JPH1166957A - Conductor composition - Google Patents
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- JPH1166957A JPH1166957A JP23037397A JP23037397A JPH1166957A JP H1166957 A JPH1166957 A JP H1166957A JP 23037397 A JP23037397 A JP 23037397A JP 23037397 A JP23037397 A JP 23037397A JP H1166957 A JPH1166957 A JP H1166957A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル(以下PDPという)、ハイブリッドIC、
積層チップ部品の内部・外部電極等の電極形成に用いら
れる貴金属コロイド微粒子からなる導体組成物(以下貴
金属ペーストという)に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel (PDP), a hybrid IC,
The present invention relates to a conductor composition (hereinafter, referred to as a noble metal paste) composed of fine particles of a noble metal colloid used for forming electrodes such as internal and external electrodes of a laminated chip component.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、電子工業用貴金属ペーストの応用
技術は急速に拡大して来ており、多種にわたる貴金属が
単一又は複合して活用されている。貴金属ペーストと
は、導電機能材料としての貴金属粉末や貴金属のオルガ
ノメタルを、有機又は無機バインダー、金属酸化物から
なる粘性を付与する媒体に混練分散してペースト状にし
たものである。2. Description of the Related Art In recent years, the application technology of noble metal pastes for the electronic industry has been rapidly expanding, and various kinds of noble metals are used singly or in combination. The noble metal paste is obtained by kneading and dispersing a noble metal powder or a noble metal organometal as a conductive functional material into a viscosity imparting medium made of an organic or inorganic binder or a metal oxide to form a paste.
【0003】電子部品の電極及び導体、抵抗体への金属
膜形成方法として、卑金属又は貴金属のオルガノメタル
(インキ)から金属膜を造る方法や、電気メッキに代表
される湿式メッキにより薄膜を形成させる方法、また、
真空蒸着法、化学蒸着法、スパッタリングなどの乾式メ
ッキにより薄膜を形成させる方法、ならびに卑金属又は
貴金属ペーストを用いて金属膜を形成させる厚膜法とが
ある。従来の概念からすれば、オルガノメタルからなる
ペーストで電極膜を形成する場合、1回の印刷で0.5
μm以上の焼成膜厚を得ることは難しく、十分な電気伝
導を得ることが出来なかった。As a method of forming a metal film on electrodes, conductors, and resistors of electronic components, a method of forming a metal film from a base metal or a noble metal organometal (ink), or a method of forming a thin film by wet plating typified by electroplating. Way, also
There are a method of forming a thin film by dry plating such as a vacuum evaporation method, a chemical vapor deposition method, and sputtering, and a thick film method of forming a metal film using a base metal or a noble metal paste. According to the conventional concept, when an electrode film is formed with a paste made of an organometallic material, a single printing process requires 0.5%.
It was difficult to obtain a fired film thickness of μm or more, and sufficient electric conduction could not be obtained.
【0004】本発明は、オルガノメタルに依るものでな
く、又既存の貴金属粉末を用いたペーストに依るもので
もない、いわば新しい方法の選択に係るものである。従
来の電極形成用のペーストは、平均粒子径が0.5〜4
μmの球状又はフレーク状の貴金属粉を用いるのが常で
あった。それに対し本発明は、PDP、各種ハイブリッ
ドIC、積層チップ部品の内部・外部電極などの電極形
成に、特定の粒子径の貴金属コロイド微粒子を選択して
ペーストとしたことに意味がある。The present invention does not rely on organometals or pastes using existing noble metal powders, but rather on the selection of new methods. Conventional electrode forming pastes have an average particle size of 0.5 to 4
It has been customary to use spherical or flake-shaped noble metal powder of μm. On the other hand, the present invention means that noble metal colloid fine particles having a specific particle diameter are selected and used as a paste for forming electrodes such as PDPs, various hybrid ICs, and internal and external electrodes of a laminated chip component.
【0005】従来は、金又は銀等の貴金属ペーストを、
ソーダライム等のガラス基板、あるいはアルミナ等のセ
ラミック基板上にスクリーン印刷した後500〜100
0℃に焼成するが、その焼成膜厚を5μm以下とするこ
と、及び緻密な焼成膜を得ること、ならびに表面粗さに
ついても中心線平均粗さ(Ra)で0.1μm以下に抑
えることは困難なことであった。Conventionally, a noble metal paste such as gold or silver is
500-100 after screen printing on glass substrate such as soda lime or ceramic substrate such as alumina
It is baked at 0 ° C., but it is necessary to make the baked film thickness 5 μm or less, to obtain a dense baked film, and to suppress the surface roughness to 0.1 μm or less in center line average roughness (Ra). It was difficult.
【0006】PDP製造において、透明電極上に銀ペー
ストを用いて補助電極を形成するが、この補助電極は電
気伝導に支障を与えない限り、薄く且つ平滑に形成させ
ることが好ましい。これは、この補助電極の上に誘電層
としてガラス層が形成されるため、補助電極の膜厚が厚
くなると、実効的にガラス層の厚みを減らしてしまいガ
ラス層の耐電圧を落とす結果につながる。In the production of PDP, an auxiliary electrode is formed on a transparent electrode by using a silver paste. The auxiliary electrode is preferably formed thin and smooth as long as it does not hinder electric conduction. This is because a glass layer is formed as a dielectric layer on the auxiliary electrode, so that when the film thickness of the auxiliary electrode is increased, the thickness of the glass layer is effectively reduced and the withstand voltage of the glass layer is reduced. .
【0007】また、補助電極の表面は、同様の理由で可
及的平滑であることが望ましい。しかしながら、従来の
金や銀ペーストでは、焼成膜表面の平滑性に欠け、ま
た、焼成膜厚が5μm以下で緻密な焼成膜は得られず、
それに伴って導電抵抗値も高くなる。その原因は、貴金
属ペーストに用いる貴金属の粒子径が0.5〜4μmと
大きいため、500℃〜600℃の範囲で焼成した場
合、焼結が十分に進まず粗面化してピンホールが増加す
るためである。It is desirable that the surface of the auxiliary electrode be as smooth as possible for the same reason. However, the conventional gold or silver paste lacks the smoothness of the surface of the fired film, and cannot obtain a dense fired film with a fired film thickness of 5 μm or less.
Accordingly, the conductive resistance value also increases. The cause is that the particle size of the noble metal used for the noble metal paste is as large as 0.5 to 4 μm. Therefore, when firing in the range of 500 ° C. to 600 ° C., sintering does not proceed sufficiently and the surface is roughened and pinholes increase. That's why.
【0008】また、幅50μm以下の微細なパターンを
フォトエッチング法により形成する場合、焼成膜の緻密
性は、より完全でなければならない。ピンホールの多い
焼成膜では、加工しようとするパターンが微細になるほ
ど断線が生じ易くなり、たとえ断線が生じない場合で
も、形成するパターンの導電抵抗値を増大させてしまう
ことになる。In the case where a fine pattern having a width of 50 μm or less is formed by photoetching, the denseness of the fired film must be more complete. In a fired film having many pinholes, the finer the pattern to be processed, the more the disconnection is likely to occur. Even if the disconnection does not occur, the conductive resistance of the formed pattern increases.
【0009】貴金属ペーストを用いた導電性パターン電
極について、特開平3−234085号公報に開示され
ているものは、有機ビヒクルからなる金属ペーストを用
いて平板印刷法により、印刷、焼成して導電性パターン
電極を形成するものであるが、これは電極表面を粗面化
させて電極上部に形成する他の材料との密着性を高める
ためのもので、ピンホールや平滑性は特に問題としない
ものである。両者は、貴金属印刷物組成は似ているが、
本発明とは貴金属ペーストの使用目的も実施の形態も無
関係である。The conductive pattern electrode using a noble metal paste disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 3-234085 is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 3-234085. This is to form a pattern electrode, but this is to roughen the electrode surface and increase the adhesion to other materials formed on the top of the electrode. Pinholes and smoothness are not particularly problematic. It is. Both are similar in precious metal print composition,
The purpose of use of the noble metal paste and the embodiment are irrelevant to the present invention.
【0010】また、特開平8−262906号公報に
は、プリンタ等の電子写真製造におけるトナー定着用ヒ
ートローラの電極リングが開示され、その導電層形成用
ペーストに、金その他銀コロイドを用いる旨記載されて
いる。このものは、クラック防止、接合を課題としてい
るもので、ペースト焼成膜は導電抵抗の高いもので、ペ
ースト組成及び金属粒子に関する詳細についてはふれて
いない。Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-262906 discloses an electrode ring of a heat roller for fixing toner in electrophotographic production of a printer or the like, and describes that gold or other silver colloid is used as a paste for forming a conductive layer. Have been. This has a problem of preventing cracks and joining. The fired paste film has a high conductive resistance, and does not mention details of the paste composition and metal particles.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記したそ
れら種々の問題を解決し、従来法におけるオルガノメタ
ル(インキ)での膜厚では薄過ぎ、また厚膜法では厚過
ぎていた1.5〜3μmの焼成膜厚であっても十分な緻
密性を有し、かつ、ピンホールのない表面平滑性に優れ
た焼成膜を形成することができる貴金属ペーストを提供
することを課題とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned various problems, and the film thickness of the organometallic (ink) in the conventional method is too thin, and that in the thick film method is too thick. It is an object of the present invention to provide a noble metal paste which has a sufficient denseness even with a fired film thickness of 5 to 3 μm and can form a fired film having no pinholes and excellent surface smoothness.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明の解決手段は下記
のとおりである。 1 電子部品の導体用、抵抗体用、電極形成用の貴金属
ペーストにおいて、貴金属コロイド微粒子を有機ビヒク
ルに分散させてなる導体組成物。 2 貴金属コロイド微粒子は、銀であることを特徴とす
る前項1に記載の導体組成物。 3 貴金属コロイド微粒子は、金、パラジウム、銀・パ
ラジウム合金、銀とパラジウムの混合粉であることを特
徴とする前項1記載の導体組成物。 4 貴金属コロイド微粒子は、平均粒子径が0.01〜
0.1μmであることを特徴とする前項1〜3のいずれ
かに記載の導体組成物。 5 貴金属コロイド微粒子は、その粒子形状が不定形で
あることを特徴とする前項1〜4のいずれかに記載の導
体組成物。 6 貴金属コロイド微粒子は、導体組成物中の貴金属成
分中の50重量部以上であることを特徴とする前項1〜
5のいずれかに記載の導体組成物。 7 貴金属コロイド微粒子は、導体組成物中40〜70
重量部含むことを特徴とする前項1〜6のいずれかに記
載の導体組成物。 8 導体組成物は、金属石鹸溶液を含むものであること
を特徴とする前項1記載の導体組成物。 9 金属石鹸溶液は、オクチル酸系、ナフテン酸系の金
属塩であることを特徴とする前項1、8のいずれかに記
載の導体組成物。 10 金属石鹸溶液は、オクチル酸系が鉛、亜鉛、ジル
コニウム、錫、鉄、カドミウム、ニッケル、ビスマス、
マンガン、コバルト金属の何れか一つ以上からなること
を特徴とする前項1、8、9のいずれかに記載の導体組
成物。 11 金属石鹸溶液は、ナフテン酸系が鉛、亜鉛、鉄、
カドミウム、リチウム、マグネシウム、ビスマス、マン
ガン、コバルト、銅金属の何れか一つ以上からなること
を特徴とする前項1、8〜10のいずれかに記載の導体
組成物。 12 金属石鹸溶液は、貴金属100重量部に対して、
金属換算で0.1〜10重量部であることを特徴とする
前項1、8〜11のいずれかに記載の導体組成物。 13 有機ビヒクルは、エチルセルロース、ニトロセル
ロース、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、
感光性樹脂等の樹脂成分を、ブチルカルビトール、パイ
ンオイル、ターピネオール、ジエチルフタレート等の有
機溶剤に溶解したものであることを特徴とする前項1〜
12のいずれかに記載の導体組成物。 14 有機ビヒクルは、貴金属100重量部に対して、
40〜110重量部用いることを特徴とする前項1〜1
3のいずれかに記載の導体組成物。 15 導体組成物は、プラズマディスプレイパネルの電
極形成用貴金属ペーストであることを特徴とする前項1
〜14のいずれかに記載の導体組成物。 16 導体組成物は、焼成膜厚1.5〜3μm、表面粗
さが0.1μm以下で、さらに上面をガラスで被覆す
る、プラズマディスプレイパネルの電極形成用貴金属ペ
ーストであることを特徴とする前項1〜15のいずれか
に記載の導体組成物。The solution of the present invention is as follows. 1. A conductor composition obtained by dispersing noble metal colloid fine particles in an organic vehicle in a noble metal paste for forming a conductor, a resistor, and an electrode of an electronic component. 2. The conductor composition according to item 1, wherein the noble metal colloid fine particles are silver. 3. The conductor composition according to the above 1, wherein the noble metal colloid fine particles are gold, palladium, a silver / palladium alloy, or a mixed powder of silver and palladium. 4 Noble metal colloid fine particles have an average particle diameter of 0.01 to
4. The conductor composition according to any one of items 1 to 3, wherein the thickness is 0.1 μm. (5) The conductor composition according to any one of (1) to (4) above, wherein the noble metal colloid fine particles have an irregular particle shape. 6. The noble metal colloid fine particles are at least 50 parts by weight of the noble metal component in the conductor composition,
6. The conductor composition according to any one of 5. 7 Noble metal colloid fine particles are contained in the conductor composition in an amount of
7. The conductor composition according to any one of items 1 to 6, wherein the conductor composition contains parts by weight. (8) The conductor composition according to the above (1), wherein the conductor composition contains a metal soap solution. 9. The conductor composition according to any one of the above items 1 and 8, wherein the metal soap solution is an octylic acid-based or naphthenic acid-based metal salt. 10 The metal soap solution is octylic acid based on lead, zinc, zirconium, tin, iron, cadmium, nickel, bismuth,
10. The conductor composition according to any one of items 1, 8, and 9, comprising at least one of manganese and cobalt metal. 11 The metal soap solution contains naphthenic acid based on lead, zinc, iron,
11. The conductor composition according to any one of the above items 1, 8 to 10, comprising at least one of cadmium, lithium, magnesium, bismuth, manganese, cobalt, and copper metal. 12 The metal soap solution is based on 100 parts by weight of noble metal.
12. The conductor composition according to any one of the above items 1, 8 to 11, wherein the amount is 0.1 to 10 parts by weight in terms of metal. 13. Organic vehicles include ethyl cellulose, nitrocellulose, acrylates, methacrylates,
A resin component such as a photosensitive resin is dissolved in an organic solvent such as butyl carbitol, pine oil, terpineol, and diethyl phthalate.
13. The conductor composition according to any one of 12. 14 Organic vehicle is based on 100 parts by weight of noble metal
1 to 1 above, wherein 40 to 110 parts by weight are used.
4. The conductor composition according to any one of 3. (15) The conductor composition is a noble metal paste for forming an electrode of a plasma display panel.
15. The conductor composition according to any one of items 14 to 14. 16. The conductor composition is a noble metal paste for forming an electrode of a plasma display panel, wherein the fired film has a thickness of 1.5 to 3 μm, a surface roughness of 0.1 μm or less, and further covers the upper surface with glass. 16. The conductor composition according to any one of 1 to 15.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】本発明において、金属石鹸溶液
は、密着強度向上、ガラス基板を用いた場合の裏面での
発色のコントロール、コロイド微粒子の焼結のコントロ
ール等の付加的な効果を与える目的で添加するが、これ
は貴金属100重量部に対し、金属換算で0.1〜10
重量部であることが望ましく、また、貴金属コロイド微
粒子は、粒子径が0.01〜0.1μmであることが望
ましい。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the present invention, a metal soap solution has an additional effect of improving adhesion strength, controlling color development on the back surface when using a glass substrate, controlling sintering of colloidal fine particles, and the like. Is added in an amount of 0.1 to 10 in terms of metal with respect to 100 parts by weight of noble metal.
The precious metal colloid fine particles preferably have a particle diameter of 0.01 to 0.1 μm.
【0014】また、有機ビヒクルは、エチルセルロー
ス、ニトロセルロース、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル、感光性樹脂等の樹脂を、ブチルカルビト
ール、パインオイル、ターピネオール、ジエチルフタレ
ート等の有機溶剤に溶解したものが望ましい。それらの
配合量は、良好なスクリーン印刷性を保ちつつ、1回の
印刷・焼成工程で焼成膜厚1.5〜3.0μmを形成す
るように選択され、ペースト中40〜110重量部の範
囲で用いるのが好ましい。The organic vehicle is obtained by dissolving a resin such as ethyl cellulose, nitrocellulose, acrylate, methacrylate, or photosensitive resin in an organic solvent such as butyl carbitol, pine oil, terpineol, or diethyl phthalate. desirable. Their blending amounts are selected so as to form a fired film thickness of 1.5 to 3.0 μm in one printing and firing step while maintaining good screen printability, and a range of 40 to 110 parts by weight in the paste. It is preferable to use them.
【0015】上記構成からなる本発明の貴金属ペースト
は、ガラスあるいはセラミック基板上に印刷し、乾燥
し、後500〜1000℃で焼成することにより、焼成
膜厚1.5〜3.0μmで、平滑かつ緻密な貴金属膜を
形成することができる。いわば、貴金属ペーストによる
厚膜法を用いた薄膜形成である。さらに印刷・乾燥を繰
り返すことにより、それ以上の所望の焼成膜厚のものを
得ることも可能である。また、金属石鹸溶液を添加する
ことにより、コロイド微粒子の焼結をコントロールし、
過焼結を抑制し、薄く緻密な焼成膜を得ることができ
る。The noble metal paste of the present invention having the above structure is printed on a glass or ceramic substrate, dried, and then baked at 500 to 1000 ° C. to obtain a baked film having a baked film thickness of 1.5 to 3.0 μm. In addition, a dense noble metal film can be formed. In other words, a thin film is formed by a thick film method using a noble metal paste. Further, by repeating printing and drying, it is also possible to obtain a film having a more desired baked film thickness. Also, by adding a metal soap solution, the sintering of the colloid fine particles is controlled,
Oversintering can be suppressed and a thin and dense fired film can be obtained.
【0016】金属石鹸溶液として、オクチル酸系が、
鉛、亜鉛、ジルコニウム、錫、鉄、カドミウム、ニッケ
ル、ビスマス、マンガン、コバルト金属の何れか一つ以
上からなり、ナフテン酸系が鉛、亜鉛、鉄、カドミウ
ム、リチウム、マグネシウム、ビスマス、マンガン、コ
バルト、銅金属の何れか一つ以上であり、主としてオク
チル酸鉛やナフテン酸ビスマスを多用している。また、
仮に金属石鹸溶液を添加しない場合でも、テープピール
試験程度の密着強度は確保できる。As a metal soap solution, octylic acid is
Lead, zinc, zirconium, tin, iron, cadmium, nickel, bismuth, manganese, cobalt metal, and naphthenic acid based lead, zinc, iron, cadmium, lithium, magnesium, bismuth, manganese, cobalt , Copper metal, and mainly uses lead octylate and bismuth naphthenate in many cases. Also,
Even if the metal soap solution is not added, it is possible to secure the adhesion strength equivalent to the tape peel test.
【0017】貴金属コロイド微粒子を、40〜70重量
部としたことは、40重量部以下だと電極基板に平滑な
連続皮膜が形成されにくく、穴空き部分が発生したり、
導体抵抗も高まって好ましくなく、また、70重量部を
越えると膜厚が不必要に厚くなり、電気的にも経済的に
も無駄が増加する。その他、均一な意図する貴金属コロ
イド液が得られない。The use of 40 to 70 parts by weight of the noble metal colloidal fine particles means that if it is 40 parts by weight or less, a smooth continuous film is not easily formed on the electrode substrate, and a hole is formed,
The conductor resistance is also undesirably increased, and if it exceeds 70 parts by weight, the film thickness becomes unnecessarily thick, and waste is increased both electrically and economically. In addition, a uniform intended noble metal colloid liquid cannot be obtained.
【0018】また、本発明におけるペーストに用いる貴
金属は、金、銀、パラジウム、銀・パラジウム合金、銀
とパラジウムとの混合粉であっても、何れも均等な効果
をもたらす。最も好ましい実施の形態は銀であるが、コ
ロイド成分中に貴金属が50重量部以上含有しているも
のであれば同様の効果が得られる。The noble metal used in the paste of the present invention has a uniform effect even if it is gold, silver, palladium, a silver-palladium alloy, or a mixed powder of silver and palladium. The most preferred embodiment is silver, but the same effect can be obtained if the noble metal is contained in the colloid component in an amount of 50 parts by weight or more.
【0019】本発明において特筆する点は、0.01〜
0.1μmの銀コロイド微粒子を用いることで、従来の
概念からすれば非常に困難とされていた厚み1〜3μm
でピンホールのない、しかも平滑性に富む焼成電極膜を
容易に形成できたことである。実施に際し用いる貴金属
コロイド微粒子形状は不定形であり、フレーク状、球
状、その他の形状の粒子及び粒子径が混在するものでも
良く、重要な点は微粒子の粒子径にあることは前記のと
おりである。In the present invention, it should be noted that 0.01 to
By using silver colloid fine particles of 0.1 μm, a thickness of 1 to 3 μm, which was considered to be extremely difficult from the conventional concept,
Thus, a fired electrode film having no pinholes and having high smoothness could be easily formed. The shape of the noble metal colloid fine particles used in the implementation is irregular, and flakes, spheres, and other shapes of particles and particle diameters may be mixed, and the important point is that the particle diameter of the fine particles is as described above. .
【0020】用途の面についてみれば、本発明はPDP
の電極用貴金属ペーストであるが、例えば、焼成膜厚
1.5〜3μmで、表面粗さが0.1μm以下で、さら
に上面をガラスで被覆する補助電極等にも好適であり、
その他の用途としては、ハイブリッドIC、積層チップ
部品の内部・外部電極等の電極形成にも用いられるのは
言うまでもない。In terms of applications, the present invention relates to a PDP
Is a noble metal paste for electrodes, for example, a fired film thickness of 1.5 to 3 μm, a surface roughness of 0.1 μm or less, and is also suitable for an auxiliary electrode or the like that further covers the upper surface with glass,
Needless to say, it is also used for forming electrodes such as internal and external electrodes of hybrid ICs and laminated chip components.
【0021】[0021]
【実施例】銀粒子径が0.1μmの銀コロイド粒子、有
機ビヒクル、金属石鹸溶液を、表1に記載した割合で混
合しペースト状にした。有機ビヒクルはエチルセルロー
スをターピネオールに溶解したものを用いた。また、金
属石鹸溶液はオクチル酸鉛石鹸をミネラルスピリットに
溶解したものを使用する。これらの銀ペーストをスクリ
ーンメッシュ#325で、ソーダライムガラス基板上に
印刷し、120℃で乾燥後550℃で焼成し、焼成膜厚
1.5〜3.0μmとなるよう銀膜を形成した。EXAMPLE A silver colloid particle having a silver particle diameter of 0.1 μm, an organic vehicle, and a metal soap solution were mixed at the ratios shown in Table 1 to form a paste. The organic vehicle used was ethyl cellulose dissolved in terpineol. As the metal soap solution, a solution obtained by dissolving lead octylate soap in mineral spirits is used. These silver pastes were printed on a soda-lime glass substrate using a screen mesh # 325, dried at 120 ° C, and fired at 550 ° C, to form a silver film having a fired film thickness of 1.5 to 3.0 µm.
【0022】これらの銀膜に関し、膜の緻密さを透過型
電子顕微鏡により評価し、膜の平滑性を表面粗さ計を用
いて調べ、中心線表面粗さ(Ra)で評価した。また、
密着性はテープピールテストにより評価した。この結果
を下記の表1(次頁)に示す。この結果から見て、本発
明の実施例によって作製した銀膜は何れも膜厚が3.0
μm以下で、Raが0.1μm以下の極めて平滑で、か
つ膜の緻密性に優れた良好なものである。これに対し
て、比較例のものについては膜厚、表面平滑性、緻密性
がともに劣っていることが判る。なお、この実施例は一
例として銀電極について評価したが、前記した他の貴金
属についても用途、仕様により均等な効果を奏し、それ
も本発明に含まれる。With respect to these silver films, the densities of the films were evaluated by a transmission electron microscope, the smoothness of the films was examined using a surface roughness meter, and the center line surface roughness (Ra) was evaluated. Also,
The adhesion was evaluated by a tape peel test. The results are shown in Table 1 below (next page). From these results, the silver films manufactured according to the examples of the present invention all have a thickness of 3.0.
It is very smooth, having a Ra of 0.1 μm or less and having an Ra of 0.1 μm or less, and is excellent in denseness of the film. On the other hand, it can be seen that the film thickness, surface smoothness and denseness of the comparative example are inferior. In this example, the silver electrode was evaluated as an example. However, the same effects as those of the above-mentioned other noble metals can be obtained depending on the application and specifications, which are also included in the present invention.
【0023】また、図1〜図3として、本発明の実施例
で用いる銀コロイド微粒子からなる銀ペーストの透過型
電子顕微鏡写真を示した。図1は倍率5万倍、図2及び
図3は夫々20万倍に拡大した銀コロイド微粒子で、そ
れらの微粒子径は0.01〜0.1μmで、粒状は不定
形であることが窺知できる。FIGS. 1 to 3 show transmission electron micrographs of a silver paste composed of silver colloidal fine particles used in Examples of the present invention. FIG. 1 shows 50,000 times magnification, and FIGS. 2 and 3 each show silver colloid fine particles magnified 200,000 times. The fine particles have a diameter of 0.01 to 0.1 μm, and it can be seen that the particles are amorphous. it can.
【0024】[0024]
【表1】 *1 ビスマスの金属石鹸溶液(ビスマス濃度25%)[Table 1] * 1 Bismuth metal soap solution (bismuth concentration 25%)
【0025】[0025]
【発明の効果】以上に詳記したとおり、本発明による貴
金属、特に銀を用いた場合は特定のコロイド微粒子を含
むペーストを用いたことにより、スクリーン印刷した電
極は、焼成膜厚が1.5〜3μmと極めて薄く、しかも
平滑性と緻密性に優れピンホールのない、断線や電気的
ロスもなく導電抵抗値が低いという特別顕著な作用効果
を奏し、その他の貴金属コロイド微粒子からなる導体組
成物も、その用途、仕様により0.01〜0.1μmの
粒子径の範囲にあれば薄膜形成が可能であり、銀と同様
に均等な作用効果を奏する。As described in detail above, when a noble metal according to the present invention, particularly silver, is used, a paste containing specific colloidal fine particles is used. Conductive composition made of other noble metal colloidal fine particles, which is extremely thin as 3 μm, has excellent smoothness and denseness, has no pinholes, has no remarkable action such as no disconnection or electrical loss, and has a low conductive resistance. Also, depending on its use and specifications, a thin film can be formed as long as the particle diameter is in the range of 0.01 to 0.1 μm, and the same effect as silver can be obtained.
【0026】[0026]
図1 本発明の実施例における導体組成物(貴金属ペースト)
の透過型電子顕微鏡写真(倍率5万倍) 図2 同写真(倍率20万倍) 図3 同写真(倍率20万倍)Fig. 1 Conductive composition (noble metal paste) in an embodiment of the present invention
Transmission electron micrograph (magnification: 50,000 times) of Fig. 2 Same photograph (magnification: 200,000 times) Fig. 3 Same photograph (magnification: 200,000 times)
Claims (16)
用の貴金属ペーストにおいて、貴金属コロイド微粒子を
有機ビヒクルに分散させてなる導体組成物。1. A conductive composition comprising a noble metal colloidal fine particle dispersed in an organic vehicle in a noble metal paste for forming a conductor, a resistor, and an electrode of an electronic component.
を特徴とする請求項1に記載の導体組成物。2. The conductor composition according to claim 1, wherein the noble metal colloid fine particles are silver.
ム、銀・パラジウム合金、銀とパラジウムの混合粉であ
ることを特徴とする請求項1記載の導体組成物。3. The conductor composition according to claim 1, wherein the noble metal colloid fine particles are gold, palladium, a silver / palladium alloy, or a mixed powder of silver and palladium.
0.01〜0.1μmであることを特徴とする請求項1
〜3のいずれかに記載の導体組成物。4. The precious metal colloid fine particles have an average particle diameter of 0.01 to 0.1 μm.
4. The conductor composition according to any one of items 1 to 3.
が不定形であることを特徴とする請求項1〜4のいずれ
かに記載の導体組成物。5. The conductor composition according to claim 1, wherein the noble metal colloid fine particles have an irregular particle shape.
中の金属成分中の50重量部以上であることを特徴とす
る請求項1〜5のいずれかに記載の導体組成物。6. The conductor composition according to claim 1, wherein the amount of the noble metal colloid fine particles is at least 50 parts by weight in the metal component in the colloid solution.
40〜70重量部含むことを特徴とする請求項1〜6の
いずれかに記載の導体組成物。7. The conductor composition according to claim 1, wherein the noble metal colloid fine particles are contained in the conductor composition in an amount of 40 to 70 parts by weight.
であることを特徴とする請求項1記載の導体組成物。8. The conductor composition according to claim 1, wherein the conductor composition contains a metal soap solution.
ン酸系の金属塩であることを特徴とする請求項1、8の
いずれかに記載の導体組成物。9. The conductor composition according to claim 1, wherein the metal soap solution is an octylic acid-based or naphthenic acid-based metal salt.
亜鉛、ジルコニウム、錫、鉄、カドミウム、ニッケル、
ビスマス、マンガン、コバルト金属の何れか一つ以上か
らなることを特徴とする請求項1、8、9のいずれかに
記載の導体組成物。10. The metal soap solution, wherein the octylic acid is lead,
Zinc, zirconium, tin, iron, cadmium, nickel,
10. The conductor composition according to claim 1, comprising at least one of bismuth, manganese, and cobalt metal.
亜鉛、鉄、カドミウム、リチウム、マグネシウム、ビス
マス、マンガン、コバルト、銅金属の何れか一つ以上か
らなることを特徴とする請求項1、8〜10のいずれか
に記載の導体組成物。11. The metal soap solution, wherein the naphthenic acid is lead,
The conductor composition according to any one of claims 1, 8 to 10, comprising at least one of zinc, iron, cadmium, lithium, magnesium, bismuth, manganese, cobalt, and copper metal.
に対して、金属換算で0.1〜10重量部であることを
特徴とする請求項1、8〜11のいずれかに記載の導体
組成物。12. The conductor composition according to claim 1, wherein the metal soap solution is 0.1 to 10 parts by weight in terms of metal with respect to 100 parts by weight of noble metal. Stuff.
ニトロセルロース、アクリル酸エステル、メタクリル酸
エステル、感光性樹脂等の樹脂成分を、ブチルカルビト
ール、パインオイル、ターピネオール、ジエチルフタレ
ート等の有機溶剤に溶解したものであることを特徴とす
る請求項1〜12のいずれかに記載の導体組成物。13. The organic vehicle is ethyl cellulose,
A resin component such as nitrocellulose, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and photosensitive resin is dissolved in an organic solvent such as butyl carbitol, pine oil, terpineol, and diethyl phthalate. 13. The conductor composition according to any one of 12.
に対して、40〜110重量部用いることを特徴とする
請求項1〜13のいずれかに記載の導体組成物。14. The conductor composition according to claim 1, wherein the organic vehicle is used in an amount of 40 to 110 parts by weight based on 100 parts by weight of the noble metal.
パネルの電極形成用貴金属ペーストであることを特徴と
する請求項1〜14のいずれかに記載の導体組成物。15. The conductor composition according to claim 1, wherein the conductor composition is a noble metal paste for forming an electrode of a plasma display panel.
m、表面粗さが0.1μm以下で、さらに上面をガラス
で被覆する、プラズマディスプレイパネルの電極形成用
貴金属ペーストであることを特徴とする請求項1〜15
のいずれかに記載の導体組成物。16. The conductive composition has a fired film thickness of 1.5 to 3 μm.
m, a precious metal paste for forming electrodes of a plasma display panel, wherein the surface roughness is 0.1 μm or less and the upper surface is further covered with glass.
The conductor composition according to any one of the above.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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