロイ（ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝８１：１９重量
％））等からなる下部磁性膜（下部コア）６２と、同様
にパーマロイ（ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝８１：１９重量
％））等からなる上部磁性膜（上部コア）６３との間に
銅（Ｃｕ）等からなる平面コイル６５を備え、上部コア
６３と下部コア６２との後端部に形成された後方結合部
６４を有するとともに下部コア６２と上部コア６３との
先端部のポール６２ａ，６３ａ間にギャップｇを備えて
いる。As shown in FIG. 6, the thin-film magnetic head element 60a of the thin-film magnetic head 60 according to the first embodiment has a lower portion made of permalloy (NiFe (Ni: Fe = 81: 19% by weight)). A planar coil made of copper (Cu) or the like is provided between a magnetic film (lower core) 62 and an upper magnetic film (upper core) 63 also made of permalloy (NiFe (Ni: Fe = 81: 19% by weight)). 65, a rear coupling portion 64 formed at the rear end of the upper core 63 and the lower core 62, and a gap g between the poles 62a, 63a at the distal end of the lower core 62 and the upper core 63. I have.
【００４６】ここで、上部コア６３のポール６３ａに向
けて狭める部分６３ｂの水平長さａを１６μｍとし、上
部コア６３の矩形部（後方結合部６４から６３ｂの端部
まで）６３ｃの水平長さｂを８４μｍとし、上部コア６
３の水平幅ｃを５０μｍとし、コイル形成部の水平長さ
ｄを６５μｍとし、コイル形成部の垂直高さｅを８μｍ
としている。Here, the horizontal length a of the portion 63b of the upper core 63 narrowed toward the pole 63a is 16 μm, and the horizontal length of the rectangular portion (from the rear connecting portion 64 to the end of the 63b) 63c of the upper core 63 is b is 84 μm, and the upper core 6
3, the horizontal width c is 50 μm, the horizontal length d of the coil forming portion is 65 μm, and the vertical height e of the coil forming portion is 8 μm.
And
【００４７】また、平面コイル６５はポール６２ａ，６
３ａから後方結合部６４に向けて６５ａ，６５ｂ，６５
ｃ，６５ｄ，６５ｅ，６５ｆ，６５ｇ，６５ｈ，６５
ｉ，６５ｊ，６５ｋの１１ターンが形成されており、ポ
ール６２ａ，６３ａ側の平面コイル６５ａ，６５ｂ，６
５ｃ，６５ｄ，６５ｅ，６５ｆのコイルピッチは３．５
μｍ（即ち、コイル間隔ｙ＝１．５μｍ，コイル幅ｘ1
＝２μｍ）とし、後方結合部側の平面コイル６５ｇ，６
５ｈ，６５ｉ，６５ｊ，６５ｋのコイルピッチは５．５
μｍ（即ち、コイル間隔ｙ＝１．５μｍ，コイル幅ｘ2
＝４μｍ）としている。The planar coil 65 is connected to the poles 62a, 6a.
65a, 65b, 65 from 3a toward the rear connecting portion 64
c, 65d, 65e, 65f, 65g, 65h, 65
i, 65j, and 65k are formed, and the planar coils 65a, 65b, and 6 on the poles 62a and 63a side are formed.
The coil pitch of 5c, 65d, 65e, 65f is 3.5
μm (that is, the coil interval y = 1.5 μm, the coil width x 1
= 2 μm), and the flat coils 65g, 6
The coil pitch of 5h, 65i, 65j, 65k is 5.5
μm (that is, coil interval y = 1.5 μm, coil width x 2
= 4 μm).
【００４８】このように形成した本第１実施例の書込用
薄膜磁気ヘッド素子６０ａの飽和特性を測定すると、図
７に示すような結果となった。なお、図７において、曲
線Ａは本第１実施例の書込用薄膜磁気ヘッド素子６０ａ
の飽和特性を示し、曲線Ｃはコイル幅を等しく形成した
従来例の書込用薄膜磁気ヘッド素子の飽和特性を示す。
図７より明らかなように、本第１実施例の書込用薄膜磁
気ヘッド素子６０ａは低い書込電流で飽和することが分
かる。When the saturation characteristics of the thus-formed thin-film magnetic head element 60a of the first embodiment were measured, the results shown in FIG. 7 were obtained. In FIG. 7, the curve A represents the write thin-film magnetic head element 60a of the first embodiment.
Curve C shows the saturation characteristic of the conventional thin-film magnetic head element for writing having the same coil width.
As can be seen from FIG. 7, the write thin-film magnetic head element 60a of the first embodiment saturates at a low write current.
【００４９】実施例２ 図８は本実施形態の第２実施例の薄膜磁気ヘッドを模式
的に示す図であり、図８（ａ）は上面図であり、図８
（ｂ）はその断面図であり、図８（ｃ）は平面コイルを
拡大して示す図である。Example 2 FIG. 8 is a diagram schematically showing a thin-film magnetic head according to Example 2 of the present embodiment. FIG. 8A is a top view, and FIG.
FIG. 8B is a cross-sectional view, and FIG. 8C is an enlarged view of the planar coil.
【００５０】本第２実施例の薄膜磁気ヘッド７０の書込
用薄膜磁気ヘッド素子７０ａは、図７に示すように、パ
ーマロイ（ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝８１：１９重量
％））等からなる下部磁性膜（下部コア）７２と、同様
にパーマロイ（ＮｉＦｅ（Ｎｉ：Ｆｅ＝８１：１９重量
％））等からなる上部磁性膜（上部コア）７３との間に
銅（Ｃｕ）等からなる平面コイル７５を備え、上部コア
７３と下部コア７２との後端部に形成された後方結合部
７４を有するとともに下部コア７２と上部コア７３との
先端部のポール７２ａ，７３ａ間にギャップｇを備えて
いる。As shown in FIG. 7, the thin-film magnetic head element 70a of the thin-film magnetic head 70 of the second embodiment has a lower portion made of permalloy (NiFe (Ni: Fe = 81: 19% by weight)). A planar coil made of copper (Cu) or the like is provided between a magnetic film (lower core) 72 and an upper magnetic film (upper core) 73 also made of permalloy (NiFe (Ni: Fe = 81: 19% by weight)) or the like. 75, a rear joint 74 formed at the rear end of the upper core 73 and the lower core 72, and a gap g between the poles 72a, 73a at the front end of the lower core 72 and the upper core 73. I have.
【００５１】上部コア７３の平面コイル７５に対向する
部位の形状は略台形状に形成されていて、ポール７３ａ
の近傍のコア幅は後方結合部７４のコア幅より幅広に形
成している。そして、上部コア７３のポール７３ａに向
けて狭める部分７３ｂの水平長さａを２０μｍとし、上
部コア７３の台形部（後方結合部７４から７３ｂの端部
まで）７３ｃの水平長さｂを８０μｍとし、上部コア７
３の台形部７３ｃの端部の水平幅ｃを４６μｍとし、コ
イル形成部の水平長さｄを６５μｍとし、コイル形成部
の垂直高さｅを８μｍとしている。The shape of the portion of the upper core 73 facing the planar coil 75 is substantially trapezoidal.
Is formed wider than the core width of the rear coupling portion 74. The horizontal length a of the portion 73b of the upper core 73 narrowed toward the pole 73a is set to 20 μm, and the horizontal length b of the trapezoidal portion (from the rear coupling portion 74 to the end of the 73b) 73c of the upper core 73 is set to 80 μm. , Upper core 7
The horizontal width c at the end of the third trapezoidal portion 73c is 46 μm, the horizontal length d of the coil forming portion is 65 μm, and the vertical height e of the coil forming portion is 8 μm.
【００５２】また、平面コイル７５はポール７２ａ，７
３ａから後方結合部７４に向けて７５ａ，７５ｂ，７５
ｃ，７５ｄ，７５ｅ，７５ｆ，７５ｇ，７５ｈ，７５
ｉ，７５ｊ，７５ｋの１１ターンが形成されており、ポ
ール７２ａ，７３ａ側の平面コイル７５ａ，７５ｂ，７
５ｃ，７５ｄ，７５ｅ，７５ｆのコイルピッチは３．５
μｍ（即ち、コイル間隔ｙ＝１．５μｍ，コイル幅ｘ1
＝２μｍ）とし、後方結合部側の平面コイル７５ｇ，７
５ｈ，７５ｉ，７５ｊ，７５ｋのコイルピッチは５．５
μｍ（即ち、コイル間隔ｙ＝１．５μｍ，コイル幅ｘ2
＝４μｍ）としている。The plane coil 75 is connected to the poles 72a, 7a.
75a, 75b, 75 from 3a toward the rear joint 74
c, 75d, 75e, 75f, 75g, 75h, 75
i, 75j and 75k are formed, and the planar coils 75a, 75b and 7 on the poles 72a and 73a side are formed.
The coil pitch of 5c, 75d, 75e, 75f is 3.5
μm (that is, the coil interval y = 1.5 μm, the coil width x 1
= 2 μm), and the flat coils 75g, 7
The coil pitch of 5h, 75i, 75j, 75k is 5.5
μm (that is, coil interval y = 1.5 μm, coil width x 2
= 4 μm).
【００５３】このように形成した本第２実施例の書込用
薄膜磁気ヘッド素子７０ａの飽和特性を測定すると、図
９に示すような結果となった。なお、図９において、曲
線Ｂは本第２実施例の書込用薄膜磁気ヘッド素子７０ａ
の飽和特性を示し、曲線Ｃはコイル幅を等しく形成した
従来例の書込用薄膜磁気ヘッド素子の飽和特性を示す。
図９より明らかなように、本第２実施例の書込用薄膜磁
気ヘッド素子７０ａは上述した第１実施例よりさらに低
い書込電流で飽和することが分かる。When the saturation characteristics of the thus-formed thin-film magnetic head element 70a of the second embodiment were measured, the results shown in FIG. 9 were obtained. In FIG. 9, a curve B represents a write thin-film magnetic head element 70a of the second embodiment.
Curve C shows the saturation characteristic of the conventional thin-film magnetic head element for writing having the same coil width.
As is apparent from FIG. 9, the thin-film magnetic head element 70a for writing according to the second embodiment saturates at a lower writing current than the first embodiment.
【００５４】図１０は、上述した第１実施例の書込用薄
膜磁気ヘッド素子６０ａ、第２実施例の書込用薄膜磁気
ヘッド素子７０ａおよび従来例の書込用薄膜磁気ヘッド
素子のオーバーライト特性（書込電流に対する上書き感
度）を測定した結果を示している。なお、図１０におい
て、曲線Ａは第１実施例の書込用薄膜磁気ヘッド素子６
０ａのオーバーライト特性を示し、曲線Ｂは第２実施例
の書込用薄膜磁気ヘッド素子７０ａのオーバーライト特
性を示し、曲線Ｃは従来例の書込用薄膜磁気ヘッド素子
のオーバーライト特性を示す。FIG. 10 shows overwriting of the write thin-film magnetic head element 60a of the first embodiment, the write thin-film magnetic head element 70a of the second embodiment, and the conventional write thin-film magnetic head element. The results of measuring the characteristics (overwrite sensitivity to the write current) are shown. In FIG. 10, a curve A represents the write thin-film magnetic head element 6 of the first embodiment.
0a, the curve B shows the overwrite characteristic of the write thin-film magnetic head element 70a of the second embodiment, and the curve C shows the overwrite characteristic of the conventional write thin-film magnetic head element. .
【００５５】図１０より明らかなように、第１実施例の
書込用薄膜磁気ヘッド素子６０ａは従来例の書込用薄膜
磁気ヘッド素子よりオーバーライト特性が向上し、第２
実施例の書込用薄膜磁気ヘッド素子７０ａは第１実施例
の書込用薄膜磁気ヘッド素子６０ａよりオーバーライト
特性が向上しているのが分かる。As is clear from FIG. 10, the overwrite characteristics of the write thin-film magnetic head element 60a of the first embodiment are higher than those of the conventional write thin-film magnetic head element.
It can be seen that the write thin-film magnetic head element 70a of the embodiment has improved overwrite characteristics compared to the write thin-film magnetic head element 60a of the first embodiment.
【００５６】このように、本発明の書込用薄膜磁気ヘッ
ド素子はより低電流で書込が飽和し、書込高率が向上す
るとともに、より低電流で高いオーバーライト特性が得
られる。As described above, in the thin-film magnetic head element for writing according to the present invention, writing is saturated at a lower current, the writing ratio is improved, and a higher overwrite characteristic is obtained at a lower current.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図１】 本発明の薄膜磁気ヘッドの一実施形態の要部
を模式的に示す図であり、図１（ａ）は断面図であり、
図１（ｂ）はその上面図である。FIG. 1 is a diagram schematically showing a main part of an embodiment of a thin-film magnetic head according to the present invention, and FIG. 1 (a) is a cross-sectional view;
FIG. 1B is a top view thereof.
【図２】 第１変形例の薄膜磁気ヘッドの要部を模式的
に示す図であり、図２（ａ）は断面図であり、図２
（ｂ）はその上面図である。FIG. 2 is a diagram schematically illustrating a main part of a thin-film magnetic head according to a first modification, and FIG. 2A is a cross-sectional view;
(B) is a top view thereof.
【図３】 第２変形例の薄膜磁気ヘッドの要部を模式的
に示す図であり、図３（ａ）は断面図であり、図３
（ｂ）はその上面図である。FIG. 3 is a diagram schematically showing a main part of a thin-film magnetic head according to a second modification, and FIG. 3A is a cross-sectional view;
(B) is a top view thereof.
【図４】 第３変形例の薄膜磁気ヘッドの要部を模式的
に示す図であり、図４（ａ）は断面図であり、図４
（ｂ）はその上面図である。FIG. 4 is a diagram schematically showing a main part of a thin-film magnetic head according to a third modification, and FIG. 4A is a cross-sectional view;
(B) is a top view thereof.
【図５】 第４変形例の薄膜磁気ヘッドの要部を模式的
に示す図であり、図５（ａ）は断面図であり、図５
（ｂ）はその上面図である。FIG. 5 is a diagram schematically showing a main part of a thin-film magnetic head according to a fourth modification, and FIG. 5 (a) is a cross-sectional view;
(B) is a top view thereof.
【図６】 本発明の第１実施例の薄膜磁気ヘッドを模式
的に示す図であり、図６（ａ）は上面図であり、図６
（ｂ）はその断面図であり、図６（ｃ）は平面コイルを
拡大して示す図である。6A and 6B are diagrams schematically showing a thin-film magnetic head according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 6A is a top view and FIG.
FIG. 6B is a cross-sectional view, and FIG. 6C is an enlarged view of the planar coil.
【図７】 第１実施例の薄膜磁気ヘッドの飽和特性を示
す図である。FIG. 7 is a diagram showing the saturation characteristics of the thin-film magnetic head of the first embodiment.
【図８】 本発明の第２実施例の薄膜磁気ヘッドを模式
的に示す図であり、図７（ａ）は上面図であり、図７
（ｂ）はその断面図であり、図７（ｃ）は平面コイルを
拡大して示す図である。FIG. 8 is a diagram schematically showing a thin-film magnetic head according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 7A is a top view and FIG.
FIG. 7B is a cross-sectional view, and FIG. 7C is an enlarged view of the planar coil.
【図９】 第２実施例の薄膜磁気ヘッドの飽和特性を示
す図である。FIG. 9 is a diagram showing the saturation characteristics of the thin-film magnetic head of the second embodiment.
【図１０】 第１実施例および第２実施例の薄膜磁気ヘ
ッドのオーバーライト特性を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing overwrite characteristics of the thin-film magnetic heads of the first and second embodiments.
１０，２０，３０，４０，５０，６０，７０…薄膜磁気
ヘッド、１０ａ，２０ａ，３０ａ，４０ａ，５０ａ，６
０ａ，７０ａ…書込用薄膜磁気ヘッド素子、１２，２
２，３２，４２，５２，６２，７２…下部磁性膜（下部
コア）、１３，２３，３３，４３，５３，６３，７３…
上部磁性膜（上部コア）、１４，２４，３４，４４，５
４，６４，７４…後方結合部、１５，２５，３５，４
５，５５，６５，７５…平面コイル、１２ａ，１３ａ，
２２ａ，２３ａ，３２ａ，３３ａ，４２ａ，４３ａ，５
２ａ，５３ａ，６２ａ，６３ａ，７２ａ，７３ａ…ポー
ル、２６，２７，３６，３７，４６，４７…高飽和磁束
密度材、ｇ…ギャップ10, 20, 30, 40, 50, 60, 70 ... thin-film magnetic head, 10a, 20a, 30a, 40a, 50a, 6
0a, 70a: Thin-film magnetic head element for writing, 12, 2
2, 32, 42, 52, 62, 72 ... lower magnetic film (lower core), 13, 23, 33, 43, 53, 63, 73 ...
Upper magnetic film (upper core), 14, 24, 34, 44, 5
4, 64, 74... Rear connection portion, 15, 25, 35, 4
5, 55, 65, 75 ... planar coil, 12a, 13a,
22a, 23a, 32a, 33a, 42a, 43a, 5
2a, 53a, 62a, 63a, 72a, 73a ... pole, 26, 27, 36, 37, 46, 47 ... high saturation magnetic flux density material, g ... gap
Claims (5)
イルを備え、前記上部磁性膜と下部磁性膜との後端部に
後方結合部を有するとともに同上部磁性膜と下部磁性膜
との先端部のポール間にギャップを備えた薄膜磁気ヘッ
ドであって、 前記ポールに近い方の平面コイルの単位面積当たりのコ
イルターン数を前記後方結合部に近い方の平面コイルの
単位面積当たりのコイルターン数より大きく形成して前
記ギャップでの漏洩磁束密度を大きくするようにしたこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッド。1. A flat coil is provided between an upper magnetic film and a lower magnetic film, and a rear coupling portion is provided at a rear end of the upper magnetic film and the lower magnetic film. A thin-film magnetic head having a gap between the poles at the tip of the thin-film magnetic head, wherein the number of coil turns per unit area of the planar coil closer to the pole is reduced per unit area of the planar coil closer to the rear coupling portion. A thin-film magnetic head, wherein the number of coil turns is greater than the number of coil turns to increase the leakage magnetic flux density in the gap.
イルを備え、前記上部磁性膜と下部磁性膜との後端部に
後方結合部を有するとともに同上部磁性膜と下部磁性膜
との先端部のポール間にギャップを備えた薄膜磁気ヘッ
ドであって、 前記平面コイルのコイル間隔を等しくするとともに、前
記ポールに近い方の平面コイルのコイル幅を前記後方結
合部に近い方の平面コイルのコイル幅より狭く形成した
ことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。2. A planar coil is provided between an upper magnetic film and a lower magnetic film, and a rear coupling portion is provided at a rear end of the upper magnetic film and the lower magnetic film. A thin-film magnetic head having a gap between the poles at the tip of the thin-film magnetic head, wherein the coil spacing of the planar coils is equal, and the coil width of the planar coil closer to the pole is smaller than the plane closer to the rear coupling portion. A thin-film magnetic head formed narrower than the coil width of the coil.
合部から前記ポールに向かうに伴って順次狭くなるよう
に形成したことを特徴とする請求項２に記載の薄膜磁気
ヘッド。3. The thin-film magnetic head according to claim 2, wherein the coil width of the planar coil is formed so as to gradually decrease from the rear coupling portion toward the pole.
の磁性膜は高飽和磁束密度の材料により形成したことを
特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の薄
膜磁気ヘッド。4. The thin-film magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic films at the pole portions of the upper magnetic film and the lower magnetic film are formed of a material having a high saturation magnetic flux density. .
結合部側より前記ポール側の方を広くなるように形成し
たことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに
記載の薄膜磁気ヘッド。5. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the width of the upper magnetic film and the lower magnetic film is formed to be wider on the pole side than on the rear coupling portion side. Thin film magnetic head.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24320197A JPH1186221A (en) | 1997-09-08 | 1997-09-08 | Thin film magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24320197A JPH1186221A (en) | 1997-09-08 | 1997-09-08 | Thin film magnetic head |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1186221A true JPH1186221A (en) | 1999-03-30 |
Family
ID=17100344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24320197A Pending JPH1186221A (en) | 1997-09-08 | 1997-09-08 | Thin film magnetic head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1186221A (en) |
-
1997
- 1997-09-08 JP JP24320197A patent/JPH1186221A/en active Pending
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