JPH1160446A

JPH1160446A - 毛髪化粧料

Info

Publication number: JPH1160446A
Application number: JP21637097A
Authority: JP
Inventors: Yuichi Sakamoto; 雄一坂本
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 1997-08-11
Filing date: 1997-08-11
Publication date: 1999-03-02

Abstract

(57)【要約】【解決手段】（Ａ）融点が０〜５０℃のアミド化合
物、及び（Ｂ）抗菌剤又はカチオン性殺菌剤を含有する
毛髪化粧料。【効果】高いフケ防止効果を持ちながら、低刺激性
で、刺激によるカユミも抑制することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、頭皮のフケ、カユ
ミを防止する効果、特に刺激によるカユミを防止する効
果に優れた毛髪化粧料に関する。

【０００２】

【従来の技術】頭皮に関する悩みとしてフケがあり、こ
れを抑えるために、抗菌剤や殺菌剤を配合した毛髪化粧
料が数多く検討されている。しかしながら、これら抗菌
剤や殺菌剤は刺激性があるため、フケを抑えることはで
きても、刺激によるカユミが発生してしまう場合があっ
た。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、高いフケ防止効果を有し、低刺激性で、刺激による
カユミの発生を抑えることができる毛髪化粧料を提供す
ることにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】斯かる実情において、本
発明者らは鋭意研究を行った結果、特定のアミド化合物
と抗菌剤又はカチオン性殺菌剤とを組み合わせて用いれ
ば、高いフケ防止効果を持ちながら、低刺激性で、刺激
によるカユミも抑制することができる毛髪化粧料が得ら
れることを見出し、本発明を完成した。

【０００５】すなわち、本発明は、（Ａ）融点が０〜５
０℃のアミド化合物、及び（Ｂ）抗菌剤又はカチオン性
殺菌剤を含有する毛髪化粧料を提供するものである。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明で用いられる成分（Ａ）の
アミド化合物は、融点が０〜５０℃、好ましくは１０〜
４０℃のものである。この範囲外のものでは、組成物中
に安定に配合するのが困難である。なお、本発明におい
て、融点は、ＪＩＳ−Ｋ７１２１−１９８７−９−９．
１（２）に従って測定した補外融点開始温度で示した。

【０００７】このようなアミド化合物としては、例えば
イソステアリン酸アミド、イソパルミチン酸アミド、イ
ソステアリン酸アミド等の酸アミドや、次の一般式
（１）〜（３）

【０００８】

【化９】

【０００９】（式中、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって
炭素数１〜４０のヒドロキシル化されていてもよい炭化
水素基を示し、Ｒ³は炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐
鎖のアルキレン基又は単結合を示し、Ｒ⁴は水素原子、
炭素数１〜１２の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基又
は２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ基を示す。ただ
し、Ｒ³が単結合のときはＲ⁴は水素原子である。）

【００１０】

【化１０】

【００１１】（式中、Ｒ¹及びＲ²は前記と同じ意味を
示し、Ｒ^3aは炭素数３〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアル
キレン基を示し、Ｒ^4aは炭素数１〜１２の直鎖又は分岐
鎖のアルコキシ基を示す。）

【００１２】

【化１１】

【００１３】（式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は前記と同じ
意味を示し、Ｒ^4bは水素原子、炭素数１〜１２の直鎖若
しくは分岐鎖のアルコキシ基又は２，３−エポキシプロ
ピルオキシ基を示す。ただし、Ｒ³が単結合のときＲ^4b
は水素原子である。）で表わされるアミド誘導体などが
挙げられる。

【００１４】これらのうち、アミド誘導体（１）におい
て、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって炭素数１〜４０の
直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和のヒドロキシル化され
ていてもよい炭化水素基を示す。Ｒ¹及びＲ²として
は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデ
シル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデ
シル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノ
ナデシル、ヘンエイコシル、ドコシル、ノナコシル、ト
リアコンチル、イソステアリル、イソヘプタデシル、２
−エチルヘキシル、１−エチルヘプチル、８−ヘプタデ
シル、８−ヘプタデセニル、８，１１−ヘプタデカジエ
ニル、２−ヘプチルウンデシル、９−オクタデセニル、
１−ヒドロキシノニル、１−ヒドロキシペンタデシル、
２−ヒドロキシペンタデシル、１５−ヒドロキシペンタ
デシル、１１−ヒドロキシヘプタデシル及び１１−ヒド
ロキシ−８−ヘプタデセニル等が挙げられる。

【００１５】Ｒ¹としては炭素数８〜２６の直鎖又は分
岐鎖のアルキル又はアルケニル基が好ましく、例えばオ
クチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシ
ル、オクタデシル、ドコシル、トリアコンチル、イソス
テアリル、２−エチルヘキシル、２−ヘプチルウンデシ
ル及び９−オクタデセニル等が挙げられる。Ｒ¹として
特に好ましい炭化水素基は炭素数１２〜２２の直鎖又は
分岐鎖のアルキル基であり、例えばドデシル、テトラデ
シル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコシル及びメチ
ル分岐イソステアリル基等が挙げられる。

【００１６】Ｒ²としては炭素数９〜２５の直鎖又は分
岐鎖のアルキル又はアルケニル基が好ましく、例えばノ
ニル、ウンデシル、トリデシル、ペンタデシル、ヘプタ
デシル、ヘンエイコシル、ノナコシル、イソヘプタデシ
ル、１−エチルヘプチル、８−ヘプタデシル、８−ヘプ
タデセニル、８，１１−ヘプタデカジエニル、１−ヒド
ロキシノニル、１−ヒドロキシペンタデシル、２−ヒド
ロキシペンタデシル、１５−ヒドロキシペンタデシル、
１１−ヒドロキシヘプタデシル及び１１−ヒドロキシ−
８−ヘプタデセニル等が挙げられる。Ｒ²として特に好
ましい炭化水素基は炭素数１１〜２１の直鎖又は分岐鎖
のアルキル基であり、例えばウンデシル、トリデシル、
ペンタデシル、ヘプタデシル、ヘンエイコシル及びメチ
ル分岐イソヘプタデシル基等が挙げられる。

【００１７】Ｒ³は炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖
のアルキレン基又は単結合を示し、アルキレン基として
は例えばメチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメ
チレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、１−メチル
エチレン、１−メチルトリメチレン、２−メチルトリメ
チレン、１，１−ジメチルエチレン、１−エチルエチレ
ン、１−メチルテトラメチレン、２−エチルトリメチレ
ン等が挙げられる。Ｒ ³としては炭素数１〜６の直鎖の
アルキレン基が好ましく、このうちメチレン、エチレン
及びトリメチレンが特に好ましい。

【００１８】Ｒ⁴は水素原子、炭素数１〜１２の直鎖若
しくは分岐鎖のアルコキシ基又は２，３−ジヒドロキシ
プロピルオキシ基を示し、アルコキシ基としては例えば
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ヘキシル
オキシ、オクチルオキシ、デシルオキシ、１−メチルエ
トキシ及び２−エチルヘキシルオキシ等が挙げられる。
Ｒ⁴としては水素原子、炭素数１〜８のアルコキシ基及
び２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ基が好ましく、
このうち水素原子、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
ブトキシ、１−メチルエトキシ、２−エチルヘキシルオ
キシ及び２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ基が特に
好ましい。

【００１９】アミド誘導体（１）としては、特に一般式
中のＲ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴がそれぞれ上述の特に好
ましい範囲の基である場合を組合わせた化合物が好まし
い。

【００２０】また、アミド誘導体（２）において、Ｒ¹
及びＲ²は上記と同様の意味を示し、同様の基が好まし
い。また、Ｒ^3aとしてはアミド誘導体（１）のＲ³にお
いて例示したアルキレン基からメチレン及びエチレンを
除いた基が挙げられる。Ｒ^3aとしては炭素数３〜６の直
鎖のアルキレン基が好ましく、このうちトリメチレンが
特に好ましい。Ｒ^4aのアルコキシ基としては、アミド誘
導体（１）のＲ⁴と同様の基が挙げられ、同様の基が好
ましい。

【００２１】アミド誘導体（３）において、Ｒ¹、Ｒ²
及びＲ³は上記と同様の意味を示し、Ｒ^4bは水素原子、
炭素数１〜１２の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基又
は２，３−エポキシプロピルオキシ基を示す。Ｒ¹、Ｒ
²及びＲ³として具体的には、アミド誘導体（１）と同
様の基が挙げられ、同様の基が好ましい。Ｒ^4bの炭素数
１〜１２の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基として
は、アミド誘導体（１）のＲ⁴と同様の基が挙げられ、
水素原子、Ｒ⁴と同様のアルコキシ基及び２，３−エポ
キシプロピルオキシ基が好ましい。

【００２２】また、これらのアミド誘導体（１）〜
（３）には、水和物に代表される溶媒和物も含まれる。
これらのアミド誘導体（１）〜（３）のうち、特に、一
般式（１）で表わされるものが好ましい。アミド誘導体
（１）は、例えば特開平８−３１９２６３号公報に記載
の方法に従って製造することができる。また、アミド誘
導体（１）は、純度１００％に精製した精製物でも、特
に精製を行わずに中間体や反応副生成物を含んだ純度７
０〜１００％の混合物でも、効果、性能に優れ、かつ安
全性にも問題がないものである。

【００２３】アミド誘導体（１）のうち、好適なものの
具体例としては、以下のものが挙げられる。

【００２４】

【化１２】

【００２５】

【化１３】

【００２６】

【化１４】

【００２７】成分（Ａ）のアミド化合物としては、特に
総炭素数３０以上のＮ−置換アミド化合物が好ましい。
また、アミド化合物は、結合水を１重量％以上、特に５
重量％以上保持できるものがより好ましい。ここで結合
水の含有率は、まず、室温で試料に水を添加し、均一相
を維持できる最大添加量を測定して結合水量とし、次に
試料の総重量に対する結合水の総重量を百分率で示した
値とし、次式に従って求めることができる。

【００２８】

【数１】

【００２９】成分（Ａ）のアミド化合物は、１種又は２
種以上を組合せて用いることができ、全組成物中に０．
００１〜５０重量％配合するのが好ましく、特に０．０
１〜４０重量％、更に０．１〜２０重量％配合するのが
好ましい。

【００３０】本発明で用いられる成分（Ｂ）のうち、抗
菌剤としては、例えばトリクロサン、トリクロカルバ
ン、ピロクトンオーラミン、ジンクピリチオン、二硫化
セレン、３−メチル−４−（１−メチルエチル）フェノ
ール等や、香粧品医薬品防腐・殺菌剤等の科学（ジョン
・Ｊ・カバラ編、フレグランスジャーナル社）に記載
されている抗菌剤などが挙げられ、これらの中で特にト
リクロサン、トリクロカルバン、ピロクトンオーラミ
ン、ジンクピリチオンが好ましい。また、本発明の毛髪
化粧料を洗い流さないで使用するタイプのものに適用す
る場合には、特にトリクロサン、トリクロカルバン又は
ピロクトンオーラミンを用いるのが、毛髪の感触を損な
うことがなく、好ましい。

【００３１】成分（Ｂ）のうち、カチオン系殺菌剤とし
ては、次の一般式（４）で表わされる第４級アンモニウ
ム塩、一般式（５）で表わされるベンザルコニウム塩、
ベンゼトニウム塩、一般式（６）で表わされるクロルヘ
キシジン塩、一般式（７）で表わされるピリジニウム塩
等が挙げられる。

【００３２】

【化１５】

【００３３】（Ｒ⁵及びＲ⁶は各炭素数６〜１４で合計
炭素数１６〜２６の長鎖アルキル基、長鎖アルケニル基
又は長鎖ヒドロキシアルキル基を示し、互いに同一であ
っても相異なっていてもよい。Ｒ⁷及びＲ⁸は炭素数１
〜３のアルキル基、ヒドロキシアルキル基又は平均付加
モル数１０以下のポリオキシエチレン基を示し、互いに
同一であっても相異なっていてもよい。Ｚ¹はハロゲン
原子、アミノ酸、脂肪酸、炭素数１〜３０の直鎖若しく
は分岐鎖のアルキル基若しくはアルケニル基を有するリ
ン酸エステル、ホスホン酸エステル、スルホン酸エステ
ル若しくは硫酸エステルのアニオン残基、又は重合度３
以上のスチレンスルホン酸を有するか若しくは置換基と
して炭化水素基を有することがある多環式芳香族化合物
のスルホン化物のホルマリン縮合物を含有するアニオン
性オリゴマー若しくはポリマーを示す。）

【００３４】

【化１６】

【００３５】（式中、Ｒ⁹は炭素数８〜１４の炭化水素
基又は

【００３６】

【化１７】

【００３７】で表わされる基を示し、Ｚ¹は前記と同じ
意味を示す。）

【００３８】

【化１８】

【００３９】（式中、Ｚ²はグルコン酸、酢酸又は塩酸
を示す。）

【００４０】

【化１９】

【００４１】（式中、Ｒ¹⁰は炭素数６〜１８の直鎖又は
分岐鎖のアルキル基を示し、Ｚ¹は前記と同じ意味を示
す）

【００４２】上記一般式（４）、（５）及び（７）中の
Ｚ¹としては、ハロゲン原子が特に好ましい。

【００４３】カチオン性殺菌剤の好適なものの具体例と
しては、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、
塩化セチルピリジニウム、グルコン酸クロルヘキシジ
ン、酢酸クロルヘキシジン、塩酸クロルヘキシジン等が
挙げられ、特に一般式（５）で表わされるもの、例えば
塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウムが好まし
い。

【００４４】成分（Ｂ）の抗菌剤、カチオン性殺菌剤
は、１種又は２種以上を組み合わせて用いることがで
き、また、抗菌剤とカチオン性殺菌剤を組み合わせて用
いると、より高い効果を得ることができる。成分（Ｂ）
は、全組成中に０．００５〜５重量％配合するのが好ま
しく、本発明の毛髪化粧料を洗い流して使用するタイプ
のものに適用する場合には、特に０．１〜４重量％、更
に０．４〜３重量％配合するのが好ましく、洗い流さな
いで使用するタイプのものに適用する場合には、特に
０．０１〜２重量％、更に０．０４〜１重量％配合する
のが好ましい。

【００４５】本発明の毛髪化粧料には、更にキレート剤
を添加して、殺菌、抗菌効果をより高めることができ
る。特に、洗い流して使用するタイプのものに適用する
場合には、キレート剤を配合することにより、より高い
効果を得ることができる。

【００４６】ここで用いられる金属キレート剤として
は、金属イオンをキレートする能力を有するものであれ
ば特に制限されないが、アミノポリカルボン酸系キレー
ト剤、芳香族及び脂肪族カルボン酸系キレート剤、アミ
ノ酸系キレート剤、エーテルポリカルボン酸系キレート
剤、イミノジメチルホスホン酸（ＩＤＰ）、アルキルジ
ホスホン酸（ＡＤＰＡ）、１−ヒドロキシエタン−１，
１−ジホスホン酸（ＤＥＱＵＥＳＴ^TM ２０１０）等の
ホスホン酸系キレート剤、ヒドロキシカルボン酸系キレ
ート剤、リン酸系キレート剤、高分子電解質（オリゴマ
ー電解質を含む）系キレート剤及びジメチルグリオキシ
ム（ＤＧ）が挙げられる。これらのキレート剤は、それ
ぞれフリーの酸型であっても、ナトリウム塩、カリウム
塩、アンモニウム塩等の塩の形であってもよい。更に、
それらは、加水分解可能なそれらのエステル誘導体の形
であってもよい。

【００４７】アミノポリカルボン酸系キレート剤の具体
例としては、ａ）化学式 R¹¹(Y)₂で表わされる化合物、ｂ）化学式 N(Y)₃で表わされる化合物、ｃ）化学式 R¹¹-N(Y)-CH₂CH₂-N(Y)-R¹¹で表わされる
化合物、ｄ）化学式 R¹¹-N(Y)-CH₂CH₂-N(Y)₂で表わされる化
合物、ｅ）化学式 (Y)₂N-R¹²-N(Y)₂で表わされる化合物、
及び、ｆ）ｅ）の化合物に類似する化合物で、Ｙを４以上含
む化合物、例えば式

【００４８】

【化２０】

【００４９】で表わされる化合物が挙げられる。

【００５０】上記式中、Ｙは-CH₂COOH又は-CH₂CH₂COOH
を示し、Ｒ¹¹は水素原子、アルキル基、水酸基、ヒドロ
キシアルキル基等の公知のキレート剤を構成する基を示
し、Ｒ¹²は、アルキレン基、シクロアルキレン基といっ
たこの種の公知のキレート剤を構成する基を示す。

【００５１】アミノポリカルボン酸系キレート剤の代表
例としては、エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴ
Ａ）、シクロヘキサンジアミンテトラ酢酸（ＣＤＴ
Ａ）、ニトリロトリ酢酸（ＮＴＡ）、イミノジ酢酸（Ｉ
ＤＡ）、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）イミノジ酢酸
（ＨＩＭＤＡ）、ジエチレントリアミンペンタ酢酸（Ｄ
ＴＰＡ）、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）エチレンジア
ミントリ酢酸（ＥＤＴＡ−ＯＨ）及びグリコールエーテ
ルジアミンテトラ酢酸（ＧＥＤＴＡ）、並びにこれらの
塩類が挙げられる。

【００５２】芳香族又は脂肪族カルボン酸系キレート剤
の例としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタ
ール酸、アジピン酸、イタコン酸、アコニット酸、ピル
ビン酸、サリチル酸、アセチルサリチル酸、ヒドロキシ
安息香酸、アミノ安息香酸（アントラニル酸を含む）、
フタル酸、トリメリット酸及び没食子酸、並びにこれら
の塩類、メチルエステル類及びエチルエステル類が挙げ
られる。また、アミノ酸系キレート剤の例としては、グ
リシン、セリン、アラニン、リジン、シスチン、システ
イン、エチオニン、チロシン、メチオニン及びこれらの
塩類及び誘導体が挙げられる。

【００５３】更に、エーテルポリカルボン酸系キレート
剤の例としては、ジグリコール酸、次式で表わされる化
合物、その類似化合物及びその塩（例えばナトリウム
塩）類が挙げられる。

【００５４】

【化２１】

【００５５】ヒドロキシカルボン酸系キレート剤の例と
しては、リンゴ酸、クエン酸、グリコール酸、グルコン
酸、ヘプトン酸、酒石酸、乳酸及びこれらの塩類が挙げ
られる。また、リン酸系キレート剤の例としては、オル
トリン酸、ピロリン酸、トリリン酸及びポリリン酸が挙
げられる。高分子電解質（オリゴマー電解質を含む）系
キレート剤の例としては、アクリル酸重合体、無水マレ
イン酸重合体、α−ヒドロキシアクリル酸重合体、イタ
コン酸重合体、これらの重合体の構成モノマー２種以上
からなる共重合体及びエポキシコハク酸重合体が挙げら
れる。更に、アスコルビン酸、チオグリコール酸、フィ
チン酸、グリオキシル酸及びグリオキサール酸、並びに
それらの塩類も、キレート剤として好適に用いることが
できる。

【００５６】好ましいキレート剤としては、エチレンジ
アミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）、コハク酸、サリチル
酸、シュウ酸、乳酸、フマル酸、酒石酸、１−ヒドロキ
シエタン−１，１−ジホスホン酸及びそれらの塩が挙げ
られる。

【００５７】金属キレート剤は、全組成中に０．１〜１
０重量％、特に０．２〜５重量％配合するのが好まし
い。

【００５８】更に、本発明の毛髪化粧料には、本発明の
効果を損なわない範囲でグリチルリチン酸、ジヒドロコ
レステリン、アラントイン等の抗炎症剤を配合すること
もできる。

【００５９】本発明の毛髪化粧料には、前記成分のほ
か、目的に応じて通常化粧品等に配合される成分、例え
ば界面活性剤、油剤、高級アルコール類、シリコーン
類、ポリマー類、浸透促進剤、ビタミン類等の薬効剤、
パラベン等の防腐剤、染料、顔料等の着色剤、紫外線吸
収剤、植物抽出物、収斂剤、血行促進剤、保湿剤、育毛
剤、養毛剤、抗酸化剤、香料、色素などを、本発明の効
果を損なわない範囲において、適宜配合することがで
き、通常の方法に従って製造することができる。

【００６０】本発明の毛髪化粧料は、毛髪に適用される
化粧料のすべてを指し、例えばプレシャンプー剤、シャ
ンプー、ヘアリンス、ヘアコンディショナー、ヘアトリ
ートメント等の洗い流して使用するタイプのものや；セ
ットローション、ブロースタイリングローション、ヘア
ースプレー、泡状スタイリング剤、ジェル状スタイリン
グ剤、ヘアケア剤、ヘアリキッド、ヘアトニック、ヘア
クリーム、育毛剤、養毛剤、パーマネントウェーブ第１
及び第２剤、永久染毛剤、一時染毛剤等の洗い流さない
で使用するタイプのものなどが含まれる。また、剤型と
してもその用途に応じて、水溶液、エタノール溶液、エ
マルジョン、サスペンジョン、ゲル、液晶、固型、エア
ゾール等の各種形態とすることができる。

【００６１】

【発明の効果】本発明の毛髪化粧料は、頭皮のフケ防止
効果に優れ、しかも低刺激で、刺激によるカユミの発生
を抑制することもできる。

【００６２】

【実施例】次に、実施例を挙げて本発明を更に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

【００６３】実施例１表１に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造し、抗フ
ケ効果及び抗カユミ効果を評価した。結果を表１に示
す。

【００６４】（評価方法）各毛髪化粧料について、男女
各５名のパネリストにより、各毛髪化粧料を用いて１日
１回１ケ月間洗髪した際の抗フケ効果及び抗カユミ効果
を以下の基準で評価した。

【００６５】＜抗フケ効果評価基準＞５：フケが減少したと感じた。４：フケがやや減少したと感じた。３：今までと変化がないと感じた。２：フケがやや増加したと感じた。１：フケが増加したと感じた。

【００６６】結果は、パネリスト１０名の平均値を以下
の基準により、抗フケ効果として示した。 ◎：平均値４．３以上で良好。 ○：平均値３．６〜４．２でやや良好。 △：平均値２．５〜３．５で普通。 ×：平均値２．４以下で不良。＜抗カユミ効果評価基準＞５：カユミが減少したと感じた。４：カユミがやや減少したと感じた。３：今までと変化がないと感じた。２：カユミがやや増加したと感じた。１：カユミが増加したと感じた。

【００６７】結果は、パネリスト１０名の平均値を以下
の基準により、抗カユミ効果として示した。 ◎：平均値４．３以上で良好。 ○：平均値３．６〜４．２でやや良好。 △：平均値２．５〜３．５で普通。 ×：平均値２．４以下で不良。

【００６８】

【表１】

【００６９】実施例２表２に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造した。各
毛髪化粧料について、表３に示す組成の一般的なシャン
プーにて洗髪後、これを塗布し、頭皮を軽くマッサージ
してすすぎ流す処理を１日１回１カ月間行った後、実施
例１と同様の評価基準で、抗フケ効果及び抗カユミ効果
を評価した。結果を表２に示す。

【００７０】

【表２】

【００７１】

【表３】

【００７２】実施例３表４に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造した。得
られた毛髪化粧料について、表３に示す組成の一般的な
シャンプーにて洗髪後、これを塗布し、頭皮を軽くマッ
サージしてすすぎ流す処理を１日１回１カ月間行った
後、実施例１と同様の評価基準で、抗フケ効果及び抗カ
ユミ効果を評価した。結果を表４に示す。

【００７３】

【表４】

【００７４】実施例４表５に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造した。得
られた毛髪化粧料について、表３に示す組成の一般的な
シャンプーにて洗髪後、これを塗布して頭皮を軽くマッ
サージし、洗い流さずそのまま乾かす処理を１日１回１
カ月間行った後、実施例１と同様の評価基準で、抗フケ
効果及び抗カユミ効果を評価した。結果を表５に示す。

【００７５】

【表５】

【００７６】実施例５表６に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造した。得
られた毛髪化粧料について、表３に示す組成の一般的な
シャンプーにて洗髪後、これを塗布して頭皮を軽くマッ
サージし、洗い流さずそのまま乾かす処理を１日１回１
カ月間行った後、実施例１と同様の評価基準で、抗フケ
効果及び抗カユミ効果を評価した。結果を表６に示す。

【００７７】

【表６】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（Ａ）融点が０〜５０℃のアミド化合
物、及び（Ｂ）抗菌剤又はカチオン性殺菌剤を含有する
毛髪化粧料。
【請求項２】成分（Ａ）が、総炭素数３０以上のＮ−
置換アミド化合物である請求項１記載の毛髪化粧料。
【請求項３】成分（Ａ）が、次の一般式（１）〜
（３）【化１】（式中、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって炭素数１〜４
０のヒドロキシル化されていてもよい炭化水素基を示
し、Ｒ³は炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキ
レン基又は単結合を示し、Ｒ⁴は水素原子、炭素数１〜
１２の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基又は２，３−
ジヒドロキシプロピルオキシ基を示す。ただしＲ³が単
結合のときはＲ⁴は水素原子である。）【化２】（式中、Ｒ¹及びＲ²は前記と同じ意味を示し、Ｒ^3aは
炭素数３〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキレン基を示
し、Ｒ^4aは炭素数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルコキ
シ基を示す。）【化３】（式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は前記と同じ意味を示し、
Ｒ^4bは水素原子、炭素数１〜１２の直鎖若しくは分岐鎖
のアルコキシ基又は２，３−エポキシプロピルオキシ基
を示す。ただし、Ｒ³が単結合のときＲ^4bは水素原子で
ある。）で表わされるアミド誘導体から選ばれるもので
ある請求項１又は２記載の毛髪化粧料。
【請求項４】成分（Ｂ）が、トリクロサン、トリクロ
カルバン、ピロクトンオーラミン、ジンクピリチオン、
二硫化セレン及び３−メチル−４−（１−メチルエチ
ル）フェノールから選ばれる抗菌剤である請求項１〜３
のいずれか１項記載の毛髪化粧料。
【請求項５】成分（Ｂ）が、次の一般式（４）〜
（７）【化４】（Ｒ⁵及びＲ⁶は各炭素数６〜１４で合計炭素数１６〜
２６の長鎖アルキル基、長鎖アルケニル基又は長鎖ヒド
ロキシアルキル基を示し、互いに同一であっても相異な
っていてもよい。Ｒ⁷及びＲ⁸は炭素数１〜３のアルキ
ル基、ヒドロキシアルキル基又は平均付加モル数１０以
下のポリオキシエチレン基を示し、互いに同一であって
も相異なっていてもよい。Ｚ¹はハロゲン原子、アミノ
酸、脂肪酸、炭素数１〜３０の直鎖若しくは分岐鎖のア
ルキル基若しくはアルケニル基を有するリン酸エステ
ル、ホスホン酸エステル、スルホン酸エステル若しくは
硫酸エステルのアニオン残基、又は重合度３以上のスチ
レンスルホン酸を有するか若しくは置換基として炭化水
素基を有することがある多環式芳香族化合物のスルホン
化物のホルマリン縮合物を含有するアニオン性オリゴマ
ー若しくはポリマーを示す。）【化５】（式中、Ｒ⁹は炭素数８〜１４の炭化水素基又は【化６】で表わされる基を示し、Ｚ¹は前記と同じ意味を示
す。）【化７】（式中、Ｚ²はグルコン酸、酢酸又は塩酸を示す。）【化８】（式中、Ｒ¹⁰は炭素数６〜１８の直鎖又は分岐鎖のアル
キル基を示し、Ｚ¹は前記と同じ意味を示す）で表わさ
れるカチオン性殺菌剤である請求項１〜３のいずれか１
項記載の毛髪化粧料。
【請求項６】洗い流して使用する請求項１〜５のいず
れか１項記載の毛髪化粧料。
【請求項７】更に、金属キレート剤を含有する請求項
６記載の毛髪化粧料。
【請求項８】洗い流さないで使用する請求項１〜５の
いずれか１項記載の毛髪化粧料。
【請求項９】成分（Ｂ）が、トリクロサン、トリクロ
カルバン又はピロクトンオーラミンである請求項８記載
の毛髪化粧料。