JPH117003A - Manufacture of liquid crystal display element - Google Patents

Manufacture of liquid crystal display element

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JPH117003A
JPH117003A JP15954697A JP15954697A JPH117003A JP H117003 A JPH117003 A JP H117003A JP 15954697 A JP15954697 A JP 15954697A JP 15954697 A JP15954697 A JP 15954697A JP H117003 A JPH117003 A JP H117003A
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JP
Japan
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liquid crystal
substrates
substrate
pair
crystal display
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Application number
JP15954697A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Kabe
正章 加邊
Mitsuhiro Kouden
充浩 向殿
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Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Publication of JPH117003A publication Critical patent/JPH117003A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the manufacture of the liquid crystal display element which does not be affected in its pixels by photosensitive resin and has no deterioration of the performance of the liquid crystal by partially forming the photosensitive resin without using any adhesive such as a sealant and adhering a couple of substrates. SOLUTION: A liquid crystal material 2 with which a photosensitive material is mixed is applied or dripped on the electrode side of at least one substrate between a couple of substrates and after spacers 8 are scattered on the electrode side of the substrate 1', the substrates 1 and 1' are put one over the other with the electrodes in; and the substrates 1 and 1' after being exposed through a mask while pressed are gradually cooled to cause the phase separation of the liquid crystal and photosensitive material, photosensitive resin is formed at the part irradiated with light through the mask exposure, and the substrates 1 and 1' are adhered together to manufacture the liquid crystal display element.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、様々なディスプレ
イに応用される液晶表示素子の製造方法に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device applied to various displays.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、ネマチック液晶材料を用いた液晶
表示素子には、TFT,STN,IPS等の様々な表示
方式のものが存在する。一方、ネマチック液晶材料を用
いずスメクチック材料を用いたものとしては、強誘電性
液晶材料を用いた液晶表示素子や反強誘電性液晶材料を
用いた液晶表示素子がある。
2. Description of the Related Art At present, there are various types of liquid crystal display devices using a nematic liquid crystal material, such as TFT, STN, and IPS. On the other hand, as a device using a smectic material instead of a nematic liquid crystal material, there are a liquid crystal display device using a ferroelectric liquid crystal material and a liquid crystal display device using an antiferroelectric liquid crystal material.

【0003】これらの液晶材料を用いたいずれの液晶表
示素子の製造工程においても、まず、一方の基板に液晶
注入口を残してシール剤を形成し、もう一方の基板にス
ペーサーを散布した後、両基板を貼り合わせてシール剤
を硬化させセルを作製した。そして、このセルを真空容
器内に配置し、セル内を真空にした後、注入口を液晶だ
めに接触させてから、真空容器内を大気圧に戻すること
により、毛細管現象を利用して、スペーサーによって保
たれた基板間の隙間に液晶を注入していた。
In the manufacturing process of any of the liquid crystal display devices using these liquid crystal materials, first, a sealant is formed while leaving a liquid crystal injection port on one substrate, and a spacer is sprayed on the other substrate. The two substrates were attached to each other to cure the sealant, thereby producing a cell. Then, this cell is placed in a vacuum vessel, and after the inside of the cell is evacuated, the inlet is brought into contact with the liquid crystal reservoir, and then the inside of the vacuum vessel is returned to atmospheric pressure, utilizing the capillary phenomenon. Liquid crystal was injected into the gap between the substrates held by the spacer.

【0004】しかしながら、近年、ディスプレイの大型
化に伴い、注入時間が飛躍的に増大し、これがディスプ
レイの生産の律速となっている。
[0004] However, in recent years, as the size of the display has increased, the injection time has dramatically increased, and this has become a rate-limiting factor in the production of the display.

【0005】これを回避する方法として、図14に示す
ように、一方の基板101’にスペーサー108を散布
した後に液晶102を塗布し、もう一方の基板101に
は紫外線硬化型接着剤103を点線状に形成し、これら
の基板101,101’を真空中で圧着することで液晶
を充填し、その後大気圧に復帰させてから、ガラス圧着
側から紫外光を照射して接着剤を硬化させ、液晶表示素
子を作製する方法が提案されている(特開昭62−16
5622号公報参照)。この方法によれば、液晶材料の
注入時間を短縮することができる。
As a method of avoiding this, as shown in FIG. 14, a liquid crystal 102 is applied after dispersing a spacer 108 on one substrate 101 ', and an ultraviolet curable adhesive 103 is applied on the other substrate 101 by a dotted line. The substrates 101 and 101 ′ are press-bonded in a vacuum to fill the liquid crystal, and then returned to the atmospheric pressure. Then, the adhesive is cured by irradiating ultraviolet light from the glass press-bonding side. A method for manufacturing a liquid crystal display element has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 62-16 / 1987).
No. 5622). According to this method, the injection time of the liquid crystal material can be reduced.

【0006】また、この他、図15に示すように、一方
の基板111に逃げ穴113を有するシール剤114を
形成し、もう一方の基板111’には、シール剤114
の内側になるように、印刷により液晶膜112を形成
し、これら両基板111,111’を貼り合わせてシー
ル剤114を硬化させ、液晶表示素子を作製するという
方法も提案されている(特許登録第2535506号公
報参照)。この方法の特徴は、シール剤114の内側
に位置するように液晶膜112を形成すること、逃げ
穴113を設けてシール剤を形成するため、基板11
1,111’の貼り合わせ時に基板間に入る気泡を逃げ
穴113から外部へ逃すことが可能であり、大気中で基
板の貼り合わせができること、などが挙げられる。
In addition, as shown in FIG. 15, a sealant 114 having an escape hole 113 is formed on one substrate 111, and a sealant 114 is formed on the other substrate 111 '.
A method has been proposed in which a liquid crystal film 112 is formed by printing so as to be inside the substrate, the substrates 111 and 111 'are bonded together, and the sealant 114 is cured to produce a liquid crystal display element (patent registration). No. 2,535,506). The feature of this method is that the liquid crystal film 112 is formed so as to be located inside the sealant 114, and the escape agent 113 is provided to form the sealant.
For example, the air bubbles entering between the substrates can be released to the outside through the escape holes 113 at the time of bonding the substrates 1 and 111 ′, and the substrates can be bonded in the air.

【0007】これら以外に、図16に示すように、基板
121,121’を楔形に配置し、その基板間に液晶材
料、光重合性組成物、及び光重合開始剤を含む材料12
2を、供給ノズル123を用いて注入しながら、図16
(1)〜(2)〜(3)〜(4)と順次基板121,1
21’をほぼ平行にして貼り合わせる方法も提案されて
いる(特開平5−53098号公報参照)。この方法で
は、この後に紫外線を照射して、液晶層内に均一な三次
元のポリマーネットワークを形成するというものであ
る。
In addition, as shown in FIG. 16, substrates 121 and 121 'are arranged in a wedge shape, and a material 12 containing a liquid crystal material, a photopolymerizable composition, and a photopolymerization initiator is interposed between the substrates.
2 was injected using the supply nozzle 123 while FIG.
(1)-(2)-(3)-(4) and the substrates 121, 1 in that order.
A method has also been proposed in which the layers 21 'are bonded substantially parallel to each other (see JP-A-5-53098). In this method, ultraviolet rays are subsequently irradiated to form a uniform three-dimensional polymer network in the liquid crystal layer.

【0008】さらに、特開平8−160437号公報に
は、一方の基板に間隙材(スペーサー)と光重合性組成
物を含む液晶組成物を載せ、もう一方の基板を用いて間
隙材で決定される間隙まで圧延した後、光を照射するこ
とによって高分子分散型液晶層を形成し、これにより両
基板を接着するという液晶表示素子の製造方法が記載さ
れている。
Further, in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-160437, a liquid crystal composition containing a gap material (spacer) and a photopolymerizable composition is placed on one substrate, and is determined by the gap material using the other substrate. A method for manufacturing a liquid crystal display element is described in which a polymer-dispersed liquid crystal layer is formed by irradiating light after rolling to a gap, thereby bonding the two substrates together.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術では以下のような問題があった。上記の特開昭6
2−165622号公報に記載されたような液晶表示素
子の製造方法では、液晶が未硬化の紫外線硬化型接着剤
と接触するため、イオン等の不純物が液晶に混入され
て、表示不良の原因となっていた。
However, the above prior art has the following problems. JP-A-6
In the method of manufacturing a liquid crystal display element described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-165622, since the liquid crystal comes into contact with an uncured ultraviolet-curable adhesive, impurities such as ions are mixed into the liquid crystal, which may cause display defects. Had become.

【0010】特許登録第2535506号公報に記載さ
れたような液晶表示素子の製造方法では、シール剤の内
側になるように液晶膜を形成しても、貼り合わせたとき
に、液晶が未硬化のシール剤と接触するため、やはり同
様の原因で表示不良が起こった。また、液晶膜の印刷の
範囲を工夫し、貼り合わせたときに液晶がシール剤と接
触しないようにしても、シール剤と液晶との間に空気が
存在するため、それによる気泡が移動して表示不良を引
き起こした。
In the method of manufacturing a liquid crystal display element as described in Japanese Patent No. 2535506, even if a liquid crystal film is formed so as to be inside a sealant, the liquid crystal is uncured when bonded. Because of the contact with the sealant, display failure also occurred for the same reason. Also, even if the printing range of the liquid crystal film is devised so that the liquid crystal does not come into contact with the sealant when they are bonded together, air is present between the sealant and the liquid crystal, so that bubbles move due to the air. Caused display failure.

【0011】また、特開平5−53098号公報に記載
されたような液晶表示素子の製造方法では、液晶内部に
ポリマーネットワークを形成するものであり、このた
め、液晶の応答速度が遅くなるという欠点があった。さ
らに、これにより得られる液晶表示素子では、液晶が周
囲の空気に接触しているため、液晶が劣化しやすかっ
た。また、そのような劣化を防ぐために、封止剤を周囲
に塗布した場合、未硬化の封止剤が、ポリマーネットワ
ークの液晶と接触してしまい、表示不良の原因となっ
た。
In the method of manufacturing a liquid crystal display device as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-53098, a polymer network is formed inside the liquid crystal, and the response speed of the liquid crystal is reduced. was there. Furthermore, in the liquid crystal display device obtained by this, the liquid crystal was easily deteriorated because the liquid crystal was in contact with the surrounding air. In addition, when a sealant is applied to the periphery to prevent such deterioration, the uncured sealant comes into contact with the liquid crystal of the polymer network, causing display failure.

【0012】そして、特開平8−160437号公報の
ものでは、光の照射により、基板全面に高分子を形成
し、両基板を接着するようにしている。このように基板
全面に高分子を形成する方法は、高分子分散型液晶には
有効ではあるが、一般の透過型のTN(ツイスト・ネマ
チック)液晶やSTN(スーパー・ツイスト・ネマチッ
ク)液晶では画素内部にも高分子が形成されてしまうた
め、光が散乱してしまい、これらの液晶材料に用いるこ
とができない。
In Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 8-160437, a polymer is formed on the entire surface of the substrate by irradiating light, and the two substrates are bonded to each other. Although the method of forming a polymer on the entire surface of the substrate is effective for polymer-dispersed liquid crystal, it is effective for general transmission type TN (twisted nematic) liquid crystal and STN (super twisted nematic) liquid crystal. Since a polymer is also formed inside, light is scattered and cannot be used for these liquid crystal materials.

【0013】本発明は、上記のような課題を解決するた
めになされたものであって、シール剤等の接着剤を用い
ずに、感光性樹脂を部分的に形成して、一対の基板を接
着することにより、画素において感光性樹脂の影響を受
けず、液晶の性能を劣化することのない液晶表示素子の
製造方法を提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and a photosensitive resin is partially formed without using an adhesive such as a sealant to form a pair of substrates. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid crystal display element in which pixels are not affected by a photosensitive resin in a pixel and the performance of a liquid crystal is not deteriorated.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1に記載の発明では、それぞれ電極を有する
一対の基板間に液晶材料が挟持されて成る液晶表示素子
の製造方法において、一対の基板の少なくとも一方の基
板の電極側に感光性材料が混入された液晶材料を塗布又
は滴下し、一対の基板の少なくとも一方の基板の電極側
にスペーサーを散布した後、その一対の基板を電極が内
側になるように重ね合わせ、その一対の基板を加圧しな
がらマスク露光を行った後徐冷することにより、液晶と
感光材料とを相分離させて前記マスク露光により光が照
射された部分に感光樹脂を形成し一対の基板を接着する
こととしている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device comprising a liquid crystal material sandwiched between a pair of substrates each having an electrode. A liquid crystal material in which a photosensitive material is mixed is applied or dropped on at least one of the substrates, and a spacer is scattered on at least one of the pair of substrates. Are superimposed so that they are on the inside, mask exposure is performed while pressing the pair of substrates, and then the substrate is gradually cooled, so that the liquid crystal and the photosensitive material are phase-separated to each other where light is irradiated by the mask exposure. A photosensitive resin is formed and a pair of substrates is bonded.

【0015】また、請求項2に記載の発明では、それぞ
れ電極を有する一対の基板間に液晶材料が挟持されて成
る液晶表示素子の製造方法において、一対の基板の少な
くとも一方の基板の電極側に感光性材料が混入された液
晶材料を塗布又は滴下し、その基板と他方の基板とを電
極が内側になるように重ね合わせ、その一対の基板間の
間隔を調整するように加圧し、その加圧状態を維持して
マスク露光を行った後徐冷することにより、液晶と感光
材料とを相分離させてマスク露光により光が照射された
部分に感光樹脂を形成し一対の基板を接着することとし
ている。
According to a second aspect of the present invention, in the method for manufacturing a liquid crystal display device in which a liquid crystal material is sandwiched between a pair of substrates each having an electrode, at least one of the pair of substrates has an electrode side. A liquid crystal material mixed with a photosensitive material is applied or dropped, and the substrate and the other substrate are overlapped so that the electrodes are on the inside, and pressure is applied so as to adjust the distance between the pair of substrates. After performing mask exposure while maintaining the pressure state, the liquid crystal and the photosensitive material are phase-separated by slow cooling to form a photosensitive resin in a portion irradiated with light by the mask exposure, and a pair of substrates is bonded. And

【0016】さらに、請求項3に記載の発明では、請求
項1又は2に記載の液晶表示素子の製造方法において、
感光材料が混入された液晶材料を塗布する工程に、ディ
スペンサー法、スクリーン印刷法、又はロールコート法
のいずれかを用いることとしている。
According to a third aspect of the present invention, in the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the first or second aspect,
Any of a dispenser method, a screen printing method, and a roll coating method is used in a step of applying a liquid crystal material mixed with a photosensitive material.

【0017】また、請求項4に記載の発明では、請求項
1又は2に記載の液晶表示素子の製造方法において、一
対の基板を加圧するのに気体により加圧することとして
いる。
According to a fourth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the first or second aspect, the pair of substrates is pressurized by gas to pressurize the pair of substrates.

【0018】さらに、請求項5に記載の発明では、請求
項1又は2に記載の液晶表示素子の製造方法において、
一対の基板を重ね合わせる工程と加圧する工程とを真空
中で行うこととしている。
According to a fifth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the first or second aspect,
The step of superposing the pair of substrates and the step of pressing are performed in a vacuum.

【0019】本発明は、一方の基板に感光材料を含む液
晶材料を塗布した後、それを他方の基板と重ね合わせ、
押圧し、マスク露光を行うことによって、液晶と感光性
材料との相分離が起こり、光が照射された部分のみに感
光性樹脂の柱が形成され、それによって一対の基板を接
着するいう、新規な液晶表示素子の製造方法を提案する
ものである。したがって、本発明によれば、シール剤等
の接着剤を用いることなく、一対の基板を接着すること
ができるので、上記従来技術にて発生した液晶の性能劣
化を防止することができる。さらに、感光性樹脂の柱
を、ブラックマトリクス部に形成すれば、画素において
感光性樹脂の影響を全く受けないようにすることができ
る。
According to the present invention, after a liquid crystal material containing a photosensitive material is applied to one substrate, it is superimposed on the other substrate,
By pressing and performing mask exposure, phase separation between the liquid crystal and the photosensitive material occurs, and columns of the photosensitive resin are formed only in the portions irradiated with light, thereby bonding a pair of substrates. The present invention proposes a method for manufacturing a liquid crystal display element. Therefore, according to the present invention, since a pair of substrates can be bonded without using an adhesive such as a sealant, it is possible to prevent the performance degradation of the liquid crystal which occurs in the above-described conventional technology. Furthermore, if the columns of the photosensitive resin are formed in the black matrix portion, it is possible to prevent the pixels from being affected by the photosensitive resin at all.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態につい
て、図面を参照して説明する。本実施形態の液晶表示素
子の製造方法における基本的な工程を説明する。まず、
ITO等の透明電極が形成されたガラスやプラスチック
等から成る透明基板に、絶縁膜を成膜する。このときの
成膜法としては、SiO2の斜方蒸着や、ロールコート
法、スピンコート法等を用いることができる。ただし、
この絶縁膜は、形成しなくても良い場合もある。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The basic steps in the method for manufacturing a liquid crystal display element of the present embodiment will be described. First,
An insulating film is formed on a transparent substrate made of glass, plastic, or the like on which a transparent electrode such as ITO is formed. As a film forming method at this time, oblique evaporation of SiO 2 , a roll coating method, a spin coating method, or the like can be used. However,
In some cases, this insulating film does not need to be formed.

【0021】続いて、配向膜を成膜する。一般的に、配
向膜には、可溶性ポリイミドやポリアミック酸などが用
いられる。このときも、ロールコート法、スピンコート
法などによって、基板上に塗布して成膜を行うものであ
る。次に、このようにして形成した配向膜に、ラビング
処理を施す。
Subsequently, an alignment film is formed. Generally, soluble polyimide, polyamic acid, or the like is used for the alignment film. Also at this time, the film is formed by applying the film on the substrate by a roll coating method, a spin coating method or the like. Next, a rubbing treatment is performed on the alignment film thus formed.

【0022】なお、ここで用いている基板は、説明を簡
単にするため、ITO等の透明電極のみが形成されたも
のであるが、TFT方式やSTN方式などの表示方式に
応じて、どのように加工しても良い。また、片側の基板
がカラーフィルタであっても良い。
The substrate used here has only a transparent electrode made of ITO or the like formed thereon for simplicity of explanation. However, depending on a display system such as a TFT system or an STN system, May be processed. Further, one substrate may be a color filter.

【0023】このような工程を施した2枚の基板のう
ち、一方の基板の電極側にスペーサを散布する。ただ
し、このスペーサは散布しなくてもいい場合がある。こ
の基板、又はもう一方の基板の電極側に、感光性材料を
混入させた液晶を塗布する。
A spacer is scattered on the electrode side of one of the two substrates subjected to such a process. However, there are cases where this spacer does not need to be sprayed. Liquid crystal mixed with a photosensitive material is applied to the electrode side of this substrate or the other substrate.

【0024】このときの塗布法としては、以下の幾つか
の方法がある。 (1)ディスペンサー法 図1の要部斜視図に示すように、液晶を空気圧等によっ
て押し出す装置(ディスペンサー)3を移動させて、基
板1上に液晶を均一に塗布して液晶膜2を形成する。こ
のディスペンサー3の内部には予め液晶を入れておき、
液晶が出る部分にはメッシュ等の材質からできており、
そこから空気圧等によって液晶がにじみでて、基板1上
に液晶2を均一に塗布できるというものである。
As the coating method at this time, there are the following several methods. (1) Dispenser Method As shown in a perspective view of a main part of FIG. 1, a device (dispenser) 3 for extruding liquid crystal by air pressure or the like is moved to uniformly apply the liquid crystal on the substrate 1 to form a liquid crystal film 2. . Liquid crystal is put inside the dispenser 3 in advance,
The part where the liquid crystal comes out is made of material such as mesh,
From there, the liquid crystal bleeds due to air pressure or the like, and the liquid crystal 2 can be uniformly applied onto the substrate 1.

【0025】(2)スクリーン印刷法 図2の要部斜視図に示すように、基板1上にスクリーン
印刷版4を配置し、その上部に液晶2aを置き、それを
スキージ5でこすることにより、基板1上に液晶を転写
して液晶膜を形成する方法である。
(2) Screen printing method As shown in the perspective view of the main part of FIG. 2, a screen printing plate 4 is arranged on a substrate 1, a liquid crystal 2a is placed on the screen printing plate 4, and it is rubbed with a squeegee 5. And a method of transferring liquid crystal onto the substrate 1 to form a liquid crystal film.

【0026】(3)ロールコート法 図3の要部斜視図に示すように、液晶を滴下する装置7
を用いてロール6に液晶を滴下し、そのローラ6から基
板1に液晶を転写して液晶膜2を形成する方法である。
(3) Roll coating method As shown in the perspective view of the main part of FIG.
This is a method in which liquid crystal is dropped on a roll 6 using the method described above, and the liquid crystal is transferred from the roller 6 to the substrate 1 to form a liquid crystal film 2.

【0027】これらの方法を用いることにより、液晶を
様々なパターンに、かつ均一に基板上に塗布できる。な
お、このときに形成される液晶膜の厚さは、いかように
も調整可能であるが、得たいセルギャップの0〜50%
増し(セルギャップの1〜1.5倍)がこのましい。ま
た、塗布時の液晶の相は、ネマチック相でも、等方相で
も良い。また、塗布後の液晶の相も、ネマチック相でも
等方相でも良いが、等方相にするのがより好ましい。な
お、液晶の相を制御するために、基板の温度を上げるに
は、ラバーヒーターを基板の下方に配置して加熱すれば
よい。
By using these methods, the liquid crystal can be uniformly coated on the substrate in various patterns. Although the thickness of the liquid crystal film formed at this time can be adjusted in any manner, it is 0 to 50% of the desired cell gap.
The increase (1 to 1.5 times the cell gap) is preferable. Further, the phase of the liquid crystal at the time of coating may be a nematic phase or an isotropic phase. The phase of the liquid crystal after application may be a nematic phase or an isotropic phase, but is more preferably an isotropic phase. In order to increase the temperature of the substrate in order to control the phase of the liquid crystal, a rubber heater may be arranged below the substrate and heated.

【0028】次に、上記のいずれかの方法により、液晶
を塗布した基板を下にして、もう1枚の基板をその上か
ら、それぞれの基板の透明電極が内側になるように、重
ね合わせる。このときの重ね合わせの方法としては、図
4の要部断面図に示すように、液晶膜2が形成された下
の基板1と上の基板1’とをほぼ平行に保った状態で、
徐々に上の基板を下降させ重ね合わせる方法がある。な
お、図4においては、下の基板1がラバーヒーター10
を介してステージ9上に配置され、上の基板1’の内側
にスペーサ8が散布されたものを図示している。
Next, by one of the above methods, another substrate is superposed on the liquid crystal coated substrate such that the transparent electrode of each substrate is located on the other substrate. As a method of superposition at this time, as shown in a cross-sectional view of a main part of FIG. 4, a state in which the lower substrate 1 on which the liquid crystal film 2 is formed and the upper substrate 1 ′ are kept substantially parallel to each other,
There is a method in which the upper substrate is gradually lowered and overlapped. In FIG. 4, the lower substrate 1 is a rubber heater 10.
FIG. 2 shows a state in which spacers 8 are scattered on the inside of the upper substrate 1 ′ disposed on the stage 9 through the substrate.

【0029】基板の重ね合わせの他の方法としては、図
5の要部断面図に示すように、上の基板1の一辺を下の
基板1’に接触させた後、その接触部分を軸にするよう
にして、上の基板1のそれと反対側の辺の方を徐々に下
降させる方法がある。なお、図5においては、下の基板
1がラバーヒーター10を介してステージ9上に配置さ
れ、上の基板1’の内側にスペーサ8が散布されたもの
を図示している。
As another method of superimposing the substrates, as shown in the sectional view of the main part of FIG. 5, one side of the upper substrate 1 is brought into contact with the lower substrate 1 ', and the contact portion is used as an axis. Then, there is a method of gradually lowering the side opposite to that of the upper substrate 1. In FIG. 5, the lower substrate 1 is arranged on the stage 9 via the rubber heater 10, and the spacers 8 are scattered inside the upper substrate 1 '.

【0030】なお、これらの重ね合わせの作業を、大気
中にて行う場合には、後者の図5に示したような方法の
方が、気泡が基板間に入らないので好ましい。また、真
空中にて行うときは、このような気泡の発生を防止でき
るので、いずれの方法でも良い。
When these superimposing operations are performed in the atmosphere, the latter method shown in FIG. 5 is preferable because air bubbles do not enter between the substrates. Further, when the treatment is performed in a vacuum, any of these methods may be used since the generation of such bubbles can be prevented.

【0031】また、このように基板を重ね合わせた後
に、これら2枚の基板の位置合わせを行っても良いが、
位置合わせを行ってから重ね合わせる方が、位置ずれが
生じにくいので好ましい。
After the substrates are overlapped in this way, the two substrates may be aligned.
It is preferable to perform the positioning and then superimpose, since the positional deviation hardly occurs.

【0032】そして、これら2枚の基板の位置がずれな
いように、ピン等を用いてこれらの基板の周囲を固定す
る方法がある。これについて、図6(a)の要部断面
図、及び図6(b)の要部平面図を用いて説明する。こ
れに図示したものでは、液晶膜2を挟持する基板1,
1’の周囲にピン11を複数配置し、位置ずれが起こら
ないように、基板1,1’を固定したものである。な
お、図6(a)においては、下の基板1がラバーヒータ
ー10を介してステージ9上に配置され、基板1−1’
間にスペーサ8が介在されているものを図示している。
Then, there is a method of fixing the periphery of these two substrates using pins or the like so that the positions of these two substrates do not shift. This will be described with reference to a cross-sectional view of main parts in FIG. 6A and a plan view of main parts in FIG. 6B. In the drawing, the substrates 1 and 2 sandwiching the liquid crystal film 2 are illustrated.
A plurality of pins 11 are arranged around 1 ', and the substrates 1 and 1' are fixed so that no displacement occurs. In FIG. 6A, the lower substrate 1 is disposed on the stage 9 via the rubber heater 10, and the substrate 1-1 'is formed.
FIG. 3 illustrates a structure in which a spacer 8 is interposed therebetween.

【0033】その後、図7(a)の要部断面図、及び図
7(b)の要部平面図に示すように、プレス機12によ
って、基板1’の上部垂直方向から圧力を加える。この
とき、本実施形態では、プレス機12は、図7(a),
(b)に示すように、基板1’の周辺部数ミリを残した
全面を加圧するようにしている。なお、このプレス機1
2の加圧部分は、この後に行われる露光工程のフォトマ
スクとしても機能するものである。
Thereafter, as shown in a sectional view of a main part of FIG. 7A and a plan view of a main part of FIG. 7B, pressure is applied from above the substrate 1 'by a press machine 12 in a vertical direction. At this time, in the present embodiment, the press machine 12 is configured as shown in FIG.
As shown in (b), the entire surface except for a few millimeters in the peripheral portion of the substrate 1 'is pressed. In addition, this press machine 1
The pressurized portion 2 also functions as a photomask in an exposure process performed thereafter.

【0034】そして、この加圧により液晶が基板の外側
にはみだした部分をマスク13で覆い隠し、基板1,
1’の重なり合っている箇所の周辺部分のみを紫外光
(UV)を照射する。このとき、プレス機12の加圧部
分もマスクとして機能するものであり、また、本実施形
態では感光性材料として紫外線硬化性のものを用いたの
で、紫外光を照射して硬化させている。また、このとき
の液晶は等方相の状態である。なお、本実施形態では、
基板周辺部に配置したマスク13を用いたが、基板外部
にはみだした液晶を拭き取ってから光照射を行えば、こ
のマスク13は必要でない。
Then, the portion where the liquid crystal protrudes to the outside of the substrate by this pressure is covered with a mask 13 so that
Only the peripheral portion of the 1 'overlapping portion is irradiated with ultraviolet light (UV). At this time, the pressurized portion of the press machine 12 also functions as a mask, and in the present embodiment, an ultraviolet curable material is used as the photosensitive material. At this time, the liquid crystal is in an isotropic phase. In the present embodiment,
Although the mask 13 disposed around the substrate is used, the mask 13 is not necessary if light is irradiated after wiping the liquid crystal protruding outside the substrate.

【0035】その後、徐冷することにより、液晶膜2に
おいて、液晶との相分離が起こり、感光性材料は紫外光
が照射された部分に移動し、図8(a)の要部断面図及
び図8(b)の要部平面図に示すように、柱状の感光性
樹脂14が形成され、基板1と基板1’とが接着され
る。この後、加圧を解除し、基板外部にはみだした不要
な液晶を拭き取って、液晶表示素子の作製が完了する。
Thereafter, by slow cooling, phase separation from the liquid crystal occurs in the liquid crystal film 2, and the photosensitive material moves to the portion irradiated with the ultraviolet light. As shown in a plan view of a main part in FIG. 8B, a columnar photosensitive resin 14 is formed, and the substrate 1 and the substrate 1 ′ are bonded. Thereafter, the pressure is released, and unnecessary liquid crystal protruding outside the substrate is wiped off, thereby completing the manufacture of the liquid crystal display element.

【0036】なお、基板間の接着強度をさらに強固にす
る場合には、以下の工程を追加する。すなわち、上記の
ような柱状樹脂14の形成工程の後、加圧を解除し基板
外部にはみだした不要な液晶を拭き取ってから、図9
(a)の要部断面図及び図9(b)の要部平面図に示す
ように、マスク15を基板1’上に配置し、液晶を等方
相にして、紫外光(UV)を照射照射した後徐冷する。
このような工程を施すことによって、図10(a)の要
部断面図及び図10(b)の要部平面図に示すように、
柱状の感光性樹脂14’が、マスク15の形状に対応し
素子全面に渡り形成され、基板1と基板1’とが強固に
接着される。このとき、図8(a),(b)に示したも
のと比較して、柱状樹脂14’は、基板周囲だけでな
く、素子の中にも形成されるので、基板の接着強度が強
固なものとなる。
In order to further increase the bonding strength between the substrates, the following steps are added. That is, after the step of forming the columnar resin 14 as described above, the pressure is released and unnecessary liquid crystal that has protruded outside the substrate is wiped off.
As shown in the main part sectional view of FIG. 9A and the main part plan view of FIG. 9B, the mask 15 is arranged on the substrate 1 ′, the liquid crystal is made isotropic, and ultraviolet light (UV) is irradiated. After irradiation, cool slowly.
By performing such a process, as shown in a sectional view of a main part of FIG. 10A and a plan view of a main part of FIG.
A columnar photosensitive resin 14 'is formed over the entire surface of the element corresponding to the shape of the mask 15, and the substrate 1 and the substrate 1' are firmly bonded. At this time, since the columnar resin 14 'is formed not only around the substrate but also in the element as compared with those shown in FIGS. 8A and 8B, the bonding strength of the substrate is stronger. It will be.

【0037】なお、図7(a),(b)を用いて説明し
たような加圧工程を、以下のように行うことも可能であ
る。すなわち、図11に示すように、基板1,1’全体
を覆うように枠16で囲い、空気等の気体を流し込ん
で、その圧力を使用して、基板1’の上部から加圧する
ことができる。この場合、図7(a),(b)に示した
もののように直接に接触して基板を加圧するプレス機1
2を用いる必要がないので、加圧しながらマスク露光を
行うときに、図9のマスク15とほぼ同様のフォトマス
クを用いることができる。すなわち、図11に示すよう
に、基板1’上にマスク15’を配置して、上述したよ
うな空気等の圧力(ガス圧)により加圧し、紫外光(U
V)を照射した後に徐冷すれば良い。
The pressing step described with reference to FIGS. 7A and 7B can be performed as follows. That is, as shown in FIG. 11, the substrate 1, 1 ′ is surrounded by a frame 16 so as to cover the entire substrate, a gas such as air is supplied, and the pressure can be applied from above the substrate 1 ′ using the pressure. . In this case, as shown in FIGS. 7 (a) and 7 (b), a pressing machine 1 for directly contacting and pressing a substrate is provided.
Since it is not necessary to use the photomask 2, a photomask substantially similar to the mask 15 in FIG. 9 can be used when performing mask exposure while applying pressure. That is, as shown in FIG. 11, a mask 15 ′ is arranged on a substrate 1 ′ and pressurized by the pressure (gas pressure) of air or the like as described above, and the ultraviolet light (U
After irradiation with V), it is only necessary to gradually cool.

【0038】このような一連の工程によれば、1回の紫
外光の照射のみで、液晶表示素子の周囲部だけでなく、
中部にも柱状樹脂を形成することができ、素子製造プロ
セスの簡略化を図ることができる。なお、図9のマスク
15と図11のマスク15’との違いは、マスク15’
では、最外周部に柱状樹脂を形成するように、最外周部
が透過状態(開口状態)となっている点である。
According to such a series of steps, only one irradiation of ultraviolet light can be applied to not only the periphery of the liquid crystal display element, but also
The columnar resin can also be formed in the middle part, and the element manufacturing process can be simplified. The difference between the mask 15 in FIG. 9 and the mask 15 ′ in FIG.
Is that the outermost peripheral portion is in a transmission state (open state) so that a columnar resin is formed in the outermost peripheral portion.

【0039】また、上記の説明において用いた基板は、
端子部分が最初から露出されたものであり分断する必要
はない。これに対して、端子部分が露出されていない基
板を用いた場合の素子作製工程について、図12(a)
〜(c)の要部断面図を用いて説明する。このような場
合、基板重ね合わせ後の加圧・マスク露光工程におい
て、図12(a)に示すように、基板周辺の端部でな
く、それより内側が紫外光(UV)の透過可能な開口部
分となるような、プレス機12の加圧部分及びマスク1
3’の形状とする。そして、上記と同様に、紫外光を照
射してから徐冷して、柱状の感光性樹脂14’を、基板
1’の周辺端部より内側に形成する(図12(b))。
それから、基板1’の周辺部を分断することにより、図
示しない端子部分を露出させることができる(図12
(c))。なお、本発明は、上記実施形態に限定される
ものではなく、TFT,STN,IPS等の様々な表示
方式の液晶表示素子の製造に適用できるものである。さ
らに、液晶材料についても、ネマチック液晶に限定され
るものではなく、強誘電性液晶や反強誘電性液晶等の様
々な液晶材料を用いる液晶表示素子の製造に適用可能な
ものである。
The substrate used in the above description is
The terminal portion is exposed from the beginning and does not need to be divided. On the other hand, an element manufacturing process using a substrate whose terminal portion is not exposed is described with reference to FIG.
The description will be made with reference to the cross-sectional views of the main parts of FIGS. In such a case, in the pressurization / mask exposure step after the substrate is superimposed, as shown in FIG. The pressurized part of the press machine 12 and the mask 1 to be a part
3 'shape. Then, in the same manner as described above, the photosensitive resin 14 'is irradiated with ultraviolet light and then gradually cooled to form a columnar photosensitive resin 14' inside the peripheral edge of the substrate 1 '(FIG. 12B).
Then, by dividing the peripheral portion of the substrate 1 ′, a terminal portion (not shown) can be exposed (FIG. 12).
(C)). The present invention is not limited to the above embodiment, but can be applied to the production of liquid crystal display elements of various display systems such as TFT, STN, IPS and the like. Further, the liquid crystal material is not limited to a nematic liquid crystal, but can be applied to the production of a liquid crystal display element using various liquid crystal materials such as a ferroelectric liquid crystal and an antiferroelectric liquid crystal.

【0040】以下、本発明によるより具体的な実施例に
ついて説明するが、本発明がこれらに限定されるもので
はない。
Hereinafter, more specific examples according to the present invention will be described, but the present invention is not limited to these examples.

【0041】[0041]

【実施例】【Example】

〔実施例1〕実施例1として、基板への液晶塗布工程と
して前述の図1に示したディスペンサー法を用い、柱状
の感光性樹脂形成工程として前述の図7及び図9に示し
たような紫外光照射を行って、液晶表示素子を作製した
ものについて説明する。
Example 1 In Example 1, the dispenser method shown in FIG. 1 was used as the liquid crystal coating step on the substrate, and the ultraviolet light was used as the columnar photosensitive resin forming step shown in FIGS. 7 and 9 described above. A description will be given of a case where a liquid crystal display element is manufactured by light irradiation.

【0042】まず、図13の要部断面図に示すような一
対の基板を作製した。ガラスから成る基板1上に、所定
のパターンで膜厚1000ÅのITO膜17を形成し
た。このITO膜17上に、膜厚1200Åの絶縁膜1
8(日産化学工業株式会社製A2014)を形成した。
なお、この絶縁膜18は、絶縁膜原料溶液スピンコート
した後、200℃で90分間焼成することにより形成し
た。
First, a pair of substrates as shown in the sectional view of the main part of FIG. 13 was prepared. On a substrate 1 made of glass, an ITO film 17 having a thickness of 1000 ° was formed in a predetermined pattern. On this ITO film 17, an insulating film 1 having a thickness of 1200 ° is formed.
8 (A2014 manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.).
Note that the insulating film 18 was formed by spin coating at a temperature of 200 ° C. for 90 minutes after spin coating of the insulating film raw material solution.

【0043】次に、絶縁膜18上に、膜厚500Åの配
向膜19(日産化学工業株式会社製SE−7792)を
形成した。なお、この配向膜19は、絶縁膜原料溶液ス
ピンコートした後、180℃で90分間焼成することに
より形成した。さらにその後、配向膜19にラビング処
理を施した。以上のようにして、図13に示す構造の基
板を2枚作製した。
Next, an alignment film 19 (SE-7792, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) having a thickness of 500 ° was formed on the insulating film 18. The alignment film 19 was formed by spin coating at a temperature of 180 ° C. for 90 minutes after spin coating of an insulating film raw material solution. After that, the alignment film 19 was subjected to a rubbing treatment. As described above, two substrates having the structure shown in FIG. 13 were manufactured.

【0044】これらの基板の一方には配向膜19上に直
径5μmのスペーサを散布し、これを基板Aとする。そ
して、もう一方の基板には、前述の図1を用いて説明し
たディスペンサー法により、感光性材料を混入した液晶
材料を配向膜19上に塗布し、厚さ7μmの液晶膜2を
形成し、これを基板Bとする。本実施例において用いた
液晶材料、感光性材料、及び開始剤と、感光性材料のそ
れぞれの薬品の混合比とを下表1に示す。なお、開始剤
は、反応の開始のために、感光性材料と共に液晶材料に
混入させたものである。そして、これらの混合比は、液
晶材料:感光性材料:開始剤=80:19.5:0.5
とした。
On one of these substrates, spacers having a diameter of 5 μm are scattered on the alignment film 19, and this is used as a substrate A. On the other substrate, a liquid crystal material mixed with a photosensitive material is applied on the alignment film 19 by the dispenser method described with reference to FIG. 1 to form a liquid crystal film 2 having a thickness of 7 μm. This is called substrate B. Table 1 below shows the liquid crystal materials, photosensitive materials, and initiators used in this example, and the mixing ratios of the respective chemicals of the photosensitive materials. The initiator is mixed with the photosensitive material in the liquid crystal material to start the reaction. The mixing ratio of these components is: liquid crystal material: photosensitive material: initiator = 80: 19.5: 0.5
And

【0045】[0045]

【表1】 [Table 1]

【0046】このような液晶膜2を形成した基板Bを、
図5に示したように、ラバーヒーター10上に配置し、
液晶の温度を80℃に加熱して液晶を等方相とした後、
基板A(図5の基板1’側に相当)の一端を基板B(図
5の基板1側に相当)に接触させ、基板Aの反対側の一
端をゆっくりと下降させた。そして、これら2枚の基板
A,Bを重ね合わせたところ、これらの基板間に気泡は
入らなかった。なお、基板Aと基板Bとの配向膜のラビ
ング方向は、互いに直交するように配置した。
The substrate B having such a liquid crystal film 2 formed thereon is
As shown in FIG. 5, placed on the rubber heater 10,
After heating the temperature of the liquid crystal to 80 ° C. to make the liquid crystal isotropic,
One end of the substrate A (corresponding to the substrate 1 'in FIG. 5) was brought into contact with the substrate B (corresponding to the substrate 1 in FIG. 5), and the other end of the substrate A was slowly lowered. Then, when these two substrates A and B were overlaid, no air bubbles entered between these substrates. Note that the rubbing directions of the alignment films of the substrate A and the substrate B were arranged to be orthogonal to each other.

【0047】次に、図7に示したように、上記のように
して重ね合わせた基板A(図7の基板1’側に相当)及
び基板B(図7の基板1側に相当)を、プレス機12を
用いて2kg/cm2の圧力で加圧した状態で、マスク
13を配置して、基板Aの上方から紫外光(UV)を照
射した。なお、このとき、液晶を等方相とし、紫外光の
照射は照射範囲を幅が2mmとし、照射強度14mW/
cm2で8分間行った。
Next, as shown in FIG. 7, the substrate A (corresponding to the substrate 1 'side in FIG. 7) and the substrate B (corresponding to the substrate 1 side in FIG. The mask 13 was placed under a pressure of 2 kg / cm 2 using the press machine 12, and ultraviolet light (UV) was irradiated from above the substrate A. At this time, the liquid crystal was in an isotropic phase, the irradiation range of the ultraviolet light was 2 mm in width, and the irradiation intensity was 14 mW /
Performed in cm 2 for 8 minutes.

【0048】この紫外光照射の後徐冷すると、液晶と感
光性材料との相分離が起こり、図8に示したような、柱
状の感光性樹脂14が、幅2mm、厚さ5μmで、液晶
膜2の紫外光の照射部分に形成され、上下の基板A,B
が貼り合わされた。その後、プレス機による加圧を解除
してから、基板A,Bの周辺に染み出した液晶をふき取
った。
When this ultraviolet light irradiation is gradually cooled, phase separation between the liquid crystal and the photosensitive material occurs. As shown in FIG. 8, the columnar photosensitive resin 14 has a width of 2 mm and a thickness of 5 μm. The upper and lower substrates A and B are formed on the portion of the film 2 irradiated with ultraviolet light.
Was pasted together. Then, after the pressurization by the press was released, the liquid crystal oozing around the substrates A and B was wiped off.

【0049】そして、図9に示したように、マスク15
を基板Aの上部に配置し、液晶膜2の液晶を等方相に
し、先の柱状樹脂14の紫外光照射に形成工程と同様の
条件で紫外光照射を行った後に徐冷した。すると、液晶
と感光性材料との相分離により、図9のような柱状の感
光性樹脂14’が素子内部にも形成された。最後に、1
4mW/cm2の強度で3分間、素子全面に紫外光を露
光した。
Then, as shown in FIG.
Was placed on the substrate A, the liquid crystal of the liquid crystal film 2 was made isotropic, and the columnar resin 14 was irradiated with ultraviolet light under the same conditions as in the forming step, and then gradually cooled. As a result, a columnar photosensitive resin 14 'as shown in FIG. 9 was also formed inside the device due to the phase separation between the liquid crystal and the photosensitive material. Finally, 1
The entire surface of the device was exposed to ultraviolet light at an intensity of 4 mW / cm 2 for 3 minutes.

【0050】以上のようにして作製した本実施例の液晶
表示素子は、配向も均一で、上下基板の透明電極への電
圧印加により、表示ムラがなく、均一なスイッチングが
可能であった。
The liquid crystal display device of the present example fabricated as described above had uniform orientation, and was able to perform uniform switching without display unevenness by applying a voltage to the transparent electrodes of the upper and lower substrates.

【0051】〔実施例2〕実施例2では、上記実施例1
の基板Aに散布したスペーサを散布せずに液晶表示素子
を作製したものについて説明する。
[Second Embodiment] In the second embodiment, the first embodiment is used.
A liquid crystal display element manufactured without dispersing the spacers dispersed on the substrate A will be described.

【0052】実施例2でも、上記実施例1と同様にし
て、図13に示したような構造の基板を2枚作製し、そ
れらの基板の一方を用いて、上記実施例1と同様にし
て、ディスペンサー法により感光性材料が混入された液
晶を塗布した同じ基板Bを作製した。そして、もう一方
の基板には、上記実施例1とは異なり、スペーサを散布
せず、これを基板A’とする。
In the second embodiment, two substrates having the structure shown in FIG. 13 are manufactured in the same manner as in the first embodiment, and one of the substrates is used and the same as in the first embodiment is performed. The same substrate B coated with liquid crystal mixed with a photosensitive material was produced by a dispenser method. Unlike the first embodiment, spacers are not sprayed on the other substrate, which is referred to as a substrate A '.

【0053】この後の工程は、上記実施例1とほぼ同様
のものであるが、本実施例ものではスペーサを用いない
ので、図7に示したようなプレス機12による加圧時の
圧力を変化させた。すなわち、実施例2では、図7に示
したようなプレス機12による加圧時の圧力を1kg/
cm2とした。これ以外の条件は、上記実施例1と全く
同様にして、図7に示したような紫外光露光工程、及び
徐冷工程を行った。
The subsequent steps are almost the same as those in the first embodiment. However, in this embodiment, since no spacer is used, the pressure at the time of pressing by the press machine 12 as shown in FIG. Changed. That is, in Example 2, the pressure at the time of pressurization by the press machine 12 as shown in FIG.
cm 2 . The other conditions were the same as in Example 1, and the ultraviolet light exposure step and the slow cooling step as shown in FIG. 7 were performed.

【0054】その結果、上記実施例1と同様に、図8に
示したような柱状樹脂14を、幅2μm、厚さ5μm
で、液晶膜2の紫外光照射部分に形成して、上下の基板
A’,Bを貼り合わせることができた。このことから、
一方の基板にスペーサを散布しなくても、紫外光照射時
の圧力によりセル厚を制御して、上下の基板を貼り合わ
せることが可能であることが分かった。
As a result, similarly to the first embodiment, the columnar resin 14 as shown in FIG.
Thus, the upper and lower substrates A ′ and B were able to be bonded to each other by forming the liquid crystal film 2 on the portion irradiated with ultraviolet light. From this,
It was found that the cell thickness could be controlled by the pressure at the time of ultraviolet light irradiation and the upper and lower substrates could be bonded without dispersing spacers on one of the substrates.

【0055】〔実施例3〕実施例3では、上記実施例1
と同様に、基板Aと基板Bとの重ね合わせを行った後、
前述の図11に示したように、気体の圧力(ガス圧)に
より加圧して、紫外光によるマスク露光を行って、液晶
表示素子を作製したものについて説明する。
[Third Embodiment] In the third embodiment, the first embodiment is used.
After the substrate A and the substrate B are overlapped in the same manner as described above,
As shown in FIG. 11 described above, a liquid crystal display element manufactured by pressurizing with gas pressure (gas pressure) and performing mask exposure with ultraviolet light will be described.

【0056】まず、上記実施例1と同様にして作製した
1対の基板のラビング処理を施した一方の基板の配向膜
上にスペーサを散布した基板Aと、もう一方の基板の配
向膜上に感光性材料が混入された液晶をディスペンサー
法により塗布された基板Bとを、上記実施例1と同様に
図5に示すような方法で重ね合わせた。
First, a pair of substrates prepared in the same manner as in Example 1 were rubbed and a spacer A was scattered on an alignment film of one of the substrates and a substrate A was scattered on the alignment film of the other substrate. A substrate B coated with a liquid crystal mixed with a photosensitive material by a dispenser method was overlapped by a method as shown in FIG.

【0057】そして、図11に示したように、重ね合わ
せた基板A(図11の基板1’側に相当),基板B(図
11の基板1側に相当)を枠16の内部に配置すると共
に基板A上にマスク15を配置し、チッソ圧によって基
板を2kg/cm2の圧力で加圧した。このとき、枠1
6の上面は、紫外光を透過するようにガラスからできた
ものを用いた。
Then, as shown in FIG. 11, the superposed substrate A (corresponding to the substrate 1 'in FIG. 11) and the substrate B (corresponding to the substrate 1 in FIG. 11) are arranged inside the frame 16. At the same time, the mask 15 was placed on the substrate A, and the substrate was pressed at a pressure of 2 kg / cm 2 by nitrogen pressure. At this time, frame 1
The upper surface of 6 was made of glass so as to transmit ultraviolet light.

【0058】次に、このような加圧を維持した状態で、
マスク15の上方から紫外光によるマスク露光を行った
後徐冷することにより、液晶膜2における液晶と感光性
材料との相分離によって、基板A,Bの周辺部及び内部
に、図10に示すような柱状の感光性樹脂が形成され、
上下の基板A,Bを接着することがができた。
Next, while maintaining such pressurization,
By performing mask exposure with ultraviolet light from above the mask 15 and then gradually cooling, the phase separation between the liquid crystal and the photosensitive material in the liquid crystal film 2 causes the periphery and inside of the substrates A and B to be as shown in FIG. Such a columnar photosensitive resin is formed,
The upper and lower substrates A and B could be bonded.

【0059】実施例3によれば、上記のように基板の加
圧工程において、気体によって圧力を加えるようにした
ので、1回の露光工程で、基板の周囲及び内部に柱状樹
脂を形成することができ、工程数を削減して強固な基板
の接着を行うことが可能となった。
According to the third embodiment, since the pressure is applied by the gas in the pressurizing step of the substrate as described above, the columnar resin is formed around and inside the substrate in one exposure step. This makes it possible to reduce the number of steps and perform firm bonding of substrates.

【0060】〔実施例4〕実施例4では、前述の図4,
5に示したような基板の重ね合わせ工程、及び前述の図
7に示したような基板加圧・紫外光露光工程を、真空状
態にして行って、液晶表示素子を作製したものについて
説明する。
[Fourth Embodiment] In the fourth embodiment, the aforementioned FIG.
A description will be given of a case where a liquid crystal display element is manufactured by performing a substrate overlapping step as shown in FIG. 5 and a substrate pressing / ultraviolet light exposure step as shown in FIG.

【0061】まず、上記実施例1と同様にして作製した
1対の基板のラビング処理を施した一方の基板の配向膜
上にスペーサを散布した基板Aと、もう一方の基板の配
向膜上に感光性材料が混入された液晶をディスペンサー
法により塗布された基板Bとを用意した。
First, a substrate A in which spacers are scattered on an alignment film of one substrate on which a pair of substrates manufactured in the same manner as in Example 1 have been subjected to a rubbing treatment, and an alignment film of the other substrate A substrate B coated with a liquid crystal mixed with a photosensitive material by a dispenser method was prepared.

【0062】そして、これら一対の基板A,Bを、真空
状態で、図4に示したように、基板A(図4の基板1’
側に相当)と基板B(図4の基板1側に相当)とが互い
にほぼ水平となるように配置し、ほぼ水平のまま徐々に
下降させて、基板の重ね合わせを行った。また、これら
一対の基板A,Bを、真空状態で、図5に示したよう
に、基板A(図5の基板1’側に相当)の一端を基板B
(図5の基板1側に相当)に接触させ、基板Aの反対側
の一端を徐々に下降させるという、基板の重ね合わせも
行った。
Then, as shown in FIG. 4, the pair of substrates A and B are evacuated to a substrate A (substrate 1 ′ of FIG. 4) in a vacuum state.
Side) and a substrate B (corresponding to the substrate 1 side in FIG. 4) were arranged so as to be substantially horizontal to each other, and gradually lowered while being substantially horizontal, thereby superimposing the substrates. Also, as shown in FIG. 5, one end of the substrate A (corresponding to the substrate 1 'side in FIG.
(Corresponding to the substrate 1 side in FIG. 5), and the substrates were superposed such that one end on the opposite side of the substrate A was gradually lowered.

【0063】いずれの基板の重ね合わせを行ったサンプ
ルにおいても、そのまま真空状態を維持して、上記実施
例1と同様に、図7に示したような基板加圧・紫外光露
光工程を施して、液晶表示素子を作製した。
In any of the samples on which the substrates were superimposed, the substrate was kept in a vacuum state and subjected to the substrate pressing / ultraviolet light exposure process as shown in FIG. Thus, a liquid crystal display device was manufactured.

【0064】実施例4によれば、上記のように図4,5
のいずれの重ね合わせ工程によるサンプルでも、作製さ
れた液晶表示素子の基板間に気泡が発生しておらず、良
好な結果が得られた。
According to the fourth embodiment, as shown in FIGS.
No air bubbles were generated between the substrates of the manufactured liquid crystal display element in any of the samples obtained by any one of the superposing steps, and good results were obtained.

【0065】なお、上記実施例4では、基板の重ね合わ
せ工程及び加圧・紫外光露光工程の一連の工程において
真空状態を維持するようにしたが、重ね合わせ工程と加
圧・紫外光露光工程との間で真空状態が破れても、短時
間であれば気泡の発生が問題とならない場合がある。ま
た、重ね合わせ工程のみを真空状態で行うだけで、気泡
の発生を十分に押さえられる場合もある。これらは、用
いる液晶材料、ディスプレイサイズ、表示品質の設計
等、製造すべき液晶表示素子の仕様に応じて適宜変更す
れば良い。
In the fourth embodiment, the vacuum state is maintained in a series of the substrate overlapping step and the pressing / ultraviolet light exposure step. However, the overlapping step and the pressing / ultraviolet light exposing step are performed. Even if the vacuum state is broken between the steps, the generation of bubbles may not be a problem for a short time. Further, there is a case where the generation of bubbles can be sufficiently suppressed only by performing the superposition step in a vacuum state. These may be appropriately changed according to the specifications of the liquid crystal display element to be manufactured, such as the design of the liquid crystal material to be used, the display size, the display quality, and the like.

【0066】なお、上記実施例1〜4では、感光性材料
を混入した液晶の基板への塗布工程において、図1に示
したようなディスペンサー法を用いたが、図2に示した
ようなスクリーン印刷法、図3に示したようなロールコ
ート法のいずれで行っても、ディスペンサー法によるも
のと同様に均一に塗布できた。
In the above Examples 1-4, the dispenser method as shown in FIG. 1 was used in the step of applying the liquid crystal containing the photosensitive material to the substrate, but the screen as shown in FIG. Irrespective of the printing method or the roll coating method as shown in FIG. 3, coating could be performed uniformly as in the case of the dispenser method.

【0067】[0067]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶表示
素子の製造方法によれば、感光性材料が混入された液晶
材料を、ディスペンサー法、スクリーン印刷法、ロール
コート法等により、一対の基板の一方に塗布し、もう一
方の基板と重ね合わせ、加圧して露光した後に徐冷する
ことによって、液晶と感光性材料との相分離が起こり、
柱状の感光性樹脂を形成し、一対の基板を接着すること
ができる。
As described above, according to the method of manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, a liquid crystal material mixed with a photosensitive material is formed into a pair by a dispenser method, a screen printing method, a roll coating method or the like. By applying to one of the substrates, overlapping with the other substrate, pressing and exposing, and then slowly cooling, phase separation between liquid crystal and photosensitive material occurs,
A pair of substrates can be bonded by forming a columnar photosensitive resin.

【0068】したがって、本発明によれば、従来のもの
と比較して、より短時間で液晶の注入が行え、また、シ
ール剤等の影響による液晶材料の劣化を防止することが
できる。
Therefore, according to the present invention, the liquid crystal can be injected in a shorter time as compared with the conventional one, and the deterioration of the liquid crystal material due to the influence of the sealant or the like can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による実施形態において感光性材料が混
入された液晶をディスペンサー法により基板上に塗布す
るときのようすを示す要部斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of an essential part showing how liquid crystal mixed with a photosensitive material is applied on a substrate by a dispenser method in an embodiment according to the present invention.

【図2】感光性材料が混入された液晶をスクリーン印刷
法により基板上に塗布するときのようすを示す要部斜視
図である。
FIG. 2 is a perspective view of an essential part showing how liquid crystal mixed with a photosensitive material is applied on a substrate by a screen printing method.

【図3】感光性材料が混入された液晶をロールコート法
により基板上に塗布するときのようすを示す要部斜視図
である。
FIG. 3 is a perspective view of an essential part showing a state where a liquid crystal mixed with a photosensitive material is applied on a substrate by a roll coating method.

【図4】一対の基板を重ね合わせるときのようすを示す
要部断面図である。
FIG. 4 is an essential part cross-sectional view showing a state where a pair of substrates are overlapped.

【図5】一対の基板を重ね合わせるときのようすを示す
要部断面図である。
FIG. 5 is an essential part cross-sectional view showing a state when a pair of substrates are overlapped.

【図6】重ね合わせられた一対の基板の位置ずれを防止
するようすを示す図であり、(a)は要部断面図、
(b)は要部平面図である。
FIGS. 6A and 6B are views showing how to prevent a position shift of a pair of superposed substrates, wherein FIG.
(B) is a main part plan view.

【図7】重ね合わせられた一対の基板を加圧して紫外光
照射を行うときのようすを示す図であり、(a)は要部
断面図、(b)は要部平面図である。
FIGS. 7A and 7B are diagrams illustrating a state where ultraviolet light irradiation is performed by pressing a pair of superposed substrates, wherein FIG. 7A is a cross-sectional view of a main part and FIG.

【図8】図7の紫外光照射により形成された柱状感光樹
脂のようすを示す図であり、(a)は要部断面図、
(b)は要部平面図である。
8A and 8B are diagrams showing a state of a columnar photosensitive resin formed by irradiation with ultraviolet light in FIG. 7, wherein FIG.
(B) is a main part plan view.

【図9】図8に示された柱状感光樹脂が形成された液晶
表示素子に紫外光照射を行うときのようすを示す図であ
り、(a)は要部断面図、(b)は要部平面図である。
9A and 9B are diagrams illustrating a state where ultraviolet light irradiation is performed on the liquid crystal display element on which the columnar photosensitive resin illustrated in FIG. 8 is formed, wherein FIG. It is a top view.

【図10】図8の紫外光照射により形成された柱状感光
樹脂のようすを示す図であり、(a)は要部断面図、
(b)は要部平面図である。
10A and 10B are diagrams showing a state of a columnar photosensitive resin formed by irradiation with ultraviolet light in FIG. 8, wherein FIG.
(B) is a main part plan view.

【図11】重ね合わせられた一対の基板を真空状態で加
圧して紫外光照射を行うときのようすを示す要部断面図
である。
FIG. 11 is a cross-sectional view of relevant parts showing a state where ultraviolet light irradiation is performed by pressing a pair of superposed substrates in a vacuum state.

【図12】端子部分が露出されていない基板を用いた場
合の素子作製工程を示す要部断面図である。
FIG. 12 is a fragmentary cross-sectional view showing an element manufacturing step when a substrate whose terminal portions are not exposed is used.

【図13】実施例1で作製した基板の概略構造を示す要
部断面図である。
13 is a fragmentary cross-sectional view schematically showing the structure of the substrate manufactured in Example 1. FIG.

【図14】従来の液晶表示素子の製造工程を示す要部断
面図である。
FIG. 14 is a fragmentary cross-sectional view showing a manufacturing step of a conventional liquid crystal display element.

【図15】従来の液晶表示素子の製造工程を示す概念平
面図である。
FIG. 15 is a conceptual plan view illustrating a manufacturing process of a conventional liquid crystal display element.

【図16】従来の液晶表示素子の製造工程を示す概念側
面図である。
FIG. 16 is a conceptual side view showing a manufacturing process of a conventional liquid crystal display element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1’ 基板 2 液晶膜 2a 液晶 13,13’,15,15’ フォトマスク 14,14’柱状樹脂 1,1 'substrate 2 liquid crystal film 2a liquid crystal 13,13', 15,15 'photomask 14,14' columnar resin

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 それぞれ電極を有する一対の基板間に液
晶材料が挟持されて成る液晶表示素子の製造方法におい
て、 前記一対の基板の少なくとも一方の基板の電極側に感光
性材料が混入された液晶材料を塗布又は滴下し、前記一
対の基板の少なくとも一方の基板の電極側にスペーサー
を散布した後、該一対の基板を電極が内側になるように
重ね合わせ、該一対の基板を加圧しながらマスク露光を
行った後徐冷することにより、液晶と感光材料とを相分
離させて前記マスク露光により光が照射された部分に感
光樹脂を形成し前記一対の基板を接着することを特徴と
する液晶表示素子の製造方法。
1. A method of manufacturing a liquid crystal display element comprising a liquid crystal material sandwiched between a pair of substrates each having an electrode, wherein a liquid crystal in which a photosensitive material is mixed on at least one electrode side of the pair of substrates. After applying or dropping a material and dispersing a spacer on the electrode side of at least one of the pair of substrates, the pair of substrates is overlapped so that the electrodes are on the inside, and the mask is pressed while pressing the pair of substrates. The liquid crystal is characterized in that the liquid crystal and the photosensitive material are phase-separated by slow cooling after exposure, a photosensitive resin is formed in a portion irradiated with light by the mask exposure, and the pair of substrates is bonded. A method for manufacturing a display element.
【請求項2】 それぞれ電極を有する一対の基板間に液
晶材料が挟持されて成る液晶表示素子の製造方法におい
て、 前記一対の基板の少なくとも一方の基板の電極側に感光
性材料が混入された液晶材料を塗布又は滴下し、該基板
と他方の基板とを電極が内側になるように重ね合わせ、
該一対の基板間の間隔を調整するように加圧し、該加圧
状態を維持してマスク露光を行った後徐冷することによ
り、液晶と感光材料とを相分離させて前記マスク露光に
より光が照射された部分に感光樹脂を形成し前記一対の
基板を接着することを特徴とする液晶表示素子の製造方
法。
2. A method for manufacturing a liquid crystal display element comprising a liquid crystal material sandwiched between a pair of substrates each having an electrode, wherein a liquid crystal in which a photosensitive material is mixed on at least one electrode side of the pair of substrates. The material is applied or dropped, and the substrate and the other substrate are overlapped so that the electrodes are on the inside,
Pressure is applied to adjust the distance between the pair of substrates, mask exposure is performed while maintaining the pressurized state, and then the liquid crystal and the photosensitive material are phase-separated and light is irradiated by the mask exposure. A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: forming a photosensitive resin in a portion irradiated with a resin; and bonding the pair of substrates.
【請求項3】 前記感光材料が混入された液晶材料を塗
布する工程に、ディスペンサー法、スクリーン印刷法、
又はロールコート法のいずれかを用いることを特徴とす
る請求項1又は2に記載の液晶表示素子の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the step of applying the liquid crystal material mixed with the photosensitive material includes a dispenser method, a screen printing method, and the like.
3. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein any one of a roll coating method and a roll coating method is used.
【請求項4】 前記一対の基板を加圧するのに気体によ
り加圧することを特徴とする請求項1又は2に記載の液
晶表示素子の製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the pair of substrates is pressurized by gas to pressurize the pair of substrates.
【請求項5】 前記一対の基板を重ね合わせる工程と加
圧する工程とを真空中で行うことを特徴とする請求項1
又は2に記載の液晶表示素子の製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein the step of superposing the pair of substrates and the step of pressing are performed in a vacuum.
Or the manufacturing method of the liquid crystal display element of 2.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002148643A (en) * 2000-11-15 2002-05-22 Stanley Electric Co Ltd Liquid crystal device and method for manufacturing the same
KR100780717B1 (en) * 2001-12-21 2007-11-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Mask for forming seal pattern and spacer of liquid crystal panel and mathod for forming seal pattern and spacer using thereof

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