JPH117906A - Resistor, and electron-gun body structure and electron tube using the same - Google Patents

Resistor, and electron-gun body structure and electron tube using the same

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JPH117906A
JPH117906A JP15979297A JP15979297A JPH117906A JP H117906 A JPH117906 A JP H117906A JP 15979297 A JP15979297 A JP 15979297A JP 15979297 A JP15979297 A JP 15979297A JP H117906 A JPH117906 A JP H117906A
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resistor
insulating substrate
terminals
electrode
layer
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JP15979297A
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Takeshi Shoroku
剛 松緑
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Toshiba Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a superior resistor in reliability which can securely fix a terminal on an insulated substrate. SOLUTION: This device is equipped with an insulated substrate 31 which passes through between a pair of sides facing each other, a resistor layer 33 formed on one side of the insulated substrate 31, electrode layers for terminals 32A to 32E formed by being connected to the resistor layer 33 on the other side of the insulated substrate 31, and terminals 34A to 34E comprising metal plates a part of which is junctioned by welding to the electrode layers for terminals 32A to 32E. In this case, the terminals 34A to 34E and the electrode layers for terminals 32A to 32E are superposed and junctioned by welding.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電子管に内蔵される
抵抗器、それを用いた電子銃構体および電子管に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resistor built in an electron tube, an electron gun assembly using the same, and an electron tube.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、電子管例えばカラーテレビジョン
受像機に用いられるカラーブラウン管において、カラー
ブラウン管内の電子銃に供給される電圧には陽極電圧以
外にコンバージェンス電極やフォーカス電極等に供給さ
れる高電圧が必要とされるものがある。この場合、カラ
ーブラウン管のステム部より高電圧を供給すると、耐電
圧の面から問題を生じるので、カラーブラウン管内に電
子銃と共に分圧用の抵抗器を電子管内蔵用抵抗器として
組み込み、この抵抗器によって陽極電圧を分圧して、夫
々の電極に高電圧を供給する方式が採用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a color cathode ray tube used for an electron tube, for example, a color television receiver, a voltage supplied to an electron gun in the color cathode ray tube is a high voltage supplied to a convergence electrode, a focus electrode and the like in addition to an anode voltage. Some are needed. In this case, if a high voltage is supplied from the stem of the color cathode ray tube, a problem arises in terms of withstand voltage.Therefore, a resistor for voltage division is incorporated in the color cathode ray tube together with an electron gun as a resistor for a built-in electron tube. A method of dividing the anode voltage and supplying a high voltage to each electrode is employed.

【0003】図4はこのような電子管内蔵用抵抗器が組
み込まれたカラーブラウン管の一例を示している。図4
において、1は真空容器であり、この真空容器1に形成
されたネック部1aの内部には電子銃構体Aが配置され
ている。この電子銃構体Aには3個のカソードに対し、
共通に第1グリッド電極G1、第2グリッド電極G2、
第3グリッド電極G3、第4グリッド電極G4、第5グ
リッド電極G5、第6グリッド電極G6、第7グリッド
電極G7、第8グリッド電極G8が順次同軸上に配置さ
れている。グリッド電極G8の後段には、コンバージェ
ンス電極2が配置されている。
FIG. 4 shows an example of a color cathode ray tube in which such a built-in electron tube resistor is incorporated. FIG.
In the figure, reference numeral 1 denotes a vacuum container, and an electron gun structure A is disposed inside a neck portion 1a formed in the vacuum container 1. This electron gun structure A has three cathodes,
The first grid electrode G1, the second grid electrode G2,
The third grid electrode G3, the fourth grid electrode G4, the fifth grid electrode G5, the sixth grid electrode G6, the seventh grid electrode G7, and the eighth grid electrode G8 are sequentially coaxially arranged. The convergence electrode 2 is disposed downstream of the grid electrode G8.

【0004】各グリッド電極G1、G2、G3、G4、
G5、G6、G7およびG8は、相互に所定の位置関係
を維持して、ビードガラス3によって機械的に保持され
ている。また、第3グリッド電極G3と第5グリッド電
極G5とは、導線4によって電気的に接続されており、
さらにコンバージェンス電極2は、第8グリッド電極G
8と溶接により電気的に接続されている。
Each grid electrode G1, G2, G3, G4,
G5, G6, G7 and G8 are mechanically held by the bead glass 3 while maintaining a predetermined positional relationship with each other. Further, the third grid electrode G3 and the fifth grid electrode G5 are electrically connected by the conducting wire 4,
Further, the convergence electrode 2 is connected to the eighth grid electrode G
8 and is electrically connected by welding.

【0005】このような電子銃構体Aには電子管内蔵用
抵抗器5が取付けられている。この抵抗器5には高圧の
電極取出し用の端子6a、6b、6cが設けられ、これ
ら各端子6a、6b、6cは第7グリッド電極G7、第
6グリッド電極G6、第5グリッド電極G5に接続され
ている。
An electron tube built-in resistor 5 is attached to such an electron gun assembly A. This resistor 5 is provided with terminals 6a, 6b, 6c for taking out high-voltage electrodes, and these terminals 6a, 6b, 6c are connected to the seventh grid electrode G7, the sixth grid electrode G6, and the fifth grid electrode G5. Have been.

【0006】また、抵抗器5に設けられた取出し端子7
はコンバージェンス電極2と接続され、さらに抵抗器5
に設けられたアース側の取出し端子8はアース電極ピン
9に接続されている。
Further, an extraction terminal 7 provided on the resistor 5
Is connected to the convergence electrode 2 and the resistor 5
Are connected to a ground electrode pin 9.

【0007】一方、真空容器1に形成されたファンネル
部1bの内壁には、前記ネック部1aの内壁まで伸びる
グラファイト導電膜10が被着されており、ファンネル
部1bに設けられた高電圧供給ボタン(陽極ボタンで図
中では示していない)を通じて陽極電圧が供給される。
On the other hand, a graphite conductive film 10 extending to the inner wall of the neck portion 1a is attached to the inner wall of the funnel portion 1b formed in the vacuum vessel 1, and a high voltage supply button provided on the funnel portion 1b is provided. An anode voltage is supplied through the anode button (not shown in the figure).

【0008】そして、コンバージェンス電極2には、導
電ばね11が設けられており、導電ばね11がグラファ
イト導電膜10と接触することにより、コンバージェン
ス電極2、第8グリッド電極G8、および電子管内蔵用
抵抗器5のコンバージェンス端子7に陽極電圧が供給さ
れ、高圧の端子6a、6b、6cに発生する分圧電圧
が、第7グリッド電極G7、第6グリッド電極G6、お
よび第5グリッド電極G5に供給される。
The convergence electrode 2 is provided with a conductive spring 11. The conductive spring 11 comes into contact with the graphite conductive film 10, so that the convergence electrode 2, the eighth grid electrode G 8, and the electron tube built-in resistor are provided. 5 is supplied to the convergence terminal 7, and the divided voltage generated at the high-voltage terminals 6a, 6b, 6c is supplied to the seventh grid electrode G7, the sixth grid electrode G6, and the fifth grid electrode G5. .

【0009】このカラーブラウン管に内蔵される電子管
内蔵用抵抗器5は、図6ないし図8に示すように構成さ
れている。図6は従来の形態の抵抗器を外表部を形成す
る絶縁層を透過して示す平面図、図7は図6のY−Y線
に沿って切断して示す断面図、図8(a)は端子を絶縁
基板に固定した部分を拡大して示す平面図および図8
(b)は図8(a)のZ−Z線に沿って切断して示す断
面図である。
The electron tube built-in resistor 5 built in the color cathode ray tube is configured as shown in FIGS. FIG. 6 is a plan view showing a conventional resistor through an insulating layer forming an outer surface, FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line YY of FIG. 6, and FIG. 8 is an enlarged plan view showing a portion where the terminal is fixed to the insulating substrate and FIG.
FIG. 9B is a cross-sectional view taken along the line ZZ in FIG.

【0010】すなわち、酸化アルミニウムを主成分とし
た絶縁基板21の表面21aに、例えば酸化ルテニウム
を含む金属酸化物とほう硅酸鉛系のガラスよりなる電極
材料を印刷、乾燥、焼成して形成した5個の端子用電極
層22A〜22Eが間隔を存して形成されている。
That is, an electrode material made of, for example, a metal oxide containing ruthenium oxide and lead borosilicate glass is formed on a surface 21a of an insulating substrate 21 containing aluminum oxide as a main component by printing, drying and firing. Five terminal electrode layers 22A to 22E are formed at intervals.

【0011】図7に示すようにこれら各端子用電極層2
2A〜22Eの間の絶縁基板21の表面21aには酸化
ルテニウムを含む金属酸化物とほう硅酸鉛系のガラスよ
りなる抵抗材料を所定の抵抗値が得られるような形状で
印刷、乾燥、焼成して抵抗体層23が形成されており、
この抵抗体層23は各端子用電極層22A〜22Eに夫
々接続されている。
[0011] As shown in FIG.
On a surface 21a of the insulating substrate 21 between 2A to 22E, a resistive material made of a metal oxide containing ruthenium oxide and lead borosilicate glass is printed, dried, and fired in a shape to obtain a predetermined resistance value. As a result, a resistor layer 23 is formed,
The resistor layer 23 is connected to each of the terminal electrode layers 22A to 22E.

【0012】図7に示すように絶縁基板21における各
端子用電極層22A〜22Eが形成された部分には、夫
々表面21aと裏面21bに貫通するスルーホール24
が形成されている。絶縁基板21の両端部に位置する2
個の端子用電極層22A、22Bには、端子25A、2
5B(図4の端子7、8に相当する。)が接触して配置
されている。また、絶縁基板21において端子25A、
25Bに挟まれて並ぶ3個の端子用電極層22C〜22
Eには端子25C〜25E(図4の端子6a〜6cに相
当する。)が接触して配置されている。
As shown in FIG. 7, through holes 24 penetrating through a front surface 21a and a back surface 21b are formed in portions of the insulating substrate 21 where the terminal electrode layers 22A to 22E are formed.
Are formed. 2 located at both ends of the insulating substrate 21
The terminal electrode layers 22A and 22B have terminals 25A and 2B, respectively.
5B (corresponding to the terminals 7, 8 in FIG. 4) are arranged in contact with each other. In addition, terminals 25A on the insulating substrate 21,
Three terminal electrode layers 22 </ b> C to 22 sandwiched between 25 </ b> B
Terminals 25C to 25E (corresponding to terminals 6a to 6c in FIG. 4) are arranged in contact with E.

【0013】各端子25A〜25Eは夫々筒状部25a
と鍔部25bを有しており、各鍔部25bは端子用電極
層22C〜22Eに接触され、各筒状部25aは夫々ス
ルーホール24に挿入されて絶縁基板21の裏面側に突
出されて裏面21bにかしめられている。このようにし
て各端子25A〜25Eは絶縁基板21に固定されてい
る。
Each of the terminals 25A to 25E has a cylindrical portion 25a.
Each of the flange portions 25b is in contact with the terminal electrode layers 22C to 22E, and each of the cylindrical portions 25a is inserted into the through hole 24 and protrudes toward the back surface of the insulating substrate 21. It is swaged on the back surface 21b. In this way, the terminals 25A to 25E are fixed to the insulating substrate 21.

【0014】なお、絶縁基板21の表面21aには抵抗
体層23を覆うガラスからなる絶縁層26が形成され、
また裏面21bにはガラスからなる絶縁層27が形成さ
れている。
An insulating layer 26 made of glass is formed on the surface 21a of the insulating substrate 21 to cover the resistor layer 23.
An insulating layer 27 made of glass is formed on the back surface 21b.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】従来の電子管内蔵用抵
抗器において、端子25A〜25Eを絶縁基板21に固
定するためには、前述したように端子25A〜25Eの
筒状部25aを絶縁基板21の表面21a側からスルー
ホール24に通し、このスルーホール24から突出した
筒状部25aの端部を、応力を加えて押し潰し絶縁基板
21の裏面上でかしめるという構成を採用している。
In order to fix the terminals 25A to 25E to the insulating substrate 21 in the conventional electron tube built-in resistor, the cylindrical portions 25a of the terminals 25A to 25E are connected to the insulating substrate 21 as described above. Of the cylindrical portion 25a protruding from the through hole 24 by applying stress to the end portion of the cylindrical portion 25a and crimping it on the back surface of the insulating substrate 21.

【0016】しかし、この構成では、端子25A〜25
Eが絶縁基板21の裏面に衝撃力をもって当り、この結
果絶縁基板21にマイクロクラックを生じることがあ
る。そして、このマイクロクラックが原因となって絶縁
基板21が欠けたり、破損することがある。
However, in this configuration, the terminals 25A to 25A
E may strike the back surface of the insulating substrate 21 with an impact force, and as a result, microcracks may occur on the insulating substrate 21. Then, the insulating substrate 21 may be chipped or damaged due to the micro crack.

【0017】最近、電子銃が小型化するに伴い、電子管
内蔵用抵抗器に対しても絶縁基板を薄肉化することが要
求されている。ところが、このような薄肉の絶縁基板は
機械的強度が低く、端子のかしめによる衝撃力を受けて
マイクロクラックを生じる割合いが大きい。そこで、絶
縁基板21にマイクロクラックが発生することを阻止す
るために、かしめる時に端子25A〜25Eに加える応
力を小さくすると、端子25A〜25Eを絶縁基板21
に固定する強度が低下し、また端子25A〜25Eが絶
縁基板21の電極層と接触する圧力が低下して接触不良
となり、抵抗器としての重要特性である所定の分割比精
度が得られない。
In recent years, as the size of electron guns has been reduced, it has been required to reduce the thickness of the insulating substrate even for resistors with built-in electron tubes. However, such a thin insulating substrate has a low mechanical strength, and has a high rate of generating microcracks due to the impact force due to crimping of the terminal. Therefore, when the stress applied to the terminals 25A to 25E during crimping is reduced to prevent the occurrence of microcracks in the insulating substrate 21, the terminals 25A to 25E are
, And the pressure at which the terminals 25A to 25E contact the electrode layer of the insulating substrate 21 decreases, resulting in poor contact, and a predetermined division ratio accuracy, which is an important characteristic of a resistor, cannot be obtained.

【0018】また、かしめにより端子25A〜25Eを
絶縁基板21の電極層22A〜22Eに接触させる方式
では、接触抵抗の原因となる集中抵抗R(以下に式を示
す)の中で加圧力Fが一定とならず、端子25A〜25
Eと電極層22A〜22Eとの接触部に総抵抗値、抵抗
分割比に夫々変動が生じ易いという問題がある。
In the method in which the terminals 25A to 25E are brought into contact with the electrode layers 22A to 22E of the insulating substrate 21 by caulking, the pressing force F is set within the concentrated resistance R (which is expressed by the following formula) which causes the contact resistance. Terminals 25A to 25
There is a problem that the total resistance value and the resistance division ratio are apt to fluctuate at the contact portions between E and the electrode layers 22A to 22E.

【0019】 R=(ρA +ρB )×{(πf/nF)1/2 /4} (ρA 、ρB :接触導体の比抵抗、F:接触力、f:弾
性限度(硬度)、n:接触点数) さらに、絶縁基板21のスルーホール24の周辺部にお
ける電極層22A〜22Eと端子25A〜25Eの部分
では、電位勾配が急峻となり、電界が集中し易く放電を
起こしやすいという問題がある。
[0019] R = (ρA + ρB) × {(πf / nF) 1/2 / 4} (ρA, ρB: specific resistance of the contact conductor, F: contact force, f: elastic limit (hardness), n: number of contact points Further, there is a problem that the potential gradient becomes steep in the portions of the electrode layers 22A to 22E and the terminals 25A to 25E in the peripheral portion of the through hole 24 of the insulating substrate 21, so that the electric field is easily concentrated and discharge is easily caused.

【0020】さらにまた、端子25A〜25Eと電極層
22A〜22Eとの間の電気的導通を図るために接触し
た端子25A〜25Eの鍔部25bの面と電極層22A
〜22Eの面との間に隙間が存在する。一方、絶縁基板
21の表面にガラスからなる絶縁層24を形成するため
には、溶融したガラスを基板表面21に塗布して乾燥、
硬化させる。そこで、絶縁基板21の表面に絶縁層2
6、27を形成する際に、溶融したガラスを端子に近接
して基板21の表面21aに塗布すると、溶融したガラ
スが端子25A〜25Eの鍔部の面と電極層22A〜2
2Eの面と接触部の隙間に侵入して、端子25A〜25
Eの鍔部の面と電極層22A〜22Eの面と接触部にお
ける接触抵抗が増大するという問題がある。
Furthermore, the surfaces of the flange portions 25b of the terminals 25A to 25E which are in contact with each other for establishing electrical continuity between the terminals 25A to 25E and the electrode layers 22A to 22E and the electrode layer 22A.
There is a gap between the surface and the surface # 22E. On the other hand, in order to form the insulating layer 24 made of glass on the surface of the insulating substrate 21, the molten glass is applied to the substrate surface 21 and dried.
Let it cure. Therefore, the insulating layer 2 is formed on the surface of the insulating substrate 21.
When the molten glass is applied to the surface 21a of the substrate 21 in the vicinity of the terminals when forming the layers 6 and 27, the molten glass is applied to the surfaces of the flanges of the terminals 25A to 25E and the electrode layers 22A to 2E.
2E penetrates into the gap between the surface and the contact portion, and the terminals 25A to 25A
There is a problem that the contact resistance at the contact portion between the surface of the flange portion of E and the surfaces of the electrode layers 22A to 22E increases.

【0021】この対策として従来は、例えばスクリーン
印刷法により溶融したガラスが端子に近接しないように
ガラス塗布領域を調整しつつ基板表面に塗布している。
しかし、スクリーン印刷法を採用して絶縁基板21にガ
ラスを塗布する場合には、絶縁基板21全体に一度にガ
ラスを塗布することができず、絶縁基板21の対向する
一対の面および側面の3面に夫々分けてガラスを塗布す
る必要があるので、絶縁層26、27を形成するために
多くの手数を要している。
Conventionally, as a countermeasure, glass is applied to the surface of the substrate while adjusting the glass application area so that the glass melted by, for example, a screen printing method does not approach the terminals.
However, when the glass is applied to the insulating substrate 21 by using the screen printing method, the glass cannot be applied to the entire insulating substrate 21 at one time, and the three surfaces of the pair of opposing surfaces and the side surfaces of the insulating substrate 21 are not covered. Since it is necessary to separately apply the glass to the surfaces, it takes a lot of trouble to form the insulating layers 26 and 27.

【0022】本発明は前記事情に基づいてなされたもの
で、端子を絶縁基板に接続する際に生じる機械的および
電気的な問題を解決した抵抗器を提供することを課題と
する。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a resistor that solves the mechanical and electrical problems that occur when connecting a terminal to an insulating substrate.

【0023】また、本発明は端子を絶縁基板に接続する
際に生じる機械的および電気的な問題を解決した抵抗器
を搭載した電子銃構体およびこの電子銃構体を搭載した
電子管を提供することを課題とする。
Further, the present invention provides an electron gun assembly equipped with a resistor and an electron tube equipped with the electron gun, which solve the mechanical and electrical problems that occur when connecting terminals to an insulating substrate. Make it an issue.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明の抵抗器
は、互いに対向する一対の面の間を貫通する絶縁基板
と、この絶縁基板の一方の面に形成された抵抗体層と、
前記絶縁基板の一方の面に前記抵抗体層と接続して形成
された端子用電極層と、一部が前記端子用電極層に溶着
接合された金属板材からなる端子とを具備すること特徴
とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a resistor, comprising: an insulating substrate penetrating between a pair of opposing surfaces; a resistor layer formed on one surface of the insulating substrate;
A terminal electrode layer formed by being connected to the resistor layer on one surface of the insulating substrate, and a terminal partially formed of a metal plate material welded and joined to the terminal electrode layer. I do.

【0025】この発明の構成によれば、端子を絶縁基板
の電極層に接続する際に、絶縁基板におけるマイクロク
ラックの発生を防止し、また端子と電極層との接合部に
おける抵抗値および分割比の変動と電界集中を防止し、
さらに端子と電極層との間に絶縁層を形成する材料が侵
入することを防止できる。
According to the structure of the present invention, when the terminal is connected to the electrode layer of the insulating substrate, the occurrence of microcracks in the insulating substrate is prevented, and the resistance and division ratio at the junction between the terminal and the electrode layer are prevented. Fluctuation and electric field concentration,
Further, the material for forming the insulating layer can be prevented from entering between the terminal and the electrode layer.

【0026】請求項2の発明は、請求項1記載の抵抗器
において、前記絶縁基板はセラミックスからなり、前記
抵抗体層は酸化ルテニウムを含む金属酸化物とほう硅酸
鉛からなり、前記端子用電極層は非磁性ステンレンス鋼
および/または非磁性コバール合金からなり、前記端子
は非磁性ステンレンス鋼からなることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the resistor according to the first aspect, the insulating substrate is made of ceramics, the resistor layer is made of a metal oxide containing ruthenium oxide and lead borosilicate, and The electrode layer is made of non-magnetic stainless steel and / or a non-magnetic Kovar alloy, and the terminal is made of non-magnetic stainless steel.

【0027】この発明の構成によれば、抵抗器における
各部分を適切な材料で形成することができる。請求項3
の発明は、請求項1記載の抵抗器において、前記端子と
前記電極層とは重合されて溶接を施されて接合されてい
ることを特徴とする。
According to the configuration of the present invention, each part of the resistor can be formed of an appropriate material. Claim 3
The invention according to claim 1 is characterized in that, in the resistor according to claim 1, the terminal and the electrode layer are superposed, welded, and joined.

【0028】この発明の構成によれば、端子と電極層と
を確実且つ容易に接合することができる。請求項4の発
明の電子銃構体は、電子銃と、前記電子銃に接続された
請求項1の抵抗器を有することを特徴とする。
According to the structure of the present invention, the terminal and the electrode layer can be securely and easily joined. According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an electron gun assembly including the electron gun and the resistor according to the first aspect connected to the electron gun.

【0029】この発明によれば、信頼性の高い電子銃構
体を得ることができる。請求項5の発明の電子管は、請
求項4の電子銃構体を有することを特徴とする。
According to the present invention, a highly reliable electron gun assembly can be obtained. According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an electron tube including the electron gun assembly according to the fourth aspect.

【0030】請求項6の発明は、請求項5に記載の電子
管において、パネル部を有する真空外囲器と、このパネ
ル部の内面に設けられた蛍光体層と、前記真空外囲器の
パネル部の内面に対向する位置に配置された請求項4に
記載の電子銃構体と、前記蛍光体層と前記電子銃構体と
の間に配置されたシャドウマスクとを具備することを特
徴とする。請求項5および請求項6の発明の構成によれ
ば、信頼性の高い電子管を得ることができる。
According to a sixth aspect of the present invention, in the electron tube according to the fifth aspect, a vacuum envelope having a panel portion, a phosphor layer provided on an inner surface of the panel portion, and a panel of the vacuum envelope. 5. An electron gun according to claim 4, wherein said shadow mask is disposed between said phosphor layer and said electron gun assembly. According to the configuration of the fifth and sixth aspects of the invention, a highly reliable electron tube can be obtained.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】本願の発明の第一の実施の形態の
一例について図1ないし図3を参照して説明する。図1
は本実施の形態の抵抗器において、外表部を形成する絶
縁層を透過して示す平面図、図2は図1のW−W線に沿
って切断して示す断面図、図3は各端子を絶縁基板に固
定した部分を拡大して示す図であり、図3(a)はその
平面図、図3(b)は図3(a)のX−X線に沿って切
断して示す断面図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One example of a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG.
FIG. 2 is a plan view showing the insulating layer forming the outer surface of the resistor according to the present embodiment, FIG. 2 is a sectional view taken along line WW of FIG. 1, and FIG. FIG. 3A is an enlarged view showing a portion where is fixed to an insulating substrate, FIG. 3A is a plan view thereof, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line XX of FIG. FIG.

【0032】図中31は短冊形をなす絶縁基板で、これ
は図2に示すように一方の面が表面31aとされ、他方
の面が裏面31bとされている。絶縁基板31は、例え
ば酸化アルミニウムを主成分に、酸化けい素、酸化マグ
ネシウム、酸化カルシウムなどのセラミックにより形成
されている。この絶縁基板31の中に含まれるアルカリ
金属の総量は、耐電圧特性の劣化を避けるめに0.1%
以下であることが望ましい。
In the figure, reference numeral 31 denotes a strip-shaped insulating substrate, which has one surface as a front surface 31a and the other surface as a back surface 31b as shown in FIG. The insulating substrate 31 is made of, for example, aluminum oxide as a main component and a ceramic such as silicon oxide, magnesium oxide, or calcium oxide. The total amount of the alkali metal contained in the insulating substrate 31 is 0.1% in order to avoid the deterioration of the withstand voltage characteristic.
It is desirable that:

【0033】絶縁基板31の表面31aにおける各電極
取り出し位置、例えば基板長さ方向両端には電極層32
A,32B、これら両端に挟まれた基板長さ方向に所定
間隔を存した箇所には端子32C〜32Eが夫々形成さ
れている。これら複数の電極層32A〜32Eは後述す
る端子を接続するためのものである。これら電極層32
は例えば非磁性ステンレス鋼、例えばオーステナイト系
ステンレス鋼のSUS316、あるいは非磁性コバール
合金、例えば29重量%Ni、18重量%Co、0.3
重量%Mn、残部Feよりなる合金によりなるものであ
る。ここで、非磁性ステンレス鋼を採用するのは、蒸気
圧が低く、ガス放出が少なく、耐蝕性に優れている金属
材料という理由によるものである。なお、各電極層32
は図3(a)にも示すように後述する抵抗体層33と端
子34に確実に接触するように例えば円板形をなしてい
る。
The electrode layers 32 are located at the respective electrode extraction positions on the surface 31a of the insulating substrate 31, for example, at both ends in the substrate length direction.
A and 32B, terminals 32C to 32E are formed at predetermined intervals in the length direction of the substrate between the two ends. The plurality of electrode layers 32A to 32E are for connecting terminals described later. These electrode layers 32
Is, for example, SUS316 of non-magnetic stainless steel, for example, austenitic stainless steel, or non-magnetic Kovar alloy, for example, 29 wt% Ni, 18 wt% Co, 0.3
It is composed of an alloy consisting of weight% Mn and the balance Fe. Here, the non-magnetic stainless steel is used because it is a metal material having a low vapor pressure, a small outgassing, and excellent corrosion resistance. Each electrode layer 32
As shown in FIG. 3 (a), for example, it has a disk shape so as to reliably contact a resistor layer 33 and a terminal 34 described later.

【0034】また、絶縁基板31の表面31aには、基
板の長さ方向に延びる抵抗体層33が所定の抵抗値が得
られるような形状で形成されており、この抵抗体層33
の基板長さ方向における両方の端部および中間部は対向
する各電極層32に夫々接続されている。この接合部は
図3に示すように抵抗体層33上に各電極層32が覆う
構成でも良く、その逆の構成であっても良い。この抵抗
体層33は例えば酸化ルテニウムを含む金属酸化物とほ
う硅酸鉛系のガラスよりなる抵抗材料を所定の分割比の
抵抗値が得られるような形状で印刷、乾燥、焼成して形
成されている。
On the surface 31a of the insulating substrate 31, a resistor layer 33 extending in the longitudinal direction of the substrate is formed in such a shape as to obtain a predetermined resistance value.
Both end portions and intermediate portions in the substrate length direction are connected to the opposing electrode layers 32, respectively. As shown in FIG. 3, the junction may have a configuration in which each electrode layer 32 covers the resistor layer 33, or may have a configuration opposite thereto. The resistor layer 33 is formed, for example, by printing, drying, and firing a resistor material made of a metal oxide containing ruthenium oxide and lead borosilicate glass in a shape capable of obtaining a resistance value of a predetermined division ratio. ing.

【0035】具体的には抵抗体層33は帯状体をジグザ
グ状のパターンで形成したものであり、一部が円板形を
なす各電極層32A〜32Eに対して外側から重なり合
って形成されている。
More specifically, the resistor layer 33 is formed by forming a belt-like body in a zigzag pattern, and is formed so as to partially overlap each of the electrode layers 32A to 32E having a disk shape from the outside. I have.

【0036】絶縁基板31の表面31aに形成された各
電極層32A〜32Eには、電極取出し用の端子34A
〜34Eが配置されており、これら端子34A〜34E
は後述する構成により絶縁基板31に固定されている。
端子34A〜34Eを絶縁基板31に固定する構成につ
いて図2を参照して説明する。
Each of the electrode layers 32A to 32E formed on the surface 31a of the insulating substrate 31 has a terminal 34A for taking out an electrode.
To terminals 34A to 34E.
Is fixed to the insulating substrate 31 by a configuration described later.
A configuration for fixing the terminals 34A to 34E to the insulating substrate 31 will be described with reference to FIG.

【0037】端子34A〜34Eは、導電性を有する例
えば非磁性ステンレス鋼、例えばオーステナイト系ステ
ンレス鋼のSUS316からなるものである。端子34
A〜34Eは、図3にも示すように矩形をなす電極接続
部34aと短冊形をなすリード部34bとが一体に形成
されたものである。端子34A〜34Eの電極接続部3
5aは絶縁基板31の表面31aに形成した電極層32
A〜32Eに外側面に重ねられて配置され、例えば複数
箇所例えば2箇所がレーザ溶接により電極層32A〜3
2Eにより溶着されて接合されている。この複数箇所の
溶着部35より電極接続部34aの接触面と電極層32
の接触面とが隙間なく密着している。なお、リード部3
4bは絶縁基板31の外側へ延び出ている。
The terminals 34A to 34E are made of conductive non-magnetic stainless steel, for example, SUS316 of austenitic stainless steel. Terminal 34
In FIGS. 3A to 3E, a rectangular electrode connecting portion 34a and a rectangular lead portion 34b are integrally formed as shown in FIG. Electrode connection part 3 of terminals 34A to 34E
5a is an electrode layer 32 formed on the surface 31a of the insulating substrate 31.
A to 32E are arranged on the outer surface so as to overlap with each other.
It is welded and joined by 2E. The contact surface of the electrode connecting portion 34a and the electrode layer 32 are
And the contact surface are closely contacted with no gap. The lead 3
4b extends outside the insulating substrate 31.

【0038】絶縁基板31の表面31a全体(表面31
に形成された電極層32A〜32E、抵抗体層33およ
び端子34A〜34Eの電極接続部34a全体)には絶
縁層36が形成され、また裏面31bの全体には絶縁層
37が形成されており、さらに図示しないがこれら表面
31aと裏面31bとを結ぶ周面31cを覆って絶縁層
が形成されている。この絶縁層36、37は例えば遷移
金属酸化物とほう硅酸鉛を主成分とするガラス材料を印
刷、乾燥、焼成して形成される。
The entire surface 31a of the insulating substrate 31 (the surface 31
An insulating layer 36 is formed on the electrode layers 32A to 32E, the resistor layer 33, and the electrode connection portions 34a of the terminals 34A to 34E), and an insulating layer 37 is formed on the entire back surface 31b. Although not shown, an insulating layer is formed to cover a peripheral surface 31c connecting the front surface 31a and the back surface 31b. The insulating layers 36 and 37 are formed, for example, by printing, drying, and firing a glass material mainly containing a transition metal oxide and lead borosilicate.

【0039】上記絶縁基板31,電極層32,抵抗体層
33,絶縁層36、37,端子34A〜34Eを構成す
る材料および形成,製造方法は、上記に記載した例に限
らず、常法の材料および形成,製造方法を採用すること
ができる。
The materials constituting the insulating substrate 31, the electrode layer 32, the resistor layer 33, the insulating layers 36 and 37, and the terminals 34A to 34E and the methods for forming and manufacturing the same are not limited to the examples described above, but may be conventional methods. Materials, forming and manufacturing methods can be adopted.

【0040】前記電極層32A〜32Eおよび端子34
A〜34Eを形成する材料は、SUS316に限定され
ず、他の常磁性体で加工誘起マルテンサイト変態で強磁
性を示さない非磁性オーステナイト系ステンレス鋼によ
り形成することができる、この実施の形態における抵抗
器は次に述べる製造方法により製造する。まず、酸化ア
ルミニウムを主成分とし、且つ厚さ0.6mmの薄肉の絶
縁基板31を用意する。この絶縁基板31の表面31a
に、ほう硅酸鉛系のガラスを含むルテニウム系の抵抗ペ
ーストをスクリーン印刷法により厚さ2〜20μmで所
定の分割比が得られるようなスラローム形状に印刷し、
さらに温度100〜150℃で乾燥し、温度850℃で
焼成して抵抗体層33を形成する。次いで、絶縁基板3
1の表面31aにおける各電極取り出し位置に、イオン
プレーティング方法によりSUS316からなる電極層
32を夫々形成する。電極層32は、イオンプレーティ
ング法においてガス圧力が適切に選択され、内部応力お
よび熱応力の発生を抑制して膜質の欠陥がない10μm
以上の厚さの電極層32が形成された。また、イオンプ
レーティング法としてマスクを用いたカルセール方式を
採用することにより、1000個/1バッチの多数個取
りが可能となり、大幅なプロセスの時間を短縮できた。
イオンプレーティング法は電極層32を絶縁基板31の
表面31aに充分な密着強度をもって形成することがで
きるという特徴がある。
The electrode layers 32A to 32E and the terminals 34
The material forming A to 34E is not limited to SUS316, and can be formed of a non-magnetic austenitic stainless steel that does not exhibit ferromagnetism due to work-induced martensitic transformation in another paramagnetic material. The resistor is manufactured by the manufacturing method described below. First, a thin insulating substrate 31 mainly containing aluminum oxide and having a thickness of 0.6 mm is prepared. Surface 31a of this insulating substrate 31
Then, a ruthenium-based resist paste containing lead borosilicate-based glass is printed by a screen printing method in a slalom shape such that a predetermined division ratio can be obtained with a thickness of 2 to 20 μm,
Further, the resistor layer 33 is formed by drying at a temperature of 100 to 150 ° C. and firing at a temperature of 850 ° C. Next, the insulating substrate 3
An electrode layer 32 made of SUS316 is formed at each electrode extraction position on the first surface 31a by an ion plating method. In the electrode layer 32, the gas pressure is appropriately selected in the ion plating method, the generation of internal stress and thermal stress is suppressed, and there is no defect in the film quality of 10 μm.
The electrode layer 32 having the above thickness was formed. In addition, by employing a calcail method using a mask as the ion plating method, a large number of pieces of 1000 pieces / batch can be obtained, and the process time can be greatly reduced.
The ion plating method is characterized in that the electrode layer 32 can be formed on the surface 31a of the insulating substrate 31 with sufficient adhesion strength.

【0041】しかし、この方法に限定されずマスクを用
いたスパッタリング、蒸着、あるいはベタ膜形成後電極
層以外の部分をエッチング除去などの他の方法を採用す
ることもできる。なお、各電極層32は一部が抵抗体層
33に夫々に重なるように形成した。
However, the present invention is not limited to this method, and other methods such as sputtering using a mask, vapor deposition, or removing a portion other than the electrode layer after forming the solid film by etching may be employed. In addition, each electrode layer 32 was formed so that a part might overlap with the resistor layer 33, respectively.

【0042】次いで、絶縁基板31の表面31aにおい
てSUS316からなる端子34A〜34Eを各電極層
32A〜32Eの外側面に圧接して配置し、YAGレー
ザにより1000℃以上の温度でスポット溶接を2箇所
づつ行ない、各端子34A〜34Eを各電極層32A〜
32Eに溶着接合した。YAGレーザは出力エネルギー
0.1J/P以上、出力パルス幅1ms以上で、10μ
m以上の薄膜ステンレス端子34A〜34Eと、10μ
m以上の厚さの電極層32A〜32Eとを良好に溶着接
合することができた。そして、端子34A〜34Eの接
合部でのトルクは、600g・mm以上で、後述するよ
うに真空容器(電子管)内部に固定するには充分な溶接
接合強度が得られた。
Next, terminals 34A to 34E made of SUS316 are pressed against the outer surfaces of the electrode layers 32A to 32E on the surface 31a of the insulating substrate 31, and spot welding is performed at two places at a temperature of 1000 ° C. or more by a YAG laser. Each terminal 34A-34E is connected to each electrode layer 32A-
32E was welded. The YAG laser has an output energy of 0.1 J / P or more, an output pulse width of 1 ms or more, and 10 μm.
m and thin film stainless steel terminals 34A to 34E and 10 μm
m and the electrode layers 32A to 32E having a thickness of not less than m were successfully welded and joined. The torque at the joints of the terminals 34A to 34E was 600 g · mm or more, and sufficient welding joint strength was obtained to fix the terminals 34A to 34E inside the vacuum vessel (electron tube) as described later.

【0043】次に、このように電極層および抵抗体を形
成するとともに端子を接続した絶縁基板31を、絶縁基
板31および抵抗体層32を覆うように遷移金属酸化物
とほう硅酸鉛を主成分とする溶融したガラス材料を内部
にした浸漬して、絶縁基板31の表面、裏面および周面
に前記材料を塗布する。塗布した前記材料を、さらに乾
燥、焼成して絶縁層36、37を形成する。
Next, the insulating substrate 31 on which the electrode layers and the resistor are formed and the terminals are connected as described above is replaced with a transition metal oxide and lead borosilicate so as to cover the insulating substrate 31 and the resistor layer 32. The molten glass material as a component is immersed inside, and the material is applied to the front surface, the back surface, and the peripheral surface of the insulating substrate 31. The applied material is further dried and fired to form insulating layers 36 and 37.

【0044】こうして製造した得られた抵抗器は全抵抗
値で1000MΩの値を有し、夫々端子部分の分割比率
は、±0.2%の精度であった。このような抵抗器は、
端子34A〜34Eを電極層32A〜32Eに接続する
ために、絶縁基板31にスルーホールを形成して端子3
4A〜34Eをかしめる方式ではなく、端子34A〜3
4Eを電極層32A〜32Eに重合して溶接による溶着
接合する。
The resistors thus manufactured had a total resistance of 1000 MΩ, and the division ratio of each terminal portion was accurate to ± 0.2%. Such a resistor,
In order to connect the terminals 34A to 34E to the electrode layers 32A to 32E, a through hole is formed in the insulating substrate 31 and the terminal 3
Instead of caulking 4A-34E, terminals 34A-3
4E is superimposed on the electrode layers 32A to 32E and welded by welding.

【0045】このため、端子34A〜34Eと電極層3
2A〜32Eが密着して、絶縁基板31に絶縁層36、
37を形成する時に溶融した絶縁層材料が端子34A〜
34Eと電極層32A〜32Eとの接触部に侵入して両
者の接触抵抗を変動(増大)させることがない。そし
て、絶縁層36、37を形成する時に、スクリーン印刷
法により溶融したガラスが端子に近接しないようにガラ
ス塗布領域を調整しつつ基板表面に塗布する方法を採用
する必要がなく、プロセスのディップ塗布方式を採用し
て能率よく絶縁層材料を塗布することができる。
Therefore, the terminals 34A to 34E and the electrode layer 3
2A to 32E come into close contact with each other to form an insulating layer 36 on the insulating substrate 31;
The insulating layer material melted at the time of forming the
The contact resistance between the electrode layers 34E and the electrode layers 32A to 32E does not fluctuate (increase). When forming the insulating layers 36 and 37, it is not necessary to adopt a method of coating the substrate surface while adjusting the glass coating region so that the glass melted by the screen printing method does not approach the terminals, and it is not necessary to adopt a dip coating process. By adopting the method, the insulating layer material can be applied efficiently.

【0046】また、端子34A〜34Eと電極層32A
〜32Eが密着しているために、この接触部における総
抵抗値、抵抗分割が安定する。さらに、端子34A〜3
4Eと電極層32A〜32Eとの接触部にスルーホール
がないために、電位勾配が緩やかで電界が集中しにくく
放電が生じにくくなった、そして、端子34A〜34E
と電極層32A〜32Eとを夫々同種の非磁性ステンレ
ス鋼により形成し、この非磁性ステンレス鋼からなる端
子34A〜34Eと電極層32A〜32Eをレーザ溶接
により溶着接合している。このため、1000℃以上の
温度で溶着接合するために、端子34A〜34Eと電極
層32A〜32Eの構成電子が互いに充分接近し、溶接
組織中の溶体化部は、酸化に対する抵抗力が高いクロム
(Cr)の不動態被膜を有するステンレス鋼導体内部の
比抵抗が10-5Ω・cmとは大きく変化しない。このた
め、ステンレス鋼の小さい比抵抗を溶接接合以降の各工
程でも安定して維持できる。
The terminals 34A to 34E and the electrode layer 32A
Since 32E is in close contact, the total resistance value and the resistance division at this contact portion are stabilized. Further, the terminals 34A to 34A
Since there is no through-hole in the contact portion between the electrode 4E and the electrode layers 32A to 32E, the potential gradient is gentle, the electric field is less likely to concentrate, and the discharge is less likely to occur, and the terminals 34A to 34E.
And the electrode layers 32A to 32E are formed of the same kind of nonmagnetic stainless steel, and the terminals 34A to 34E made of the nonmagnetic stainless steel are welded to the electrode layers 32A to 32E by laser welding. For this reason, the terminals 34A to 34E and the constituent electrons of the electrode layers 32A to 32E are sufficiently close to each other in order to perform the welding and joining at a temperature of 1000 ° C. or more, and the solution-formed portion in the welded structure has a high chromium resistance to oxidation. The specific resistance inside the stainless steel conductor having the (Cr) passivation film does not significantly change to 10 −5 Ω · cm. For this reason, the small specific resistance of stainless steel can be stably maintained in each process after welding.

【0047】端子34A〜34Eと電極層32A〜32
Eとは溶接により確実且つ容易に溶着接合することがで
き、特にレーザ溶接を採用することにより大変小さい端
子と電極層とを溶接することが可能となっている。
The terminals 34A to 34E and the electrode layers 32A to 32
E can be welded securely and easily by welding, and particularly by employing laser welding, it is possible to weld very small terminals and electrode layers.

【0048】また、端子34A〜34Eを絶縁基板31
の電極層32A〜32Eに接続するに際して絶縁基板3
1にマイクロクラックが発生しない。そして、絶縁基板
31を0.5mm程度に薄肉化した場合にも,絶縁基板3
1にマイクロクラックが発生することを抑制して端子3
4A〜34Eを固定することが可能となる。
The terminals 34A to 34E are connected to the insulating substrate 31.
When connecting to the electrode layers 32A to 32E, the insulating substrate 3
No microcracks occur in No. 1. Even when the thickness of the insulating substrate 31 is reduced to about 0.5 mm,
1 to prevent the occurrence of microcracks
4A to 34E can be fixed.

【0049】上記本発明の抵抗器を、図4に示す電子銃
構体に使用される抵抗器に使用したところ、信頼性の高
い電子銃構体が得られたと共に、さらにこれら本発明の
抵抗器を用いた電子銃構体をカラーブラウン管に使用さ
れる電子銃構体として使用したところ、信頼性の高い電
子管が得られた。
When the above-described resistor of the present invention was used for the resistor used in the electron gun structure shown in FIG. 4, a highly reliable electron gun structure was obtained. When the used electron gun structure was used as an electron gun structure used for a color cathode ray tube, a highly reliable electron tube was obtained.

【0050】ブラウン管の構成の一例を図5に示してい
る。この陰極線管用電子管は、矩形状のパネル52と漏
斗形をなすファンネル53とネック54とからなる真空
外囲器51を有している。このパネル52の内面には
赤、緑および青に夫々発光する蛍光体層55がストライ
ブ状に設けられている。ネック54にはインライン型電
子銃56が設けてあり、この電子銃56はこの実施の形
態の電子銃構体がパネル52の水平軸に沿って一列に配
列されて赤、緑および青に対応する電子ビームRを発射
するものである。また、蛍光体層55に近接対向した位
置には、多数の微細な孔を有するシャドウマスク57が
マスクフレーム58に支持されて設けられている。ネッ
クの外側周囲には電子ビームRを偏向走査して映像を再
現する偏向装置59が設けられている。前述した電子銃
56は本発明の電子銃構体を備えたもので、シャドウマ
スク57に対向して配置されている。
FIG. 5 shows an example of the structure of a CRT. The electron tube for a cathode ray tube has a vacuum envelope 51 including a rectangular panel 52, a funnel 53 having a funnel shape, and a neck 54. On the inner surface of the panel 52, phosphor layers 55 that emit red, green, and blue light, respectively, are provided in a stripe shape. The neck 54 is provided with an in-line type electron gun 56. The electron gun 56 is configured such that the electron gun structure of this embodiment is arranged in a line along the horizontal axis of the panel 52 so that the electron guns corresponding to red, green and blue are provided. It emits a beam R. Further, a shadow mask 57 having a large number of fine holes is provided at a position close to and opposed to the phosphor layer 55 so as to be supported by a mask frame 58. A deflecting device 59 for deflecting and scanning the electron beam R to reproduce an image is provided around the outside of the neck. The above-described electron gun 56 includes the electron gun structure of the present invention, and is disposed to face the shadow mask 57.

【0051】なお、本願の発明は前述した実施の形態に
限定されるものではなく、種々変形して実施することが
できる。例えば本願発明の抵抗器は、ブラウン管に限ら
ず抵抗器を必要とするその他の電子管にも適用が可能で
ある。
The invention of the present application is not limited to the above-described embodiment, but can be implemented with various modifications. For example, the resistor of the present invention can be applied not only to a cathode ray tube but also to other electron tubes requiring a resistor.

【0052】[0052]

【発明の効果】請求項1の発明によれば、端子を絶縁基
板の電極層に接続する際に、絶縁基板ににおけるマイク
ロクラックの発生を防止し、また端子と電極層との接合
部における抵抗値および分割比の変動と電界集中を防止
し、さらに端子と電極層との間に絶縁層を形成する材料
が侵入することを防止できる抵抗器を得ることができ
る。
According to the first aspect of the present invention, when connecting the terminal to the electrode layer of the insulating substrate, the occurrence of microcracks in the insulating substrate is prevented, and the resistance at the junction between the terminal and the electrode layer is reduced. It is possible to obtain a resistor capable of preventing the fluctuation of the value and the division ratio and the electric field concentration, and further preventing the material forming the insulating layer from entering between the terminal and the electrode layer.

【0053】請求項4の発明によれば、信頼性の高い電
子銃構体を得ることができる。請求項5および請求項6
の発明によれば、信頼性の高い電子管を得ることができ
る。
According to the fourth aspect of the invention, a highly reliable electron gun assembly can be obtained. Claim 5 and Claim 6
According to the invention, a highly reliable electron tube can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本願発明の第一の実施の形態の抵抗器を絶縁層
から透過して示す平面図。
FIG. 1 is a plan view showing a resistor according to a first embodiment of the present invention as seen through an insulating layer.

【図2】同実施の形態の抵抗器を示す断面図。FIG. 2 is an exemplary sectional view showing the resistor according to the embodiment;

【図3】同実施の形態において端子を絶縁基板に固定し
た部分を拡大して示す図。
FIG. 3 is an enlarged view showing a portion where a terminal is fixed to an insulating substrate in the embodiment.

【図4】抵抗器を内蔵した電子管を示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view showing an electron tube having a built-in resistor.

【図5】抵抗器を内蔵した電子管を示す断面図。FIG. 5 is a sectional view showing an electron tube having a built-in resistor.

【図6】従来の形態の抵抗器を絶縁層から透過して示す
平面図
FIG. 6 is a plan view showing a conventional resistor through an insulating layer.

【図7】同従来の形態の抵抗器を示す断面図FIG. 7 is a cross-sectional view showing the conventional resistor.

【図8】同従来の形態の抵抗器において端子を絶縁基板
に固定した部分を拡大して示す図。
FIG. 8 is an enlarged view showing a portion of the conventional resistor in which terminals are fixed to an insulating substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

31…絶縁基板、 31a…表面、 31b…裏面、 32A〜32E…電極層、 33…抵抗体層、 34A〜34E…絶縁層、 35…端子、 35a…固定部、 35b…電極接続部、 35c…リード部、 36、37…絶縁層。 31: insulating substrate, 31a: front surface, 31b: back surface, 32A to 32E: electrode layer, 33: resistor layer, 34A to 34E: insulating layer, 35: terminal, 35a: fixed portion, 35b: electrode connection portion, 35c ... Lead portions, 36, 37 ... insulating layer.

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────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成10年7月10日[Submission date] July 10, 1998

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0018[Correction target item name] 0018

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0018】また、かしめにより端子25A〜25Eを
絶縁基板21の電極層22A〜22Eに接触させる方式
では、接触抵抗の原因となる集中抵抗R(以下に式を表
す)の中で加圧力Fが一定とならず、端子25A〜25
Eと電極層22A〜22Eとの接触部総抵抗値、抵抗
分割比に夫々変動が生じ易いという問題がある。
Further, in the method in which the terminals 25A to 25E are brought into contact with the electrode layers 22A to 22E of the insulating substrate 21 by caulking, the pressing force F in the concentrated resistance R (which is represented by the following formula) which causes the contact resistance is reduced. Terminals 25A to 25
There is a problem that the total resistance value and the resistance division ratio of the contact portions between E and the electrode layers 22A to 22E are likely to vary.

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0026[Correction target item name] 0026

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0026】請求項2の発明は、請求項1記載の抵抗器
において、前記絶縁基板はセラミックスからなり、前記
抵抗体層は酸化ルテニウムを含む金属酸化物とほう硅酸
鉛からなり、前記端子用電極は非磁性ステンレス鋼か
なり、前記端子は非磁性ステンレス鋼からなることを特
徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the resistor according to the first aspect, the insulating substrate is made of ceramics, the resistor layer is made of a metal oxide containing ruthenium oxide and lead borosilicate, and electrode nonmagnetic stainless steel or Rannahli, the terminal is characterized in that it consists of non-magnetic stainless steel.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0033[Correction target item name] 0033

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0033】絶縁基板31の表面31aにおける各電極
取り出し位置、例えば基板長さ方向両端には電極層32
A、32B、これら両端に挟まれた基板長さ方向に所定
間隔を存した箇所には端子32C〜32Eが夫々形成さ
れている。これら複数の電極層32A〜32Eは後述す
る端子を接続するためのものである。これら電極層32
は例えば非磁性ステンレス鋼、例えばオーステナイト系
ステンレス鋼のSUS316からなるものである。ここ
で、非磁性ステンレス鋼を採用するのは、蒸気圧が低
く、ガス放出が少なく、耐食性に優れている金属材料と
いう理由によるものである。なお、各電極層32は図3
(a)にも示すように後述する抵抗体層33と端子34
に確実に接触するように例えば円板形をなしている。
The electrode layers 32 are located at the respective electrode extraction positions on the surface 31a of the insulating substrate 31, for example, at both ends in the substrate length direction.
Terminals 32C to 32E are formed at positions A and 32B at predetermined intervals in the length direction of the substrate sandwiched between both ends. The plurality of electrode layers 32A to 32E are for connecting terminals described later. These electrode layers 32
For example nonmagnetic stainless steel, for example, made of SUS316 austenitic stainless steel. Here, the non-magnetic stainless steel is adopted because it is a metal material having a low vapor pressure, a small outgassing, and excellent corrosion resistance. Each electrode layer 32 is shown in FIG.
As shown in (a), a resistor layer 33 and a terminal 34, which will be described later,
For example, it is formed in a disk shape so as to make sure contact.

【手続補正5】[Procedure amendment 5]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図4[Correction target item name] Fig. 4

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図4】 FIG. 4

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 互いに対向する一対の面の間を貫通する
絶縁基板と、この絶縁基板の一方の面に形成された抵抗
体層と、前記絶縁基板の一方の面に前記抵抗体層と接続
して形成された端子用電極層と、一部が前記端子用電極
層に溶着接合された金属板材からなる端子とを具備する
こと特徴とする抵抗器。
1. An insulating substrate penetrating between a pair of opposing surfaces, a resistor layer formed on one surface of the insulating substrate, and a resistor layer connected to one surface of the insulating substrate. A resistor comprising: a terminal electrode layer formed as described above; and a terminal partially formed of a metal plate material welded to the terminal electrode layer.
【請求項2】 前記絶縁基板はセラミックスからなり、
前記抵抗体層は酸化ルテニウムを含む金属酸化物とほう
硅酸鉛からなり、前記端子用電極層は非磁性ステンレン
ス鋼および/または非磁性コバール合金からなり、前記
端子は非磁性ステンレンス鋼からなることを特徴とする
ことを特徴とする請求項1記載の抵抗器。
2. The insulating substrate is made of ceramics,
The resistor layer is made of a metal oxide containing ruthenium oxide and lead borosilicate; the terminal electrode layer is made of a non-magnetic stainless steel and / or a non-magnetic Kovar alloy; and the terminal is made of a non-magnetic stainless steel. The resistor according to claim 1, characterized in that:
【請求項3】 前記端子と前記電極層とは重合され溶接
を施されて接合されていることを特徴とする請求項1記
載の抵抗器。
3. The resistor according to claim 1, wherein the terminal and the electrode layer are joined by being polymerized and welded.
【請求項4】 電子銃と、前記電子銃に接続された請求
項1の抵抗器とを有することを特徴とする電子銃構体。
4. An electron gun assembly comprising: an electron gun; and the resistor according to claim 1 connected to the electron gun.
【請求項5】 請求項4の電子銃構体を有することを特
徴とする電子管。
5. An electron tube comprising the electron gun assembly according to claim 4.
【請求項6】 パネル部を有する真空外囲器と、このパ
ネル部の内面に設けられた蛍光体層と、前記真空外囲器
のパネル部の内面に対向する位置に配置された請求項4
に記載の電子銃構体と、前記蛍光体層と前記電子銃構体
との間に配置されたシャドウマスクとを具備することを
特徴とする請求項5に記載の電子管。
6. A vacuum envelope having a panel portion, a phosphor layer provided on an inner surface of the panel portion, and a phosphor layer disposed at a position facing the inner surface of the panel portion of the vacuum envelope.
The electron tube according to claim 5, further comprising: an electron gun assembly according to (1), and a shadow mask disposed between the phosphor layer and the electron gun assembly.
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