JPH1172316A - Measuring apparatus for flatness of ic lead - Google Patents

Measuring apparatus for flatness of ic lead

Info

Publication number
JPH1172316A
JPH1172316A JP23162597A JP23162597A JPH1172316A JP H1172316 A JPH1172316 A JP H1172316A JP 23162597 A JP23162597 A JP 23162597A JP 23162597 A JP23162597 A JP 23162597A JP H1172316 A JPH1172316 A JP H1172316A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead
lead ball
flatness
ball
slit plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23162597A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ryoichi Shimizu
良一 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
M C ELECTRON KK
Original Assignee
M C ELECTRON KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by M C ELECTRON KK filed Critical M C ELECTRON KK
Priority to JP23162597A priority Critical patent/JPH1172316A/en
Publication of JPH1172316A publication Critical patent/JPH1172316A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a flatness measuring apparatus by which the flatness of a lead ball at a ball grid array(BGA), a ship-scale package(CSP) or the like can be measured in a short time. SOLUTION: In this apparatus 1, one pair of parallel luminous fluxes 15a, 16a from right and left symmetric directions are shone at parts near top parts of respective lead balls 3(n) at an IC package BGA through linear slits 52(n), for light transmission, which the formed in a slit plate 5, and one pair of light spots are formed. An image on the surface of every lead ball on which the light spots are formed is imaged by a CCD camera or the like, and the center distance between the pair of light spots is found on the basis of the obtained image. The height of every lead ball 3(n) is found on the basis of the conter distance, and the flatness of every lead ball can be computed on the basiso f every height. The time required for an inspection can be shortened sharply as compared with a case in which the respective lead balls are scanned sequentially by a laser beam so as to measure the height of the respective lead balls.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はICリードの平坦度
を測定するためのICリードの平坦度計測装置に関し、
さらに詳しくは、ICチップを封止したパッケージ裏面
に球状のハンダからなるICリードがグリッド状に配列
された構成のICパッケージの平坦度を測定するのに適
したICリードの平坦度計測装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an IC lead flatness measuring apparatus for measuring the flatness of an IC lead.
More particularly, the present invention relates to an IC lead flatness measuring apparatus suitable for measuring the flatness of an IC package having a configuration in which spherical IC leads are arranged in a grid on the back surface of a package in which an IC chip is sealed. It is.

【0002】[0002]

【従来の技術】ICパッケージとしては、CSP(チッ
プ・スケール・パッケージ)、BGA(ボール・グリッ
ド・アレイ)と呼ばれる形式のものが知られている。こ
の形式のICパッケージは、LSIのベア・チップをプ
リント配線基板に載せて封止し、基板の裏面側からエリ
ア・アレイ(二次元マトリックス)状に配列された球状
のハンダからなるリード端子を形成した表面実装型パッ
ケージである。
2. Description of the Related Art There are known IC packages of a type called a CSP (chip scale package) or a BGA (ball grid array). In this type of IC package, a bare chip of an LSI is placed on a printed wiring board and sealed, and lead terminals formed of spherical solder arranged in an area array (two-dimensional matrix) form from the back side of the board. This is a surface mount type package.

【0003】この形式のICパッケージにおけるICリ
ード、すなわちリードボールの平坦度の測定方法として
は、レーザ変位計を用いて各リードボールの頂点の位置
(すなわち、高さ)を計測することにより行なう方法が
知られている。また、線状のレーザ光線をリードボール
に照射し、CCDカメラにより各リードボールを撮像
し、得られた画像を処理して各リードボールの高さを計
測する方法も知られている。
As a method of measuring the flatness of an IC lead, that is, a lead ball in an IC package of this type, a method is performed by measuring the position (ie, height) of the apex of each lead ball using a laser displacement meter. It has been known. There is also known a method of irradiating a lead laser beam with a linear laser beam, capturing an image of each lead ball with a CCD camera, and processing the obtained image to measure the height of each lead ball.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】一般的に使用されてい
るこれらの方法の欠点は、迅速な測定を行うことができ
ない点である。すなわち、上記の何れの方法において
も、点あるいは線状のレーザ光線を使用しているので、
全てのリードボールの寸法検査を行うためには、各リー
ドボールをレーザ光線によって逐次走査する必要があ
る。CSP、BGA等のICパッケージでは、マトリッ
クス状(グリッド状)に多数のリードボールが配列され
ているので、全てのリードボールをレーザ光線により逐
次走査する必要のある従来の寸法検査方法では検査時間
が掛かってしまう。さらに、リードボールの数が増加す
ると、それに伴って比例的に検査所要時間も増加してし
まう。
A disadvantage of these commonly used methods is that they do not allow rapid measurements. That is, in any of the above methods, since a point or linear laser beam is used,
In order to inspect the dimensions of all lead balls, it is necessary to sequentially scan each lead ball with a laser beam. In an IC package such as a CSP or BGA, a large number of lead balls are arranged in a matrix (grid shape). Therefore, in the conventional dimensional inspection method in which all lead balls need to be sequentially scanned by a laser beam, the inspection time is short. Hang on. Further, as the number of lead balls increases, the required inspection time also increases proportionately.

【0005】本発明の課題は、このような従来の寸法検
査方法の問題点に着目し、平坦度測定のための所要時間
を短縮可能なICリードの平坦度計測装置を提案するこ
とにある。
An object of the present invention is to provide an IC lead flatness measuring apparatus capable of shortening the time required for flatness measurement, focusing on the problems of such a conventional dimension inspection method.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明のICリードの平坦度測定装置は、等間隔
で平行に配列された複数本の光透過用の線状スリットを
備えたスリットプレートと、このスリットプレートの法
線に対して前記線状スリットの配列方向に沿って反対側
に同一角度傾斜した方向から平行光束を当該スリットプ
レートに照射する平行光束光源と、前記スリットプレー
トの光出射側の位置において測定対象のICパッケージ
をそのリードボール形成面が前記スリットプレートに平
行となるように保持するワークステージと、前記リード
ボール形成面に配列されている各リードボールの表面を
撮像する撮像手段と、当該撮像手段によって得られた画
像に基づき各リードボールの表面に形成された着光点の
中心間距離を求め、当該中心間距離に基づき各リードボ
ールの平坦度を計測する計測手段とを有する構成を採用
している。
In order to solve the above-mentioned problems, an apparatus for measuring flatness of an IC lead according to the present invention comprises a plurality of linear slits for transmitting light which are arranged in parallel at equal intervals. A slit plate, a parallel light source for irradiating the slit plate with a parallel light from a direction inclined at the same angle to the opposite side along the arrangement direction of the linear slits with respect to a normal line of the slit plate, and the slit plate A work stage for holding an IC package to be measured at a position on the light emitting side such that a lead ball forming surface thereof is parallel to the slit plate; and a surface of each lead ball arranged on the lead ball forming surface. Image pickup means for picking up an image, and a distance between centers of light-receiving points formed on the surface of each lead ball is obtained based on the image obtained by the image pickup means. It employs a configuration having a measuring means for measuring the flatness of each lead ball on the basis of the center-to-center distance.

【0007】ここにおいて、前記リードボールの頂点近
傍に一対の着光点が形成されるように前記スリットプレ
ートの位置を調整する位置決め手段を有していることが
望ましい。
Here, it is desirable to have a positioning means for adjusting the position of the slit plate so that a pair of light-receiving points is formed near the apex of the lead ball.

【0008】また、典型的な本発明の平坦度計測装置に
おいては、前記線状スリットのピッチが前記リードボー
ルのピッチのn倍(n:正の整数)とされる。この場
合、前記線状スリットの一つと当該線状スリットを通過
した一対の平行光束が投射される2個の前記リードボー
ルの各頂点とが二等辺三角形の各頂点に位置するよう
に、各線状スリットと各リードボールを位置合わせすれ
ばよい。
In a typical flatness measuring device of the present invention, the pitch of the linear slit is n times (n: a positive integer) the pitch of the lead ball. In this case, each of the linear slits and each vertex of the two lead balls onto which a pair of parallel light beams passing through the linear slit are projected is positioned at each vertex of an isosceles triangle. What is necessary is just to align a slit and each lead ball.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】図1は、本発明を適用したICリ
ードの平坦度計測装置の概略構成図である。この図を参
照して説明すると、本例のICリードの平坦度計測装置
1は、計測対象のICパッケージBGAが設置されるワ
ークステージ2を備え、ICパッケージBGAはそのI
Cリード形成面、即ちリードボール形成面3が下向きと
なるように当該ワークステージ2に設置される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an IC lead flatness measuring apparatus to which the present invention is applied. Referring to FIG. 1, an IC lead flatness measuring apparatus 1 according to the present embodiment includes a work stage 2 on which an IC package BGA to be measured is installed.
The C-lead formation surface, that is, the lead ball formation surface 3 is set on the work stage 2 so as to face downward.

【0010】このワークステージ2の直下には、スリッ
トプレート・ポジショナー4によって保持されたスリッ
トプレート5が位置している。このスリットプレート5
はICパッケージBGAのリードボール形成面3と平行
となるように配置されている。このスリットプレート5
の下方には、結像レンズを含む光学系6とCCDカメラ
7を含む撮像手段8が配置されている。この撮像手段8
の光軸8aは、ワークステージ2に設置されたICパッ
ケージBGAのリードボール形成面3の中心法線3aに
一致している。したがって、リードボール形成面3に対
して平行に配置されているスリットプレート5の中心法
線に一致している。
Immediately below the work stage 2, a slit plate 5 held by a slit plate positioner 4 is located. This slit plate 5
Are arranged parallel to the lead ball forming surface 3 of the IC package BGA. This slit plate 5
Below, an optical system 6 including an imaging lens and an imaging unit 8 including a CCD camera 7 are arranged. This imaging means 8
The optical axis 8a coincides with the center normal 3a of the lead ball forming surface 3 of the IC package BGA set on the work stage 2. Therefore, it coincides with the center normal line of the slit plate 5 arranged parallel to the lead ball forming surface 3.

【0011】CCDカメラ7によって得られた各リード
ボール3(n)(nは正の整数)の表面画像は、画像処
理装置11を介してデータ処理装置12に供給され、後
述のようにして、各リードボールの3(n)の高さが算
出され、この算出結果に基づき平坦度が求められる。求
まった平坦度計測値は、入出力装置13を介して出力さ
れる。
A surface image of each lead ball 3 (n) (n is a positive integer) obtained by the CCD camera 7 is supplied to a data processing device 12 via an image processing device 11, and is described below. The height of 3 (n) of each lead ball is calculated, and the flatness is obtained based on the calculation result. The obtained flatness measurement value is output via the input / output device 13.

【0012】一方、撮像手段8の両側には一対の平行光
束光源15、16が配置されている。これらの平行光束
光源15、16はリードボール形成面3の中心法線3a
を中心として左右対称の位置に配置されている。また、
これらの平行光束光源15、16から出射される平行光
束15a、16aは、中心法線3aに対して左右に同一
角度だけ傾斜した方向からスリットプレート5を照射す
る。典型的な傾斜角度は30〜40度の範囲内の値であ
り、本例では例えば30度の角度に設定されている。な
お、スリットプレート・ポジショナー4の下方位置に
は、LED照明光源17が配置されている。
On the other hand, a pair of parallel light sources 15 and 16 are arranged on both sides of the image pickup means 8. These parallel light sources 15 and 16 are connected to the center normal 3 a of the lead ball forming surface 3.
Are arranged at symmetrical positions with respect to the center. Also,
The parallel light beams 15a and 16a emitted from these parallel light sources 15 and 16 irradiate the slit plate 5 from directions inclined at the same angle to the left and right with respect to the center normal 3a. A typical inclination angle is a value within a range of 30 to 40 degrees, and is set to, for example, an angle of 30 degrees in this example. Note that an LED illumination light source 17 is disposed below the slit plate positioner 4.

【0013】図2は、スリットプレート5およびその周
辺部分を拡大して示す説明図である。スリットプレート
5は、透明なガラス基板51と、この表面に形成された
線状複数本の光透過用の線状スリット52(n)とを備
えている。各線状スリット52(n)は相互に平行で、
同一ピッチp1で形成されている。本例ではリードボー
ル3(n)のピッチp2と同一のピッチとされている。
各線状スリット52(n)は、一定の間隔で平行に形成
した一対の遮光マスク53(n)によって規定されてい
る。図から分かるように、各線状スリット52(n)の
間にも、光が透過する広幅スリット54(n)が形成さ
れている。
FIG. 2 is an explanatory view showing the slit plate 5 and its peripheral portion in an enlarged manner. The slit plate 5 includes a transparent glass substrate 51 and a plurality of linear slits 52 (n) for light transmission formed on the surface thereof. Each linear slit 52 (n) is parallel to each other,
They are formed at the same pitch p1. In this example, the pitch is the same as the pitch p2 of the lead ball 3 (n).
Each linear slit 52 (n) is defined by a pair of light shielding masks 53 (n) formed in parallel at regular intervals. As can be seen from the figure, a wide slit 54 (n) through which light passes is also formed between the linear slits 52 (n).

【0014】ここで、各線状スリット52(n)と、こ
こを透過する一対の平行光束15a、16aが投射され
る隣接する2個のリードボール3(n)、3(n+1)
の頂点とが、正三角形の各頂点に位置するように、スリ
ットプレート5が、スリットプレート・ポジショナー4
によって位置決めされている。この結果、各線状スリッ
ト52(n)の間の広幅スリット54(n)を介して、
スリットプレート5の下側からは各リードボール3
(n)の頂点を含む表面部分を望むことができる。
Here, each linear slit 52 (n) and two adjacent lead balls 3 (n) and 3 (n + 1) on which a pair of parallel light beams 15a and 16a passing therethrough are projected.
Are positioned at each vertex of the equilateral triangle.
Is positioned by As a result, via the wide slit 54 (n) between each linear slit 52 (n),
From the lower side of the slit plate 5, each lead ball 3
A surface portion including the vertex of (n) can be desired.

【0015】このように構成した本例の平坦度計測装置
1によるリードボールの平坦度の計測動作およびその原
理を説明する。まず、計測対象のICパッケージBGA
をワークステージ2に乗せる。次に、CCDカメラ7か
ら得られる情報に基づき、ICパッケージBGAの姿勢
に合わせて、スリットプレート・ポジショナー4によっ
てスリットプレート5の姿勢を修正して、各線状スリッ
ト52(n)を通過した細光が正しく各リードボール3
(n)の頂点近傍を照射するように設定する。この修正
動作においては、LED照明光源17を点灯して、CC
Dカメラ7によってICパッケージBGAの姿勢を確認
する。
The operation of measuring the flatness of a lead ball by the flatness measuring apparatus 1 of the present embodiment thus configured and its principle will be described. First, the IC package BGA to be measured
On work stage 2. Next, based on the information obtained from the CCD camera 7, the attitude of the slit plate 5 is corrected by the slit plate positioner 4 in accordance with the attitude of the IC package BGA, and the fine light passing through each linear slit 52 (n) is corrected. Correctly each lead ball 3
(N) is set so as to irradiate the vicinity of the vertex. In this correction operation, the LED illumination light source 17 is turned on and CC
The posture of the IC package BGA is confirmed by the D camera 7.

【0016】スリットプレート5の姿勢を調整した後
は、LED照明光源17を消して、代わりに、一対の平
行光束光源15、16を点灯する。図2から分かるよう
に、各線状スリット52(n)を通過した光源15、1
6からの平行光束15a、16aの細光は各リードボー
ル3(n)の頂点近傍を照射する。この結果、各リード
ボール3(n)の頂点近傍には、平行光束15a、16
aによる一対の光スポット(着光点)が形成される。し
たがって、例えば、一対の光スポットが一致する位置に
頂点が位置しているリードボールの高さを基準高さとす
れば、一対の光スポットの中心間距離に基づき、各リー
ドボール3(n)の基準高さに対する高低差を算出で
き、算出した高低差に基づき、リードボールの平坦度を
求めることができる。
After the posture of the slit plate 5 is adjusted, the LED illumination light source 17 is turned off, and the pair of parallel light sources 15 and 16 are turned on instead. As can be seen from FIG. 2, the light sources 15, 1 passing through the respective linear slits 52 (n).
The fine light of the parallel light fluxes 15a and 16a from 6 irradiates the vicinity of the vertex of each lead ball 3 (n). As a result, near the apex of each lead ball 3 (n), the parallel luminous flux 15a, 16
A pair of light spots (lighting points) are formed by the pattern a. Therefore, for example, if the height of the lead ball whose vertex is located at a position where the pair of light spots coincides is set as the reference height, the height of each lead ball 3 (n) is determined based on the distance between the centers of the pair of light spots. The height difference with respect to the reference height can be calculated, and the flatness of the lead ball can be obtained based on the calculated height difference.

【0017】図3は、リードボールの高さの算出方法を
示す説明図である。基準高さのリードボール3(n)で
は、その表面を照射する一対の平行光束15a、16a
は、丁度、リードボール3(n)の頂点31を照射し
て、そこに一つに重なった光スポット15c、16cを
形成する。これに対して、基準高さよりも低いリードボ
ール3(n−1)の場合には、その頂点32を中心とし
た一対の光スポット15c’、16c’が形成される。
図においてはそれらの光スポット15c’、16c’の
中心間距離をC’で示してある。逆に、基準高さよりも
高いリードボール3(n+1)の場合には、その頂点3
3を中心として、右側に光スポット16c”が形成さ
れ、左側に光スポット15c”が形成される。図におい
てはこれらの中心間距離をCで示してある。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a method of calculating the height of the lead ball. In the lead ball 3 (n) having the reference height, a pair of parallel light beams 15a, 16a
Just irradiates the apex 31 of the lead ball 3 (n) to form light spots 15c and 16c that are overlapped therewith. On the other hand, in the case of the lead ball 3 (n-1) lower than the reference height, a pair of light spots 15c 'and 16c' centering on the vertex 32 are formed.
In the figure, the distance between the centers of the light spots 15c 'and 16c' is indicated by C '. Conversely, in the case of the lead ball 3 (n + 1) higher than the reference height, the top 3
3, a light spot 16c "is formed on the right side, and a light spot 15c" is formed on the left side. In the figure, these center-to-center distances are indicated by C.

【0018】リードボールの半径をRとし、基準高さよ
りも低いリードボール3(n−1)の表面に形成された
光スポット15c’、16c’から基準高さ位置までの
距離をH’とし、頂点32から光スポット15c’、1
6c’までの距離をh’とすれば、リードボール3(n
−1)の頂点32から基準高さ位置までの距離は(H’
−h’)となる。ここで、各距離H’、h’は式
(1)、(2)で表される。
The radius of the lead ball is R, the distance from the light spots 15c ', 16c' formed on the surface of the lead ball 3 (n-1) lower than the reference height to the reference height position is H ', Light spot 15c 'from vertex 32, 1
If the distance to 6c ′ is h ′, the lead ball 3 (n
The distance from the vertex 32 of (-1) to the reference height position is (H ′)
−h ′). Here, the distances H ′ and h ′ are represented by Expressions (1) and (2).

【0019】[0019]

【数1】 (Equation 1)

【0020】したがって、リードボール3(n−1)の
頂点の32が基準高さ位置からどの程度低いのかを算出
できる。
Accordingly, it is possible to calculate how low the vertex 32 of the lead ball 3 (n-1) is from the reference height position.

【0021】同様に、基準高さ位置よりも高いリードボ
ール3(n+1)の場合においても、リードボール3
(n)の半径をRとし、基準高さよりも低いリードボー
ル3(n+1)の表面に形成された光スポット15
c”、16c”から基準高さ位置までの距離をHとし、
頂点33から光スポット15c”、16c”までの距離
をhとすれば、リードボール3(n+1)の頂点33か
ら基準高さ位置までの距離は(H+h)となる。ここ
で、各距離H、hは式(3)、(4)で表される。
Similarly, in the case of the lead ball 3 (n + 1) higher than the reference height position,
The light spot 15 formed on the surface of the lead ball 3 (n + 1) having a radius of (n) smaller than R and having a radius lower than the reference height.
Let H be the distance from c ″, 16c ″ to the reference height position,
Assuming that the distance from the vertex 33 to the light spots 15c ″ and 16c ″ is h, the distance from the vertex 33 of the lead ball 3 (n + 1) to the reference height position is (H + h). Here, the distances H and h are represented by Expressions (3) and (4).

【0022】[0022]

【数2】 (Equation 2)

【0023】したがって、リードボール3(n+1)の
頂点の33が基準高さ位置からどの程度高いのかを算出
できる。
Therefore, it is possible to calculate how high the vertex 33 of the lead ball 3 (n + 1) is from the reference height position.

【0024】ここで、光スポット15c、16cの中心
間距離CとC’が同一の場合においても、光スポット1
5c’、16c’の形成位置は、光スポット15c”、
16c”の形成位置に対して左右逆となるので、例え
ば、平行光束光源15、16を交互に点灯すれば、リー
ドボールが基準高さ位置よりも高いのか低いのかを判別
できる。
Here, even if the distances C and C 'between the centers of the light spots 15c and 16c are the same, the light spot 1
The formation positions of 5c 'and 16c' are light spots 15c ",
Since the left and right sides are reversed with respect to the formation position of 16c ″, for example, by turning on the parallel light sources 15 and 16 alternately, it is possible to determine whether the lead ball is higher or lower than the reference height position.

【0025】次に、上記の平坦度計測装置では、リード
ボール3(n)のピッチP2と線状スリット52(n)
のピッチP1を同一としてある。しかし、この場合、リ
ードボールのピッチが小さくなると、それに伴って形成
すべきスリットプレート5のスリットパターンも微細に
する必要があり、その製作が困難になる。このような場
合には、線状スリット52(n)のピッチP1を、リー
ドボール3(n)のピッチP2の整数倍とすればよい。
例えば、図4に示すように、2倍とすればよい。
Next, in the above flatness measuring device, the pitch P2 of the lead ball 3 (n) and the linear slit 52 (n)
Have the same pitch P1. However, in this case, as the pitch of the lead balls becomes smaller, it is necessary to make the slit pattern of the slit plate 5 to be formed finer accordingly, which makes the production difficult. In such a case, the pitch P1 of the linear slits 52 (n) may be set to an integral multiple of the pitch P2 of the lead balls 3 (n).
For example, as shown in FIG.

【0026】このようにすれば、リードボール3(n)
のピッチP2が小さい場合でも、線状スリット52
(n)のピッチP1を広くしておくことができる。この
場合には、図に示す状態で計測を行い、次に、スリット
プレート5をリードボールのピッチP2だけ横に移動さ
せ、再度計測を行えば、全てのリードボールについての
計測を行うことができる。
By doing so, the lead ball 3 (n)
Even if the pitch P2 of the linear slit 52 is small.
The pitch P1 of (n) can be widened. In this case, the measurement is performed in the state shown in the figure, and then the slit plate 5 is moved laterally by the pitch P2 of the lead balls, and the measurement is performed again, whereby the measurement for all the lead balls can be performed. .

【0027】また、このように線状スリット52(n)
のピッチP1を広くすると、それらの間に形成される広
幅スリット54(n)の幅wも、リードボール径Dに比
べて充分に広くすることができる。この結果、リードボ
ールの2次元計測(平面計測)も同時に行うことが可能
になる。
Also, as described above, the linear slit 52 (n)
Is widened, the width w of the wide slit 54 (n) formed therebetween can be made sufficiently wider than the lead ball diameter D. As a result, two-dimensional measurement (planar measurement) of the lead ball can be performed at the same time.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のICリー
ドの平坦度計測装置によれば、各リードボールの頂点近
傍に形成された平行光束による一対の光スポットをCC
Dカメラ等の撮像手段によって撮像し、それらの中心間
距離を算出すれば、各リードボールの高さを求め、求ま
った各リードボールの高さに基づきその平坦度を求める
ことができる。従って、レーザ光線を各リードボールに
対して逐次走査してそれらの高さを計測する場合に比べ
て、レーザ光線の走査時間が不要となるので、検査所要
時間を大幅に短縮できる。
As described above, according to the apparatus for measuring flatness of an IC lead of the present invention, a pair of light spots formed by a parallel light flux formed near the apex of each lead ball is subjected to CC.
If an image is taken by an imaging means such as a D camera and the distance between the centers is calculated, the height of each lead ball can be obtained, and the flatness can be obtained based on the obtained height of each lead ball. Therefore, the time required for the inspection can be greatly reduced since the scanning time of the laser beam is not required as compared with the case where the height of the lead balls is measured by sequentially scanning the lead balls with the laser beam.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を適用したICリードの平坦度計測装置
の概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an IC lead flatness measuring apparatus to which the present invention is applied.

【図2】図1のスリットプレートおよびその周辺部分を
拡大しして示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing an enlarged view of a slit plate of FIG. 1 and a peripheral portion thereof;

【図3】図1の装置によるリードボールの高さ算出原理
を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory view showing a principle of calculating a height of a lead ball by the apparatus of FIG. 1;

【図4】図1の平坦度計測装置の変形例を示す主要部分
の説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a main part showing a modification of the flatness measuring device of FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ICリードの平坦度計測装置 2 ワークステージ 3 リードボール形成面 3(n) リードボール 3a リードボール形成面の中心法線 4 スリットプレート・ポジショナー 5 スリットプレート 6 光学系 7 CCDカメラ 8 撮像手段 15、16 平行光束光源 15a、16a 平行光束 15c、16c 光スポット 11 画像処理装置 12 データ処理装置 13 入出力装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Flatness measuring device of IC lead 2 Work stage 3 Lead ball forming surface 3 (n) Lead ball 3a Center normal of lead ball forming surface 4 Slit plate / positioner 5 Slit plate 6 Optical system 7 CCD camera 8 Imaging means 15, Reference Signs List 16 parallel light source 15a, 16a parallel light 15c, 16c light spot 11 image processing device 12 data processing device 13 input / output device

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 等間隔で平行に配列された複数本の光透
過用の線状スリットを備えたスリットプレートと、この
スリットプレートの法線に対して前記線状スリットの配
列方向に沿って反対側に同一角度傾斜した方向から平行
光束を当該スリットプレートに照射する平行光束光源
と、前記スリットプレートの光出射側の位置において測
定対象のICパッケージをそのリードボール形成面が前
記スリットプレートに平行となるように保持するワーク
ステージと、前記リードボール形成面に配列されている
各リードボールの表面を撮像する撮像手段と、当該撮像
手段によって得られた画像に基づき各リードボールの表
面に形成された着光点の中心間距離を求め、当該中心間
距離に基づき各リードボールの平坦度を計測する計測手
段とを有することを特徴とするICリードの平坦度計測
装置。
1. A slit plate having a plurality of linear slits for light transmission arranged in parallel at equal intervals, and opposed to a normal line of the slit plate along an arrangement direction of the linear slits. A parallel light source that irradiates a parallel light beam to the slit plate from a direction inclined by the same angle to the side, and an IC package to be measured at a position on the light emission side of the slit plate, where a lead ball forming surface thereof is parallel to the slit plate. A work stage to be held, imaging means for imaging the surface of each lead ball arranged on the lead ball forming surface, and a work stage formed on the surface of each lead ball based on an image obtained by the imaging means. Measuring means for determining the distance between the centers of the light-receiving points and measuring the flatness of each lead ball based on the distance between the centers. IC lead flatness measuring device.
【請求項2】 請求項1において、前記リードボールの
頂点近傍に着光点が形成されるように前記スリットプレ
ートの位置を調整する位置決め手段を有していることを
特徴とするICリードの平坦度計測装置。
2. The flatness of an IC lead according to claim 1, further comprising positioning means for adjusting a position of the slit plate so that a light spot is formed near a vertex of the lead ball. Degree measuring device.
【請求項3】 請求項1または2において、前記線状ス
リットのピッチは前記リードボールのピッチのn倍
(n:正の整数)であることを特徴とするICリードの
平坦度計測装置。
3. The IC lead flatness measuring device according to claim 1, wherein a pitch of the linear slit is n times (n: a positive integer) of a pitch of the lead ball.
【請求項4】 請求項3において、前記線状スリットの
一つと当該線状スリットを通過した一対の平行光束が投
射される2個の前記リードボールの各頂点とが二等辺三
角形の各頂点に位置するように、各線状スリットと各リ
ードボールが位置合わせされていることを特徴とするI
Cリードの平坦度計測装置。
4. The device according to claim 3, wherein one of the linear slits and each vertex of the two lead balls onto which a pair of parallel light beams passing through the linear slit are projected are each vertex of an isosceles triangle. Each linear slit and each lead ball are aligned so as to be positioned.
C-lead flatness measuring device.
JP23162597A 1997-08-28 1997-08-28 Measuring apparatus for flatness of ic lead Pending JPH1172316A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23162597A JPH1172316A (en) 1997-08-28 1997-08-28 Measuring apparatus for flatness of ic lead

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23162597A JPH1172316A (en) 1997-08-28 1997-08-28 Measuring apparatus for flatness of ic lead

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1172316A true JPH1172316A (en) 1999-03-16

Family

ID=16926448

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23162597A Pending JPH1172316A (en) 1997-08-28 1997-08-28 Measuring apparatus for flatness of ic lead

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1172316A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100472966B1 (en) * 2002-05-22 2005-03-08 성우테크론 주식회사 Flatness level inspection apparatus and method of the ball grid array package
US6954274B2 (en) 2001-03-30 2005-10-11 Nec Electronics Corporation Method of inspecting semiconductor integrated circuit which can quickly measure a cubic body
CN102168957A (en) * 2011-06-01 2011-08-31 普莱默电子(无锡)有限公司 Planeness detecting device for surface-mounted welding plates of electron components
CN102661726A (en) * 2012-05-14 2012-09-12 北京林业大学 Flatness detecting device based on information fusion technology
CN103785956A (en) * 2014-02-11 2014-05-14 哈尔滨工业大学 Laser drilling device capable of automatically detecting highest point position of sphere and drilling method

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6954274B2 (en) 2001-03-30 2005-10-11 Nec Electronics Corporation Method of inspecting semiconductor integrated circuit which can quickly measure a cubic body
KR100472966B1 (en) * 2002-05-22 2005-03-08 성우테크론 주식회사 Flatness level inspection apparatus and method of the ball grid array package
CN102168957A (en) * 2011-06-01 2011-08-31 普莱默电子(无锡)有限公司 Planeness detecting device for surface-mounted welding plates of electron components
CN102661726A (en) * 2012-05-14 2012-09-12 北京林业大学 Flatness detecting device based on information fusion technology
CN103785956A (en) * 2014-02-11 2014-05-14 哈尔滨工业大学 Laser drilling device capable of automatically detecting highest point position of sphere and drilling method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6330162B2 (en) Bonding apparatus and method for detecting height of bonding object
CN1264493A (en) Method and apparatus for chip placement
US11953314B2 (en) Imaging device, bump inspection device, and imaging method
EP1756513B1 (en) A method and a system for height triangulation measurement
CN1264169A (en) Device and method for testing integral circuit packaging pin welding
JP2007139676A (en) Device and method for inspecting substrate
JP2008196974A (en) Device and method for measuring height of projection object
JP3144661B2 (en) Three-dimensional electrode appearance inspection device
JPH1172316A (en) Measuring apparatus for flatness of ic lead
JP3978507B2 (en) Bump inspection method and apparatus
JP2000074845A (en) Bump inspection method and bump inspection device
WO1997044634A1 (en) Device for inspecting terminals of semiconductor package
JP2017194418A (en) Projection device, measurement device, and method for manufacturing article
JP2017009514A (en) Protrusion inspection device and bump inspection device
JP2877061B2 (en) Coplanarity inspection equipment
JP3823488B2 (en) IC lead float inspection device and inspection method
JP3897203B2 (en) Ball grid array ball height measurement method
JPH104055A (en) Automatic focusing device and manufacture of device using it
JP2002267415A (en) Semiconductor measuring instrument
JPS62265506A (en) Inspecting device for package of parts
JP2002081924A (en) Three-dimensional measuring device
JP2659704B2 (en) Exposure equipment
JPS63308509A (en) Inspecting apparatus for pin shape for lsi
JP3264048B2 (en) Appearance inspection device
JP3195940B2 (en) Semiconductor laser device inspection method and inspection device