JPH118351A - Semiconductor device and mounting method thereof - Google Patents

Semiconductor device and mounting method thereof

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JPH118351A
JPH118351A JP15850597A JP15850597A JPH118351A JP H118351 A JPH118351 A JP H118351A JP 15850597 A JP15850597 A JP 15850597A JP 15850597 A JP15850597 A JP 15850597A JP H118351 A JPH118351 A JP H118351A
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semiconductor
chip
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance the electrostatic protection ability with a min. occupied area by providing electrostatic protective pads shorted to the substrate of a semiconductor chip on this chip, having terminal pads for connecting outer lead wires. SOLUTION: Electrostatic protective pads 1 shorted to a substrate of a semiconductor chip are disposed on this chip, having terminal pads 2 for connecting outer lead wires and located at the corners of a chip 3. Since the chip 3 is generally rectangular planar, the protective pads 1 are disposed at its four corners. To the normal terminal pads 2, elements for protecting internal circuit elements electrically connected to the pads 2 are connected through Al wirings. The one of the protective elements connected to one pad 2 is for the substrate, and the other is for the power source.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路の
静電破壊保護素子を備える半導体装置及びその実装方法
の技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having an electrostatic discharge protection element for a semiconductor integrated circuit and a technique for mounting the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路の静電保護対策として、
対基板及び対電源用の2つのダイオードを組とする静電
破壊保護素子を半導体チップ内に形成する方法が従来か
ら広く知られている。その場合の静電破壊保護素子(以
下、保護素子と称する)は、十分な静電耐量をもった大
きさとし、半導体チップの全ての端子パッドに接続する
ようにしている
2. Description of the Related Art As a countermeasure for electrostatic protection of a semiconductor integrated circuit,
2. Description of the Related Art A method of forming an electrostatic discharge protection element having a pair of two diodes for a substrate and a power supply in a semiconductor chip has been widely known. In this case, the electrostatic breakdown protection element (hereinafter, referred to as a protection element) has a size having a sufficient electrostatic resistance and is connected to all terminal pads of the semiconductor chip.

【0003】この種の保護素子の具体例としては、例え
ば、P型半導体基板に高濃度N型埋込層を形成し、その
高濃度N型埋込層とP型半導体基板との間の接合から成
る第1のダイオードを基板に対する保護素子としている
ものが多い。また、電源に対しては、例えば、P型半導
体基板に高濃度N型埋込層を形成し、その上にN型エピ
タキシャル層を成長させる。そして、第1の半導体との
間に、P型半導体基板に達する絶縁分離層を形成し、さ
らにN型エピタキシャル層にP型拡散層及びN型拡散層
を形成して構成したトランジスタのコレクタベース間接
合から成る第2のダイオードを対電源用の保護素子とし
ているものが多い。
As a specific example of this type of protection element, for example, a high-concentration N-type buried layer is formed on a P-type semiconductor substrate, and a junction between the high-concentration N-type buried layer and the P-type semiconductor substrate is formed. In many cases, the first diode made of is used as a protection element for the substrate. For a power supply, for example, a high-concentration N-type buried layer is formed in a P-type semiconductor substrate, and an N-type epitaxial layer is grown thereon. A collector-base indirect transistor formed by forming an insulating separation layer reaching the P-type semiconductor substrate between the first semiconductor and the P-type diffusion layer and the N-type diffusion layer on the N-type epitaxial layer. In many cases, the second diode composed of the two is used as a protection element for the power supply.

【0004】ところで、保護素子は十分な静電耐量をも
った大きさとする必要があることから、高集積化が進む
につれて、保護素子のチップ面積に占める割合が増大す
る。そのため、この保護素子は高集積化を図る上での一
つの障害となっている。
[0004] Incidentally, since the protection element needs to have a size having a sufficient electrostatic resistance, the ratio of the protection element to the chip area increases as the degree of integration increases. For this reason, this protection element is one obstacle in achieving high integration.

【0005】そこで、この点の対策として、特開平4−
299855号公報に示す技術が提案されている。この
技術では、上述のように、互いに単独に形成していた対
電源と対基板の静電破壊保護用ダイオードを同一領域内
に形成することにより、チップ面積に対するダイオード
の占有面積を縮小して、半導体集積回路の集積度を向上
させるようにしたものである。
To solve this problem, Japanese Patent Laid-Open No.
A technique disclosed in Japanese Patent Publication No. 299855 has been proposed. In this technique, as described above, the diode occupation area of the diode with respect to the chip area is reduced by forming the ESD protection diode of the power supply and the ESD protection substrate, which are formed independently of each other, in the same region. This is to improve the degree of integration of a semiconductor integrated circuit.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】図4に従来の静電破壊
保護素子(ダイオード)の配置例のチップコーナー部の
模式図を示す。半導体集積回路の組立技術の進歩によ
り、チップ3に設ける通常の端子パッド2の大きさは、
非常に小さくなってきている。また、内部回路素子も微
細化が進み、その内部回路素子の占める面積も小さくな
ってきている。このことは、端子パッド2の占める面積
が、保護素子4に比べ相対的に小さくなってきているこ
とを意味する。5は端子パッド2と保護素子4を接続す
るアルミ配線を示している。
FIG. 4 is a schematic diagram of a chip corner portion of an arrangement example of a conventional electrostatic discharge protection element (diode). With the progress of the semiconductor integrated circuit assembly technology, the size of the normal terminal pad 2 provided on the chip 3 is
It is getting very small. In addition, miniaturization of internal circuit elements has progressed, and the area occupied by the internal circuit elements has been reduced. This means that the area occupied by the terminal pad 2 is relatively smaller than that of the protection element 4. Reference numeral 5 denotes an aluminum wiring connecting the terminal pad 2 and the protection element 4.

【0007】特開平4−299855号公報に記載の技
術では、確かに、同一領域内に2種類のダイオードを形
成することで、ダイオードの占有面積を縮小している
が、過電圧による電荷を逃がすためには十分な面積が必
要となる。したがって、ダイオード自体の面積は、過電
圧との関係で小さくするには限界がある。このため、チ
ップ全体に占める保護素子の面積の割合が大きくなり、
チップサイズを小さくできないという、根本的な問題が
ある。
In the technique described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-299855, the area occupied by the diodes is reduced by forming two types of diodes in the same region. Requires a sufficient area. Therefore, there is a limit in reducing the area of the diode itself in relation to the overvoltage. For this reason, the ratio of the area of the protection element to the whole chip increases,
There is a fundamental problem that the chip size cannot be reduced.

【0008】本発明は、以上のような点を考慮してなさ
れたもので、最小の占有面積で静電保護能力の高い静電
保護素子を備える半導体装置を提供し、これにより集積
度の向上を図れるようにすることを目的とする。さらに
本発明では、半導体装置の実装時における静電保護対策
として極めて有効に機能させることができる半導体装置
の実装方法を提供しようとするものである。
The present invention has been made in view of the above points, and provides a semiconductor device having an electrostatic protection element having a high electrostatic protection capability with a minimum occupation area, thereby improving the degree of integration. The purpose is to be able to achieve. Another object of the present invention is to provide a method of mounting a semiconductor device which can function extremely effectively as a measure against electrostatic protection when mounting the semiconductor device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明では、外部引出線に接続するための複数の端
子パッドを備える半導体チップに、その半導体チップ自
体の基板とショートした静電保護用のパッドを配設する
構成とした。その場合、静電保護用のパッドを半導体チ
ップの角に位置させるのも大変好適である。また、半導
体チップが平面矩形状である場合、その四隅に静電保護
用のパッドを配置することもできる。また、半導体チッ
プの基板はシリコン系半導体基板である構成とすること
もできる。また、半導体チップは、端子パッドに接続し
た静電破壊保護素子を備えている構成とすることもでき
る。一方、本発明の実装方法では、半導体チップを実装
装置によって基板に実装するに際し、その基板に帯電す
る静電気から半導体チップの内部素子を保護するための
方法であって、半導体チップが基板に対して最初に接す
る部分に、半導体チップ自体の基板とショートした静電
保護用のパッドを設けておき、そのパッドを介して半導
体チップ自体の基板から実装装置へと放電させるように
した。その場合、静電保護用のパッドを半導体チップの
角に位置させておくのが大変好適である。また、半導体
チップを実装する基板としてガラス基板を用いることも
できる。また、静電保護用のパッドは、半導体チップと
外部引出線とを接続するために必要な通常の端子パッド
の他に設けておくこともできる。さらに、半導体チップ
は、端子パッドに接続した静電破壊保護素子を備えてい
る構成とすることもできる。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a semiconductor chip having a plurality of terminal pads for connecting to an external lead wire, the semiconductor chip having a short circuit with the substrate of the semiconductor chip itself. Pads are arranged. In that case, it is also very suitable to place the pad for electrostatic protection at the corner of the semiconductor chip. Further, when the semiconductor chip has a flat rectangular shape, pads for electrostatic protection can be arranged at the four corners. Further, the substrate of the semiconductor chip may be a silicon-based semiconductor substrate. Further, the semiconductor chip may be configured to include an electrostatic discharge protection element connected to the terminal pad. On the other hand, the mounting method of the present invention is a method for protecting internal elements of a semiconductor chip from static electricity charged on the substrate when the semiconductor chip is mounted on the substrate by a mounting apparatus, wherein the semiconductor chip is mounted on the substrate. A pad for electrostatic protection that is short-circuited with the substrate of the semiconductor chip itself is provided at a portion where the semiconductor chip itself comes into contact, and discharge is performed from the substrate of the semiconductor chip itself to the mounting device via the pad. In that case, it is very preferable to place the pad for electrostatic protection at a corner of the semiconductor chip. Further, a glass substrate can be used as a substrate on which the semiconductor chip is mounted. In addition, the pads for electrostatic protection can be provided in addition to the usual terminal pads required for connecting the semiconductor chip to the external leads. Further, the semiconductor chip may be provided with an electrostatic discharge protection element connected to the terminal pad.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について図1〜図3を参照して詳細に説明する。図1は
本実施の形態に係る半導体装置の概略平面図であり、図
2はその半導体チップコーナー部の模式図、図3は基板
とショートしたパッド部分を示す断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to FIGS. FIG. 1 is a schematic plan view of a semiconductor device according to the present embodiment, FIG. 2 is a schematic diagram of a semiconductor chip corner portion, and FIG. 3 is a cross-sectional view showing a pad portion short-circuited to a substrate.

【0011】本実施の形態に係る半導体装置は、外部引
出線に接続するための通常の端子パッド2を備える半導
体チップ3に、その半導体チップ3自体の基板13とシ
ョートした静電保護用のパッド1を配設した構成として
いる。
In the semiconductor device according to the present embodiment, an electrostatic protection pad short-circuited to a substrate 13 of the semiconductor chip 3 itself is provided on a semiconductor chip 3 having a normal terminal pad 2 for connection to an external lead wire. 1 is provided.

【0012】この静電保護用のパッド1は後述する理由
から、半導体チップ3の角に位置させている。したがっ
て、半導体チップ3は一般的に平面矩形状であるので、
その四隅に静電保護用のパッド1を配置している。
The pad 1 for electrostatic protection is located at a corner of the semiconductor chip 3 for the reason described later. Therefore, since the semiconductor chip 3 is generally rectangular in a plane,
Pads 1 for electrostatic protection are arranged at the four corners.

【0013】通常の端子パッド2には、その端子パット
2に電気的に接続されている内部回路素子(図示せず)
を保護するための保護素子4、4がアルミ配線5を介し
て接続されている。1つのパッド2に接続されている保
護素子4、4の一方は対基板用であり、他方は対電源用
である。
An ordinary terminal pad 2 has an internal circuit element (not shown) electrically connected to the terminal pad 2.
Are connected via an aluminum wiring 5. One of the protection elements 4 and 4 connected to one pad 2 is for a substrate, and the other is for a power supply.

【0014】基板とショートした静電保護用のパッド1
を形成するには、図3に示すように、チップ3自体の半
導体基板13に、その半導体基板13と同型(P型半導
体基板であればP型)の不純物拡散層12を設け、その
上に配線層10を設けることによって、半導体基板13
とショートしたパッド1を形成している。11は、絶縁
層として機能させるフィールド酸化膜である。
An electrostatic protection pad 1 short-circuited to a substrate.
As shown in FIG. 3, the semiconductor substrate 13 of the chip 3 itself is provided with an impurity diffusion layer 12 of the same type as the semiconductor substrate 13 (P-type in the case of a P-type semiconductor substrate). By providing the wiring layer 10, the semiconductor substrate 13
Is formed. Reference numeral 11 denotes a field oxide film functioning as an insulating layer.

【0015】パッド1を設けるための半導体チップ3自
体の基板は、周知のシリコン系半導体基板であるが、勿
論、他の半導体基板でもよく、また、N型あるいはP型
半導体基板の何れでも問わない。即ち、静電保護対策を
必要とする半導体チップであれば、殆どのチップに適用
できる。
The substrate of the semiconductor chip 3 itself for providing the pads 1 is a well-known silicon-based semiconductor substrate. Of course, it may be another semiconductor substrate, or may be an N-type or P-type semiconductor substrate. . In other words, the present invention can be applied to almost any semiconductor chip that requires an electrostatic protection measure.

【0016】ところで、このように半導体基板13とシ
ョートさせたパッド1を設けた半導体装置が、例えばC
hip On Glass品(以後COG品と称する)
に適用される半導体装置である場合、ガラス基板に半導
体装置外部に接続する配線がなされており、ガラス基板
側に半導体装置の表面を張り合わせる。この際、静電気
の印加を最も受ける。
By the way, the semiconductor device provided with the pad 1 short-circuited to the semiconductor substrate 13 is, for example, C
hip On Glass product (hereinafter referred to as COG product)
In the case of a semiconductor device applied to a semiconductor device, wiring connected to the outside of the semiconductor device is provided on a glass substrate, and the surface of the semiconductor device is bonded to the glass substrate. At this time, the application of static electricity is most affected.

【0017】このガラス基板に実装するときには、半導
体装置のチップの角の部分がガラス基板に一番先に接触
する。したがって、ガラス基板に帯電していた静電気
は、半導体装置の通常端子パッド2より先に、チップ3
の角に配設してある半導体基板13とショートしたパッ
ド1に印加され、半導体基板13から実装装置側へと逃
がすことができる。即ち、実装装置は通常、半導体基板
を掴んで実装するので、パッド1を半導体基板にショー
トさせておくことで、その半導体基板から実装装置にア
ースさせることが可能になる。
When the semiconductor device is mounted on the glass substrate, the corner of the chip of the semiconductor device comes into contact with the glass substrate first. Therefore, the static electricity charged on the glass substrate is transferred to the chip 3 before the normal terminal pad 2 of the semiconductor device.
Is applied to the pad 1 which is short-circuited with the semiconductor substrate 13 disposed at the corner, and can escape from the semiconductor substrate 13 to the mounting device side. That is, since the mounting apparatus normally mounts the semiconductor substrate while holding it, by short-circuiting the pad 1 to the semiconductor substrate, it becomes possible to ground the mounting apparatus from the semiconductor substrate.

【0018】このことで、ガラス基板に帯電していた静
電気を減らすことができ、その分、通常の各端子パッド
2に印加される静電気を十分に減らすことができる。し
たがって、静電気に対する保護素子4(ダイオード)の
面積を実質的に小さく、もしくは無くすこともできる。
これにより、高集積化の障害となっていた保護素子4の
問題を根本的に解決し、集積度の格段の向上を図ること
が可能になる。
As a result, the static electricity charged on the glass substrate can be reduced, and the static electricity applied to each terminal pad 2 can be reduced accordingly. Therefore, the area of the protection element 4 (diode) against static electricity can be substantially reduced or eliminated.
As a result, the problem of the protection element 4 which has been an obstacle to high integration can be fundamentally solved, and the degree of integration can be significantly improved.

【0019】ガラス基板へ実装した後は、通常、樹脂に
よりガラス基板と半導体装置を密封する処置が施される
ので、半導体装置の各端子パッド2に静電気が直接印加
されることはなくなる。
After mounting on a glass substrate, a process of sealing the glass substrate and the semiconductor device with a resin is usually performed, so that static electricity is not directly applied to each terminal pad 2 of the semiconductor device.

【0020】また、半導体装置の端子パッド数が多い場
合、従来の保護素子では、静電耐量との関係で十分な面
積が必要なため、保護素子の面積と端子パッド数により
チップサイズが決定されてしまう。しかし、本実施の形
態のように、保護素子4の面積を小さくできれば、端子
パッド2の間隔を接近させることができ、チップ3のサ
イズを小さくできる。
Further, when the number of terminal pads of the semiconductor device is large, the conventional protection element needs a sufficient area in relation to the electrostatic withstand capability. Therefore, the chip size is determined by the area of the protection element and the number of terminal pads. Would. However, if the area of the protection element 4 can be reduced as in the present embodiment, the interval between the terminal pads 2 can be reduced, and the size of the chip 3 can be reduced.

【0021】したがって、チップ3の角に新たに、半導
体基板13とショートした静電保護用のパッド1を配設
しても、各端子パッド2に接続してある保護素子4の面
積を小さくできるため、従来のチップサイズに比べ、チ
ップ3の角に新たにパッド1を配設することによるチッ
プサイズへの影響は極めて小さい。
Therefore, even if the pads 1 for electrostatic protection which are short-circuited with the semiconductor substrate 13 are newly provided at the corners of the chip 3, the area of the protection element 4 connected to each terminal pad 2 can be reduced. Therefore, as compared with the conventional chip size, the influence on the chip size caused by newly disposing the pad 1 at the corner of the chip 3 is extremely small.

【0022】一方、こうしたCOG実装においては静電
保護対策のためのダミーパッドが必要となることも多
い。その場合には、ダミーパッドを本実施の形態で示し
たように、半導体基板とショートさせたパッドにすれ
ば、チップサイズへの影響は全くなく、従来よりもチッ
プサイズを小さくできる。
On the other hand, such COG mounting often requires a dummy pad for electrostatic protection. In this case, if the dummy pad is a pad that is short-circuited to the semiconductor substrate as described in the present embodiment, the chip size is not affected at all, and the chip size can be made smaller than in the past.

【0023】このことを、図2と図4を参照しながら説
明する。図4において、例えばパッド2の一辺を50μ
m、保護素子4のチップ端と平行な辺を60μm、保護
素子4とパッド2の間隔を20μmとすると、保護素子
4を含む一つのパッド2の占める長さは、210μmと
なる。ここで、本発明を適用した場合、図2に示すよう
に、保護素子4のチップ端と平行な辺が40μmにでき
るとすると、その保護素子4を含む一つのパッド2の占
める長さは、170μmとなる。
This will be described with reference to FIGS. 2 and 4. In FIG. 4, for example, one side of the pad 2 is 50 μm.
m, the side parallel to the chip end of the protection element 4 is 60 μm, and the distance between the protection element 4 and the pad 2 is 20 μm, the length occupied by one pad 2 including the protection element 4 is 210 μm. Here, when the present invention is applied, as shown in FIG. 2, assuming that the side parallel to the chip end of the protection element 4 can be 40 μm, the length occupied by one pad 2 including the protection element 4 is: 170 μm.

【0024】したがって、本発明を適用することで、保
護素子4を含む一つのパッド2の占める長さを20%減
少できる。よって、本発明の基板とショーとしたパッド
1をチップ3の角に配設しても、20%近く各辺の長さ
を小さくでき、チップ全体としての集積度を向上でき
る。
Therefore, by applying the present invention, the length occupied by one pad 2 including the protection element 4 can be reduced by 20%. Therefore, even if the substrate of the present invention and the pad 1 as a show are arranged at the corners of the chip 3, the length of each side can be reduced by about 20%, and the degree of integration of the entire chip can be improved.

【0025】なお、実施の形態での実装方法の説明で
は、COG実装の場合を例にとり説明したが、半導体装
置を実装する基板がガラス基板と同様に静電気対策を必
要とする他の素材からなる基板に対しても、勿論、本発
明を適用することができる。また、基板とショートした
パッドについては、チップの角のみに限らず、実装時に
最初に接する部分であれば、必要に応じてチップの角以
外の部分に、あるいは角と角以外の部分の両方に設けて
もよい。
In the description of the mounting method in the embodiment, the case of COG mounting has been described as an example. However, the substrate on which the semiconductor device is mounted is made of another material that requires countermeasures against static electricity, like the glass substrate. Of course, the present invention can be applied to a substrate. In addition, the short-circuited pad is not limited to the corner of the chip. It may be provided.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、半導体
チップに基板とショートした静電保護用のパッドを配設
することにより、特に、COG品の場合、静電破壊保護
素子の半導体チップに占める面積を小さく、もしくは無
くすことができる。そして、その専有面積を縮小するこ
とにより、半導体集積回路の集積度を向上させることが
できる。また、基板とショートしたパッドを半導体チッ
プが基板に対して最初に接する部分に配置しておくこと
により、半導体装置の実装時における静電保護対策とし
て極めて有効に機能させることができる。
As described above, according to the present invention, a semiconductor chip is provided with an electrostatic protection pad short-circuited to a substrate. The area occupied in the chip can be reduced or eliminated. By reducing the occupied area, the degree of integration of the semiconductor integrated circuit can be improved. Further, by arranging the pad that is short-circuited to the substrate at a position where the semiconductor chip first comes into contact with the substrate, it is possible to function extremely effectively as a measure for protecting the semiconductor device from static electricity during mounting.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態を示す半導体装置の概略平
面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態を示す半導体装置のチップ
コーナー部の模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram of a chip corner portion of the semiconductor device according to the embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態を示す半導体装置の基板と
ショートしたパッド部分の断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a pad portion short-circuited to a substrate of the semiconductor device according to the embodiment of the present invention.

【図4】従来の保護素子配置の例を示すチップコーナー
部の模式図である。
FIG. 4 is a schematic diagram of a chip corner portion showing an example of a conventional protection element arrangement.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板とショートしたパッド 2 通常の端子パッド 3 チップ(半導体チップ) 4 保護素子(ダイオード) 5 アルミ配線 10 配線層(パッド) 11 フィールド酸化膜 12 基板と同型の不純物拡散層 13 半導体基板 Reference Signs List 1 pad short-circuited to substrate 2 normal terminal pad 3 chip (semiconductor chip) 4 protective element (diode) 5 aluminum wiring 10 wiring layer (pad) 11 field oxide film 12 impurity diffusion layer of same type as substrate 13 semiconductor substrate

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 外部引出線に接続するための複数の端子
パッドを備える半導体チップに、その半導体チップ自体
の基板とショートした静電保護用のパッドを配設したこ
とを特徴とする、半導体装置。
1. A semiconductor device comprising: a semiconductor chip having a plurality of terminal pads for connecting to an external lead wire; and an electrostatic protection pad short-circuited to a substrate of the semiconductor chip itself. .
【請求項2】 前記静電保護用のパッドを半導体チップ
の角に位置させたことを特徴とする、請求項1に記載の
半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein said pad for electrostatic protection is located at a corner of a semiconductor chip.
【請求項3】 前記半導体チップが平面矩形状であり、
その四隅に前記静電保護用のパッドを配置したことを特
徴とする、請求項1又は2に記載の半導体装置。
3. The semiconductor chip has a planar rectangular shape,
The semiconductor device according to claim 1, wherein the pads for electrostatic protection are arranged at four corners of the semiconductor device.
【請求項4】 前記基板がシリコン系半導体基板である
ことを特徴とする、請求項1〜3に記載の半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein said substrate is a silicon-based semiconductor substrate.
【請求項5】 前記半導体チップは、前記端子パッドに
接続した静電破壊保護素子を備えていることを特徴とす
る、請求項1〜4に記載の半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein said semiconductor chip includes an electrostatic discharge protection element connected to said terminal pad.
【請求項6】 半導体チップを実装装置によって基板に
実装するに際し、その基板に帯電する静電気から半導体
チップの内部素子を保護するための方法であって、半導
体チップが基板に対して最初に接する部分に、半導体チ
ップ自体の基板とショートした静電保護用のパッドを設
けておき、そのパッドを介して半導体チップ自体の基板
から実装装置へと放電させることを特徴とする、半導体
装置の実装方法。
6. A method for protecting an internal element of a semiconductor chip from static electricity charged on the substrate when the semiconductor chip is mounted on the substrate by a mounting device, wherein the semiconductor chip first contacts the substrate. A pad for electrostatic protection short-circuited to the substrate of the semiconductor chip itself, and discharging from the substrate of the semiconductor chip itself to the mounting device via the pad.
【請求項7】 前記静電保護用のパッドを半導体チップ
の角に位置させておくことを特徴とする、請求項6に記
載の半導体装置。
7. The semiconductor device according to claim 6, wherein said pad for electrostatic protection is located at a corner of a semiconductor chip.
【請求項8】 前記半導体チップを実装する基板がガラ
ス基板であることを特徴とする、請求項6又は7に記載
の半導体装置の実装方法。
8. The method according to claim 6, wherein the substrate on which the semiconductor chip is mounted is a glass substrate.
【請求項9】 前記静電保護用のパッドは、半導体チッ
プと外部引出線とを接続するために必要な通常の端子パ
ッドの他に設けてあることを特徴とする、請求項6〜8
に記載の半導体装置の実装方法。
9. The semiconductor device according to claim 6, wherein said pad for electrostatic protection is provided in addition to a normal terminal pad necessary for connecting a semiconductor chip to an external lead.
3. The method for mounting a semiconductor device according to claim 1.
【請求項10】 前記半導体チップは、前記端子パッド
に接続した静電破壊保護素子を備えていることを特徴と
する、請求項6〜9に記載の半導体装置の実装方法。
10. The method according to claim 6, wherein the semiconductor chip includes an electrostatic discharge protection element connected to the terminal pad.
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