JPH118259A - Pickup method - Google Patents

Pickup method

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JPH118259A
JPH118259A JP17645497A JP17645497A JPH118259A JP H118259 A JPH118259 A JP H118259A JP 17645497 A JP17645497 A JP 17645497A JP 17645497 A JP17645497 A JP 17645497A JP H118259 A JPH118259 A JP H118259A
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JP
Japan
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pellet
origin
pickup
center
semiconductor
Prior art date
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Application number
JP17645497A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeru Arai
茂 新井
Makoto Nakajima
誠 中嶋
Toru Uekuri
徹 植栗
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68318Auxiliary support including means facilitating the separation of a device or wafer from the auxiliary support
    • H01L2221/68322Auxiliary support including means facilitating the selective separation of some of a plurality of devices from the auxiliary support

Landscapes

  • Die Bonding (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To positively perform pickup by correcting the origin of the coordinate origin correction of a pickup move for each, preset pickup. SOLUTION: When the number of pickups reaches a preset count, a position deviation due to the punching of a small hole 5 can be corrected by performing origin matching of an origin mark 0 of a zero point pellet PO. For example, when the origin mark 0 is matched to a cursor G, the center G of an image- pickup device and the center of a projection unit match the origin mark 0. In this state, the effects of the punching of a number of small holes 5 has been corrected. Specifically, a deviation due to the punching has been eliminated or absorbed. A zero point has been newly matched. Therefore, by newly setting the position of the origin mark 0 in this state to the coordinate origin of the movement of the pickup, the center G of the image-pickup device can be moved relatively from the origin mark 0 to each pellet to be picked up hereafter.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ピックアップ方
法、特に、半導体装置の製造工程における半導体ペレッ
ト(以下、ペレットという。)をウエハシートからピッ
クアップする技術に関し、例えば、小信号トランジスタ
やダイオード等の微小なペレットのピックアップ技術に
利用して有効なものに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pickup method, and more particularly to a technique for picking up semiconductor pellets (hereinafter, referred to as pellets) in a semiconductor device manufacturing process from a wafer sheet. The present invention relates to those that are effective for use in picking up pellets.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置の製造工程において、ペレッ
トをリードフレームにボンディングするペレットボンデ
ィング方法として、半導体ウエハ(以下、ウエハとい
う。)に伸縮性を有するウエハシートが粘着される工程
と、ウエハが複数個のペレットにそれぞれ分断されるダ
イシング工程と、ウエハシートが引き伸ばされた状態で
ウエハがウエハシートを介して枠形状のウエハリングに
保持されるウエハリング装着工程と、ウエハリングに保
持されたウエハ内の各ペレットがウエハシートからピッ
クアップツールにより順次剥離されてピックアップされ
るピックアップ工程と、ピックアップされたペレットが
リードフレーム上まで移送されてリードフレームにボン
ディングされる工程とを備えている方法がある。
2. Description of the Related Art In a semiconductor device manufacturing process, a pellet bonding method for bonding a pellet to a lead frame includes a step of sticking a stretchable wafer sheet to a semiconductor wafer (hereinafter, referred to as a wafer); A dicing step in which the wafer is cut into individual pieces; a wafer ring mounting step in which the wafer is held in a frame-shaped wafer ring via the wafer sheet in a state where the wafer sheet is stretched; There is a method including a pick-up step in which each pellet is sequentially peeled off from the wafer sheet by a pick-up tool and picked up, and a step in which the picked-up pellet is transferred onto a lead frame and bonded to the lead frame.

【0003】また、ウエハ内のペレットはプローブ検査
工程において電気的特性検査を実施される。一般に、こ
の電気的特性検査結果に基づいて、ペレットのグレード
分け(等級分け)を実施することにより、製造歩留りの
低下を防止することが実行されている。この場合、ペレ
ットがウエハシートからピックアップされる際には、各
グレード毎にペレットのピックアップが実施される。
[0003] Further, electrical characteristics inspection is performed on the pellets in the wafer in a probe inspection process. In general, a reduction in manufacturing yield is prevented by performing a grading (grading) of the pellets based on the result of the electrical property inspection. In this case, when the pellets are picked up from the wafer sheet, the pellets are picked up for each grade.

【0004】なお、ダイシング技術を述べてある例とし
ては、株式会社工業調査会1987年11月20日発行
「電子材料1987年11月号別冊」P40〜P45、
がある。また、ペレットボンディング技術を述べてある
例としては、株式会社工業調査会1995年12月4日
発行「電子材料1995年12月号別冊」P80〜P8
7、がある。
Examples of the dicing technique include “Electronic Materials Nov. 1987, Separate Volume”, published on November 20, 1987 by the Industrial Research Council, Ltd., P40 to P45,
There is. Examples of the pellet bonding technology include “Electronic Materials December 1995 Separate Volume”, published on December 4, 1995, Industrial Research Institute, Inc., P80 to P8.
There are seven.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】前記したグレード毎に
ペレットをウエハシートからピックアップして行くピッ
クアップ方法においては、ペレットのウエハシートから
不規則にピックアップされて行く状態になるため、ペレ
ットの位置が不規則に変化し、各ペレットのピックアッ
プ時にペレットの位置決め精度が不安定になり、小信号
トランジスタやダイオード等の微小なペレットの場合に
は、ペレットのピックアップが不可能になるという問題
点があることが本発明者によって明らかにされた。
In the above-described pickup method in which pellets are picked up from a wafer sheet for each grade, since the pellets are picked up irregularly from the wafer sheet, the position of the pellets becomes irregular. The rule changes, and the pellet positioning accuracy becomes unstable when each pellet is picked up. In the case of small pellets such as small-signal transistors and diodes, there is a problem that the pellet cannot be picked up. Revealed by the inventor.

【0006】本発明の目的は、微小なペレットであって
も確実にピックアップすることができるピックアップ方
法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a pickup method capable of surely picking up fine pellets.

【0007】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
[0007] The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
The outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application is as follows.

【0009】すなわち、伸縮性を有するウエハシートに
粘着された半導体ウエハが複数個の半導体ペレットにダ
イシングされた後に、前記ウエハシートが引き伸ばされ
て前記半導体ペレット同士が離間され、各半導体ペレッ
トがその中心に順次対向されて行くピックアップツール
によって前記ウエハシートから順次ピックアップされて
行くピックアップ方法において、前記半導体ペレット群
のうち少なくとも一個の半導体ペレットに前記各ピック
アップに際しての前記ピックアップツールの相対移動の
座標の原点が設定され、前記半導体ペレットのピックア
ップ回数が所定の回数に達したときに、前記原点の現在
の前記ピックアップツールに対する位置についての誤差
が補正されることを特徴とする。
That is, after a semiconductor wafer adhered to an elastic wafer sheet is diced into a plurality of semiconductor pellets, the wafer sheet is stretched to separate the semiconductor pellets from each other. In the pick-up method in which the pick-up tools are sequentially picked up from the wafer sheet by the pick-up tools that are sequentially opposed to each other, the origin of the coordinate of the relative movement of the pick-up tool in each pick-up is at least one of the semiconductor pellets. When the number of pickups of the semiconductor pellets is set and reaches a predetermined number, an error in the current position of the origin with respect to the pickup tool is corrected.

【0010】前記した手段によれば、予め設定したピッ
クアップ回数毎に原点の零点補正が実施されるため、補
正後の各ペレットのピックアップ時にはペレットの位置
決めは正確に実行されることになる。したがって、微小
ペレットであっても、確実にピックアップすることがで
きる。
According to the above-mentioned means, since the zero point correction of the origin is performed every preset number of times of pickup, the pellets are accurately positioned when picking up the pellets after the correction. Therefore, even fine pellets can be reliably picked up.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施形態である
ペレットボンディング方法を示すフロー図である。図2
は引き伸ばし前後の関係を示す各平面図であり、(a)
は引き伸ばし前を、(b)は引き伸ばし後を示してい
る。図3はワークを示しており、(a)は平面図、
(b)は正面断面図である。図4は本発明の一実施形態
であるペレットボンディング方法に使用されるペレット
ボンディング装置を示す一部省略斜視図である。図5は
その拡大部分断面図である。図6以降はその作用を説明
するための説明図である。
FIG. 1 is a flowchart showing a pellet bonding method according to an embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 3 is a plan view showing a relationship before and after stretching, and FIG.
Shows the state before stretching, and (b) shows the state after stretching. FIG. 3 shows a work, (a) is a plan view,
(B) is a front sectional view. FIG. 4 is a partially omitted perspective view showing a pellet bonding apparatus used in the pellet bonding method according to one embodiment of the present invention. FIG. 5 is an enlarged partial sectional view thereof. FIG. 6 et seq. Are explanatory diagrams for explaining the operation.

【0012】本実施形態において、本発明に係るピック
アップ方法は、小信号トランジスタのためのペレットを
ウエハシートからピックアップして、リードフレームに
ボンディングするペレットボンディング方法に適用され
ており、図4および図5に示されているペレットボンデ
ィング装置によって実施される。
In the present embodiment, the pickup method according to the present invention is applied to a pellet bonding method for picking up a pellet for a small signal transistor from a wafer sheet and bonding it to a lead frame. This is performed by a pellet bonding apparatus shown in FIG.

【0013】半導体装置の製造工程における所謂前工程
において、図2に示されているように、ウエハWには各
ペレットP毎にトランジスタ素子を含む電子回路が作り
込まれる。ウエハWはプローブ検査工程(図示せず)に
おいて各ペレットP毎に電気的特性を測定される。各ペ
レットPは測定された電気的特性に基づいてグレードを
それぞれ指定される。この際、各ペレットPのアドレス
はウエハWの中心に位置するペレット(以下、原点ペレ
ットという。)P0に対するXY座標によって示され
る。原点ペレットP0の中心には光学的に認識可能な原
点マークOが付されている。
In a so-called pre-process in the manufacturing process of the semiconductor device, an electronic circuit including transistor elements is formed on the wafer W for each pellet P as shown in FIG. The electrical characteristics of the wafer W are measured for each pellet P in a probe inspection process (not shown). Each pellet P is assigned a grade based on the measured electrical characteristics. At this time, the address of each pellet P is indicated by the XY coordinates with respect to the pellet P0 located at the center of the wafer W (hereinafter referred to as the origin pellet). An optically recognizable origin mark O is provided at the center of the origin pellet P0.

【0014】例えば、図2にP1で示されているペレッ
トは第1ペレット、P2は第2ペレット、P3は第3ペ
レット・・・、Pnは第nペレットと仮定すると、第1
ペレットP1のアドレスは(X0、Y5)、第2ペレッ
トP2のアドレスは(X1、Y5)、第3ペレットP3
のアドレスは(X2、Y5)、第nペレットPnのアド
レスは(Xn、Yn)になる。そして、第1ペレットP
1のグレードが第1グレード(以下、Aグレードとい
う。)、第2ペレットP2のグレードが第2グレード
(以下、Bグレードという。)、第3ペレットP3が不
良品(以下、Cグレードという。)・・・、第nペレッ
トPnのグレードがAグレード、Cグレードのいずれか
であると、各ペレットPのグレードの指定は次の表1の
ようになり、フロッピーディスク等の記録媒体(図示せ
ず)に記録される。なお、表1において、第1ペレット
P1、第2ペレットP2・・・の名称は便宜上のもの
で、実際にはアドレスおよびグレードだけが記録され
る。
For example, assuming that the pellet indicated by P1 in FIG. 2 is a first pellet, P2 is a second pellet, P3 is a third pellet..., And Pn is an n-th pellet,
The address of the pellet P1 is (X0, Y5), the address of the second pellet P2 is (X1, Y5), and the third pellet P3
Is (X2, Y5), and the address of the nth pellet Pn is (Xn, Yn). And the first pellet P
The first grade is the first grade (hereinafter, referred to as A grade), the grade of the second pellet P2 is the second grade (hereinafter, referred to as B grade), and the third pellet P3 is the defective product (hereinafter, referred to as C grade). ... If the grade of the n-th pellet Pn is either A grade or C grade, the grade designation of each pellet P is as shown in Table 1 below, and a recording medium such as a floppy disk (not shown) ). In Table 1, the names of the first pellets P1, the second pellets P2,... Are for convenience, and only the address and the grade are actually recorded.

【0015】 [0015]

【0016】以上のようにプローブ検査されて各ペレッ
ト毎にグレードをそれぞれ指定されたウエハWには、ウ
エハシート粘着工程(図示せず)においてウエハシート
1(図3参照)がその裏面に粘着される。ウエハシート
1は樹脂等の伸縮性を有する材料を用いられてウエハW
よりも大径の薄膜形状に形成されており、適当な粘着剤
を用いられてウエハWの裏面に粘着される。続いて、ダ
イシング工程(図示せず)において、ウエハWは各ペレ
ットPに分断される。このとき、ウエハWの裏面に粘着
されているウエハシート1は切断されないため、ペレッ
トP群はばらばらにならずに一群にまとまった状態にな
っている。
The wafer sheet 1 (see FIG. 3) is adhered to the back surface of the wafer W which has been subjected to the probe inspection and the grade of each pellet is designated as described above, in a wafer sheet adhesion step (not shown). You. The wafer sheet 1 is made of a material having elasticity such as resin, and the wafer W
It is formed in a thin film shape having a diameter larger than that of the wafer W, and is adhered to the back surface of the wafer W using an appropriate adhesive. Subsequently, in a dicing step (not shown), the wafer W is divided into pellets P. At this time, since the wafer sheet 1 adhered to the back surface of the wafer W is not cut, the pellets P are not separated but are grouped together.

【0017】次いで、引き伸ばし工程(図示せず)にお
いて、図3に示されているワーク3が製作される。すな
わち、ウエハWが粘着されたウエハシート1は、ステン
レス鋼等の剛性材料を用いられてウエハWよりも大径の
円形リング形状に形成されたウエハリング2の枠内に対
向するように配され、続いて、径方向外向きに引き伸ば
されてその外周辺部がウエハリング2に固定される。こ
のとき、ウエハシート1に粘着されたウエハWは各ペレ
ットPに分断されているため、ウエハシート1の伸びに
伴って隣合うペレットP、P間が離れてペレット相互間
の位置は、図2(a)と(b)とによって比較されるよ
うに引き伸ばし前後において変化することになる。
Next, in a stretching step (not shown), the work 3 shown in FIG. 3 is manufactured. That is, the wafer sheet 1 to which the wafer W is adhered is disposed so as to face a frame of a wafer ring 2 formed of a circular ring having a larger diameter than the wafer W using a rigid material such as stainless steel. Subsequently, it is stretched radially outward, and its outer peripheral portion is fixed to the wafer ring 2. At this time, since the wafer W adhered to the wafer sheet 1 is divided into the respective pellets P, the adjacent pellets P, P are separated with the elongation of the wafer sheet 1 and the position between the pellets is changed as shown in FIG. It will change before and after stretching as compared by (a) and (b).

【0018】ここで、図2(a)に示されているよう
に、ペレットPのX方向の幅をa、Y方向の幅をbとす
ると、引き伸ばし前における第nペレットPnの中心O
nの原点マークOに対するX方向の距離eおよびY方向
の距離fは、次の式およびによってそれぞれ求めら
れる。式中、Xnは第nペレットPnのアドレスのX座
標値(整数)、Ynは第nペレットPnのアドレスのY
座標値(整数)である。
Here, as shown in FIG. 2A, assuming that the width of the pellet P in the X direction is a and the width of the pellet P in the Y direction is b, the center O of the nth pellet Pn before stretching is obtained.
The distance e in the X direction and the distance f in the Y direction with respect to the origin mark O of n are obtained by the following equations, respectively. In the formula, Xn is an X coordinate value (integer) of the address of the n-th pellet Pn, and Yn is Y of the address of the n-th pellet Pn.
It is a coordinate value (integer).

【0019】e=a×Xn・・・ f=b×Yn・・・ 例えば、第2ペレットP2のX方向の距離e2は、前記
表1および上式から、a×1になり、Y方向の距離f
2は、前記表1および上式から、b×5になる。つま
り、引き伸ばし前には、各ペレットPの中心の位置は各
ペレットのアドレス値とペレットのサイズとの掛け算に
よって単純に求めることができる。
E = a × Xn... F = b × Yn... For example, the distance e2 in the X direction of the second pellet P2 is a × 1 from Table 1 and the above equation, and Distance f
2 is b × 5 from Table 1 and the above equation. That is, before the enlargement, the position of the center of each pellet P can be simply obtained by multiplying the address value of each pellet by the size of the pellet.

【0020】引き伸ばし後には、ペレットの位置が相対
的に移動するため、各ペレットPの中心の位置は各ペレ
ットのアドレス値とペレットのサイズとの掛け算によっ
て単純に求めることができない。しかし、引き伸ばし前
のウエハの直径をd、引き伸ばし後のウエハの直径をD
とすると、引き伸ばし後における第nペレットPnの中
心Onの原点マークOに対するX方向の距離EおよびY
方向の距離Fは、次の式およびによってそれぞれ求
められる。式中、Xnは第nペレットPnのアドレスの
X座標値、Ynは第nペレットPnのアドレスのY座標
値、D/dは拡大率である。
After the enlargement, the positions of the pellets relatively move, so that the position of the center of each pellet P cannot be simply obtained by multiplying the address value of each pellet by the size of the pellet. However, the diameter of the wafer before stretching is d, and the diameter of the wafer after stretching is D
Then, the distances E and Y in the X direction of the center On of the n-th pellet Pn with respect to the origin mark O after stretching are obtained.
The distance F in the direction is obtained by the following equation and respectively. In the formula, Xn is the X coordinate value of the address of the n-th pellet Pn, Yn is the Y coordinate value of the address of the n-th pellet Pn, and D / d is the magnification.

【0021】E=a×Xn×D/d・・・ F=b×Yn×D/d・・・ 例えば、第2ペレットP2のX方向の距離E2は、前記
表1および上式から、a×1×D/dになり、Y方向
の距離F2は、前記表1および上式から、b×5×D
/dになる。つまり、引き伸ばした後の各ペレットPの
中心の位置は各ペレットのアドレス値とペレットのサイ
ズと拡大率との掛け算によって求めることができる。す
なわち、前記表1のデータによって、引き伸ばされたウ
エハシート1からペレットPを各グレード毎にピックア
ップすることができる。
E = a.times.Xn.times.D / d F = b.times.Yn.times.D / d For example, the distance E2 in the X direction of the second pellet P2 is calculated from the above Table 1 and the above equation. × 1 × D / d, and the distance F2 in the Y direction is b × 5 × D
/ D. That is, the position of the center of each pellet P after stretching can be obtained by multiplying the address value of each pellet, the size of the pellet, and the enlargement ratio. That is, the pellets P can be picked up from the stretched wafer sheet 1 for each grade based on the data in Table 1.

【0022】以上のように製作されたワーク3は、前記
表1のデータを記録したフロッピーディスク等の記録媒
体(図示せず)と共にピックアップ工程としてのペレッ
トボンディング工程に送られる。ペレットボンディング
工程においては、図4および図5に示されているペレッ
トボンディング装置10が使用されて、記録媒体から得
られる各ペレットのアドレスデータおよびグレード指定
データに基づいて、各ペレットPが指定されたグレード
毎にワーク3からピックアップされ、各リードフレーム
4にそれぞれボンディングされる。
The work 3 manufactured as described above is sent to a pellet bonding step as a pickup step together with a recording medium (not shown) such as a floppy disk on which the data shown in Table 1 is recorded. In the pellet bonding step, each pellet P is designated based on the address data and grade designation data of each pellet obtained from the recording medium using the pellet bonding apparatus 10 shown in FIGS. Each grade is picked up from the work 3 and bonded to each lead frame 4.

【0023】ペレットボンディング装置10はリードフ
レーム4がピッチ送りされるフィーダ(図示せず)を備
えており、フィーダ上におけるリードフレーム4に対応
する位置にはXYテーブル11がコントローラ12によ
り制御されてXY方向に移動されるように設備されてい
る。コントローラ12には前記した記録媒体が装着され
るようになっている。XYテーブル11にはワーク3が
取付具13によって着脱自在に取り付けられている。ワ
ーク3のウエハリング2は取付具13によってXYテー
ブル11に固定された状態になっており、ワーク3のウ
エハシート1は押し上げリング14によってウエハリン
グ2の上面よりも押し上げられた状態になっている。
The pellet bonding apparatus 10 has a feeder (not shown) for feeding the lead frame 4 at a pitch. An XY table 11 is controlled by a controller 12 at a position on the feeder corresponding to the lead frame 4 so that the XY table is controlled. It is equipped to be moved in the direction. The recording medium described above is mounted on the controller 12. The work 3 is detachably attached to the XY table 11 by the attachment 13. The wafer ring 2 of the work 3 is fixed to the XY table 11 by the fixture 13, and the wafer sheet 1 of the work 3 is pushed up from the upper surface of the wafer ring 2 by the push-up ring 14. .

【0024】XYテーブル11におけるワーク3の真下
にはピックアップツールとしての突上ユニット15が設
備されている。突上ユニット15は突上ガイド16およ
び突上ピン17を備えており、突上ガイド16の上面が
ウエハシート1に当接した状態で、突上ピン17がペレ
ットPを突き上げてウエハシート1から剥離させるよう
に構成されている。XYテーブル11におけるワーク3
の真上にはテレビカメラ等からなる撮像装置18が垂直
方向下向きに設備されており、撮像装置18の撮像面の
中心は突上ピン17の中心に一致されている。撮像装置
18には画像認識装置19が電気的に接続されており、
画像認識装置19は後述するように認識結果をコントロ
ーラ12に送信するようになっている。
Immediately below the work 3 on the XY table 11, a protrusion unit 15 as a pickup tool is provided. The push-up unit 15 includes a push-up guide 16 and a push-up pin 17. With the upper surface of the push-up guide 16 in contact with the wafer sheet 1, the push-up pin 17 pushes up the pellet P from the wafer sheet 1. It is configured to be peeled off. Work 3 on XY table 11
Immediately above the camera, an imaging device 18 such as a television camera is installed vertically downward, and the center of the imaging surface of the imaging device 18 coincides with the center of the push-up pin 17. An image recognition device 19 is electrically connected to the imaging device 18.
The image recognition device 19 transmits a recognition result to the controller 12 as described later.

【0025】XYテーブル11の片脇にはコントローラ
12により制御されるボンディングヘッド20が設備さ
れており、XYテーブル11にはコントローラ12によ
り制御されるボンディングアーム21が支持されてい
る。ボンディングアーム21の先端にはコレット22が
垂直方向下向きに取り付けられており、コレット22は
突上ピン17によってワーク3から突き上げられたペレ
ットPを真空吸着保持することによりピックアップし、
続いて、ペレットPをリードフレーム4上に搬送してボ
ンディングし得るように構成されている。
A bonding head 20 controlled by the controller 12 is provided on one side of the XY table 11, and a bonding arm 21 controlled by the controller 12 is supported on the XY table 11. A collet 22 is attached to the tip of the bonding arm 21 vertically downward. The collet 22 picks up the pellet P pushed up from the work 3 by the suction pin 17 by vacuum suction and holding.
Subsequently, the pellet P is transported onto the lead frame 4 for bonding.

【0026】次に、Aグレードのペレットが順次ピック
アップされてボンディングされる場合を一例にして、前
記構成に係るワークからペレットが前記構成に係るペレ
ットボンディング装置10によってグレード毎のペレッ
トボンディングされるペレットボンディング方法を説明
する。
Next, taking as an example a case where A-grade pellets are sequentially picked up and bonded, pellet bonding in which pellets are pellet-bonded for each grade from the work having the above-described configuration by the pellet bonding apparatus 10 having the above-described configuration. The method will be described.

【0027】例えば、Aグレードの第1ペレットP1が
ピックアップされる際には、XYテーブル11がコント
ローラ12の指令によって操作されることにより、図6
に示されているように、撮像装置18の中心(以下、カ
ーソルということがある。)Gが原点ペレットPOの原
点マークOから第1ペレットP1の中心O1に相対的に
移動(実際にはワーク3側が移動する。)される。すな
わち、カーソルGは原点ペレットPOの原点マークOか
ら第1ペレットP1の中心O1へ、前記表1と前記式
およびとによって求められた距離E1および距離F1
だけ相対的に移動される。ちなみに、第1ペレットP1
のX座標値は「0」であるから、距離E1は「0」であ
る。また、突上ユニット15の中心は撮像装置18の中
心Gと一致されているため、撮像装置18の中心Gは突
上ユニット15の中心と実質的に同一である。
For example, when the first pellet P1 of the A grade is picked up, the XY table 11 is operated by a command from the controller 12 to obtain the signal shown in FIG.
As shown in FIG. 5, the center G (hereinafter, sometimes referred to as a cursor) of the imaging device 18 moves relatively from the origin mark O of the origin pellet PO to the center O1 of the first pellet P1 (actually, the work piece). The third side moves.) That is, the cursor G moves from the origin mark O of the origin pellet PO to the center O1 of the first pellet P1 by the distance E1 and the distance F1 obtained by the above Table 1 and the above formula.
Are only moved relatively. By the way, the first pellet P1
Is "0", the distance E1 is "0". In addition, since the center of the protrusion unit 15 is coincident with the center G of the imaging device 18, the center G of the imaging device 18 is substantially the same as the center of the protrusion unit 15.

【0028】ここで、図6(b)に示されているよう
に、画像認識装置19によって形成された第1ペレット
P1の画像H1において、第1ペレットP1の中心O1
がカーソルGからずれている場合には、XYテーブル1
1が操作されることにより第1ペレットP1の中心O1
がカーソルGに相対的に整合される。コントローラ12
はこの時のXYテーブル11のX方向およびY方向の移
動量をそれぞれ測定することにより、第1ペレットP1
の中心O1とカーソルGとのずれ量を算出する。そし
て、コントローラ12はこのずれ量を目標値と実際値と
の誤差を補正するために必要なX方向の補正値およびY
方向の補正値としてそれぞれ記憶する。図6(b)の図
示例において、X方向の補正値はx1であり、Y方向の
補正値はy1である。
Here, as shown in FIG. 6 (b), in the image H1 of the first pellet P1 formed by the image recognition device 19, the center O1 of the first pellet P1
Is shifted from the cursor G, the XY table 1
1 is operated so that the center O1 of the first pellet P1 is
Are relatively aligned with the cursor G. Controller 12
Measures the amount of movement of the XY table 11 in the X and Y directions at this time, thereby obtaining the first pellet P1.
Is calculated between the center O1 and the cursor G. Then, the controller 12 calculates the deviation amount in the X direction and the Y value necessary for correcting the error between the target value and the actual value.
Each is stored as a direction correction value. In the illustrated example of FIG. 6B, the correction value in the X direction is x1, and the correction value in the Y direction is y1.

【0029】カーソルGが第1ペレットP1の中心O1
に整合されると、突上ユニット15の中心が第1ペレッ
トP1の中心O1に位置合わせされた状態になる。続い
て、突上ユニット15が上昇して突上ガイド16の上面
がウエハシート1に当接した状態で、突上ピン17が第
1ペレットP1を突き上げてウエハシート1から剥離さ
せる。ウエハシート1から剥離されて突き上げられた第
1ペレットP1は、突上ユニット15の真上に予め待機
されているコレット22に真空吸着保持される。
The cursor G is positioned at the center O1 of the first pellet P1.
Is aligned, the center of the push-up unit 15 is aligned with the center O1 of the first pellet P1. Subsequently, the push-up pins 17 push up the first pellet P <b> 1 to separate the first pellet P <b> 1 from the wafer sheet 1 in a state where the push-up unit 15 is raised and the upper surface of the push-up guide 16 is in contact with the wafer sheet 1. The first pellets P <b> 1 that have been peeled off and pushed up from the wafer sheet 1 are vacuum-sucked and held by the collet 22 that is waiting in advance immediately above the push-up unit 15.

【0030】コレット22が第1ペレットP1を受け取
ると、ボンディングアーム21が操作され、コレット2
2に真空吸着保持された第1ペレットP1はリードフレ
ーム4のボンディング位置の真上に移動される。続い
て、ボンディングアーム21がボンディングヘッド20
によって下降され、第1ペレットP1はリードフレーム
4のボンディング位置にボンディングされる。第1ペレ
ットP1がボンディングされると、ボンディングアーム
21が上昇されてコレット22は次回の作動に待機する
状態になる。
When the collet 22 receives the first pellet P1, the bonding arm 21 is operated and the collet 2
The first pellet P <b> 1 held by vacuum suction at 2 is moved right above the bonding position of the lead frame 4. Subsequently, the bonding arm 21 is
, And the first pellet P1 is bonded to the bonding position of the lead frame 4. When the first pellet P1 is bonded, the bonding arm 21 is raised and the collet 22 is in a state of waiting for the next operation.

【0031】他方、突上ピン17が第1ペレットP1を
コレット22に受け渡すと、突上ユニット15は下降し
て次回の作動に待機する状態になる。ここで、突上ピン
17はウエハシート1を刺し通して第1ペレットP1を
突き上げるため、ウエハシート1における第1ペレット
P1の中心O1の位置には、突上痕としての小孔5が開
けられた状態になっている。
On the other hand, when the push-up pins 17 transfer the first pellets P1 to the collet 22, the push-up unit 15 descends and stands by for the next operation. Here, since the push-up pins 17 pierce the wafer sheet 1 to push up the first pellets P1, small holes 5 as push-up marks are made at the center O1 of the first pellets P1 in the wafer sheet 1. It is in a state of being left.

【0032】次に、図7に示されているように、2個目
のAグレードのペレットである第4ペレットP4がピッ
クアップされる際には、XYテーブル11がコントロー
ラ12の指令によって操作されることにより、撮像装置
18の中心Gが第1ペレットP1の中心O1から第4ペ
レットP4の中心O4に直接的に相対移動される。この
際、コントローラ12は先に第1ペレットP1について
求めた補正値x1およびy1によって移動量を補正す
る。
Next, as shown in FIG. 7, when the fourth pellet P4, which is the second A-grade pellet, is picked up, the XY table 11 is operated by a command from the controller 12. Thereby, the center G of the imaging device 18 is relatively directly moved from the center O1 of the first pellet P1 to the center O4 of the fourth pellet P4. At this time, the controller 12 corrects the movement amount using the correction values x1 and y1 previously obtained for the first pellet P1.

【0033】ここでも、図7(b)に示されているよう
に、画像認識装置19によって形成された第4ペレット
P4の画像H4において、第4ペレットP4の中心O4
がカーソルGからずれている場合には、XYテーブル1
1が操作されることにより、第4ペレットP4の中心O
4がカーソルGに相対的に整合される。コントローラ1
2はこの時のXYテーブル11のX方向およびY方向の
移動量をそれぞれ測定することにより、第4ペレットP
4の中心O4とカーソルGとのずれ量を算出する。そし
て、コントローラ12はこのずれ量を目標値と実際値と
の誤差を補正するために必要なX方向の補正値およびY
方向の補正値としてそれぞれ記憶する。図7(b)の図
示例において、X方向の補正値はx4であり、Y方向の
補正値はy4である。
Here, as shown in FIG. 7B, in the image H4 of the fourth pellet P4 formed by the image recognition device 19, the center O4 of the fourth pellet P4
Is shifted from the cursor G, the XY table 1
1 is operated, the center O of the fourth pellet P4 is
4 is relatively aligned with the cursor G. Controller 1
2 measures the amount of movement of the XY table 11 in the X and Y directions at this time, thereby obtaining the fourth pellet P.
The shift amount between the center O4 of the cursor 4 and the cursor G is calculated. Then, the controller 12 calculates the deviation amount in the X direction and the Y value necessary for correcting the error between the target value and the actual value.
Each is stored as a direction correction value. In the illustrated example of FIG. 7B, the correction value in the X direction is x4, and the correction value in the Y direction is y4.

【0034】カーソルGが第4ペレットP4の中心O4
に整合されると、突上ユニット15の中心が第4ペレッ
トP4の中心O4に位置合わせされた状態になる。続い
て、突上ユニット15が上昇して突上ガイド16の上面
がウエハシート1に当接した状態で、突上ピン17が第
4ペレットP4を突き上げてウエハシート1から剥離さ
せる。ウエハシート1から剥離されて突き上げられた第
4ペレットP4は、突上ユニット15の真上に予め待機
されているコレット22に真空吸着保持される。
The cursor G is positioned at the center O4 of the fourth pellet P4.
Is aligned, the center of the push-up unit 15 is aligned with the center O4 of the fourth pellet P4. Subsequently, the push-up pins 17 push up the fourth pellets P4 to separate them from the wafer sheet 1 in a state where the push-up unit 15 is raised and the upper surface of the push-up guide 16 is in contact with the wafer sheet 1. The fourth pellets P <b> 4 that have been peeled off and pushed up from the wafer sheet 1 are held by vacuum at a collet 22 that is standing by immediately above the push-up unit 15.

【0035】コレット22が第4ペレットP4を受け取
ると、ボンディングアーム21が操作され、コレット2
2に真空吸着保持された第4ペレットP4はリードフレ
ーム4のボンディング位置の真上に移動される。続い
て、ボンディングアーム21がボンディングヘッド20
によって下降され、第4ペレットP4はリードフレーム
4のボンディング位置にボンディングされる。第4ペレ
ットP4がボンディングされると、ボンディングアーム
21が上昇されてコレット22は次回の作動に待機する
状態になる。
When the collet 22 receives the fourth pellet P4, the bonding arm 21 is operated and the collet 2
The fourth pellet P4 held by vacuum suction at 2 is moved right above the bonding position of the lead frame 4. Subsequently, the bonding arm 21 is
And the fourth pellet P4 is bonded to the bonding position of the lead frame 4. When the fourth pellet P4 is bonded, the bonding arm 21 is raised, and the collet 22 is in a state of waiting for the next operation.

【0036】他方、突上ピン17が第4ペレットP4を
コレット22に受け渡すと、突上ユニット15は下降し
て次回の作動に待機する状態になる。ここで、突上ピン
17はウエハシート1を刺し通して第4ペレットP4を
突き上げるため、ウエハシート1における第4ペレット
P4の中心O4の位置には、突上痕としての小孔5が開
けられた状態になっている。
On the other hand, when the push-up pin 17 transfers the fourth pellet P4 to the collet 22, the push-up unit 15 descends and stands by for the next operation. Here, since the push-up pins 17 pierce the wafer sheet 1 to push up the fourth pellet P4, a small hole 5 as a bump mark is formed at the position of the center O4 of the fourth pellet P4 in the wafer sheet 1. It is in a state of being left.

【0037】次に、3個目のAグレードのペレットであ
る第5ペレットP5がピックアップされる際には、XY
テーブル11がコントローラ12の指令によって操作さ
れることにより、撮像装置18の中心Gが第4ペレット
P4の中心O4から第5ペレットP5の中心O5(図4
参照)に直接的に相対移動される。この際、コントロー
ラ12は先に第4ペレットP4について求めた補正値x
4およびy4によって移動量を補正する。そして、前述
したピックアップ作動およびペレットボンディング作動
が繰り返される。
Next, when the fifth pellet P5, which is the third A-grade pellet, is picked up, XY
By operating the table 11 according to a command from the controller 12, the center G of the imaging device 18 is shifted from the center O4 of the fourth pellet P4 to the center O5 of the fifth pellet P5 (FIG. 4).
(See Reference). At this time, the controller 12 corrects the correction value x previously obtained for the fourth pellet P4.
The movement amount is corrected by using 4 and y4. Then, the above-described pickup operation and pellet bonding operation are repeated.

【0038】以降、撮像装置18の中心Gが、前回にピ
ックアップした第nペレットPnの中心Onから次回に
ピックアップすべき第(n+1)ペレット(Pn+1)
の中心O(n+1)に直接的に相対移動されることによ
り、ピックアップ作動およびペレットボンディング作動
が実行される。そして、前述した目標値と実際値との誤
差の補正作動も撮像装置18の中心Gの相対移動の都度
実行される。
Thereafter, the center G of the imaging device 18 is shifted from the center On of the n-th pellet Pn picked up last time to the (n + 1) -th pellet (Pn + 1) to be picked up next time.
Are directly moved relative to the center O (n + 1) of the center position, thereby performing the pickup operation and the pellet bonding operation. The above-described operation of correcting the error between the target value and the actual value is also performed each time the center G of the imaging device 18 is relatively moved.

【0039】ところで、以上の作動が繰り返されると、
図8(a)に示されているように、ウエハシート1には
突上痕としての小孔5が多数個開けられた状態になる。
ウエハシート1に多数個の小孔5が開けられた状態にな
ると、伸張されたウエハシート1が多数個の小孔5の部
位において変形するため、各ペレットPの位置が大幅に
ずれた状態になる。このようにペレットPの位置が大幅
にずれた状態で、例えば、第12ペレットP12から第
13ペレットP13にカーソルGが直接的に相対移動さ
れると、図8(b)に示されているように、第13ペレ
ットP13がその画像H13内に収まりきれない状態に
なるため、画像認識装置19は第13ペレットP13の
中心O13を認識することができない。その結果、コン
トローラ12は突上ユニット15の中心を第13ペレッ
トP13の中心O13に位置合わせさせることができな
いため、第13ペレットP13をピックアップすること
ができない。また、前述した目標値と実際値との補正作
動も実行することができない。
By the way, when the above operation is repeated,
As shown in FIG. 8A, a large number of small holes 5 are formed in the wafer sheet 1 as protrusion marks.
When a large number of small holes 5 are formed in the wafer sheet 1, the stretched wafer sheet 1 is deformed at a portion of the large number of small holes 5, so that the position of each pellet P is largely shifted. Become. When the cursor G is relatively directly moved from the twelfth pellet P12 to the thirteenth pellet P13 in such a state that the position of the pellet P is largely shifted, as shown in FIG. 8B. In addition, since the thirteenth pellet P13 cannot fit in the image H13, the image recognition device 19 cannot recognize the center O13 of the thirteenth pellet P13. As a result, the controller 12 cannot align the center of the push-up unit 15 with the center O13 of the thirteenth pellet P13, and thus cannot pick up the thirteenth pellet P13. Further, the correction operation between the target value and the actual value described above cannot be executed.

【0040】そこで、本実施形態においては、図1に示
されているように、ピックアップの回数が予め設定され
た回数に達した時点で、原点ペレットP0の原点マーク
Oの零点合わせを実施することにより、小孔5の穿孔に
伴う位置ずれを補正することが実施される。
Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 1, when the number of pickups reaches a preset number, the zero mark of the origin mark O of the origin pellet P0 is adjusted. Thus, the displacement caused by the perforation of the small hole 5 is corrected.

【0041】例えば、ピックアップの回数が予め設定さ
れた回数である十回に達すると、図9に示されているよ
うに、第12ペレットP12から原点ペレットP0にカ
ーソルGが移動される。ここで、位置ずれが発生してい
ないと仮定した場合には、カーソルGは前記表1と前記
式およびとによって算出される移動量E12および
F12により、原点ペレットP0の原点マークOに戻る
ことができる。
For example, when the number of pickups reaches ten, which is a preset number, the cursor G is moved from the twelfth pellet P12 to the origin pellet P0 as shown in FIG. Here, assuming that no displacement has occurred, the cursor G can return to the origin mark O of the origin pellet P0 based on the movement amounts E12 and F12 calculated from Table 1 and the above formula. it can.

【0042】しかし、第12ペレットP12のピックア
ップに際して、前述した補正作動が実行されているた
め、カーソルGは移動量E12およびF12によっては
原点ペレットP0に戻ることができない。そこで、コン
トローラ12は前記表1と前記式およびとによる演
算に第12ペレットP12について算出された補正値x
12およびy12を減算する補正を実施する。この補正
により、図9(b)に示されているように、カーソルG
は原点ペレットP0に略戻ることができる。
However, when picking up the twelfth pellet P12, the cursor G cannot return to the origin pellet P0 depending on the movement amounts E12 and F12 since the above-described correction operation has been performed. Therefore, the controller 12 calculates the correction value x calculated for the twelfth pellet P12 in the calculation based on Table 1 and the above formula.
Correction to subtract 12 and y12 is performed. With this correction, as shown in FIG.
Can substantially return to the origin pellet P0.

【0043】ところが、ウエハシート1における原点ペ
レットP0の領域においても、多数個の小孔5の穿孔の
影響を受けてずれが発生しているため、カーソルGは原
点ペレットP0の原点マークOからずれてしまう。そこ
で、コントローラ12はXYテーブル11を操作して原
点マークOをカーソルGに相対的に整合させる。コント
ローラ12はこの時のXYテーブル11のX方向および
Y方向の移動量をそれぞれ測定することにより、原点マ
ークOとカーソルGとのずれ量を算出する。そして、コ
ントローラ12はこのずれ量を、小孔5の穿孔による原
点マークOすなわち座標原点のずれを補正するために必
要なX方向の補正値(以下、第一次X方向原点補正値と
いう。)およびY方向の補正値(以下、第一次Y方向原
点補正値という。)としてそれぞれ記憶する。図9
(b)の図示例において、第一次X方向原点補正値は、
Δx1であり、第一次Y方向原点補正値は、Δy1であ
る。
However, even in the area of the origin pellet P0 in the wafer sheet 1, since the displacement has occurred due to the influence of the perforation of the many small holes 5, the cursor G is shifted from the origin mark O of the origin pellet P0. Would. Therefore, the controller 12 operates the XY table 11 to relatively align the origin mark O with the cursor G. The controller 12 calculates the amount of displacement between the origin mark O and the cursor G by measuring the amount of movement of the XY table 11 in the X and Y directions at this time. Then, the controller 12 uses the amount of deviation in the X direction correction value (hereinafter, referred to as a first X direction origin correction value) necessary to correct the deviation of the origin mark O, that is, the coordinate origin due to the perforation of the small hole 5. And a correction value in the Y direction (hereinafter referred to as a primary Y direction origin correction value). FIG.
In the illustrated example of (b), the primary X direction origin correction value is
Δx1, and the primary Y-direction origin correction value is Δy1.

【0044】以上のようにして原点マークOがカーソル
Gに整合されると、撮像装置18の中心Gおよび突上ユ
ニット15の中心が原点マークOに一致した状態にな
る。この状態は、多数個の小孔5の穿孔の影響が補正さ
れた状態すなわち穿孔によるずれが解消ないしは吸収さ
れた状態であって、新たに所謂零点合わせされた状態で
ある。したがって、この状態の原点マークOの位置を新
たにピックアップの移動の座標原点として設定すること
により、前記表1と前記式およびとにより、撮像装
置18の中心Gを原点マークOからこれからピックアッ
プすべき各ペレットPへ相対的に移動させることができ
る。
When the origin mark O is aligned with the cursor G as described above, the center G of the imaging device 18 and the center of the push-up unit 15 coincide with the origin mark O. This state is a state in which the influence of the perforation of the plurality of small holes 5 is corrected, that is, a state in which the displacement due to the perforation is eliminated or absorbed, and is a state where a so-called zero point is newly set. Therefore, by setting the position of the origin mark O in this state as a new coordinate origin of the movement of the pickup, the center G of the imaging device 18 should be picked up from the origin mark O from Table 1 and the above formula. It can be relatively moved to each pellet P.

【0045】例えば、この状態から第13ペレットP1
3がピックアップされる場合には、XYテーブル11が
コントローラ12の指令によって操作されることによ
り、図10に示されているように、カーソルGが原点ペ
レットPOの原点マークOから第13ペレットP13の
中心O13へ、前記表1と前記式およびとによって
求められた距離E13および距離F13だけ移動され
る。ちなみに、第13ペレットP13のX座標値は
「0」であるから、距離E13は「0」である。
For example, from this state, the thirteenth pellet P1
When the pickup 3 is picked up, the XY table 11 is operated by a command from the controller 12 so that the cursor G is moved from the origin mark O of the origin pellet PO to the thirteenth pellet P13 as shown in FIG. It is moved to the center O13 by the distance E13 and the distance F13 determined by the above Table 1 and the above equation. Incidentally, since the X coordinate value of the thirteenth pellet P13 is “0”, the distance E13 is “0”.

【0046】ここでも、図10(b)に示されているよ
うに、画像認識装置19によって形成された第13ペレ
ットP13の画像H13において、第13ペレットP1
3の中心O13がカーソルGからずれている場合には、
XYテーブル11が操作されることにより、第13ペレ
ットP13の中心O13がカーソルGに相対的に整合さ
れる。コントローラ12はこの時のXYテーブル11の
X方向およびY方向の移動量をそれぞれ測定することに
より、第13ペレットP13の中心O13とカーソルG
とのずれ量を算出する。そして、コントローラ12はこ
のずれ量を目標値と実際値との誤差を補正するために必
要なX方向の補正値およびY方向の補正値としてそれぞ
れ記憶する。図10(b)の図示例において、X方向の
補正値はx13であり、Y方向の補正値はy13であ
る。
Here, as shown in FIG. 10B, in the image H13 of the thirteenth pellet P13 formed by the image recognition device 19, the thirteenth pellet P1
When the center O13 of 3 is shifted from the cursor G,
By operating the XY table 11, the center O13 of the thirteenth pellet P13 is relatively aligned with the cursor G. The controller 12 measures the amount of movement of the XY table 11 in the X direction and the Y direction at this time, so that the center O13 of the thirteenth pellet P13 and the cursor G
Is calculated. Then, the controller 12 stores the deviation amount as a correction value in the X direction and a correction value in the Y direction required to correct the error between the target value and the actual value. In the example shown in FIG. 10B, the correction value in the X direction is x13, and the correction value in the Y direction is y13.

【0047】カーソルGが第13ペレットP13の中心
O13に整合されると、突上ユニット15の中心が第1
3ペレットP13の中心O13に位置合わせされた状態
になる。続いて、突上ユニット15が上昇して突上ガイ
ド16の上面がウエハシート1に当接した状態で、突上
ピン17が第13ペレットP13を突き上げることによ
り、ウエハシート1から剥離させる。ウエハシート1か
ら剥離されて突き上げられた第13ペレットP13は、
突上ユニット15の真上に予め待機されているコレット
22に真空吸着保持される。
When the cursor G is aligned with the center O13 of the thirteenth pellet P13, the center of the push-up unit 15 moves to the first position.
The three pellets P13 are aligned with the center O13. Subsequently, the push-up pins 17 push up the thirteenth pellet P <b> 13 in a state where the push-up unit 15 is lifted and the upper surface of the push-up guide 16 is in contact with the wafer sheet 1, thereby separating the wafer sheet 1. The thirteenth pellet P13 peeled off and pushed up from the wafer sheet 1,
It is held by vacuum at the collet 22 which is waiting just above the protrusion unit 15 in advance.

【0048】そして、前述したペレットボンディング作
動が実施されることにより、第13ペレットP13がリ
ードフレーム4にボンディングされ、また、突上ユニッ
ト15は次回のピックアップ作動に待機する状態にな
る。ここでも、突上ピン17はウエハシート1を刺し通
して第13ペレットP13を突き上げるため、ウエハシ
ート1における第13ペレットP13の中心O13の位
置には突上痕としての小孔5が開けられた状態になる。
Then, by performing the above-described pellet bonding operation, the thirteenth pellet P13 is bonded to the lead frame 4, and the projecting unit 15 enters a state of waiting for the next pickup operation. Also in this case, since the push-up pins 17 pierce the wafer sheet 1 to push up the thirteenth pellet P13, a small hole 5 as a push-up mark is formed at the position of the center O13 of the thirteenth pellet P13 in the wafer sheet 1. State.

【0049】次に、第一次原点補正後の2個目のペレッ
トとして図11に示されているように、第15ペレット
P15がピックアップされる際には、XYテーブル11
がコントローラ12の指令によって操作されることによ
り、撮像装置18の中心Gが第13ペレットP13の中
心O13から第15ペレットP15の中心O15に直接
的に相対移動される。この際、コントローラ12は先に
第13ペレットP13について求めた補正値x13およ
びy13によって移動量を補正する。
Next, as shown in FIG. 11, when the fifteenth pellet P15 is picked up as the second pellet after the primary origin correction, the XY table 11
Is operated by a command from the controller 12, the center G of the imaging device 18 is directly relatively moved from the center O13 of the thirteenth pellet P13 to the center O15 of the fifteenth pellet P15. At this time, the controller 12 corrects the movement amount using the correction values x13 and y13 previously obtained for the thirteenth pellet P13.

【0050】ここでも、図11(b)に示されているよ
うに、画像認識装置19によって形成された第15ペレ
ットP15の画像H15において、第15ペレットP1
5の中心O15がカーソルGからずれている場合には、
XYテーブル11が操作されることにより、第15ペレ
ットP15の中心O15がカーソルGに相対的に整合さ
れる。コントローラ12はこの時のXYテーブル11の
X方向およびY方向の移動量をそれぞれ測定することに
より、第15ペレットP15の中心O15とカーソルG
とのずれ量を算出する。そして、コントローラ12はこ
のずれ量を目標値と実際値との誤差を補正するために必
要なX方向の補正値およびY方向の補正値としてそれぞ
れ記憶する。図11(b)の図示例において、X方向の
補正値はx15であり、Y方向の補正値はy15であ
る。
Here, as shown in FIG. 11B, in the image H15 of the fifteenth pellet P15 formed by the image recognition device 19, the fifteenth pellet P1
When the center O15 of 5 is shifted from the cursor G,
By operating the XY table 11, the center O15 of the fifteenth pellet P15 is relatively aligned with the cursor G. The controller 12 measures the movement amounts of the XY table 11 in the X direction and the Y direction at this time, and thereby the center O15 of the fifteenth pellet P15 and the cursor G
Is calculated. Then, the controller 12 stores the deviation amount as a correction value in the X direction and a correction value in the Y direction required to correct the error between the target value and the actual value. In the illustrated example of FIG. 11B, the correction value in the X direction is x15, and the correction value in the Y direction is y15.

【0051】前述したペレットボンディング作動が実施
されることにより、第15ペレットP15がリードフレ
ーム4にボンディングされ、また、突上ユニット15は
次回のピックアップ作動に待機する状態になる。ここで
も、突上ピン17はウエハシート1を刺し通して第15
ペレットP15を突き上げるため、ウエハシート1にお
ける第13ペレットP13の中心O13の位置には突上
痕としての小孔5が開けられた状態になる。
By performing the above-described pellet bonding operation, the fifteenth pellet P15 is bonded to the lead frame 4, and the push-up unit 15 is in a state of waiting for the next pickup operation. Also in this case, the push-up pins 17 pierce the wafer sheet 1 and
Since the pellet P15 is pushed up, a small hole 5 is formed as a protrusion mark at the position of the center O13 of the thirteenth pellet P13 in the wafer sheet 1.

【0052】次に、第一次原点補正後の3個目のペレッ
トとして第16ペレットP16がピックアップされる際
には、XYテーブル11がコントローラ12の指令によ
って操作されることにより、撮像装置18の中心Gが第
15ペレットP15の中心O15から第16ペレットP
16の中心O16(図11参照)に直接的に相対移動さ
れる。この際、コントローラ12は先に第15ペレット
P15について求めた補正値x15およびy16によっ
て移動量を補正する。そして、前述したピックアップ作
動およびペレットボンディング作動が繰り返される。
Next, when the sixteenth pellet P16 is picked up as the third pellet after the primary origin correction, the XY table 11 is operated by a command from the controller 12 so that the imaging device 18 The center G is from the center O15 of the fifteenth pellet P15 to the sixteenth pellet P
It is relatively moved directly to the center O16 of 16 (see FIG. 11). At this time, the controller 12 corrects the movement amount by the correction values x15 and y16 previously obtained for the fifteenth pellet P15. Then, the above-described pickup operation and pellet bonding operation are repeated.

【0053】以降、撮像装置18の中心Gが、前回にピ
ックアップした第nペレットPnの中心Onから、次回
にピックアップすべき第(n+1)ペレット(Pn+
1)の中心O(n+1)に直接的に相対移動されること
により、ピックアップ作動およびペレットボンディング
作動が実行される。そして、前述した目標値と実際値と
の誤差の補正作動も撮像装置18の中心Gの相対移動の
都度実行される。
Thereafter, the center G of the imaging device 18 is shifted from the center On of the n-th pellet Pn picked up last time to the (n + 1) -th pellet (Pn +
By directly moving relative to the center O (n + 1) of 1), the pickup operation and the pellet bonding operation are performed. The above-described operation of correcting the error between the target value and the actual value is also performed each time the center G of the imaging device 18 is relatively moved.

【0054】そして、第一次原点補正後のピックアップ
の回数が予め設定された回数、例えば、十回に達した時
点で、原点ペレットP0の原点マークOの位置ずれを補
正する第二次原点補正が前述した第一次原点補正と同様
の手順で実施される。
Then, when the number of pickups after the primary origin correction reaches a preset number, for example, ten, the secondary origin correction for correcting the positional deviation of the origin mark O of the origin pellet P0. Is performed in the same procedure as the above-described first origin correction.

【0055】以降、AグレードのペレットPについてピ
ックアップおよびペレットボンディングが繰り返し実施
されて行く。そして、AグレードのペレットPについて
のピックアップおよびペレットボンディングが終了する
と、BグレードのペレットPについてのピックアップお
よびペレットボンディングが順次実施されて行く。この
間、前述した原点補正が第三次、第四次・・・と繰り返
される。
Thereafter, pickup and pellet bonding are repeatedly performed for the A-grade pellets P. When the pickup and the pellet bonding for the A-grade pellet P are completed, the pickup and the pellet bonding for the B-grade pellet P are sequentially performed. During this time, the origin correction described above is repeated in the third order, the fourth order, and so on.

【0056】前記実施形態によれば次の効果が得られ
る。 (1)予め設定したピックアップ回数毎にワークの原点
の零点補正を自動的に実施することにより、ピックアッ
プによるワークの変形を適時吸収ないしは解消すること
ができるため、ピックアップを正確に実施することがで
きる。
According to the above embodiment, the following effects can be obtained. (1) Since the zero point correction of the origin of the work is automatically performed every preset number of pickups, the deformation of the work due to the pickup can be absorbed or eliminated in a timely manner, so that the pickup can be accurately performed. .

【0057】(2)ピックアップを正確に実施すること
により、たとえ微小のペレットであっても確実にピック
アップしてペレットボンディングすることができるた
め、微小のペレットの生産性の低下を防止することがで
きる。
(2) By accurately picking up, even if it is a fine pellet, it is possible to reliably pick up and pellet-bond, so that a decrease in productivity of the fine pellet can be prevented. .

【0058】(3)ワークの変形を吸収ないしは解消し
てピックアップを正確に実施することにより、ワークの
変形を修正したり、ピックアップ装置の運転を停止して
零点補正を実施せずに済むため、ピックアップ作業の能
率の低下を防止することができる。
(3) Correction of the deformation of the work or stop of the operation of the pick-up device to perform zero point correction by absorbing or eliminating the deformation of the work and accurately performing the pick-up. It is possible to prevent the efficiency of the pick-up operation from lowering.

【0059】(4)ピックアップ回数毎にワークの原点
の零点補正を自動的に実施することにより、ピックアッ
プを不規則な場所について正確に実施することができる
ため、各グレード毎のピックアップを実施することがで
きる。
(4) Since the zero point correction of the origin of the work is automatically performed every time the pickup is performed, the pickup can be accurately performed in an irregular place. Therefore, the pickup for each grade is performed. Can be.

【0060】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment, the invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say.

【0061】例えば、原点ペレットはウエハの中心に設
定するに限らず、図12に示されているように、ウエハ
の複数箇所に設定してもよい。
For example, the origin pellet is not limited to being set at the center of the wafer, but may be set at a plurality of locations on the wafer as shown in FIG.

【0062】ワークと突上ピンとの相対移動は、ワーク
側を移動させて実行するに限らず、突上ピン側を移動さ
せて実行してもよい。
The relative movement between the work and the push-up pin is not limited to being executed by moving the work side, but may be executed by moving the work-up pin side.

【0063】ピックアップおよびペレットボンディング
は各グレード毎に実施するに限らず、良品と不良品毎、
品種等が混在している場合には良品、不良品や、各品種
等毎に実施してもよい。また、並んだ順に規則的にピッ
クアップおよびペレットボンディングしてもよいことは
勿論である。
The pickup and the pellet bonding are not limited to being performed for each grade, but are performed for each non-defective product and defective product.
In the case where varieties and the like are mixed, the process may be performed for each of the non-defective products, the defective products, and each of the varieties. It is needless to say that pickup and pellet bonding may be performed regularly in the order in which they are arranged.

【0064】ピックアップ移動の座標原点の零点合わせ
は、実際に撮像装置の中心を原点マークに移動させて機
械的に実行するに限らず、位置ずれ量から求めた補正値
を使用してコントローラの演算によって補正するように
構成してもよい。
The zero adjustment of the coordinate origin of the movement of the pickup is not limited to mechanically executing the actual movement of the center of the image pickup device to the origin mark, but is also performed by the controller using the correction value obtained from the displacement amount. May be configured to perform the correction.

【0065】ピックアップツールは突上ユニットによっ
て構成するに限らない。
The pick-up tool is not limited to being constituted by a protrusion unit.

【0066】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるペレッ
トボンディング方法技術に適用した場合について説明し
たが、それに限定されるものではなく、ペレットをトレ
ー等の収納治具に詰める治具詰め方法や、ペレットをプ
リント配線基板に直接的にマウンティングするマウンテ
ィング方法に使用されるピックアップ方法全般に適用す
ることができる。特に、本発明は、微小なペレットをピ
ックアップするのに使用して優れた効果が奏される。
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to the pellet bonding method technology, which is the application field in the background, has been described. However, the present invention is not limited to this. The present invention can be applied to any pickup method used in a jig packing method for packing in a storage jig and a mounting method for mounting pellets directly on a printed wiring board. In particular, the present invention has an excellent effect when used for picking up fine pellets.

【0067】[0067]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
The effects obtained by typical aspects of the invention disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0068】予め設定したピックアップ回数毎にピック
アップ移動の座標原点の零点補正を実施することによ
り、ピックアップによるワークの変形を適時吸収ないし
は解消することができるため、ピックアップを正確に実
施することができる。
By performing the zero correction of the coordinate origin of the pick-up movement every preset number of pick-ups, the deformation of the work caused by the pick-up can be absorbed or eliminated in a timely manner, so that the pick-up can be performed accurately.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態であるピックアップ方法を
示す工程図である。
FIG. 1 is a process chart showing a pickup method according to an embodiment of the present invention.

【図2】引き伸ばし前後の関係を示す各平面図であり、
(a)は引き伸ばし前を、(b)は引き伸ばし後を示し
ている。
FIG. 2 is a plan view showing a relationship before and after stretching.
(A) shows the state before stretching, and (b) shows the state after stretching.

【図3】ワークを示しており、(a)は平面図、(b)
は正面断面図である。
3A and 3B show a workpiece, wherein FIG. 3A is a plan view and FIG.
Is a front sectional view.

【図4】本発明の一実施形態であるペレットボンディン
グ方法に使用されるペレットボンディング装置を示す一
部省略斜視図である。
FIG. 4 is a partially omitted perspective view showing a pellet bonding apparatus used in a pellet bonding method according to an embodiment of the present invention.

【図5】その拡大部分断面図である。FIG. 5 is an enlarged partial sectional view thereof.

【図6】ピックアップ方法の第1ステップを示してお
り、(a)は拡大部分平面図、(b)は画像図である。
6A and 6B show a first step of the pickup method, in which FIG. 6A is an enlarged partial plan view and FIG. 6B is an image view.

【図7】ピックアップ方法の第2ステップを示してお
り、(a)は拡大部分平面図、(b)は画像図である。
FIG. 7 shows a second step of the pickup method, in which (a) is an enlarged partial plan view and (b) is an image view.

【図8】作用を説明するための説明図であり、(a)は
拡大部分平面図、(b)は画像図である。
FIGS. 8A and 8B are explanatory diagrams for explaining the operation, in which FIG. 8A is an enlarged partial plan view and FIG. 8B is an image diagram.

【図9】原点の補正ステップを示しており、(a)は拡
大部分平面図、(b)は画像図である。
9A and 9B show an origin correction step, in which FIG. 9A is an enlarged partial plan view and FIG. 9B is an image view.

【図10】第一次原点補正後の第1ステップを示してお
り、(a)は拡大部分平面図、(b)は画像図である。
10A and 10B show a first step after the primary origin correction, wherein FIG. 10A is an enlarged partial plan view and FIG. 10B is an image view.

【図11】同じく第2ステップを示しており、(a)は
拡大部分平面図、(b)は画像図である。
11A and 11B also show a second step, wherein FIG. 11A is an enlarged partial plan view and FIG. 11B is an image view.

【図12】本発明の他の実施形態であるペレットボンデ
ィング方法におけるワークを示す平面図である。
FIG. 12 is a plan view showing a work in a pellet bonding method according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ウエハシート、2…ウエハリング、3…ワーク、4
…リードフレーム、5…小孔、10…ペレットボンディ
ング装置、11…XYテーブル、12…コントローラ、
13…取付具、14…押し上げリング、15…突上ユニ
ット(ピックアップツール)、16…突上ガイド、17
…突上ピン、18…撮像装置、19…画像認識装置、2
0…ボンディングヘッド、21…ボンディングアーム、
22…コレット、W…ウエハ、P…ペレット、P0…原
点ペレット、O…原点マーク、P1…第1ペレット、P
2…第2ペレット、P3…第3ペレット、Pn…第nペ
レット、a…ペレットのX方向幅、b…ペレットのY方
向幅。
1 wafer sheet, 2 wafer ring, 3 work, 4
... lead frame, 5 ... small hole, 10 ... pellet bonding device, 11 ... XY table, 12 ... controller,
13 mounting fixture, 14 push-up ring, 15 projecting unit (pickup tool), 16 projecting guide, 17
... Pump pins, 18 ... Imaging devices, 19 ... Image recognition devices, 2
0: bonding head, 21: bonding arm,
22: collet, W: wafer, P: pellet, P0: origin pellet, O: origin mark, P1: first pellet, P
2: 2nd pellet, P3: 3rd pellet, Pn: nth pellet, a: X direction width of pellet, b: Y direction width of pellet.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 伸縮性を有するウエハシートに粘着され
た半導体ウエハが複数個の半導体ペレットにダイシング
された後に、前記ウエハシートが引き伸ばされて前記半
導体ペレット同士が離間され、各半導体ペレットがその
中心に順次対向されて行くピックアップツールによって
前記ウエハシートから順次ピックアップされて行くピッ
クアップ方法において、 前記半導体ペレット群のうち少なくとも一個の半導体ペ
レットに前記各ピックアップに際しての前記ピックアッ
プツールの相対移動の座標の原点が設定され、前記半導
体ペレットのピックアップ回数が所定の回数に達したと
きに、前記原点の現在の前記ピックアップツールに対す
る位置についての誤差が補正されることを特徴とするピ
ックアップ方法。
1. After a semiconductor wafer adhered to an elastic wafer sheet is diced into a plurality of semiconductor pellets, the wafer sheet is stretched to separate the semiconductor pellets from each other, and each semiconductor pellet is placed at its center. In the pickup method in which the pickup tool is sequentially picked up from the wafer sheet by the pickup tool that is sequentially opposed to at least one of the semiconductor pellet groups, the origin of the coordinate of the relative movement of the pickup tool in each of the pickups is set to at least one of the semiconductor pellets. A pick-up method, wherein when the set number of pick-ups of the semiconductor pellet reaches a predetermined number, an error in the current position of the origin with respect to the pick-up tool is corrected.
【請求項2】 前記原点の補正に際して、前記原点と前
記ピックアップツールとが相対的に移動された後に、前
記原点と前記ピックアップツールとの位置ずれ量を解消
する移動が実行されることによって補正されることを特
徴とする請求項1に記載のピックアップ方法。
2. The correction of the origin is performed by moving the origin and the pickup tool relative to each other and then performing a movement for eliminating a positional deviation amount between the origin and the pickup tool. The pickup method according to claim 1, wherein
【請求項3】 前記原点の補正に際して、前記原点と前
記ピックアップツールとが相対的に移動された後に、前
記原点と前記ピックアップツールとの位置ずれ量によっ
て補正値が算出されて補正されることを特徴とする請求
項1に記載のピックアップ方法。
3. When correcting the origin, it is preferable that after the origin and the pickup tool are relatively moved, a correction value is calculated and corrected based on a positional shift amount between the origin and the pickup tool. The pickup method according to claim 1, wherein
【請求項4】 前記原点の補正が同一の半導体ウエハ内
において複数回数実施されることを特徴とする請求項
1、2または3に記載のピックアップ方法。
4. The pickup method according to claim 1, wherein the correction of the origin is performed a plurality of times in the same semiconductor wafer.
【請求項5】 前記各半導体ペレットのピックアップ毎
に目標値と実際値との誤差が補正されることを特徴とす
る請求項1、2、3または4に記載のピックアップ方
法。
5. The pickup method according to claim 1, wherein an error between a target value and an actual value is corrected for each pickup of each of the semiconductor pellets.
【請求項6】 前記原点が、前記半導体ウエハの中心に
設定されていることを特徴とする請求項1、2、3、4
または5に記載のピックアップ方法。
6. The semiconductor device according to claim 1, wherein the origin is set at a center of the semiconductor wafer.
Or the pickup method according to 5.
【請求項7】 前記原点が、前記半導体ウエハの複数箇
所に設定されていることを特徴とする請求項1、2、
3、4または5に記載のピックアップ方法。
7. The semiconductor device according to claim 1, wherein the origin is set at a plurality of positions on the semiconductor wafer.
6. The pickup method according to 3, 4, or 5.
【請求項8】 前記半導体ペレットに前記原点を示す原
点マークが付されることを特徴とする請求項1、2、
3、4、5、6または7に記載のピックアップ方法。
8. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor pellet is provided with an origin mark indicating the origin.
The pickup method according to 3, 4, 5, 6, or 7.
【請求項9】 前記ピックアップが前記各半導体ペレッ
トに設定された特性毎に順次実施されて行くことを特徴
とする請求項1、2、3、4、5、6、7または8に記
載のピックアップ方法。
9. The pickup according to claim 1, wherein the pickup is sequentially performed for each characteristic set for each of the semiconductor pellets. Method.
【請求項10】 前記特性がグレードであることを特徴
とする請求項9に記載のピックアップ方法。
10. The pickup method according to claim 9, wherein the characteristic is a grade.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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