JPH1166637A - 露光方法及び露光装置、ならびに原盤及び光ディスク - Google Patents
露光方法及び露光装置、ならびに原盤及び光ディスクInfo
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- JPH1166637A JPH1166637A JP9222742A JP22274297A JPH1166637A JP H1166637 A JPH1166637 A JP H1166637A JP 9222742 A JP9222742 A JP 9222742A JP 22274297 A JP22274297 A JP 22274297A JP H1166637 A JPH1166637 A JP H1166637A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 専用機や光学系装置の交換再調整が不必要な
露光方法及び露光装置を提供し、これらを用いて高品位
の原盤及び光ディスクの提供。 【解決手段】 レーザ光源１からの出射光を減光する減
光手段（可変遮光器２）とこの出射光を二つに分光する
分光手段（分光器３）とを配置し、分光手段で分光され
た一方の光を光量検出手段（光量検出器５）に入射させ
て光量を測定し、この光量に基づく信号を光量検出手段
から減光手段に供給して減光手段を透過する出射光の光
量を制御し、分光手段で分光された他方の光を対物レン
ズ８を用い集光した集光スポットを原盤上に形成された
フォトレジスト膜に照射して露光する露光方法におい
て、分光手段と光量検出手段との間の光軸上に配置し
た、挿入と待避とが選択可能なＮＤフィルタ１０等で構
成された光量制限手段（ＮＤフィルタ切換装置４）によ
り光量検出手段に入射する光量をほぼ一定とする。
露光方法及び露光装置を提供し、これらを用いて高品位
の原盤及び光ディスクの提供。 【解決手段】 レーザ光源１からの出射光を減光する減
光手段（可変遮光器２）とこの出射光を二つに分光する
分光手段（分光器３）とを配置し、分光手段で分光され
た一方の光を光量検出手段（光量検出器５）に入射させ
て光量を測定し、この光量に基づく信号を光量検出手段
から減光手段に供給して減光手段を透過する出射光の光
量を制御し、分光手段で分光された他方の光を対物レン
ズ８を用い集光した集光スポットを原盤上に形成された
フォトレジスト膜に照射して露光する露光方法におい
て、分光手段と光量検出手段との間の光軸上に配置し
た、挿入と待避とが選択可能なＮＤフィルタ１０等で構
成された光量制限手段（ＮＤフィルタ切換装置４）によ
り光量検出手段に入射する光量をほぼ一定とする。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は露光方法及び露光装
置、ならびに原盤及び光ディスクに関し、さらに詳しく
は、規格等の異なる多種類の光記録媒体を作製するため
の原盤作製に好適な露光方法及び露光装置、ならびに原
盤及び光ディスクに関する。
置、ならびに原盤及び光ディスクに関し、さらに詳しく
は、規格等の異なる多種類の光記録媒体を作製するため
の原盤作製に好適な露光方法及び露光装置、ならびに原
盤及び光ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、光記録再生装置に供される光記
録媒体の一例である光ディスクは、フォトリソグラフィ
技術を用いて所用の凹凸パターンを形成した光ディスク
原盤を作製し、この光ディスク原盤を用いてスタンパを
作製し、このスタンパを用いたプラスチック成形、いわ
ゆるレプリカとして作製される。以下、従来の光ディス
ク原盤を作製する露光装置について、概略光学系構成図
である図３を参照して説明する。
録媒体の一例である光ディスクは、フォトリソグラフィ
技術を用いて所用の凹凸パターンを形成した光ディスク
原盤を作製し、この光ディスク原盤を用いてスタンパを
作製し、このスタンパを用いたプラスチック成形、いわ
ゆるレプリカとして作製される。以下、従来の光ディス
ク原盤を作製する露光装置について、概略光学系構成図
である図３を参照して説明する。
【０００３】レーザ光源１から出射された平行なレーザ
光（図中の二点鎖線）は、減光手段である可変遮光器２
で減光された後、分光手段である分光器３により二つに
分光される。分光器３で反射されたレーザ光は光量検出
手段である光量検出器５に入射し、この光量検出器５に
入射したレーザ光の光量に基づく信号が光量検出器５か
ら可変遮光器２にフィードバックされ、レーザ光源１か
ら出射されたレーザ光が可変遮光器２透過後に所定の光
量となるように制御される。分光器３を透過したレーザ
光は可変絞り装置６により所定のビーム径にされ、ミラ
ー７で反射され、対物レンズ８により光ディスク原盤９
上に形成されたレジスト膜に集光される。
光（図中の二点鎖線）は、減光手段である可変遮光器２
で減光された後、分光手段である分光器３により二つに
分光される。分光器３で反射されたレーザ光は光量検出
手段である光量検出器５に入射し、この光量検出器５に
入射したレーザ光の光量に基づく信号が光量検出器５か
ら可変遮光器２にフィードバックされ、レーザ光源１か
ら出射されたレーザ光が可変遮光器２透過後に所定の光
量となるように制御される。分光器３を透過したレーザ
光は可変絞り装置６により所定のビーム径にされ、ミラ
ー７で反射され、対物レンズ８により光ディスク原盤９
上に形成されたレジスト膜に集光される。
【０００４】上記した事例では、分光器３で反射された
レーザ光が直接光量検出器５に入射して光量に基づくパ
ワーを測定するため、光量検出器５においては最も高精
度で検出できる範囲内で使用しなければならない制約が
あり、また、異なるピット形状の光ディスク原盤９を作
製するために可変絞り装置６の絞り径を変化させる際に
は、ピット形状に対応して可変絞り装置６に入射するレ
ーザ光の光量を制御する必要がある。
レーザ光が直接光量検出器５に入射して光量に基づくパ
ワーを測定するため、光量検出器５においては最も高精
度で検出できる範囲内で使用しなければならない制約が
あり、また、異なるピット形状の光ディスク原盤９を作
製するために可変絞り装置６の絞り径を変化させる際に
は、ピット形状に対応して可変絞り装置６に入射するレ
ーザ光の光量を制御する必要がある。
【０００５】図４は光量検出器５に入射するレーザ光の
光量と光量検出器５からの出力電圧との関係を示したグ
ラフである。同図に示したように、光量検出器５に入射
するレーザ光の光量とこの光量に基づく光量検出器５か
らの出力電圧との関係は非線形である。即ち、図中のＡ
及びＦで示した範囲は入射するレーザ光の光量の変化に
対して光量検出器５からの出力電圧に変化があらわれ
ず、これらの範囲ではレーザ光のパワー測定が困難であ
り、図中のＢ及びＥで示した範囲は入射するレーザ光の
光量とこの光量に基づく光量検出器５の出力電圧との関
係が線形でないために光量に基づくパワー測定が困難で
あり、図中のＣで示した範囲は入射するレーザ光の光量
と光量検出器５の出力電圧との関係が線形はあるが、出
力電圧が小であるために良好なＳ／Ｎの信号が得られ
ず、図中のＤに示した範囲のみが入射するレーザ光の光
量と光量検出器５の出力電圧との関係が線形であるとと
もに、良好なＳ／Ｎの信号を得ることができる。従っ
て、光量検出器５に入射するレーザ光の光量によって
は、光量に基づくパワーを高精度で測定できる範囲外と
なるとともに、レーザ光の光量に基づくパワーの測定精
度が悪化する虞があり、結果的に高品位の光ディスク原
盤９が得られず高品位の光ディスクも得るこができなか
った。対策としては光量検出器５を複数個使用する方法
も考えられるが、費用、メンテナンス及びスペースの点
で問題であった。
光量と光量検出器５からの出力電圧との関係を示したグ
ラフである。同図に示したように、光量検出器５に入射
するレーザ光の光量とこの光量に基づく光量検出器５か
らの出力電圧との関係は非線形である。即ち、図中のＡ
及びＦで示した範囲は入射するレーザ光の光量の変化に
対して光量検出器５からの出力電圧に変化があらわれ
ず、これらの範囲ではレーザ光のパワー測定が困難であ
り、図中のＢ及びＥで示した範囲は入射するレーザ光の
光量とこの光量に基づく光量検出器５の出力電圧との関
係が線形でないために光量に基づくパワー測定が困難で
あり、図中のＣで示した範囲は入射するレーザ光の光量
と光量検出器５の出力電圧との関係が線形はあるが、出
力電圧が小であるために良好なＳ／Ｎの信号が得られ
ず、図中のＤに示した範囲のみが入射するレーザ光の光
量と光量検出器５の出力電圧との関係が線形であるとと
もに、良好なＳ／Ｎの信号を得ることができる。従っ
て、光量検出器５に入射するレーザ光の光量によって
は、光量に基づくパワーを高精度で測定できる範囲外と
なるとともに、レーザ光の光量に基づくパワーの測定精
度が悪化する虞があり、結果的に高品位の光ディスク原
盤９が得られず高品位の光ディスクも得るこができなか
った。対策としては光量検出器５を複数個使用する方法
も考えられるが、費用、メンテナンス及びスペースの点
で問題であった。
【０００６】以下、上記した従来の露光装置を用いて光
ディスク原盤９を作製し、この光ディスク原盤９からス
タンパを作製するまでの製造工程順について、再び図３
を参照して説明する。
ディスク原盤９を作製し、この光ディスク原盤９からス
タンパを作製するまでの製造工程順について、再び図３
を参照して説明する。
【０００７】先ず、光ディスク原盤９の表面を十分に研
磨した後、これを十分に洗浄する。
磨した後、これを十分に洗浄する。
【０００８】次に、光ディスク原盤９上に、例えば露光
処理によりアルカリ可溶性に変化するフォトレジスト膜
を約１００ｎｍの厚さに塗布する。一般的に、この塗布
工程は回転塗布法により行われる。
処理によりアルカリ可溶性に変化するフォトレジスト膜
を約１００ｎｍの厚さに塗布する。一般的に、この塗布
工程は回転塗布法により行われる。
【０００９】次に、露光光学系における対物レンズ８に
より形成された集光スポットをフォトレジスト膜に集光
して露光する。このとき、光ディスク原盤９を回転させ
ながらレーザ光を一回転あたり所定のトラックピッチで
半径方向に移動させるとともに、例えば、レーザ光を断
続的に照射してフォトレジスト膜にスパイラル状のピッ
ト列の潜像を形成する。
より形成された集光スポットをフォトレジスト膜に集光
して露光する。このとき、光ディスク原盤９を回転させ
ながらレーザ光を一回転あたり所定のトラックピッチで
半径方向に移動させるとともに、例えば、レーザ光を断
続的に照射してフォトレジスト膜にスパイラル状のピッ
ト列の潜像を形成する。
【００１０】次に、フォトレジスト膜に形成された潜像
を、例えばアルカリ性現像液で現像することにより露光
部、即ち、フォトレジスト膜の感光部分を除去すること
により光ディスク原盤９が完成する。
を、例えばアルカリ性現像液で現像することにより露光
部、即ち、フォトレジスト膜の感光部分を除去すること
により光ディスク原盤９が完成する。
【００１１】次に、光ディスク原盤９上に、例えばスパ
ッタ法や無電解メッキ法を用いて厚さが約３００μｍの
ニッケルメッキを形成する。
ッタ法や無電解メッキ法を用いて厚さが約３００μｍの
ニッケルメッキを形成する。
【００１２】次に、光ディスク原盤９上に形成されたニ
ッケルメッキを剥がし、付着しているフォトレジスト膜
を洗浄除去した後に形状を整え、スタンパが完成する。
ッケルメッキを剥がし、付着しているフォトレジスト膜
を洗浄除去した後に形状を整え、スタンパが完成する。
【００１３】上記した工程においては、後の複数の工程
を経て作製される光ディスクが規格を満足するように慎
重に工程条件を決定する必要がある。例えば、ＣＤ（商
品名、Ｃｏｍｐａｃｔ Ｄｉｓｃ）はピット長が０．９
〜３．３μｍ、ピット幅が０．５〜０．８μｍ、トラッ
クピッチが１．６μｍであり、ＤＶＤ（商品名、Ｄｉｇ
ｉｔａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｃ）はピット長
が０．４〜１．８７μｍ、ピット幅が０．４μｍ以下、
トラックピッチが０．７４μｍであり、これらの異なる
規格の光ディスク原盤９を同じ露光装置で作製するに
は、露光装置に取り付けられていた調整済みの光学系装
置や部品を取り外した後、作製する光ディスクの種類に
対応するこれらの光学系装置や部品を取り付け、再調整
する。あるいは、一種類の光ディスクに対応した専用の
露光装置を用意するかであった。しかしながら、異なる
種類の光ディスク原盤９を同じ露光装置を用いて作製す
る場合では、光学系装置や部品を交換して調整するのに
多くの工数を必要とするのみならず、調整後において安
定した性能の保証が困難であった。また、一種類の光デ
ィスクに対応して専用の露光装置を用意するものでは設
備費用や設置面積が大となる問題があった。
を経て作製される光ディスクが規格を満足するように慎
重に工程条件を決定する必要がある。例えば、ＣＤ（商
品名、Ｃｏｍｐａｃｔ Ｄｉｓｃ）はピット長が０．９
〜３．３μｍ、ピット幅が０．５〜０．８μｍ、トラッ
クピッチが１．６μｍであり、ＤＶＤ（商品名、Ｄｉｇ
ｉｔａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｃ）はピット長
が０．４〜１．８７μｍ、ピット幅が０．４μｍ以下、
トラックピッチが０．７４μｍであり、これらの異なる
規格の光ディスク原盤９を同じ露光装置で作製するに
は、露光装置に取り付けられていた調整済みの光学系装
置や部品を取り外した後、作製する光ディスクの種類に
対応するこれらの光学系装置や部品を取り付け、再調整
する。あるいは、一種類の光ディスクに対応した専用の
露光装置を用意するかであった。しかしながら、異なる
種類の光ディスク原盤９を同じ露光装置を用いて作製す
る場合では、光学系装置や部品を交換して調整するのに
多くの工数を必要とするのみならず、調整後において安
定した性能の保証が困難であった。また、一種類の光デ
ィスクに対応して専用の露光装置を用意するものでは設
備費用や設置面積が大となる問題があった。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、規格
等の異なる多種類の光記録媒体を作製するための原盤作
製に、専用機を用意するあるいは一台の露光装置に取り
付けられた光学系装置や部品等の交換再調整を必要とし
ない露光方法及露光装置を提供し、これらを用いて高品
位の原盤及び光ディスクを提供することである。
等の異なる多種類の光記録媒体を作製するための原盤作
製に、専用機を用意するあるいは一台の露光装置に取り
付けられた光学系装置や部品等の交換再調整を必要とし
ない露光方法及露光装置を提供し、これらを用いて高品
位の原盤及び光ディスクを提供することである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の露光方法では、レーザ光源からの出射光の
光軸上に、この出射光を減光する減光手段とこの出射光
を二つに分光する分光手段とを配置し、分光手段で分光
された一方の光を光量検出手段に入射させて光量を測定
するとともに、この光量に基づく信号を光量検出手段か
ら減光手段に供給して減光手段を透過するレーザ光源か
らの出射光の光量を制御し、分光手段で分光された他方
の光を対物レンズを用い集光して集光スポットを形成
し、この集光スポットを原盤上に形成されたフォトレジ
スト膜に照射して露光する露光方法において、分光手段
と光量検出手段との間の光軸上に配置した、挿入と待避
とが選択可能なＮＤフィルタ等で構成された光量制限手
段により光量検出手段に入射する光量をほぼ一定とする
ことを特徴とする。また、この露光方法により作製され
た原盤と、この原盤を用いて作製された光ディスクを特
徴とする。
に、本発明の露光方法では、レーザ光源からの出射光の
光軸上に、この出射光を減光する減光手段とこの出射光
を二つに分光する分光手段とを配置し、分光手段で分光
された一方の光を光量検出手段に入射させて光量を測定
するとともに、この光量に基づく信号を光量検出手段か
ら減光手段に供給して減光手段を透過するレーザ光源か
らの出射光の光量を制御し、分光手段で分光された他方
の光を対物レンズを用い集光して集光スポットを形成
し、この集光スポットを原盤上に形成されたフォトレジ
スト膜に照射して露光する露光方法において、分光手段
と光量検出手段との間の光軸上に配置した、挿入と待避
とが選択可能なＮＤフィルタ等で構成された光量制限手
段により光量検出手段に入射する光量をほぼ一定とする
ことを特徴とする。また、この露光方法により作製され
た原盤と、この原盤を用いて作製された光ディスクを特
徴とする。
【００１６】本発明の露光装置では、少なくともレーザ
光源と、レーザ光源からの出射光を減光する減光手段
と、レーザ光源からの出射光を二つに分光する分光手段
と、分光手段で分光された一方の光の光量を測定すると
ともに、この光量に基づく信号を減光手段に供給して減
光手段を透過するレーザ光源からの出射光の光量を制御
する光量検出手段と、分光手段で分光された他方の光を
集光して集光スポットを形成するとともに、この集光ス
ポットを原盤上に形成されたフォトレジスト膜に照射し
て露光する対物レンズとを有する露光装置において、分
光手段と光量検出手段との間の光軸上に、光量検出手段
に入射する光量をほぼ一定とするＮＤフィルタ等で構成
された光量制限手段の、挿入と待避とが選択可能な制御
手段を有することを特徴とする。また、この露光装置に
より作製された原盤と、この原盤を用いて作製された光
ディスクを特徴とする。
光源と、レーザ光源からの出射光を減光する減光手段
と、レーザ光源からの出射光を二つに分光する分光手段
と、分光手段で分光された一方の光の光量を測定すると
ともに、この光量に基づく信号を減光手段に供給して減
光手段を透過するレーザ光源からの出射光の光量を制御
する光量検出手段と、分光手段で分光された他方の光を
集光して集光スポットを形成するとともに、この集光ス
ポットを原盤上に形成されたフォトレジスト膜に照射し
て露光する対物レンズとを有する露光装置において、分
光手段と光量検出手段との間の光軸上に、光量検出手段
に入射する光量をほぼ一定とするＮＤフィルタ等で構成
された光量制限手段の、挿入と待避とが選択可能な制御
手段を有することを特徴とする。また、この露光装置に
より作製された原盤と、この原盤を用いて作製された光
ディスクを特徴とする。
【００１７】上述した手段によれば、光量検出手段に入
射するレーザ光の光量は、光量検出手段において高精度
で測定できる範囲内となり、この光量に基づく光量検出
手段からの出力電圧がフィードバックされる減光手段に
おいて、レーザ光源から出射されたレーザ光を所定の光
量となるように高精度に制御する露光方法及び露光装置
が提供できる。従って、この露光装置を一台用意して共
用すれば、例えば規格の異なる多種類の光ディスク原盤
の作製において、ＮＤフィルタ等の光量制限手段の挿入
あるいは待避により短時間で対応することができ、また
ＮＤフィルタ等の光量制限手段の遮光率を選択すること
により光ディスク原盤のレジスト膜に照射されるレーザ
光のパワーを高精度に制御することができる。これによ
り、高品位な光ディスク原盤が得られ、結果的に高品位
の光ディスクを得ることができる。
射するレーザ光の光量は、光量検出手段において高精度
で測定できる範囲内となり、この光量に基づく光量検出
手段からの出力電圧がフィードバックされる減光手段に
おいて、レーザ光源から出射されたレーザ光を所定の光
量となるように高精度に制御する露光方法及び露光装置
が提供できる。従って、この露光装置を一台用意して共
用すれば、例えば規格の異なる多種類の光ディスク原盤
の作製において、ＮＤフィルタ等の光量制限手段の挿入
あるいは待避により短時間で対応することができ、また
ＮＤフィルタ等の光量制限手段の遮光率を選択すること
により光ディスク原盤のレジスト膜に照射されるレーザ
光のパワーを高精度に制御することができる。これによ
り、高品位な光ディスク原盤が得られ、結果的に高品位
の光ディスクを得ることができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明の露光方法及びこれを用い
た露光装置は、光量検出手段に入射するレーザ光の光量
を、光量検出手段において高精度で測定できる範囲内に
制御し、この光量に基づく光量検出手段からの出力電圧
がフィードバックされる減光手段において、レーザ光源
から出射されたレーザ光を所定の光量となるように高精
度に制御するものである。例えば、光量検出器の手前に
レーザ光の透過面の全面にわたって均一な遮光率を有す
るＮＤフィルタ等の光量制限手段の、挿入と待避とが選
択可能な制御手段を設けるものである。以下、本発明を
適用した実施の形態例について図１〜図２を参照して説
明するが、本発明の露光装置の概略構成は、光量検出器
の手前にＮＤフィルタ等の光量制限手段の挿入と待避と
が選択可能な制御手段を設けた点で従来の技術において
図３を参照して説明した事例の露光装置と異なり、他は
同様であるので重複する説明は省略する。なお、図中の
構成要素で従来の技術と同様の構造を成しているものに
ついては、同一の参照符号を付すものとする。また、本
発明は以下に示した実施の形態例に限定されるものでは
ない。
た露光装置は、光量検出手段に入射するレーザ光の光量
を、光量検出手段において高精度で測定できる範囲内に
制御し、この光量に基づく光量検出手段からの出力電圧
がフィードバックされる減光手段において、レーザ光源
から出射されたレーザ光を所定の光量となるように高精
度に制御するものである。例えば、光量検出器の手前に
レーザ光の透過面の全面にわたって均一な遮光率を有す
るＮＤフィルタ等の光量制限手段の、挿入と待避とが選
択可能な制御手段を設けるものである。以下、本発明を
適用した実施の形態例について図１〜図２を参照して説
明するが、本発明の露光装置の概略構成は、光量検出器
の手前にＮＤフィルタ等の光量制限手段の挿入と待避と
が選択可能な制御手段を設けた点で従来の技術において
図３を参照して説明した事例の露光装置と異なり、他は
同様であるので重複する説明は省略する。なお、図中の
構成要素で従来の技術と同様の構造を成しているものに
ついては、同一の参照符号を付すものとする。また、本
発明は以下に示した実施の形態例に限定されるものでは
ない。
【００１９】図１は、本発明を適用した露光装置の一例
を示す概略光学系構成図である。光量制限手段の挿入と
待避とが選択可能な制御手段であるＮＤフィルタ切換装
置４は、光量検出器５の手前の光軸上にＮＤフィルタ１
０を挿入して光量検出器５に入射するレーザ光の光量を
減少させたり、ＮＤフィルタ１０を光軸外に待避させて
光量検出器５に入射するレーザ光の光量を減少させずに
通過させたりするものである。即ち、光量検出器５に入
射するレーザ光の光量が小であるときはＮＤフィルタ１
０を待避させて光量検出器５で直接測定し、光量検出器
５に入射するレーザ光の光量が大であるときはＮＤフィ
ルタ１０を光軸上に挿入して減光させた上で光量検出器
５で測定する。従って、光量検出器５には常に一定の光
量のレーザ光が入射することとなり、光量検出器５で
は、入射するレーザ光の光量とこの光量に基づいて出力
される出力電圧との関係が最も高精度となる状態に制御
することができる。以下、ＮＤフィルタ切換装置４の具
体的な機構の一例について、図２を参照して説明する。
を示す概略光学系構成図である。光量制限手段の挿入と
待避とが選択可能な制御手段であるＮＤフィルタ切換装
置４は、光量検出器５の手前の光軸上にＮＤフィルタ１
０を挿入して光量検出器５に入射するレーザ光の光量を
減少させたり、ＮＤフィルタ１０を光軸外に待避させて
光量検出器５に入射するレーザ光の光量を減少させずに
通過させたりするものである。即ち、光量検出器５に入
射するレーザ光の光量が小であるときはＮＤフィルタ１
０を待避させて光量検出器５で直接測定し、光量検出器
５に入射するレーザ光の光量が大であるときはＮＤフィ
ルタ１０を光軸上に挿入して減光させた上で光量検出器
５で測定する。従って、光量検出器５には常に一定の光
量のレーザ光が入射することとなり、光量検出器５で
は、入射するレーザ光の光量とこの光量に基づいて出力
される出力電圧との関係が最も高精度となる状態に制御
することができる。以下、ＮＤフィルタ切換装置４の具
体的な機構の一例について、図２を参照して説明する。
【００２０】図２は、ＮＤフィルタ１０等の光量制限手
段の、挿入と待避とが選択可能な制御手段であるＮＤフ
ィルタ切換装置４の概略外観斜視図であり、ＮＤフィル
タ１０の光軸上への挿入と光軸上からの待避とを選択す
る機構として、回動機構を用いたものである。そして、
同図中の矢印で示したＡの位置はＮＤフィルタ１０が光
軸上に挿入された位置であり、Ｂで示した位置はＮＤフ
ィルタ１０を待避させた位置である。ＮＤフィルタ１０
はＮＤフィルタ支持部材１１の一方の端側に固着されて
おり、ＮＤフィルタ支持部材１１の他方の端側は、例え
ばロータリソレノイド、モータあるいは減速機付きモー
タ等の回転駆動装置１２の回転軸が固着されている。そ
して、ＮＤフィルタ１０が光軸上に挿入された位置にあ
るか、あるいは待避位置にあるのかを検知するため、Ｎ
Ｄフィルタ支持部材１１のＮＤフィルタ１０が固着され
ている側には、例えば板金等で構成されたシャッタ１３
が取り付けられており、このシャッタ１３によりＯＮ／
ＯＦＦするスイッチ、例えばフォトスイッチ１４が挿入
位置及び待避位置の近傍に設けられている。ＮＤフィル
タ１０の位置を光軸上に調整する構成は、例えばＮＤフ
ィルタ支持部材１１のＮＤフィルタ１０と回転駆動装置
１２の回転軸との間に貫通する雌ネジを形成し、この雌
ねじに雄ネジ１５を螺着し、貫通させた雄ネジ１５の先
端と当接する接触部材１６を設け、雄ネジ１５の時計方
向あるいは反時計方向に回転させるとともにＮＤフィル
タ支持部材１１を微回動させて行う。そして、調整後は
雄ネジ１５に螺着されたロックナット１７で雄ネジ１５
をロックする。または、ＮＤフィルタ支持部材１１の雌
ネジに螺着された雄ネジ１５と接触部材１６のかわり
に、ＮＤフィルタ切換装置４を一体的に図中のＹ及びＺ
方向に独立して移動可能な機構（何れも図示せず）を設
けても良く、あるいはこれらを併用するものであっても
良い。以上の構成により、回転駆動装置１２を時計方向
あるいは反時計方向に回転駆動するとともに、ＮＤフィ
ルタ支持部材１１を時計方向あるいは反時計方向に回転
駆動して、ＮＤフィルタ１０を光軸上に挿入する、ある
いは光軸外に待避させることが行われ、光量検出器５に
入射するレーザ光のパワーを光量検出器５において最も
高精度で測定することができる範囲内に制御することが
できる。また、ＮＤフィルタ１０が光軸上にあるＡの位
置及び待避するＢの位置において、ＮＤフィルタ支持部
材１１が重力により安定した静止状態となるように構成
すれば、ＮＤフィルタ支持部材１１を回転駆動させてＮ
Ｄフィルタ１０を光軸上にあるＡの位置及び待避するＢ
の位置に駆動した後は回転駆動装置１２への通電をＯＦ
Ｆする、あるいは回転駆動装置１２にステッピングモー
タ等のホールドトルクを有するものを用いれば、回転駆
動装置１２の発熱や機械的振動が抑制されるとともに、
これらが及ぼす周辺の機械装置への悪影響を最小限に抑
制することができる。
段の、挿入と待避とが選択可能な制御手段であるＮＤフ
ィルタ切換装置４の概略外観斜視図であり、ＮＤフィル
タ１０の光軸上への挿入と光軸上からの待避とを選択す
る機構として、回動機構を用いたものである。そして、
同図中の矢印で示したＡの位置はＮＤフィルタ１０が光
軸上に挿入された位置であり、Ｂで示した位置はＮＤフ
ィルタ１０を待避させた位置である。ＮＤフィルタ１０
はＮＤフィルタ支持部材１１の一方の端側に固着されて
おり、ＮＤフィルタ支持部材１１の他方の端側は、例え
ばロータリソレノイド、モータあるいは減速機付きモー
タ等の回転駆動装置１２の回転軸が固着されている。そ
して、ＮＤフィルタ１０が光軸上に挿入された位置にあ
るか、あるいは待避位置にあるのかを検知するため、Ｎ
Ｄフィルタ支持部材１１のＮＤフィルタ１０が固着され
ている側には、例えば板金等で構成されたシャッタ１３
が取り付けられており、このシャッタ１３によりＯＮ／
ＯＦＦするスイッチ、例えばフォトスイッチ１４が挿入
位置及び待避位置の近傍に設けられている。ＮＤフィル
タ１０の位置を光軸上に調整する構成は、例えばＮＤフ
ィルタ支持部材１１のＮＤフィルタ１０と回転駆動装置
１２の回転軸との間に貫通する雌ネジを形成し、この雌
ねじに雄ネジ１５を螺着し、貫通させた雄ネジ１５の先
端と当接する接触部材１６を設け、雄ネジ１５の時計方
向あるいは反時計方向に回転させるとともにＮＤフィル
タ支持部材１１を微回動させて行う。そして、調整後は
雄ネジ１５に螺着されたロックナット１７で雄ネジ１５
をロックする。または、ＮＤフィルタ支持部材１１の雌
ネジに螺着された雄ネジ１５と接触部材１６のかわり
に、ＮＤフィルタ切換装置４を一体的に図中のＹ及びＺ
方向に独立して移動可能な機構（何れも図示せず）を設
けても良く、あるいはこれらを併用するものであっても
良い。以上の構成により、回転駆動装置１２を時計方向
あるいは反時計方向に回転駆動するとともに、ＮＤフィ
ルタ支持部材１１を時計方向あるいは反時計方向に回転
駆動して、ＮＤフィルタ１０を光軸上に挿入する、ある
いは光軸外に待避させることが行われ、光量検出器５に
入射するレーザ光のパワーを光量検出器５において最も
高精度で測定することができる範囲内に制御することが
できる。また、ＮＤフィルタ１０が光軸上にあるＡの位
置及び待避するＢの位置において、ＮＤフィルタ支持部
材１１が重力により安定した静止状態となるように構成
すれば、ＮＤフィルタ支持部材１１を回転駆動させてＮ
Ｄフィルタ１０を光軸上にあるＡの位置及び待避するＢ
の位置に駆動した後は回転駆動装置１２への通電をＯＦ
Ｆする、あるいは回転駆動装置１２にステッピングモー
タ等のホールドトルクを有するものを用いれば、回転駆
動装置１２の発熱や機械的振動が抑制されるとともに、
これらが及ぼす周辺の機械装置への悪影響を最小限に抑
制することができる。
【００２１】上記した事例では、ＮＤフィルタ支持部材
１１に一個のＮＤフィルタ１０を固着したものを示した
が、例えば、図示を省略する円盤状のＮＤフィルタ支持
部材１１の中心に回転駆動装置１２の回転軸を固着し、
円盤状のＮＤフィルタ支持部材１１の外周部に遮光率の
異なる複数のＮＤフィルタ１０を固着して各々のＮＤフ
ィルタ１０が光軸上で静止するように構成したものでも
良い。このような構成とすれば、多種類の光ディスクに
対応した光ディスク原盤を作製する露光装置とすること
ができる。
１１に一個のＮＤフィルタ１０を固着したものを示した
が、例えば、図示を省略する円盤状のＮＤフィルタ支持
部材１１の中心に回転駆動装置１２の回転軸を固着し、
円盤状のＮＤフィルタ支持部材１１の外周部に遮光率の
異なる複数のＮＤフィルタ１０を固着して各々のＮＤフ
ィルタ１０が光軸上で静止するように構成したものでも
良い。このような構成とすれば、多種類の光ディスクに
対応した光ディスク原盤を作製する露光装置とすること
ができる。
【００２２】
【発明の効果】本発明の露光方法及びこれを用いた露光
装置によれば、光量検出手段に入射するレーザ光の光量
は、光量検出手段において高精度で測定できる範囲内と
なり、この光量に基づく光量検出手段からの出力電圧が
フィードバックされる減光手段において、レーザ光源か
ら出射されたレーザ光を所定の光量となるように高精度
に制御することができる。従って、この露光装置を一台
用意して共用すれば、例えば規格の異なる多種類の光デ
ィスク原盤の作製において、ＮＤフィルタ等の光量制限
手段の挿入あるいは待避により短時間で対応することが
でき、またＮＤフィルタ等の光量制限手段の遮光率を選
択することにより光ディスク原盤のレジスト膜に照射さ
れるレーザ光のパワーを高精度に制御することができ
る。これにより、高品位な光ディスク原盤が得られ、結
果的に高品位の光ディスクを得ることができる。
装置によれば、光量検出手段に入射するレーザ光の光量
は、光量検出手段において高精度で測定できる範囲内と
なり、この光量に基づく光量検出手段からの出力電圧が
フィードバックされる減光手段において、レーザ光源か
ら出射されたレーザ光を所定の光量となるように高精度
に制御することができる。従って、この露光装置を一台
用意して共用すれば、例えば規格の異なる多種類の光デ
ィスク原盤の作製において、ＮＤフィルタ等の光量制限
手段の挿入あるいは待避により短時間で対応することが
でき、またＮＤフィルタ等の光量制限手段の遮光率を選
択することにより光ディスク原盤のレジスト膜に照射さ
れるレーザ光のパワーを高精度に制御することができ
る。これにより、高品位な光ディスク原盤が得られ、結
果的に高品位の光ディスクを得ることができる。
【図１】 本発明の露光装置の概略光学系構成図であ
る。
る。
【図２】 本発明のＮＤフィルタ切換装置の概略外観斜
視図である。
視図である。
【図３】 従来の露光装置の概略光学系構成図である。
【図４】 光量検出器に入射するレーザ光の光量と光量
検出器からの出力電圧との関係を示したグラフである。
検出器からの出力電圧との関係を示したグラフである。
１…レーザ光源、２…可変遮光器、３…分光器、４…Ｎ
Ｄフィルタ切換装置、５…光量検出器、６…可変絞り装
置、７…ミラー、８…対物レンズ、９…光ディスク原
盤、１０…ＮＤフィルタ、１１…ＮＤフィルタ支持部
材、１２…回転駆動装置、１３…シャッタ、１４…フォ
トスイッチ、１５…雄ネジ、１６…接触部材、１７…ロ
ックナット
Ｄフィルタ切換装置、５…光量検出器、６…可変絞り装
置、７…ミラー、８…対物レンズ、９…光ディスク原
盤、１０…ＮＤフィルタ、１１…ＮＤフィルタ支持部
材、１２…回転駆動装置、１３…シャッタ、１４…フォ
トスイッチ、１５…雄ネジ、１６…接触部材、１７…ロ
ックナット
Claims (10)
- 【請求項１】 レーザ光源からの出射光の光軸上に、前
記出射光を減光する減光手段と前記出射光を二つに分光
する分光手段とを配置し、 前記分光手段で分光された一方の光を光量検出手段に入
射させて光量を測定するとともに、前記光量に基づく信
号を前記光量検出手段から前記減光手段に供給して前記
減光手段を透過する前記出射光の光量を制御し、 前記分光手段で分光された他方の光を対物レンズを用い
集光して集光スポットを形成し、 前記集光スポットを原盤上に形成されたフォトレジスト
膜に照射して露光する露光方法において、 前記分光手段と前記光量検出手段との間の光軸上に配置
した、挿入と待避とが選択可能な光量制限手段により前
記光量検出手段に入射する光量をほぼ一定とすることを
特徴とする露光方法。 - 【請求項２】 前記光量制限手段がＮＤ（Ｎｅｕｔｒａ
ｌ Ｄｅｎｓｉｔｙ）フィルタであることを特徴とする
請求項１に記載の露光方法。 - 【請求項３】 前記原盤が光ディスク原盤であることを
特徴とする請求項１に記載の露光方法。 - 【請求項４】 請求項１の露光方法により作製されたこ
とを特徴とする原盤。 - 【請求項５】 請求項１の露光方法により作製された原
盤を用いて作製されたことを特徴とする光ディスク。 - 【請求項６】 少なくともレーザ光源と、 前記レーザ光源からの出射光を減光する減光手段と、 前記出射光を二つに分光する分光手段と、 前記分光手段で分光された一方の光の光量を測定すると
ともに、前記光量に基づく信号を前記減光手段に供給し
て前記減光手段を透過する前記出射光の光量を制御する
光量検出手段と、 前記分光手段で分光された他方の光を集光して集光スポ
ットを形成するとともに、前記集光スポットを原盤上に
形成されたフォトレジスト膜に照射して露光する対物レ
ンズとを有する露光装置において、 前記分光手段と前記光量検出手段との間の光軸上に、前
記光量検出手段に入射する光量をほぼ一定とする光量制
限手段の、挿入と待避とが選択可能な制御手段を有する
ことを特徴とする露光装置。 - 【請求項７】 前記光量制限手段がＮＤ（Ｎｅｕｔｒａ
ｌ Ｄｅｎｓｉｔｙ）フィルタであることを特徴とする
請求項６に記載の露光装置。 - 【請求項８】 前記原盤が光ディスク原盤であることを
特徴とする請求項６に記載の露光装置。 - 【請求項９】 請求項６の露光装置により作製されたこ
とを特徴とする原盤。 - 【請求項１０】 請求項６の露光装置により作製された
原盤を用いて作製されたことを特徴とする光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9222742A JPH1166637A (ja) | 1997-08-19 | 1997-08-19 | 露光方法及び露光装置、ならびに原盤及び光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9222742A JPH1166637A (ja) | 1997-08-19 | 1997-08-19 | 露光方法及び露光装置、ならびに原盤及び光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1166637A true JPH1166637A (ja) | 1999-03-09 |
Family
ID=16787202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9222742A Pending JPH1166637A (ja) | 1997-08-19 | 1997-08-19 | 露光方法及び露光装置、ならびに原盤及び光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1166637A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012117917A1 (ja) | 2011-02-28 | 2012-09-07 | ソニー株式会社 | 送信装置、情報処理方法、プログラム、および送信システム |
| CN110376849A (zh) * | 2019-07-03 | 2019-10-25 | 杭州鸿运彩印包装有限公司 | 一种晒版机 |
-
1997
- 1997-08-19 JP JP9222742A patent/JPH1166637A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012117917A1 (ja) | 2011-02-28 | 2012-09-07 | ソニー株式会社 | 送信装置、情報処理方法、プログラム、および送信システム |
| US8842223B2 (en) | 2011-02-28 | 2014-09-23 | Sony Corporation | Transmitter apparatus, information processing method, program, and transmitter system |
| CN110376849A (zh) * | 2019-07-03 | 2019-10-25 | 杭州鸿运彩印包装有限公司 | 一种晒版机 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041216 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041221 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050218 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050315 |