JPH117816A - Light absorber, reflector and lighting system - Google Patents
Light absorber, reflector and lighting systemInfo
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- JPH117816A JPH117816A JP9158424A JP15842497A JPH117816A JP H117816 A JPH117816 A JP H117816A JP 9158424 A JP9158424 A JP 9158424A JP 15842497 A JP15842497 A JP 15842497A JP H117816 A JPH117816 A JP H117816A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は光吸収体、これを用
いた反射体および照明装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light absorber, a reflector using the same, and a lighting device.
【0002】[0002]
【従来の技術】ダイクロイックミラーと称される多層干
渉膜からなり、可視光を反射して熱線を透過する光選択
反射膜を備えた反射体は、光源たとえば電球が可視光と
ともに放射する多量の熱線をなるべく除去して可視光だ
けを反射することができるため、スポットライトなどの
照明器具の反射体として使用すると、理論上約80%の
熱線を除去することができる。2. Description of the Related Art A reflector comprising a multi-layer interference film called a dichroic mirror and having a light selective reflection film which reflects visible light and transmits heat rays is a large amount of heat rays emitted from a light source such as a light bulb together with visible light. Can be removed as much as possible so that only visible light can be reflected. Therefore, when used as a reflector of a lighting fixture such as a spotlight, theoretically, about 80% of heat rays can be removed.
【0003】したがって、店舗照明において、商品を熱
線から保護して照明する場合に多用されている。[0003] Therefore, in store lighting, it is often used when lighting products while protecting them from heat rays.
【0004】ところで、多層干渉膜からなる光選択反射
膜を備えた反射体には、基体にガラスを用いたものと、
金属を用いたものとがある。By the way, a reflector provided with a light selective reflection film composed of a multilayer interference film includes one using glass as a base,
Some use metals.
【0005】金属の基体を用いた反射体は、大きな反射
体や異形の反射体に好適である。[0005] A reflector using a metal base is suitable for a large reflector or a reflector of an irregular shape.
【0006】しかし、金属の基体を用いる光選択反射膜
を備えた反射体においては、光選択反射膜をいったん透
過した熱線の多くが、基体の表面で反射して再び多層干
渉膜を背面側から透過して被照体側へ照射されるという
問題がある。However, in a reflector provided with a light selective reflection film using a metal substrate, most of the heat rays that have once passed through the light selective reflection film are reflected on the surface of the substrate and again form the multilayer interference film from the back side. There is a problem that the light is transmitted and irradiated to the illuminated body side.
【0007】そこで、基体と多層干渉膜との間に熱線吸
収膜を形成している。熱線吸収膜として、黒色塗装層、
黒色染料層、黒色化陽極酸化膜、またはチタン系の薄膜
およびクロム系の薄膜の複合層などを用いることが知ら
れている。Therefore, a heat ray absorbing film is formed between the substrate and the multilayer interference film. As a heat ray absorbing film, a black paint layer,
It is known to use a black dye layer, a black anodized film, or a composite layer of a titanium-based thin film and a chromium-based thin film.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】ところが、熱線の一部
は熱線吸収膜の表面で反射して可視光反射・熱線透過膜
を再び透過して戻るという問題がある。このため、熱線
除去率が低下する。However, there is a problem that a part of the heat ray is reflected on the surface of the heat ray absorbing film, and then passes through the visible light reflecting / heat ray transmitting film again to return. For this reason, the heat ray removal rate decreases.
【0009】上記の種々の熱線吸収膜のうち、チタン系
の薄膜およびクロム系の薄膜の複合層は、熱線および可
視光にわたる広い波長範囲の光を良好に吸収する性質を
有している光吸収体である。この光吸収体を熱線吸収体
として上記のように用いることにより、熱線吸収膜の表
面における熱線の反射の問題を実用的な範囲で解決する
ことができるようになり、熱線除去率が向上した。[0009] Among the various heat ray absorbing films described above, a composite layer of a titanium-based thin film and a chromium-based thin film has a property of absorbing light in a wide wavelength range from heat rays to visible light. Body. By using this light absorber as a heat ray absorber as described above, the problem of reflection of heat rays on the surface of the heat ray absorption film can be solved within a practical range, and the heat ray removal rate has been improved.
【0010】しかし、従来のチタン系の薄膜およびクロ
ム系の薄膜の複合層からなる吸光膜は、チタン系の薄膜
とクロム系の薄膜とがほぼ同一の光学的膜厚に形成され
ていた。However, in a conventional light absorbing film composed of a composite layer of a titanium-based thin film and a chromium-based thin film, the titanium-based thin film and the chromium-based thin film are formed to have substantially the same optical film thickness.
【0011】このため、十分な熱線吸収作用を行わせる
には、その光学的膜厚を大きくする必要があった。For this reason, in order to perform a sufficient heat ray absorbing action, it is necessary to increase the optical film thickness.
【0012】このため、成膜に数十分程度の長時間を要
していた。For this reason, film formation requires a long time of about several tens of minutes.
【0013】このことは、成膜設備の清掃頻度を高める
ことにもなって、そのためコスト高であった。[0013] This also increases the frequency of cleaning of the film-forming equipment, which increases the cost.
【0014】本発明は、光学的膜厚を小さくできるため
に成膜時間を短縮するとともに、成膜設備の清掃頻度を
低くして、低コストの光吸収体、これを用いた反射体お
よび照明装置を提供することを目的とする。According to the present invention, the optical film thickness can be reduced, the film forming time can be shortened, and the frequency of cleaning the film forming equipment can be reduced, so that a low-cost light absorber, a reflector using the light absorber, and a lighting device. It is intended to provide a device.
【0015】[0015]
【課題を達成するための手段】請求項1の発明の光吸収
体は、基体と;主成分がチタンからなり基体の表面に形
成された第1の薄膜および主成分がクロムからなり第1
の薄膜の上に形成された第1の薄膜の約2倍の光学的膜
厚を有する第2の薄膜を含む吸光膜と;を具備している
ことを特徴としている。According to the first aspect of the present invention, there is provided a light absorber comprising: a base; a first thin film formed of titanium as a main component and a first thin film formed of chromium on a surface of the base;
And a light absorbing film including a second thin film having an optical thickness about twice that of the first thin film formed on the thin film.
【0016】本発明および以下の各発明において、特に
指定しない限り用語の定義および技術的意味は次によ
る。In the present invention and each of the following inventions, definitions and technical meanings of terms are as follows unless otherwise specified.
【0017】基体について説明する。The base will be described.
【0018】基体は、金属、合成樹脂、ガラスおよびセ
ラミックスなどの剛性のある材料を用いることができる
が、基体に吸収した熱を放散させるために、なるべく放
熱性の良好なものが効果的である。熱線を放散させるに
は、吸収した熱によって基体が温度上昇するから、輻
射、対流または伝導のいずれか一または複数の態様の組
み合わせによればよい。The substrate may be made of a rigid material such as metal, synthetic resin, glass and ceramics. However, a material having good heat dissipation is effective for dissipating the heat absorbed by the substrate. . In order to dissipate the heat rays, the temperature of the substrate is increased by the absorbed heat, and thus any one of radiation, convection, or conduction may be used or a combination of a plurality of embodiments.
【0019】しかし、基体の形状および構造は自由であ
る。熱線を吸収させたい部材を基体として、本発明の複
合層を形成すれば、熱線を良好に吸収するからである。However, the shape and structure of the substrate are free. This is because if the composite layer of the present invention is formed using a member that wants to absorb heat rays as a substrate, the heat rays can be favorably absorbed.
【0020】次に、吸光膜について説明する。Next, the light absorbing film will be described.
【0021】第1の薄膜において、主成分がチタンであ
るとは、チタン金属を主成分としていることであり、副
成分については自由であるという意味である。すなわ
ち、薄膜の屈折率の調整、密着性および耐久性の改善な
どのために、アルミナAl2O3、シリカSiO2などを
副成分として混合することが許容される。In the first thin film, that the main component is titanium means that titanium metal is the main component, and that the subcomponent is free. That is, it is permissible to mix alumina Al 2 O 3 , silica SiO 2, and the like as subcomponents in order to adjust the refractive index of the thin film, improve the adhesion and the durability, and the like.
【0022】第2の薄膜において、主成分がクロムであ
るとは、クロム金属を主成分としていることであり、副
成分については自由である。副成分につては、第1の薄
膜と同様である。In the second thin film, that the main component is chromium means that the main component is chromium metal, and the subcomponent is free. The sub-components are the same as in the first thin film.
【0023】また、第2の薄膜は、その光学的膜厚が第
1の薄膜の光学的膜厚の約2倍であることが重要であ
る。It is important that the optical thickness of the second thin film is about twice the optical thickness of the first thin film.
【0024】なお、光学的膜厚とは、膜の機械的膜厚に
当該膜の構成材料の屈折率を乗じた値をいう。The optical film thickness is a value obtained by multiplying the mechanical film thickness of the film by the refractive index of the constituent material of the film.
【0025】また、約とは本発明の本質に影響のない範
囲で多少の誤差は許容されるのであって、その意味にお
いて、±15%までの範囲をいう。The term "approximately" means that a certain amount of error is allowed within a range that does not affect the essence of the present invention, and in that sense, it means a range up to ± 15%.
【0026】さらに、第1の薄膜および第2の薄膜を形
成するの際して、要すれば各膜の複数層を交互に重層し
てもよい。Further, when forming the first thin film and the second thin film, if necessary, a plurality of layers of each film may be alternately layered.
【0027】そうして、本発明においては、吸光膜を第
1の薄膜と第2の薄膜との光学的膜厚比率を約1:2に
することにより、その理由は詳でないが、吸光膜全体の
光学的膜厚を小さくしても、熱線および可視光の吸収率
が80%以上と高くて、したがって熱線反射率を20%
以内に小さくすることができ、このため成膜時間を短縮
するとともに、成膜設備の清掃頻度を少なくすることが
できる。In the present invention, the ratio of the optical film thickness of the first thin film to the second thin film is set to about 1: 2 in the light absorbing film. Even if the overall optical film thickness is reduced, the absorptivity of heat rays and visible light is as high as 80% or more, and thus the heat ray reflectivity is 20%.
Therefore, the film formation time can be shortened, and the frequency of cleaning the film formation equipment can be reduced.
【0028】また、本発明においては、熱線を良好に吸
収することが可能であるから、熱線吸収膜として利用す
ることについては、以上説明したとおりであるが、可視
光に対する吸収率も高いなるので、可視光吸収を主たる
目的とする用途に対しても、その十分期待に応えること
ができる。もちろん、熱線を吸収するとともに、なるべ
く可視光も遮光したい場合には特に効果的であることは
いうまでもない。Further, in the present invention, since it is possible to absorb heat rays satisfactorily, the use as a heat ray absorbing film is as described above. In addition, it can sufficiently meet expectations for applications mainly intended for absorption of visible light. Of course, it is needless to say that it is particularly effective when it is desired to absorb heat rays and also shield visible light as much as possible.
【0029】請求項2の発明の光吸収体は、基体と;主
成分がチタン化合物からなり基体の表面に形成された第
1の薄膜および主成分がクロム化合物からなり第1の薄
膜の上に形成された第1の薄膜の約2倍の光学的膜厚を
有する第2の薄膜を含む吸光膜と;を具備していること
を特徴としている。A light absorber according to a second aspect of the present invention comprises a substrate, a first thin film mainly composed of a titanium compound and formed on the surface of the substrate, and a first thin film mainly composed of a chromium compound on the first thin film. And a light-absorbing film including a second thin film having an optical thickness about twice that of the formed first thin film.
【0030】チタン化合物とは、金属チタンではなく、
チタンの酸化物、窒化物などを意味する。Titanium compounds are not metallic titanium,
It means oxides and nitrides of titanium.
【0031】同様に、クロム化合物とは、金属クロムで
はなく、クロムの酸化物を意味する。Similarly, the chromium compound means not chromium metal but an oxide of chromium.
【0032】副成分については、請求項1と同様であ
る。The sub-components are the same as in claim 1.
【0033】約の意味については、請求項1と同様であ
る。The meaning of about is the same as in claim 1.
【0034】そうして、本発明においても、請求項1と
同様良好な光吸収作用を行う。Thus, also in the present invention, a good light absorbing action is performed as in the first aspect.
【0035】請求項3の発明の光吸収体は、請求項1ま
たは2記載の光吸収体において、チタン化合物は、酸化
チタンおよびまたは窒化チタンであり;クロム化合物
は、酸化クロムである;ことを特徴としている。According to a third aspect of the present invention, in the light absorber of the first or second aspect, the titanium compound is titanium oxide and / or titanium nitride; and the chromium compound is chromium oxide. Features.
【0036】本発明は、副成分として実際的な材料を具
体的に示している。The present invention specifically illustrates practical materials as accessory components.
【0037】請求項4の発明の反射体は、基体と;主成
分がチタンからなり基体の表面に形成された第1の薄膜
および主成分がクロムからなり第1の薄膜の上に形成さ
れた第1の薄膜の約2倍の光学的膜厚を有する第2の薄
膜を含む吸光膜と;多層干渉膜からなり第2の薄膜の上
に形成されて特定波長域光を反射する光選択反射膜と;
を具備していることを特徴としている。A reflector according to a fourth aspect of the present invention is a reflector comprising: a base; a first thin film mainly composed of titanium and formed on the surface of the base; and a first thin film mainly composed of chromium and formed on the first thin film. A light absorbing film including a second thin film having an optical thickness about twice that of the first thin film; and a light selective reflection formed of a multilayer interference film formed on the second thin film and reflecting light in a specific wavelength range. A membrane;
It is characterized by having.
【0038】本発明は、特定波長域光たとえば可視光を
反射して、その他の波長域の光たとえば熱線を透過し、
基体にその他の波長域の光たとえば熱線を吸収させ、基
体の背面側へ吸収した熱を放散させるようにした反射体
である。The present invention reflects light in a specific wavelength range, for example, visible light, and transmits light in other wavelength ranges, for example, heat rays,
This is a reflector that allows the base to absorb light in other wavelength ranges, for example, heat rays, and dissipates the absorbed heat to the back side of the base.
【0039】吸光膜は、チタンを主成分とする第1の層
およびクロムを主成分とする第2の層によって構成され
ている。The light absorbing film is composed of a first layer mainly composed of titanium and a second layer mainly composed of chromium.
【0040】光選択反射膜としては、既知の構成のもの
を用いることができる。たとえば、二酸化チタンTiO
2と二酸化ケイ素SiO2、またはフッ化マグネシウムM
gF2と二酸化ケイ素SiO2などの高低屈折率の薄膜を
交互に数ないし数十層重層して形成したものを用いるこ
とができる。As the light selective reflection film, a film having a known configuration can be used. For example, titanium dioxide TiO
2 and silicon dioxide SiO 2 or magnesium fluoride M
It is possible to use a thin film having a high or low refractive index, such as gF 2 and silicon dioxide SiO 2 , formed by alternately stacking several to several tens of layers.
【0041】そうして、本発明においては、反射体に入
射した光線のうち特定波長域光たとえば可視光は、光選
択膜で反射して所望方向へ照射される。熱線は、光選択
反射膜を透過して吸光膜に入射して吸収され、さらに基
体に伝熱して基体の温度を上昇させるが、基体の熱は主
として背面側から放射および対流によって放散される。Thus, in the present invention, light of a specific wavelength range, for example, visible light, of the light rays incident on the reflector is reflected by the light selective film and irradiated in a desired direction. The heat ray is transmitted through the light selective reflection film, is incident on the light absorbing film and is absorbed, and is further transferred to the substrate to raise the temperature of the substrate. However, the heat of the substrate is mainly radiated from the back side by radiation and convection.
【0042】本発明において、特定波長域光とは、可視
光に限定されるものではなく、たとえば紫外線であって
もよい。また、可視光または紫外線であっても、さらに
特定の狭い波長域の色光を反射するようにすることもで
きる。In the present invention, the specific wavelength region light is not limited to visible light, but may be, for example, ultraviolet light. In addition, even if the light is visible light or ultraviolet light, it can also reflect color light in a specific narrow wavelength range.
【0043】請求項5の発明の反射体は、基体と;主成
分がチタン化合物からなり基体の表面に形成された第1
の薄膜および主成分がクロム化合物からなり第1の薄膜
の上に形成された第1の薄膜の約2倍の光学的膜厚を有
する第2の薄膜を含む吸光膜と;多層干渉膜からなり吸
光膜の上に形成された光選択反射膜と;を具備している
ことを特徴としている。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a reflector comprising: a base; a first component formed of a titanium compound and formed on a surface of the base.
A light absorbing film including a second thin film having a thickness twice as large as the first thin film formed on the first thin film and having a main component formed of a chromium compound; and a multilayer interference film. And a light selective reflection film formed on the light absorption film.
【0044】本発明においては、吸光膜は、その第1の
層がチタン化合物を主成分とし、第2の層がクロム化合
物を主成分としている以外は基本的に請求項4と同様で
ある。In the present invention, the light absorbing film is basically the same as claim 4 except that the first layer has a titanium compound as a main component and the second layer has a chromium compound as a main component.
【0045】請求項6の発明の反射体は、請求項4また
は5記載の反射体において、基体の表面は、回転2次曲
面形状をなしていることを特徴としている。A reflector according to a sixth aspect of the present invention is the reflector according to the fourth or fifth aspect, wherein the surface of the base has a quadratic curved surface shape.
【0046】本発明は、反射体が回転2次曲面形状をな
しているので、主として白熱電球などのほぼ点光源と組
み合わせて用いる照明器具その他の照明装置に好適であ
る。The present invention is suitable for lighting equipment and other lighting devices mainly used in combination with an almost point light source such as an incandescent light bulb since the reflector has a rotating quadric surface shape.
【0047】請求項7の発明の反射体は、請求項4ない
し6のいずれか一記載の反射体において、チタン化合物
は、酸化チタンおよびまたは窒化チタンであり;クロム
化合物は、酸化クロムである;ことを特徴としている。The reflector according to the invention of claim 7 is the reflector according to any one of claims 4 to 6, wherein the titanium compound is titanium oxide and / or titanium nitride; and the chromium compound is chromium oxide; It is characterized by:
【0048】本発明は、副成分として実際的な材料を具
体的に示している。The present invention specifically illustrates practical materials as accessory components.
【0049】請求項8の発明の照明装置は、照明装置本
体と;照明装置本体に装着された請求項4ないし7のい
ずれか一記載の反射体と;放射を反射体に入射するよう
に照明装置本体に配設された光源と;を具備しているこ
とを特徴としている。According to an eighth aspect of the present invention, there is provided an illuminating device, comprising: an illuminating device main body; a reflector according to any one of claims 4 to 7 mounted on the illuminating device main body; And a light source provided in the apparatus main body.
【0050】本発明において、照明装置とは、光源の発
光を何らかの目的で利用する装置の全てに適応するもの
である。したがって、スポットライト、ダウンライトな
どの照明器具、光ファイバー照射装置、紫外線照射装
置、表示装置および標識装置などであってもよい。In the present invention, the lighting device is applied to any device that uses the light emitted from the light source for some purpose. Therefore, lighting devices such as spotlights and downlights, optical fiber irradiation devices, ultraviolet irradiation devices, display devices, and sign devices may be used.
【0051】[0051]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0052】図1は、本発明の光吸収体の一実施形態を
示す概念的断面図である。FIG. 1 is a conceptual sectional view showing an embodiment of the light absorber of the present invention.
【0053】図において、1は基体、2は吸光膜であ
る。In the figure, reference numeral 1 denotes a substrate, and 2 denotes a light absorbing film.
【0054】基体1は、アルミニウム板である。The base 1 is an aluminum plate.
【0055】吸光層2は、第1の薄膜2aおよび第2の
薄膜2bからなる。The light absorbing layer 2 includes a first thin film 2a and a second thin film 2b.
【0056】第1の薄膜2aは、チタンを主成分として
構成されている。The first thin film 2a is composed mainly of titanium.
【0057】第2の薄膜2bは、クロムを主成分として
構成されていて、その膜厚は第1の膜厚の約2倍であ
る。The second thin film 2b is composed mainly of chromium, and its thickness is about twice the first thickness.
【0058】図2は、図1に示す本発明の光吸収体の一
実施形態における吸光膜の反射率分布を基体の反射率と
比較しながら示すグラフである。FIG. 2 is a graph showing the reflectance distribution of the light absorbing film in one embodiment of the light absorber of the present invention shown in FIG. 1 in comparison with the reflectance of the substrate.
【0059】図において、横軸は波長(nm)を、縦軸
は反射率(%)を、それぞれ示す。In the figure, the horizontal axis represents the wavelength (nm) and the vertical axis represents the reflectance (%).
【0060】曲線Aは吸光膜2の第1の薄膜2aの光学
的膜厚が91nm、第2の薄膜2bの光学的膜厚が18
2nmの実施例の反射率分布である。The curve A indicates that the optical thickness of the first thin film 2a of the light absorbing film 2 is 91 nm and the optical thickness of the second thin film 2b is 18 nm.
It is a reflectance distribution of the Example of 2 nm.
【0061】曲線Bは、同じく第1の薄膜2aの光学的
膜厚が90nm、第2の薄膜2bの光学的膜厚が180
nmの実施例の反射率分布である。Curve B also shows that the optical thickness of the first thin film 2a is 90 nm and the optical thickness of the second thin film 2b is 180 nm.
5 is a reflectance distribution of an example in nm.
【0062】曲線Cは、同じく第1の薄膜2の光学的膜
厚が89.6nm、第2の薄膜2bの光学的膜厚が17
9nmの実施例の反射率分布である。Curve C also shows that the optical thickness of the first thin film 2 is 89.6 nm and the optical thickness of the second thin film 2b is 17
It is a reflectance distribution of the Example of 9 nm.
【0063】曲線Dは、基体1のアルミニウムの反射率
分布である。Curve D is the reflectance distribution of aluminum of the substrate 1.
【0064】図2から明らかなように、熱線として波長
1200〜2000nmの範囲内を除去すべき熱線とし
た場合、曲線Cの場合において200nn付近で若干2
0%を超えるが、全ての場合に良好な低反射率分布を示
した。反射率が低いということは、熱線の吸収が良好で
あることを示していることになる。As is clear from FIG. 2, when the heat rays to be removed in the wavelength range of 1200 to 2000 nm are slightly more than 200 nm near 200 nn in the case of the curve C.
Although it exceeded 0%, a good low reflectance distribution was exhibited in all cases. Low reflectance indicates good absorption of heat rays.
【0065】これに対して、基体1のアルミニウムのみ
では、90%以上熱線を反射することが分かる。On the other hand, it can be seen that only the aluminum of the substrate 1 reflects heat rays by 90% or more.
【0066】図3は、本発明の反射体の第1の実施形態
を示す概念的断面図である。FIG. 3 is a conceptual sectional view showing a first embodiment of the reflector of the present invention.
【0067】図において、図1と同一部分については同
一符号を付して説明は省略する。In the figure, the same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【0068】本実施形態は、図1の光吸収体の吸光膜2
の構成を変更するとともに、吸光膜2’の上に光選択反
射膜3を形成したものである。In this embodiment, the light absorbing film 2 of the light absorber shown in FIG.
And the light selective reflection film 3 is formed on the light absorption film 2 '.
【0069】吸光膜2’は、第1の薄膜2a’が二酸化
チタンTiO2を主成分とする材料からなり、また第2
の薄膜2b’が酸化クロムCr2O3を主成分とする材料
からなる。The light absorbing film 2 ′ has a structure in which the first thin film 2 a ′ is made of a material containing titanium dioxide TiO 2 as a main component.
Is made of a material mainly composed of chromium oxide Cr 2 O 3 .
【0070】光選択反射膜3は、酸化チタンを主成分と
する薄膜と二酸化ケイ素を主成分とする薄膜とを交互に
約10層重層してなる。The light selective reflection film 3 is formed by alternately laminating about 10 thin films mainly composed of titanium oxide and thin films mainly composed of silicon dioxide.
【0071】図中、1aは基体1の頂部に形成された光
源挿通孔である。In the figure, reference numeral 1a denotes a light source insertion hole formed at the top of the base 1.
【0072】図4は、本発明の反射体の第2の実施形態
を示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing a reflector according to a second embodiment of the present invention.
【0073】図において、図3と同一部分については同
一符号を付して説明は省略する。In the figure, the same parts as those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and the description is omitted.
【0074】本実施形態は、反射体が回転放物面形状を
なしている点において異なる。The present embodiment is different in that the reflector has a paraboloid of revolution.
【0075】図5は、本発明の照明装置の一実施形態で
あるスポットライトを示す一部断面正面図である。FIG. 5 is a partially sectional front view showing a spotlight which is an embodiment of the illumination device of the present invention.
【0076】図において、4はスポットライト本体、5
は反射体、6は光源である。In the figure, 4 is a spotlight body, 5
Is a reflector, and 6 is a light source.
【0077】スポットライト本体4は、基台4a、ヒン
ジ部4b、アーム4c、ソケット4d、反射体保護カバ
ー4eおよび前面透光カバー4fからなる。The spotlight body 4 includes a base 4a, a hinge 4b, an arm 4c, a socket 4d, a reflector protection cover 4e, and a front transparent cover 4f.
【0078】基台4aは、天井などの被取付面7に取り
付ける機能を備えている。The base 4a has a function of attaching to the attachment surface 7 such as a ceiling.
【0079】ヒンジ部4bは、基台4aに配設され、ア
ーム4cを所望の方向へ向けて設定することができる。The hinge 4b is provided on the base 4a, and can set the arm 4c in a desired direction.
【0080】ソケット4dは、アーム4cの先端に固着
されている。The socket 4d is fixed to the tip of the arm 4c.
【0081】反射体保護カバー4eは、ソケット4dの
周囲に一体に形成され、内部に反射体5を収納してい
る。The reflector protection cover 4e is integrally formed around the socket 4d, and houses the reflector 5 therein.
【0082】透光性カバー4fは、透明ガラス板からな
り、反射体保護カバー4eの開口端に装着されている。The translucent cover 4f is made of a transparent glass plate, and is attached to the opening end of the reflector protection cover 4e.
【0083】光源6は、その口金がソケット4dにねじ
込まれることによって装着されて反射体5のほぼ焦点位
置に配設される。The light source 6 is mounted by screwing the base into the socket 4d, and is disposed at a substantially focal position of the reflector 5.
【0084】[0084]
【発明の効果】請求項1ないし3の各発明によれば、チ
タンまたはチタン化合物を主成分とする第1の薄膜に対
して、クロムまたはクロム化合物を主成分とする第2の
薄膜の光学的膜厚を約2倍にすることにより、十分な光
吸収作用を維持しながら吸光膜の光学的膜厚を薄くして
成膜時間を短縮するとともに、成膜設備の清掃頻度を著
しく少なくして、低コストの光吸収体を提供することが
できる。According to the first to third aspects of the present invention, the optical characteristics of the second thin film mainly containing chromium or a chromium compound are different from those of the first thin film mainly containing titanium or a titanium compound. By doubling the film thickness, the optical film thickness of the light-absorbing film is reduced while maintaining a sufficient light absorbing action, thereby shortening the film forming time and significantly reducing the frequency of cleaning the film forming equipment. Thus, a low-cost light absorber can be provided.
【0085】請求項1の発明によれば、加えて第1の薄
膜がチタンを主成分とし、第2の薄膜がクロムを主成分
とする吸光膜を備えた光吸収体を提供することができ
る。According to the first aspect of the present invention, it is possible to provide a light absorber provided with a light absorbing film in which the first thin film contains titanium as a main component and the second thin film contains chromium as a main component. .
【0086】請求項2の発明によれば、加えて第1の薄
膜がチタン化合物を主成分とし、第2の薄膜がクロム化
合物を主成分とする吸光膜を備えた光吸収体を提供する
ことができる。According to the second aspect of the present invention, there is provided a light absorber provided with a light absorbing film in which the first thin film contains a titanium compound as a main component and the second thin film contains a chromium compound as a main component. Can be.
【0087】請求項3の発明によれば、加えてチタン化
合物およびクロム化合物の種類を具体的に規定した光吸
収体を提供することができる。According to the third aspect of the present invention, it is possible to provide a light absorber in which the types of the titanium compound and the chromium compound are specifically defined.
【0088】請求項4ないし7の各発明によれば、吸光
膜がチタンまたはチタン化合物を主成分とする第1の薄
膜に対して、クロムまたはクロム化合物を主成分とする
第2の薄膜の光学的膜厚を約2倍にすることにより、十
分な光吸収作用を維持しながら吸光膜の光学的膜厚を小
さくして成膜時間を短縮するとともに、成膜設備の清掃
頻度を著しく少なくして、低コストの多層干渉膜からな
る光選択反射膜を備えた反射体を提供することができ
る。According to each of the fourth to seventh aspects of the present invention, the optical absorption of the second thin film containing chromium or a chromium compound as the main component is different from that of the first thin film containing the titanium or titanium compound as the main component. By doubling the target film thickness, the optical film thickness of the light-absorbing film is reduced while maintaining a sufficient light absorbing action, thereby shortening the film forming time and significantly reducing the frequency of cleaning the film forming equipment. Thus, it is possible to provide a reflector provided with a light selective reflection film made of a low-cost multilayer interference film.
【0089】請求項4の発明によれば、加えて第1の薄
膜がチタンを主成分とし、第2の薄膜がクロムを主成分
とする吸光膜を備えた反射体を提供することができる。According to the fourth aspect of the present invention, it is possible to provide a reflector including a light absorbing film in which the first thin film contains titanium as a main component and the second thin film contains chromium as a main component.
【0090】請求項5の発明によれば、加えて第1の薄
膜がチタン化合物を主成分とし、第2の薄膜がクロム化
合物を主成分とする吸光膜を備えた反射体を提供するこ
とができる。According to the fifth aspect of the present invention, it is possible to provide a reflector including a light absorbing film in which the first thin film mainly contains a titanium compound and the second thin film mainly contains a chromium compound. it can.
【0091】請求項6の発明によれば、加えてチタン化
合物およびクロム化合物の種類を具体的に規定した反射
体を提供することができる。According to the sixth aspect of the present invention, it is possible to provide a reflector in which the types of the titanium compound and the chromium compound are specifically defined.
【0092】請求項7の発明によれば、加えて回転2次
曲面形状をなし、点光源を有する照明器具などの照明装
置用として好適な反射体を提供することができる。According to the seventh aspect of the present invention, it is possible to provide a reflector which has a revolving quadratic curved surface shape and is suitable for a lighting device such as a lighting fixture having a point light source.
【0093】請求項8の発明によれば、加えて請求項4
ないし6の効果を有する照明装置を提供することができ
る。According to the invention of claim 8, in addition to claim 4,
It is possible to provide a lighting device having the effects of the first to sixth aspects.
【図1】本発明の光吸収体の一実施形態を示す概念的断
面図FIG. 1 is a conceptual cross-sectional view showing one embodiment of a light absorber of the present invention.
【図2】図1に示す本発明の光吸収体の一実施形態にお
ける吸光膜の反射率を基体の反射率と比較しながら示す
グラフFIG. 2 is a graph showing the reflectance of a light absorbing film in one embodiment of the light absorber of the present invention shown in FIG. 1 while comparing it with the reflectance of a substrate.
【図3】本発明の反射体の第1の実施形態を示す概念的
断面図FIG. 3 is a conceptual sectional view showing a first embodiment of the reflector of the present invention.
【図4】本発明の反射体の第2の実施形態を示す断面図FIG. 4 is a sectional view showing a second embodiment of the reflector of the present invention.
【図5】本発明の照明装置の一実施形態におけるスポッ
トライトを示す一部断面正面図FIG. 5 is a partial cross-sectional front view showing a spotlight in one embodiment of the lighting device of the present invention.
1…基体 2…吸光膜 2a…第1の薄膜 2b…第2の薄膜 3…光選択反射膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate 2 ... Absorbing film 2a ... 1st thin film 2b ... 2nd thin film 3 ... Light selective reflection film
Claims (8)
面に形成された第1の薄膜および主成分がクロムからな
り第1の薄膜の上に形成された第1の薄膜の約2倍の光
学的膜厚を有する第2の薄膜を含む吸光膜と;を具備し
ていることを特徴とする光吸収体。A first thin film formed mainly on titanium and formed on the surface of the base; and approximately twice as large as a first thin film formed mainly on chromium and formed on the first thin film. A light absorbing film including a second thin film having an optical thickness of:
体の表面に形成された第1の薄膜および主成分がクロム
化合物からなり第1の薄膜の上に形成された第1の薄膜
の約2倍の光学的膜厚を有する第2の薄膜を含む吸光膜
と;を具備していることを特徴とする光吸収体。A first thin film formed on the surface of the base material, the first thin film formed of a chromium compound and formed on the first thin film; A light-absorbing film including a second thin film having twice the optical film thickness.
窒化チタンであり;クロム化合物は、酸化クロムであ
る;ことを特徴とする請求項2記載の光吸収体。3. The light absorber according to claim 2, wherein the titanium compound is titanium oxide and / or titanium nitride; and the chromium compound is chromium oxide.
面に形成された第1の薄膜および主成分がクロムからな
り第1の薄膜の上に形成された第1の薄膜の約2倍の光
学的膜厚を有する第2の薄膜を含む吸光膜と;多層干渉
膜からなり第2の薄膜の上に形成されて特定波長域光を
反射する光選択反射膜と;を具備していることを特徴と
する反射体。4. A substrate and a first thin film formed on the surface of the substrate, the main component being titanium, and approximately twice as large as a first thin film formed on the first thin film, the main component being chromium. A light absorbing film including a second thin film having an optical film thickness of: and a light selective reflection film formed of a multilayer interference film and formed on the second thin film and reflecting light in a specific wavelength range. A reflector, characterized in that:
体の表面に形成された第1の薄膜および主成分がクロム
化合物からなり第1の薄膜の上に形成された第1の薄膜
の約2倍の光学的膜厚を有する第2の薄膜を含む吸光膜
と;多層干渉膜からなり吸光膜の上に形成された特定波
長域光を反射する光選択反射膜と;を具備していること
を特徴とする反射体。5. A substrate comprising: a first thin film composed mainly of a titanium compound and formed on the surface of the substrate; and a first thin film composed mainly of a chromium compound and formed on the first thin film. A light absorbing film including a second thin film having twice the optical film thickness; and a light selective reflection film formed of a multilayer interference film and reflecting light in a specific wavelength region formed on the light absorbing film. A reflector, characterized in that:
いることを特徴とする請求項4または5記載の反射体。6. The reflector according to claim 4, wherein the surface of the base has a quadratic curved surface shape.
窒化チタンであり;クロム化合物は、酸化クロムであ
る;ことを特徴とする請求項5記載の反射体。7. The reflector according to claim 5, wherein the titanium compound is titanium oxide and / or titanium nitride; and the chromium compound is chromium oxide.
た請求項4ないし7のいずれか一記載の反射体と;放射
を反射体に入射するように照明装置本体に配設された光
源と;を具備していることを特徴とする照明装置。8. A lighting device body; a reflector according to any one of claims 4 to 7 mounted on the lighting device body; and a light source disposed on the lighting device body so that radiation is incident on the reflector. And a lighting device comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9158424A JPH117816A (en) | 1997-06-16 | 1997-06-16 | Light absorber, reflector and lighting system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9158424A JPH117816A (en) | 1997-06-16 | 1997-06-16 | Light absorber, reflector and lighting system |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH117816A true JPH117816A (en) | 1999-01-12 |
Family
ID=15671465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9158424A Pending JPH117816A (en) | 1997-06-16 | 1997-06-16 | Light absorber, reflector and lighting system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH117816A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007012777A (en) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Ushio Inc | Light irradiation apparatus |
JP2010272379A (en) * | 2009-05-21 | 2010-12-02 | Olympia Shomei Co Ltd | Lighting device |
-
1997
- 1997-06-16 JP JP9158424A patent/JPH117816A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007012777A (en) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Ushio Inc | Light irradiation apparatus |
JP2010272379A (en) * | 2009-05-21 | 2010-12-02 | Olympia Shomei Co Ltd | Lighting device |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060927 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061024 |
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